[go: up one dir, main page]

DE102004011976A1 - Leuchtmittel mit einem Schichtsystem zur Reflektierung abgegebener infraroter Strahlung - Google Patents

Leuchtmittel mit einem Schichtsystem zur Reflektierung abgegebener infraroter Strahlung Download PDF

Info

Publication number
DE102004011976A1
DE102004011976A1 DE200410011976 DE102004011976A DE102004011976A1 DE 102004011976 A1 DE102004011976 A1 DE 102004011976A1 DE 200410011976 DE200410011976 DE 200410011976 DE 102004011976 A DE102004011976 A DE 102004011976A DE 102004011976 A1 DE102004011976 A1 DE 102004011976A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
illuminant
layers
illuminant according
insulator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE200410011976
Other languages
English (en)
Inventor
Bernd Dr. Szyszka
Andreas Dipl.-Phys. Pflug
Volker Dipl.-Phys. Sittinger
Berno Dr. Hunsche
Lars Dr. Bewig
Thomas Küpper
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Auer Lighting 37581 Bad Gandersheim De GmbH
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Original Assignee
Schott AG
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Schott AG, Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV filed Critical Schott AG
Priority to DE200410011976 priority Critical patent/DE102004011976A1/de
Publication of DE102004011976A1 publication Critical patent/DE102004011976A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02Details
    • H01J61/30Vessels; Containers
    • H01J61/35Vessels; Containers provided with coatings on the walls thereof; Selection of materials for the coatings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01KELECTRIC INCANDESCENT LAMPS
    • H01K1/00Details
    • H01K1/28Envelopes; Vessels
    • H01K1/32Envelopes; Vessels provided with coatings on the walls; Vessels or coatings thereon characterised by the material thereof
    • H01K1/325Reflecting coating

Landscapes

  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

Ein Leuchtmittel ist mit einem Schichtsystem zur Reflektierung abgegebener infraroter Strahlung versehen. Das Leuchtmittel ist mindestens teilweise mit einem für sichtbares Licht transparenten Schichtsystem umgeben. Von innen nach außen ist eine innere Schicht (20) aus einem Isolator beziehungsweise Dielektrikum, darüber eine zweite Schicht (30) aus einem transparenten Metall und darüber eine Schicht (40) aus einem Isolator beziehungsweise Dielektrikum vorgesehen.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Leuchtmittel mit einem Schichtsystem zur Reflektierung abgegebener infraroter Strahlung.
  • Leuchtmittel erfüllen grundsätzlich den Zweck, in dem für das menschliche Auge sichtbaren Wellenlängenbereich eine elektromagnetische Strahlung zur Beleuchtung abzugeben. Der gewünschte Wellenlängenbereich für diese elektromagnetische Strahlung liegt daher zwischen etwa 380 nm und 780 nm. Leuchtmittel sind Bestandteil von Lampen und es gibt sie in verschiedenster Form.
  • Damit die Leuchtmittel in den Lampen die elektromagnetische Strahlung abgeben können, wird ihnen Energie zugeführt, insbesondere elektrische Energie, die sie dann in entsprechende abgestrahlte Energie umwandeln. Ein erheblicher Beitrag des Strahlungsflusses entfällt bei praktisch allen Leuchtmitteln in Lampen allerdings auf den nicht für eine Beleuchtung nutzbaren und für das menschliche Auge unsichtbaren Infrarotanteil. Die Wellenlänge dieser elektromagnetischen Strahlung liegt also mehr oder weniger deutlich oberhalb von 780 nm. Diese als Wärmestrahlung emittierte Energie geht dem Leuchtmittel beziehungsweise dem darin befindlichen lichterzeugenden Medium mithin unwiederbringlich und nutzlos verloren.
  • Es muss also dem Leuchtmittel wesentlich mehr Energie zugeführt werden, als von ihm in nutzbarer elektromagnetischer Strahlung im sichtbaren Bereich anschließend wieder abgegeben wird.
  • Um hier ein energetisch besseres Ergebnis zu erzielen, ist bereits vorgeschlagen worden, diesen Infrarotanteil aus dem emittierten Strahlungsfluss auszukoppeln und wieder in den lichterzeugenden Körper zurückzureflektieren, also die Wärmeenergie in dem Leuchtmittel zu halten beziehungsweise dorthin zurückzuführen.
  • Hierzu ist unter anderem von S. A. Spura et al., "A sputtered boost for lamp efficiency", in: Optical Spectra (1980), Seiten 57 bis 60 vorgeschlagen worden, auf dem Leuchtmittel, beispielsweise auf dem Lampenkolben, ein optisches Schichtsystem aufzubringen. Dieser Vorschlag läuft unter dem Schlagwort „Infrared-Reflecting coating" (IRC-System). Es wird also ein Schichtsystem mit wärmereflektierenden Eigenschaften benötigt.
  • Auf diese Weise kann der Energiebedarf, der für die notwendige Betriebstemperatur des Leuchtmittels beziehungsweise Leuchtkörpers erforderlich ist, signifikant verringert werden, da zumindest hierfür die zurückreflektierte Wärmeenergie eingesetzt werden kann. Es verbessert sich also die Energieeffizienz des Leuchtmittels, ausgedrückt in Lumen pro Watt (Im/W).
  • Allerdings werden in solchen Leuchtmitteln mit IRC-System recht hohe Betriebstemperaturen erreicht. Auf dem Lampenkolben können Temperaturen von mehr als 500°C bis zu 1000°C herrschen. Derart hohe Betriebstemperaturen stellen nun wiederum relativ hohe Anforderungen an die thermische Stabilität des Infrarot reflektierenden Schichtsystems. Gewünscht wird ja für die praktische Anwendung, dass die optischen Eigenschaften des gesamten Schichtsystems über die gesamte Lebensdauer der Lampe beziehungsweise des Leuchtmittels weitestgehend konstant bleiben und sich nicht etwa ändern und im Laufe der Lebensdauer eines Leuchtmittels das von diesem abgegebene Licht in der Intensität und im Farbspektrum schwankt.
  • Zu beachten ist ja auch, dass das Schichtsystem einerseits die Infrarotstrahlung in möglichst großem Umfange wieder nach innen zurück reflektieren soll, sodass also das Transmissionsvermögen dieser Schichten insgesamt im infraroten Bereich gering sein sollte.
  • Andererseits sollte im sichtbaren Spektralbereich eine möglichst hohe Transmission herrschen, denn andererseits würde ja gerade die elektromagnetische Strahlung in dem Wellenlängenbereich reduziert, der tatsächlich erwünscht ist.
  • Die bisher vorgeschlagenen theoretischen Konzepte und Versuchsanordnungen erfüllen zwar jeweils Teile dieser Wünsche, insgesamt ist jedoch bisher noch kein tatsächlich realisierbares, in die Praxis umsetzbares Ergebnis vorgelegt worden.
  • Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Leuchtmittel mit einem Schichtsystem zur Reflektierung infraroter Strahlung vorzuschlagen, mit dem eine bessere Verwirklichung der gesetzten Ziele erreicht werden kann.
  • Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, dass das Leuchtmittel mindestens teilweise mit einem für sichtbares Licht transparenten Schichtsystem umgeben wird, das von innen nach außen eine innere Schicht aus einem Isolator, eine zweite Schicht aus einem Metall und eine äußere Schicht aus einem Isolator aufweist.
  • Dadurch wird überraschend die Problemstellung gelöst. Wie sich in Versuchen bereits herausstellte, lässt sich die Effizienz der Leuchtmittel gegenüber dem unbeschichteten Zustand durch derartige Schichtsysteme um mehr als 20% steigern. Auch eine Beständigkeit über die Lebensdauer der Lampen kann selbst bei Temperaturen von mehr als 600°C erreicht werden.
  • Von besonderem Vorteil ist es, wenn das Leuchtmittel einen Leuchtkörper aufweist, der von einem Kolben, insbesondere einem Quarz- oder Hartglaskolben, umgeben ist, und wenn das Schichtsystem auf der dem Leuchtkörper zugewandten Innenseite des Kolbens angeordnet ist.
  • Dies hat sowohl praktische als auch fertigungstechnische Vorteile. Praktisch kann so sichergestellt werden, dass die Atmosphäre im Inneren des Kolbens, die den Leuchtkörper umgibt und die das Schichtsystem von innen berührt, konstant und darüber hinaus auch entsprechend inert gewählt werden kann.
  • Fertigungstechnisch lässt sich so für den Kolben ein Quarz- oder Hartglas verwenden, das mit dem Schichtsystem in der gewünschten Reihenfolge der Schichten nach einander von außen nach innen (gesehen in der Richtung des optischen Strahls) beschichtet wird. Darüber hinaus ist auch sichergestellt, dass keine mechanischen Beaufschlagungen des Schichtsystems von außen während der Benutzungsdauer eintreten können.
  • Alternativ kann auch vorgesehen sein, dass das Schichtsystem auf der dem Leuchtkörper abgewandten Außenseite des Kolbens angeordnet ist, was insbesondere herstellungstechnische Vereinfachungen mit sich bringt.
  • In einer dritten Alternative kann das Schichtsystem teilweise auf der Außenseite des Kolbens, teilweise auf der Innenseite des Kolbens angeordnet werden, so dass sich das Glas zwischen den Schichten befindet und seinerseits als Schicht genutzt werden kann.
  • Für sichtbares Licht transparente Schichtsysteme mit einem Aufbau aus den drei Schichten Isolator/Metall/Isolator als solche für andere Zwecke sind bekannt. Sie werden als optische Filtersysteme eingesetzt und dabei abgekürzt als „IMI-Filter" bezeichnet. Kern dieses Dreischichtsystems ist ein durchgängiger Metallfilm. In diesem bewirkt das freie Elektronengas eine sehr starke Infrarotreflektivität, selbst wenn der Film nur wenige Nanometer stark ist. Trotzdem kann durch das Prinzip der sogenannten induzierten „Transmission" gleichzeitig im sichtbaren Spektralbereich eine recht hohe Transmission erzielt werden, wenn der Metallfilm von zwei entsprechenden entspiegelnden dielektrischen Filmen, also Isolatoren, umgeben ist. Die Entspiegelung ist dabei umso effektiver, je höher der Brechungsindex des verwendeten Dielektrikums ist.
  • Untersucht und für Filter vorgeschlagen wurden bisher vor allem IMI-Filtersysteme auf der Basis von Titandioxid als Dielektrikum beziehungsweise Isolator und von Silber (Ag) als Metall, so dass ein TiO2/Ag/TiO2-Filtersystem entsteht. Die Fachwelt, beispielsweise E. Kusano, J. Kawaguchi, und K. Enjouji, „Thermal stability of heat-reflective films consisting of oxide-Ag-oxide deposited by dc magnetron sputtering" in: J. Vac. Sci. Technol. A 4 (1986), Seiten 2907 bis 2910, ging aber bisher von thermischer Instabilität dieser Schichten aus, sodass schon ihre Herstellung und Nutzung als reguläres Filter eingeschränkt war. Ein Einsatz ausgerechnet in tatsächlich thermisch belasteten Bereichen ist daher noch nicht in Betracht gezogen worden und lag auch fern.
  • Die Erfindung wendet sich von dieser Einschätzung der Fachwelt ab und setzt ein IMI-Schichtsystem gerade bei Leuchtmitteln ein.
  • Verschiedene teilweise unterschiedliche, teilweise kombinierbare Möglichkeiten für den Aufbau der drei Schichten haben sich ergeben. Auch einige zusätzliche Schichten neben diesen drei Grundschichten sind für bestimmte Anwendungsfälle vorteilhaft.
  • Als günstig hat sich beispielsweise der Einsatz von transparenten und leitfähigen Oxiden zur Entspiegelung herausgestellt. Diese Materialien weisen freie Ladungsträger auf und ermöglichen somit das ausbilden einer metallischen Bindung zur aufgebrachten Silberschicht. Für derartige IMI-Schichten mit einem Aufbau bestehend etwa aus Floatglas/ITO (50 nm)/Ag (10 nm)/ITO (50 nm) haben sich in Tests spezifische Widerstände von ρ = 5,7 μΩcm ergeben. Durch eine Temperung im Vakuum bei 300°C kann der spezifische Widerstand der Schichten nochmals weiter reduziert werden. Erreicht wird dann ein minimaler spezifischer Widerstand von 3,1 μΩcm. Der spezifische Widerstand ist seinerseits ein Maß für die Geschlossenheit und damit auch für die infrarot reflektierenden Eigenschaften der Silberschicht.
  • Erfindungsgemäße IMI-Schichtsysteme auf ITO-Basis können eine thermische Stabilität bis hin zu 650°C erreichen und damit eine Temperaturbeständigkeit des Gesamtsystems unterstützen.
  • Eine weitere Möglichkeit ist der Einsatz von schwach gebundenen und hochbrechenden Oxiden wie etwa von Nb2O5 oder von TiO2. Die Adhäsion und damit die Benetzbarkeit von Metallen durch Isolatoren mit einem Brechungsindex von n > 2,1 steigt mit dem Brechungsindex an. Verantwortlich dafür sind so genannte Bildladungseffekte. Diese Bildladungen werden vom Substrat im Metall induziert und hängen primär vom Substratmaterial, jedoch kaum vom Metall ab. Die Be netzbarkeit des Substrats nimmt sowohl mit zunehmender Bildungsenthalpie des untersuchten Oxids ab als auch mit dessen steigendem Brechungsindex zu.
  • Die Benetzbarkeit kann durch erhöhten Ladungsträgertransfer am Interface weiter intensiviert werden. Dafür ist beispielsweise die Konzentration der Löcher im Valenzband des Isolators ein wichtiges Kriterium. Ein Material mit einer möglichst geringen Bandlücke E ist daher von Vorteil. Es ist bekannt, dass E neben der intrinsischen Leitfähigkeit oder der Bildungsenthalpie auch durch hohe Brechungsindizes günstig beeinflusst werden kann.
  • Auch erfindungsgemäße IMI-Schichtsysteme auf der Basis hochbrechender Dielektrika zeigen daher ein verbessertes Benetzungsverhalten bei hoher Temperatur und damit eine verbesserte Temperaturstabilität. Dies gilt beispielsweise auch für Nb2O5 als Dielektrikum.
  • Eine weitere Möglichkeit ist es, zu besonders gut polarisierbaren dielektrischen Schichten zur Entspiegelung der Metallschichten überzugehen, insbesondere zu solchen mit einer polaren Oberfläche wie etwa ZnO oder AlN. Bestimmte oxidische Materialien können über die Wachstumsbedingungen bei der Dünnfilmdeposition so abgeschieden werden, dass in ihrer Oberfläche ein Dipolmoment erhalten bleibt, welches die Benetzung begünstigt. Dies geschieht über eine Terminierung des Films entweder mehrheitlich mit Metall- oder Sauerstoffionen, sodass die betrachtete Oberfläche polare Eigenschaften erhält.
  • Hierfür haben sich IMI-Schichtsysteme auf ZnO-Basis als besonders vorteilhaft erwiesen.
  • Eine Möglichkeit ist auch, bei dem mittleren Metallfilm nicht Silber sondern Metalllegierungen einzusetzen, die ein besonders gutes Benetzungsverhalten aufweisen. Als maßgebliche Größe für den Einfluss des Metalls auf die Benetzbarkeit eines gegebenen Substrats hat sich die Elektronenkonzentration an der Grenze der Wigner-Seitz-Zelle des Metalls erwiesen, die zum Beispiel durch das Auswählen geeigneter Legierungen optimiert werden kann. Die Adhäsion und damit die Benetzbarkeit wird demnach günstig beeinflusst durch einen optimierten Elektronentransfer am Metall/Isolator-Interface. Dies hat die Ausbildung einer Bindung mit verstärkt metallischem Charakter zur Folge. Da der Elektronentransfer auch von den elektrischen Eigenschaften des Isolators abhängt, in erster Linie von dessen Bandlücke sowie der Leitfähigkeit, lässt sich auch über die Auswahl eines geeigneten Isolators die Benetzbarkeit günstig beeinflussen.
  • Ein günstiges Benetzungsverhalten ist nun aber wiederum günstig für eine deutlich höhere thermische Beständigkeit und damit für eine verbesserte Effizienz der beschichteten Leuchtmittel.
  • Auch der Einsatz von Blockerschichten kann unter Umständen nützlich sein. Vor allem dann, wenn die Temperaturbelastungen nicht allzu lang andauern, ist dies ein brauchbarer Ansatz, unterstützt durch den Einsatz entsprechend inerte Materialien. Hier können zum Beispiel Metallnitride, wie etwa Si3N4 zur Entspiegelung sowie eine Schutzgasfüllung eines fertigbestückten Reflektors von Nutzen sein.
  • Im Folgenden werden anhand der Zeichnung einige Ausführungsbeispiele der Erfindung näher erläutert. Es zeigen:
  • 1 ein erstes Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Leuchtmittels;
  • 2 ein zweites Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Leuchtmittels;
  • 3 ein drittes Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Leuchtmittels; und
  • 4 ein viertes Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Leuchtmittels.
  • In 1 wird der grundsätzliche Aufbau eines Leuchtmittels mit einer infrarotreflektierenden Beschichtung (IRC) auf der Basis von Schichtsystemen mit einer Isolatorschicht, einer Metallschicht und einer weiteren Isolatorschicht (IMI-Schichtsystem) dargestellt. Dabei sind zusätzlich zu den drei erwähnten Grundschichten bereits einige weitere Schichten erwähnt. Zu erkennen ist zunächst innen der Leuchtkörper 10, umgeben von einem Kolben aus Glas 11. Der Leuchtkörper 10 ist beispielsweise ein Halogenbrenner mit einer Nennleistung von etwa 50 Watt. Dieser Leuchtkörper 10 wird von einem Lampenkolben 11 umgeben, der etwa aus Quarzglas oder aus Borsilikatglas besteht.
  • Ein Schichtsystem 20, 30, 40 umgibt den Leuchtkörper 10. Es befindet sich innerhalb des Kolbens 11. Bei der Herstellung wird es auch auf diesem Glas aufgedampft oder in anderer Form aufgebracht. Von innen aus Richtung Leuchtkörper 10 in Richtung der elektromagnetischen Strahlung nach außen trifft die elektromagnetische Strahlung zunächst auf eine erste Isolatorschicht 20. Es folgt eine Zwischenschicht oder ein Interface 21 und darauf eine Blockerschicht 22.
  • Interfaceschicht 21 und Blockerschicht 22 sind nicht in jedem Fall vorhanden.
  • Die nächste, zwingend erforderliche Schicht ist eine Metallschicht 30, beispielsweise eine Silberschicht.
  • Auf diese folgen dann wiederum eine Blockerschicht 42, darauf eine Interface- oder Zwischenschicht 41 und schließlich eine zweite Isolatorschicht 40. Daran schließt sich das Glas des Kolbens 11 an. Hat die elektromagnetische Strahlung mit Wellenlängen im Bereich des sichtbaren Lichts auch den Kolben 11 passiert, verlässt sie das Leuchtmittel und tritt in die Umgebung aus.
  • Bei der Herstellung des Systems werden die Schichten natürlich in umgekehrter Reihenfolge auf die dem Leuchtkörper 10 zugewandte Seite des Glases des Kolbens 11 aufgetragen, also zunächst die zweite Isolatorschicht 40, dann die Interface- oder Zwischenschicht 41, dann die Blockerschicht 42, danach die Metallschicht 30 und die zur ersten Isolatorschicht 20 gehörenden Schichten des gesamten Schichtsystems.
  • Das gesamte System kann anhand folgender Kriterien hinsichtlich der optischen Eigenschaften beurteilt werden:
    Spezifiziert wird das wie folgt definierte Reflexionsvermögen im infraroten Spektralbereich Rir: Rir(780...2200nm) := ∫S(λ,T=3000K)R(λ)dλ/∫S(λ,T=3000K)dλ (1)
  • Dabei gilt R(λ):= 1 – T(λ), wobei R(λ) und T(λ) das spektrale Reflexionsvermögen beziehungsweise Transmissionsvermögen und S(λ,T=3000K) die spektrale Flussdichte eines Wolframstrahlers bei einer Temperatur von 3000 K bezeichnen. Gewünscht wird ein Reflexionsvermögen von Rir(780...2200nm) ≥ 75% (2)
  • Bezogen auf die Effizienz des unbeschichteten Leuchtkörpers soll durch die Beschichtung eine Effizienzsteigerung von möglichst Δ(Im/W) > 30% erzielt werden.
  • Das virtuelle Transmissionsvermögen im sichtbaren Spektralbereich wird wie folgt definiert: T380...780nm := Φbeschichtetunbeschichtet (3)
  • Die Größen Φbeschichtet beziehungsweise Φunbeschichtet geben dabei den Strahlungsfluss der Lampe im unbeschichteten beziehungsweise beschichteten Zustand im sichtbaren Spektralbereich an, wobei zunächst die unbeschichtete Lampe auf eine Farbtemperatur von 2900 K eingestellt wird. Die nachfolgenden Tests an beschichteten Lampen werden dann bei gleichem elektrischen Widerstand der Lampe durchgeführt. Gewünscht wird ein Transmissionsvermögen von T380...780nm ≥ 98% (4)
  • Zur Untersuchung der Farbneutralität werden die Farbwerte des Lampenspektrums im beschichteten und unbeschichteten Zustand unter ähnlichen Bedingungen, wie bei der Bestimmung des Transmissionsvermögens bestimmt. Im XYZ-Farbraum sind die zulässigen Abweichungen der Farbwerte wie folgt definiert: Δx ≤ 0,005 Δy ≤ 0,005
  • 2 zeigt eine Ausführungsform, bei der als Isolator 20, 40, jeweils eine Schicht mit transparenten leitfähigen Oxiden (TCO) als dielektrische Schicht verwendet wird.
  • In einem tatsächlich getestetem und in etwa in 2 wiedergegebenen Fall wird mit Schichtdicken der Metallschicht 30 (hier wiederum eine Silberschicht) von 12 nm und Isolatorschichten 20, 40 von jeweils 40 nm als Dielektrikum aus den transparenten und leitfähigen Oxiden gearbeitet.
  • Temperexperimente haben dabei ergeben, dass das System auf Quarzglas bis zu einer Temperatur von 650°C temperaturstabil ist. Auf Halogenbrennern als Leuchtkörper 10 wurde eine Effizienzsteigerung von mehr als 15% erreicht.
  • 3 zeigt eine alternative Ausführungsform der Erfindung. Als Metallschicht ist wiederum Silber gewählt worden, für die Isolatorschichten 20, 40 ist hier eine Basis aus hochbrechenden Oxiden als Dielektrikum gewählt worden.
  • Eine tatsächlich getestete und in 3 dargestellte Ausführungsform besitzt Schichtdicken der Silberschicht 30 von 14 nm und der Isolatorschichten 20, 40 aus NbOx von jeweils 38 nm.
  • Temperexperimente haben gezeigt, dass das System auf Quarzglas als Kolben 11 bis zu einer Temperatur von 750°C temperaturstabil ist. Auf Halogenbrennern wurde eine Effizienzsteigerung von 20% erreicht.
  • 4 zeigt eine weitere alternative Ausführungsform der Erfindung. Hier wird als Metallschicht 30 wiederum mit Silber gearbeitet. Zusätzlich werden hochbrechende Oxide, Blockerschichten und polare Interfaceschichten verwendet. Die Schichten sind bei dieser Ausführungsform nicht symmetrisch. Zwischen die Schichten aus der 3 sind hier eine Schicht 40b aus ZnO von 6 nm und auf der anderen Seite eine Schicht 22 aus NiCrOx von 2 nm eingefügt worden.
  • 10
    Leuchtkörper
    11
    Kolben
    20
    erste Isolatorschicht
    21
    Zwischenschicht oder Interface
    22
    Blockerschicht
    30
    Metallschicht
    40
    zweite Isolatorschicht
    40b
    Schicht aus ZnO
    41
    Interface- oder Zwischenschicht
    42
    Blockerschicht

Claims (16)

  1. Leuchtmittel mit einem Schichtsystem zur Reflektierung abgegebener infraroter Strahlung, dadurch gekennzeichnet, dass das Leuchtmittel mindestens teilweise mit einem für sichtbares Licht transparenten Schichtsystem umgeben wird, dass von innen nach außen eine innere Schicht (20) aus einem Isolator beziehungsweise Dielektrikum versehen ist, dass darüber eine zweite Schicht (30) aus einem transparenten Metall vorgesehen ist, und dass darüber eine Schicht (40) aus einem Isolator beziehungsweise Dielektrikum vorgesehen ist.
  2. Leuchtmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Leuchtmittel einen Leuchtkörper (10) aufweist, der von einem Kolben (11) umgeben ist, insbesondere mit einem Quarzkolben oder Hartglaskolben, und dass das Schichtsystem auf der Innenseite des Kolbens (11) angeordnet ist.
  3. Leuchtmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Leuchtmittel einen Leuchtkörper (10) aufweist, der von einem Kolben (11) umgeben ist, insbesondere mit einem Quarzkolben oder Hartglaskolben, und dass das Schichtsystem auf der Außenseite des Kolbens (11) angeordnet ist.
  4. Leuchtmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Leuchtmittel einen Leuchtkörper (10) aufweist, der von einem Kolben (11) umgeben ist, insbesondere mit einem Quarzkolben oder Hartglaskolben, und dass das Schichtsystem teilweise auf der Innenseite des Kolbens (11) und teilweise auf der Außenseite des Kolbens (11) angeordnet ist.
  5. Leuchtmittel nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die beiden Isolator- beziehungsweise Dielektrikumsschichten (20, 40) jeweils Schichten aus transparenten leitfähigen Oxiden (TCO) aufweisen.
  6. Leuchtmittel nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die transparenten leitfähigen Oxide (TCO) aus SnO2:Sb, In2O3:Sn (ITO) oder ZnO:Al oder Kombinationen daraus sind.
  7. Leuchtmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichten (20, 40) aus dem Isolatormaterial jeweils hochbrechende Dielektrika aufweisen.
  8. Leuchtmittel nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass das hochbrechende Dielektrikum ein Oxid aus der Gruppe Nb2O5, Ta2O5, SnO2 oder TiO2 oder aus Kombinationen aus diesen Materialien ist.
  9. Leuchtmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichten (20, 40) aus dem Isolatormaterial polare Dielektrika sind.
  10. Leuchtmittel nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das polare Dielektrikum ZnO oder AlN oder Kombinationen daraus sind.
  11. Leuchtmittel nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass das polare Dielektrikum ZnO als dünne Schicht mit einer Schichtdicke von weniger als 10 nm direkt unterhalb und/oder oberhalb einer Silberschicht in das Schichtsystem eingebracht ist.
  12. Leuchtmittel nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Metallschicht (30) Silber aufweist, insbesondere zu mehr als 90% aus Silber besteht.
  13. Leuchtmittel nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Metall neben Silber Zusätze aus Platin und/oder Kupfer und deren Mischungen mit Atomkonzentrationen von 10% oder weniger aufweist.
  14. Leuchtmittel nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zusätzliche Schichten vorgesehen sind.
  15. Leuchtmittel nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass oberhalb und/oder unterhalb der Metallschicht (30) Blockerschichten (22, 42) auf der Basis von TiOx, NbOx, NiCrOx, AlNxOy, AlMgMoNxOy, SiNx oder Kombinationen oder Legierungen daraus aufweist.
  16. Leuchtmittel nach einem der vorstehenden Ansprüche 2 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass als Leuchtkörper (10) eine Halogenlampe eingesetzt ist.
DE200410011976 2004-03-10 2004-03-10 Leuchtmittel mit einem Schichtsystem zur Reflektierung abgegebener infraroter Strahlung Ceased DE102004011976A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE200410011976 DE102004011976A1 (de) 2004-03-10 2004-03-10 Leuchtmittel mit einem Schichtsystem zur Reflektierung abgegebener infraroter Strahlung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE200410011976 DE102004011976A1 (de) 2004-03-10 2004-03-10 Leuchtmittel mit einem Schichtsystem zur Reflektierung abgegebener infraroter Strahlung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102004011976A1 true DE102004011976A1 (de) 2005-09-29

Family

ID=34895244

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE200410011976 Ceased DE102004011976A1 (de) 2004-03-10 2004-03-10 Leuchtmittel mit einem Schichtsystem zur Reflektierung abgegebener infraroter Strahlung

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102004011976A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007085985A1 (en) * 2006-01-25 2007-08-02 Koninklijke Philips Electronics N.V. Tld low-pressure gas discharge lamp
WO2008137219A1 (en) * 2007-05-01 2008-11-13 General Electric Company High temperature coating for discharge lamps

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2437292A1 (de) * 1973-09-06 1975-03-13 Narva Veb Kadmium-niederdruckentladungslampe
US4342937A (en) * 1980-02-12 1982-08-03 Egyesult Izzolampa Es Villamossagi Rt. Metal halogen vapor lamp provided with a heat reflecting layer
DE3232633A1 (de) * 1981-09-03 1983-03-10 General Electric Co., Schenectady, N.Y. Hochdruck-natriumdampflampe mit verbessertem infrarot-reflektor
DE3232632A1 (de) * 1981-09-03 1983-03-10 General Electric Co., Schenectady, N.Y. Hochdruck-alkalimetalldampflampe mit verbesserter wirksamkeit
DD258099A1 (de) * 1984-03-16 1988-07-06 Narva Rosa Luxemburg Buero F S Elektrische lampe mit einer lichtdurchlaessigen infrarotreflektierenden einrichtung
DE3042753C2 (de) * 1979-11-14 1989-04-06 N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken, Eindhoven, Nl
US5003214A (en) * 1986-12-19 1991-03-26 Gte Products Corporation Metal halide lamp having reflective coating on the arc tube
EP1158566A1 (de) * 2000-05-26 2001-11-28 Schott Glas Leuchtkörper für eine Lampe, insbesondere Entladungslampen
DE10204691C1 (de) * 2002-02-06 2003-04-24 Philips Corp Intellectual Pty Quecksilberfreie Hochdruckgasentladungslampe und Beleuchtungseinheit mit einer solchen Hochdruckgasentladungslampe

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2437292A1 (de) * 1973-09-06 1975-03-13 Narva Veb Kadmium-niederdruckentladungslampe
DE3042753C2 (de) * 1979-11-14 1989-04-06 N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken, Eindhoven, Nl
US4342937A (en) * 1980-02-12 1982-08-03 Egyesult Izzolampa Es Villamossagi Rt. Metal halogen vapor lamp provided with a heat reflecting layer
DE3232633A1 (de) * 1981-09-03 1983-03-10 General Electric Co., Schenectady, N.Y. Hochdruck-natriumdampflampe mit verbessertem infrarot-reflektor
DE3232632A1 (de) * 1981-09-03 1983-03-10 General Electric Co., Schenectady, N.Y. Hochdruck-alkalimetalldampflampe mit verbesserter wirksamkeit
DD258099A1 (de) * 1984-03-16 1988-07-06 Narva Rosa Luxemburg Buero F S Elektrische lampe mit einer lichtdurchlaessigen infrarotreflektierenden einrichtung
US5003214A (en) * 1986-12-19 1991-03-26 Gte Products Corporation Metal halide lamp having reflective coating on the arc tube
EP1158566A1 (de) * 2000-05-26 2001-11-28 Schott Glas Leuchtkörper für eine Lampe, insbesondere Entladungslampen
DE10204691C1 (de) * 2002-02-06 2003-04-24 Philips Corp Intellectual Pty Quecksilberfreie Hochdruckgasentladungslampe und Beleuchtungseinheit mit einer solchen Hochdruckgasentladungslampe

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007085985A1 (en) * 2006-01-25 2007-08-02 Koninklijke Philips Electronics N.V. Tld low-pressure gas discharge lamp
WO2008137219A1 (en) * 2007-05-01 2008-11-13 General Electric Company High temperature coating for discharge lamps
US7772749B2 (en) 2007-05-01 2010-08-10 General Electric Company Wavelength filtering coating for high temperature lamps
CN101675010B (zh) * 2007-05-01 2013-04-24 通用电气公司 用于放电灯的高温涂层

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102015102496B4 (de) Temperatur- und korrosionsstabiler Oberflächenreflektor
DE69514710T2 (de) Metallhalogenidlampe
DE60029649T2 (de) Transparentes Laminat, Verfahren zu dessen Herstellung und Plasma-Anzeigetafel
DE69125644T2 (de) Interferenz-Filter
WO2007101530A1 (de) Infrarotsrahlung reflektierendes schichtsystem sowie verfahren zu seiner herstellung
DE69510488T2 (de) Mit einem Dünnschichtstapel beschichtete Glassubstrate mit reflektierenden Eigenschaften für Infrarot und/oder Sonnenstrahlung
DE3941046A1 (de) Waermereflektierende glasplatte mit mehrschicht-belag
DE4037179C2 (de) Optische Interferenzschicht
DE3227096A1 (de) Fuer hohe temperaturen geeignete optische beschichtungen
DE69911539T2 (de) Elektrische Lampe mit Interferenzfilter
DE10152410A1 (de) Filmschicht mit bestimmten optischen und elektrischen Eigenschaften
DE102013112532A1 (de) Strahlungsabsorber zum Absorbieren elektromagnetischer Strahlung, Solarabsorber-Anordnung, und Verfahren zum Herstellen eines Strahlungsabsorbers
DE4412318C2 (de) Wärmebehandlung einer mit einer teilreflektierenden Silberschicht versehenen Glasscheibe
EP1233284B1 (de) Abdeckteil für eine Lichtquelle
DE69907747T2 (de) Verglasungsscheibe
DE60015055T2 (de) Elektrische lampe und aus einer elektrischen lampe und einem reflektor zusammengesetzte baueinheit
DE2813919C2 (de) Eingangsschirm für eine Röntgen-Bildwandlerröhre
DE102012207561A1 (de) IR-reflektierendes, transparentes Schichtsystem und Verfahren zu dessen Herstellung
DE69833099T2 (de) Transparente Substrate mit einer Häufung von Schichten mit Infrarot und/oder Sonnenstrahlung reflektierenden Eigenschaften
DE102004011976A1 (de) Leuchtmittel mit einem Schichtsystem zur Reflektierung abgegebener infraroter Strahlung
DE3807600A1 (de) Niederreflektierender, hochtransparenter in durch- als auch in aussenansicht neutral wirkender sonnenschutz- und/oder waermedaemmender belag fuer ein substrat aus transparentem material
EP1769194A1 (de) Rückflächenspiegel
DE602005004798T2 (de) Elektrische lampe und interferenzbeschichtung
DE1230243B (de) Verfahren zum Vergueten eines Waermereflexionsfilters
DE10046810C5 (de) Verfahren zur Herstellung eines wärmereflektierenden Schichtsystems für transparente Substrate und danach hergestelltes Schichtsystem

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANG, DE

Owner name: AUER LIGHTING GMBH, 37581 BAD GANDERSHEIM, DE

R016 Response to examination communication
R002 Refusal decision in examination/registration proceedings
R003 Refusal decision now final