DE10122329A1 - Wärmetauscher-Vorrichtung mit einer oberflächenbeschichteten Wand, die Medium 1 von Medium 2 trennt - Google Patents
Wärmetauscher-Vorrichtung mit einer oberflächenbeschichteten Wand, die Medium 1 von Medium 2 trenntInfo
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Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Wärmetauscher-Vorrichtung mit einer oberflächenbeschichteten Wand, die Medium 1 von Medium 2 trennt, wobei die Oberfläche der Wand zumindest teilweise mit einer dünnen Schicht beschichtet ist, die mindestens eine Verbindung der Elemente Titan, Zirkonium und/oder Hafnium und/oder Legierungen davon mit Stickstoff und/oder Sauerstoff und/oder Kohlenstoff und/oder Fluor enthält. Weiter betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Herstellung der oberflächenbeschichteten Wärmetauscherwand sowie die Verwendung der Wärmetauscher-Vorrichtung.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Wärmetauscher-
Vorrichtung mit einer oberflächenbeschichteten Wand, die
Medium 1 von Medium 2 trennt, wobei die Oberfläche der Wand
zumindest teilweise mit einer dünnen Schicht beschichtet ist,
die mindestens eine Verbindung der Elemente Titan, Zirkonium
und/oder Hafnium und/oder Legierungen davon mit Stickstoff
und/oder Sauerstoff und/oder Kohlenstoff und/oder Fluor
enthält. Weiter betrifft die vorliegende Erfindung ein
Verfahren zur Herstellung der oberflächenbeschichteten
Wärmetauscherwand sowie die Verwendung der Wärmetauscher-
Vorrichtung.
Die Erfindung betrifft im wesentlichen eine oberflächen
beschichtete Wärmetauscherwand einer Wärmetauscher-Vorrichtung
zum Übertragen von Wärme von einem wärmeren Medium auf ein
kälteres. Unter einem Medium sind dabei jegliche Gase oder
Flüssigkeiten zu verstehen. Bei der Wärmetauscherwand handelt
es sich beispielsweise um die Wände einer Platte, die an ein
Wärmeträgerrohr angebunden ist und beispielsweise in
Kondensatoren von Kälteanlagen, Lufttrennanlagen, Trocknungs-
oder Befeuchtungsanlagen oder Feuchtluftdestillen eingesetzt
werden.
Es gibt diverse Vorschläge zur Optimierung von
Wärmetauscherwänden. In den Schriften DE-A-27 31 476,
EP-A-0 136 148 und DE-A-26 00 821 werden Nuten in der Oberfläche
beschrieben. Durch geeignete Wahl von Form, Größe und
Anordnung dieser Nuten soll kondensierter Dampf einen dünneren
Wasserfilm bilden als ohne diese Nuten. Ein dünnerer
Wasserfilm ist nämlich eine kleinere Wärmebarriere und führt
zu einem effizienteren Wärmetauscher. Ein anderer Ansatz wird
in DE-A-26 50 565 beschrieben, wo eine mit "porösem Material",
wie z. B. Faservlies oder Kunststoffschaum, beschichtete
Oberfläche den Wasserfilm minimieren soll. Wärmetauscher
werden auch in Anlagen zur Wiederaufbereitung von Brackwasser,
insbesondere Meerwasser, eingesetzt. Die Medien in diesen
Anlagen sind korrosiv und bei der Aufbereitung von Meerwasser
wird verlangt, daß das mit der Wärmetauscherwand in Kontakt
stehende Medium lebensmittelecht ist. Weiterhin hängt die
Effizienz und damit die Wirtschaftlichkeit solcher Anlagen
stark von der Wirksamkeit der eingesetzten Wärmetauscher ab.
Eine Vorrichtung zur Gewinnung von Brauchwasser aus
verunreinigten Wässern ist im deutschen Patent DE-C-43 40 745
beschrieben. Hier werden eine Mehrzahl von senkrecht parallel
zueinander unter Ausbildung von Kanälen, d. h. in einem Abstand
zueinander angeordnete Vlies- oder Gewebebahnen als
Verdunstungsflächen für die zuvor aufgeheizten verunreinigten
Wässer genutzt. Hier ist allerdings der Nachteil, daß es zur
Ausbildung von Tropfen kommt und keinem dünnen Film, was die
Effizienz der Anlage mindert.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist einen Wärmetauscher
zur Verfügung zu stellen, dessen Oberfläche derart modifiziert
ist, dass der Wirkungsgrad des Wärmetauschers verbessert wird,
Korrosionsprobleme bei Einsatz korrosiver Medien reduziert
werden und die Oberfläche für Einsätze bei der Gewinnung von
Trinkwasser lebensmittelecht ist.
Diese Aufgabe wird durch den Gegenstand von Anspruch 1 gelöst.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen ergeben sich aus den
Unteransprüchen.
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Wärmetauscher-
Vorrichtung mit einer oberflächenbeschichteten Wand, die
Medium 1 von Medium 2 trennt, wobei die Oberfläche der Wand
zumindest teilweise mit einer dünnen Schicht beschichtet ist,
die mindestens eine Verbindung der Elemente Titan, Zirkonium
und/oder Hafnium und/oder Legierungen davon mit Stickstoff
und/oder Sauerstoff und/oder Kohlenstoff und/oder Fluor
enthält.
In einer bevorzugten Ausführungsform enthält die
Oberflächenbeschichtung eine Verbindung mit der chemischen
Summenformel TixZryHfzNaObCc (mit x, y, z = jeweils 0 bis 1;
a, b, c = jeweils 0 bis 2,5, mit der Maßgabe, daß x + y + z = 1 und
a + b + c < 0). In einer weiter bevorzugten Ausführungsform
enthält die Oberflächenbeschichtung eine Verbindung mit der
chemischen Summenformel TixZryHfzNaObCc (mit x, y, z = jeweils 0
bis 1; a, b, c = jeweils 0 bis 2, mit der Maßgabe, daß x + y + z = 1
und a + b + c = 0,02 bis 2,0). Konkrete Verbindungen, die
besonders bevorzugt sind TiO2, TiNaObCc, mit a = 0,01 bis 1,8;
b = 0,2 bis 1,98 und c = 0,01 bis 1,5; ZrNaObCc, mit a = 0,01 bis
0,2; b = 0,8 bis 1,89 und c = 0,1 bis 1,5.
In einer ganz bevorzugten Ausführungsform ist in der
Verbindung zur Oberflächenbeschichtung auch Fluor enthalten,
wobei das Verhältnis der Fluoratome zu den darin enthaltenen
Kohlenstoffatomen 0,05 bis 2,05 ist. Eine derartige Verbindung
hat die chemische Formel TixZryHfzNaObCcFd (mit x, y, z =
jeweils 0 bis 1; a, b = jeweils 0 bis 2; c = 0,05 bis 2 und d =
0,01 bis 2 mit der Maßgabe, daß x + y + z = 1, a + b + c = 0,02 bis
2,0 und d/c = 0,005 bis 2,05). Bevorzugt werden Verbindungen
mit kleinen Anteilen an Fluor, d < 0,3. Konkrete Verbindungen,
die besonders bevorzugt sind. TiObCcFd mit b = 0 bis 1,5, c = 0,1
bis 1,8 und d = 0,01 bis 0,8; TiNaCcFd mit a = 0 bis 2,5, c = 0,1 bis
2,5 und d = 0,01 bis 0,8.
Ganz bevorzugte Verbindungen sind TiNO1,1C0,5F0,01, TiNO1,1C0,5F0,1,
TiNO1,1C0,5F0,15, TiNO1,1C0,5F0,3,
TiNO1,1C0,5F0,4, und TiO1,4C0,5F0,5.
Mittels des Fluorgehalts läßt sich die Hydrophilizität/
Hydrophobizität der Oberflächenbeschichtung besonders einfach
steuern. So bewirkt ein höherer Fluorgehalt eine hydrophobere
Oberfläche, was für Einsätze in der Kältetechnik vorteilhaft
sein kann. In der Brauchwassertechnik sind dagegen
hydrophilere Oberflächen vorteilhafter, was durch einen
niedrigen Fluorgehalt oder das Weglassen von Fluor bewirkt
werden kann.
Die Fluor-enthaltenden Schichten weisen bevorzugt CF und/oder
CF2-Gruppen auf, die im ESCA-Spektrum zu Maxima bei 290 ± 1 eV
(hervorgerufen durch die CF-Gruppen) bzw. 293 ± 1 eV
(hervorgerufen durch CF2-Gruppen) führen (vgl. Fig. 1-6). In
einer bevorzugten Ausführungsform enthält die
Oberflächenbeschichtung CF- und CF2-Gruppen, die im ESCA-
Spektrum zu einem Intensitätsverhältnis der beiden Maxima (bei
290 bzw. 293 eV) von 0,5 bis 8 führen.
Die Beschichtung befindet sich als dünne Schicht auf einem als
Wärmetauscherwand geeigneten Substrat. Diese kann aus
Kunststoff, z. B. Polypropylen, Polyester, Polyamid,
Polyurethan, Polyethylen, Polytetrafluorethylen oder aus einem
Metall, wie Kupfer, Aluminium, Nickel, Chrom, Titan, Vanadium,
Niob, Eisen oder deren Mischungen oder Legierungen sein. Die
als dünne Schicht ausgebildete Beschichtung ist vorzugsweise
auf eine strukturierte Oberfläche aufgebracht. Die Dicke der
Beschichtung liegt vorzugsweise im Bereich von 20 nm bis 2 mm,
weiter bevorzugt im Bereich von 200 nm bis 1,5 mm und ganz
bevorzugt im Bereich von 500 nm bis 1 mm.
Die Beschichtung kann die Oberfläche der Wärmetauscherwand
ganz oder teilweise bedecken. Vorzugsweise ist die
Wärmetauscherwand zu mindestens 85% mit der Beschichtung
beschichtet.
In einer bevorzugten Ausführungsform ist eine Zwischenschicht
zwischen der Wärmetauscherwand und der Beschichtung
vorgesehen, die eine höhere Haftfestigkeit bewirkt. Diese
Zwischenschicht besteht vorzugsweise aus einem
wärmeleitfähigen Metall, vorzugsweise aus Chrom, Nickel,
Titan, Molybdän oder Vanadium.
Die Beschichtung der Wärmetauscherwand erfolgt bevorzugt in
einer Vakuumbeschichtungskammer, worin mittels
Elektronenstrahlverdampfung Titan, Zirkonium und/oder Hafnium
verdampft werden und durch "mass flow controler" die Elemente
Stickstoff, Sauerstoff, Kohlenstoff und/oder Fluor gasförmig
beigegeben werden. Ein besonders bevorzugtes Verfahren ist das
Einbringen des Grundmaterials des Wärmetauschers (Kunststoff
oder Metall)in Form von Bandmaterial, welches in Rollen
vorliegt, in eine Vakuumkammer. Diese Vakuumkammer (Fig. 11)
besteht aus einem Wickelmechanismus durch den das Bandmaterial
im Vakuum von einer Rolle aus eine andere umgespult werden
kann. Ferner hat der Wickelmechanismus mindestens je eine,
bevorzugt je zwei, Umlenkwalzen durch die das Bandmaterial
geheizt beziehungsweise gekühlt werden kann. Die Heizung der
Heizwalzen geschieht vorzugsweise durch Infrarotstrahler, die
Kühlung der Kühlwalzen vorzugsweise durch Thermoöl. Das
Bandmaterial wird zwischen den Umlenkwalzen Dampf ausgesetzt.
Dieser Dampf entsteht in einem Vakuum von ca. 10-5 mBar dem die
Nichtmetalle der Verbindung als Gase beigestzt werden, so dass
der Prozeß bei einem Prozessdruck von ca. 0,1 bis 3.10-3 mBar
stattfindet. Das Gasgemisch der zugeführten Nichtmetalle wird
bevorzugt mittels "mass flow controler" gesteuert. Für den
Prozess kann es von Vorteil sein, ein Edelgas, wie z. B.
Argon, beizufügen. Die Metalle werden bevorzugt mittels
Elektronenstrahlkanonen aus Tiegeln verdampft. Bevorzugt
werden die Metalle in diesen Tiegeln in Granulatform gemischt,
in dem Verhältnis, wie sie später in der Verbindung auf dem
Bandmaterial vorliegen. Bevorzugte Bandgeschwindigkeiten sind
1 bis 60 m/min. besonderst bevorzugt Geschwindigkeiten von 6
bis 25 m/min. Bei metallischen Bändern wird das Band mittels
der Heizwalzen auf Temperaturen von 150°C bis 450°C
aufgeheizt. Bei Kupfer hat sich eine Temperaturbereich von
350°C bis 420°C als besonders geeignet erwiesen. Bei
Kunststoffbändern sind niedrige Temperaturen im Bereich von
20°C bis 80°C zu wählen.
Die beschichtete Wärmetauscherwand kann im Rahmen einer
Wärmetauscher-Vorrichtung in Kondensatoren von Kälteanlagen,
Lufttrennanlagen, Trocknungs- oder Befeuchtungsanlagen oder
Feuchtluftdestillen eingesetzt werden, wobei der Einsatz in
Feuchtluftdestillen und Kälteanlagen bevorzugt ist.
Für die Anwendung in Feuchtluftdestillen wirkt sich
vorteilhaft aus, daß die Oberflächenbeschichtung
korrossionsecht und lebensmittelecht ist und sich nach der
Verdampfung keine einzelnen Tröpfchen niederschlagen, sondern
ein dünner kontinuierlicher Film entsteht, was der Effizienz
der Destille zuträglich ist. Hydrophile Oberflächen sind
vorteilhaft, daher sind bevorzugt Verbindungen ohne oder nur
mit geringem Fluor und geringem Kohlenstoffanteil zu wählen.
Besonders bevorzugt sind Verbindungen mit TiNaObCc, mit a = 0,01
bis 1,8; b = 0,2 bis 2,2 und c = 0,01 bis 0,5. Die Steigerung der
Effizienz durch diese Verbindungen ist z. B. in Fig. 7 zu
sehen.
Für die Anwendung in Klimaanlagen wirkt sich vorteilhaft aus,
daß die Oberflächenbeschichtung hydrophob, korrosionsbeständig
und lebensmittelecht ist. Bei Klimaanlagen wird warme, häufig
feuchte Luft abgekühlt. Dabei kondensiert der überschüssige
Wasserdampf auf den Wärmetauscherflächen und reduziert die
Effizienz des Wärmetauschers. Eine hydrophobe Oberfläche führt
zur Bildung einzelner Tröpfchen, die rasch abtropfen, was der
Effizienz der Klimaanlage, besonders in feuchten Klimaregionen
zuträglich ist. Dieser Vorgang und die verbesserte Effizienz
durch diese Verbindungen ist z. B. in Fig. 10 zu sehen.
Zudem muss das Kondensat nicht weiter behandelt werden, da
durch die Oberfläche keinerlei Verunreinigung stattfindet.
Hydrophobe Oberflächen werden bevorzugt durch Verbindungen mit
hohem Fluoranteil realisiert. Besonders bevorzugt sind
Verbindungen mit TiObCcFd mit b = 0,1 bis 1,5, c = 0,1 bis 1,8 und
d = 0,05 bis 0,6, TiNaCcFd mit a = 0,1 bis 2,5, c = 0,1 bis 2,5 und
d = 0,05 bis 0,6 und TiNaObCcFd mit a, b = jeweil 0,1 bis 2,5, c = 0,1
bis 2,5 und d = 0,05 bis 0,6.
Die vorliegende Erfindung wird weiter mit Bezug auf die
Figuren beschrieben:
Fig. 1 bis Fig. 6 ESCA-Spektren verschiedener
beschichteter Wärmetauscher.
Fig. 1 Wärmetauscher beschichtet mit TiN1,0O1,1C0,5F0,01
Fig. 2 Wärmetauscher beschichtet mit TiN1,0O1,1C0,5F0,1
Fig. 3 Wärmetauscher beschichtet mit TiN1,0O1,1C0,5F0,15
Fig. 4 Wärmetauscher beschichtet mit TiN1,0O1,1C0,5F0,3
Fig. 5 Wärmetauscher beschichtet mit TiN1,0O1,1C0,5F0,4
Fig. 6 Wärmetauscher beschichtet mit TiO1,4C0,5F0,5
Fig. 7 Wärmeleitwert
In einer Versuchsanordnung wurden zwei Wärmetauscher in eine Feuchtluftdestille eingebaut. Der eine bestand aus herkömmlichem PP-Material (Stand der Technik), der andere mit der erfindungsgemäßen Beschichtung, TiN0,2O1,1C0,3 beschichtet. Die Grafik zeigt bei einer Arbeitstemperatur von 95°C einen 40-fachen Wärmeleitwert zwischen Verdunster und Kühlwasser. Dieser Wert ist bei den heutigen Anlagen der limitierende Leitwert.
In einer Versuchsanordnung wurden zwei Wärmetauscher in eine Feuchtluftdestille eingebaut. Der eine bestand aus herkömmlichem PP-Material (Stand der Technik), der andere mit der erfindungsgemäßen Beschichtung, TiN0,2O1,1C0,3 beschichtet. Die Grafik zeigt bei einer Arbeitstemperatur von 95°C einen 40-fachen Wärmeleitwert zwischen Verdunster und Kühlwasser. Dieser Wert ist bei den heutigen Anlagen der limitierende Leitwert.
Fig. 8 Benetzbarkeit von erfindungsgemäßen
Wärmetauscherwand-Beschichtungen für verschiedene
Ausführungen der Oberfläche
- a) 105° Kontaktwinkel einer Oberfläche aus TiN1,0O1,1 und einer hohen Porösität (40% Leerräume),
- b) 60° Kontaktwinkel einer Oberfläche aus TiN1,0O1,1 und einer mittleren Porösität (22% Leerräume),
- c) 8° Kontaktwinkel einer Oberfläche aus TiN1,0O1,1 und einer niedrigen Porösität (3% Leerräume).
Fig. 9 Schematische Darstellung einer Feuchtluftdestille
Fig. 10 Wärmeleitwert eines beschichteten Wärmetauschers,
eingesetzt in einer Klimaanlage: In der Grafik sind die
Quotienten der Wärmeleitwerte von verschiedenen
beschichteten Wärmetauschern zu einem unbeschichteten
Wärmetauscher angegeben. Der Arbeitspunkt der Klimaanlage
ist die Kühlung und Entfeuchtung von Luft mit 28°C, 95%
Luftfeuchte eingangsseitig und 18°C, 20% Luftfeuchte
ausgangsseitig. Die Beschichtung besteht aus:
- a) TiN1,0O1,1
- b) TiN1,0O1,1C0,5F0,01
- c) TiN1,0O1,1C0,5F0,1
- d) TiN1,0O1,1C0,5F0,15
- e) TiN1,0O1,1C0,5F0,3
- f) TiN1,0O1,1C0,5F0,4
Fig. 11 Konstruktionszeichnung der Beschichtungsanlage
Die Erfindung wird weiter anhand der Beispiele beschrieben.
Die Wärmetauscher werden folgendermaßen hergestellt: 0,3 mm
dicke Kupferfolien werden in einer Vakuumbeschichtungskammer
beschichtet. Hierbei wird Titan mittels
Elektronenstrahlverdampfung verdampft und N2, O2, CH4, CO2 sowie
Fluor werden in die Vakuumkammer zugeführt. Durch Steuern der
Zusammensetzung des zugeführten Gases kann die chemische
Zusammensetzung der Beschichtung gesteuert werden. Das Titan
und die Gase kondensieren zu einer festen Beschichtung auf dem
Kupferband. In einem folgenden Arbeitsschritt wird das
Kupferband auf die Wärmetauschergröße zugeschnitten. Zwei
dieser Zuschnitte werden, die beschichtete Seite nach außen,
aufeinander gelegt. Vorher wird Lot und ein Rohr zwischen den
Platten eingefügt. Der fast fertige Wärmetauscher wird in
einem Lötofen gelötet.
Es wurden folgende Wärmetauscher hergestellt:
In einer Vakuumkammer (Fig. 11a, b) läuft das zu beschichtete Band 40 ± 5 cm über den Elektronenstrahlverdampfern, in denen Titan, Zirkonium und Hafnium verdampft werden.
In einer Vakuumkammer (Fig. 11a, b) läuft das zu beschichtete Band 40 ± 5 cm über den Elektronenstrahlverdampfern, in denen Titan, Zirkonium und Hafnium verdampft werden.
- a) Bandgeschwindigkeit: 45 ± 5 mm/s
Verdampferrate: 50 ± 10 nm/s
Material: Titan
Substrattemperatur (Temperatur des Bandes): 350 ± 30°C
Gesamtgasdruck: 10-3 hPa
Zugeführte Gase: N2, O2 im Verhältnis N2/O2 = 1000
Dies ergibt eine Beschichtung mit TiN1,0O1,1. - b) Bandgeschwindigkeit: 45 ± 5 mm/s
Verdampferrate: 50 ± 10 nm/s
Material: Titan
Substrattemperatur (Temperatur des Bandes): 350 ± 30°C
Gesamtgasdruck: 10-3 hPa
Zugeführte Gase: N2, CO2, F im Verhältnis N2/CO2/F = 1000/50/0,1
Dies ergibt eine Beschichtung mit TiN1,0O1,1C0,5F0,01. - c) Bandgeschwindigkeit: 45 ± 5 mm/s
Verdampferrate: 50 ± 10 nm/s
Material: Titan
Substrattemperatur (Temperatur des Bandes): 350 ± 30°C
Gesamtgasdruck: 10-3 hPa
Zugeführte Gase: N2, CO2, F im Verhältnis N2/CO2/F = 1000/50/1
Dies ergibt eine Beschichtung mit TiN1,0O1,1C0,5F0,1. - d) Bandgeschwindigkeit: 45 ± 5 mm/s
Verdampferrate: 50 ± 10 nm/s
Material: Titan
Substrattemperatur (Temperatur des Bandes): 350 ± 30°C
Gesamtgasdruck: 10-3 hPa
Zugeführte Gase: N2, CO2, F im Verhältnis N2/CO2/F = 1000/50/0,15
Dies ergibt eine Beschichtung mit TiN1,0O1,1C0,5F0,15. - e) Bandgeschwindigkeit: 45 ± 5 mm/s
Verdampferrate: 50 ± 10 nm/s
Material: Titan
Substrattemperatur (Temperatur des Bandes): 350 ± 30°C
Gesamtgasdruck: 10-3 hPa
Zugeführte Gase: N2, CO2, F im Verhältnis N2/CO2/F = 1000/50/0,35
Dies ergibt eine Beschichtung mit TiN1,0O1,1C0,5F0,3. - f) Bandgeschwindigkeit: 45 ± 5 mm/s
Verdampferrate: 50 ± 10 nm/s
Material: Titan
Substrattemperatur (Temperatur des Bandes): 350 ± 30°C
Gesamtgasdruck: 10-3 hPa
Zugeführte Gase: N2, CO2, F im Verhältnis N2/CO2/F = 1000/50/0,5
Dies ergibt eine Beschichtung mit TiN1,0O1,1C0,5F0,4. - g) Bandgeschwindigkeit: 45 ± 5 mm/s
Verdampferrate: 50 ± 10 nm/s
Material: Titan, Zirkonium im Verhältnis 1 : 0,1
Substrattemperatur (Temperatur des Bandes): 350 ± 30°C
Gesamtgasdruck: 10-3 hPa
Zugeführte Gase: N2, O2 im Verhältnis N2/O2 = 1000
Dies ergibt eine Beschichtung mit TiZr0,1N1,0O1,1.
Wärmetauscher mit den Beschichtungen a-f werden in Fig. 10
vermessen.
Claims (11)
1. Wärmetauscher-Vorrichtung mit einer oberflächen
beschichteten Wand, die Medium 1 von Medium 2 trennt,
wobei die Oberfläche der Wand zumindest teilweise mit
einer dünnen Schicht beschichtet ist, die mindestens eine
Verbindung der Elemente Titan, Zirkonium und/oder Hafnium
und/oder Legierungen davon mit Stickstoff und/oder
Sauerstoff und/oder Kohlenstoff und/oder Fluor enthält.
2. Wärmetauscher-Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die
Verbindung die chemische Formel TixZryHfzNaObCc (mit
x, y, z = jeweils 0 bis 1; a, b, c = jeweils 0 bis 2,5, mit
der Maßgabe, daß x + y + z = 1 und a + b + c < 0) hat.
3. Wärmetauscher-Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei
die Verbindung die chemische Formel TixZryHfzNaObCc (mit
x, y, z = jeweils 0 bis 1; a, b, c = jeweils 0 bis 2, mit der
Maßgabe, daß x + y + z = 1 und a + b + c = 0,02 bis 2,0) hat.
4. Wärmetauscher-Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die
Verbindung die chemische Formel TixZryHfzNaObCcFd (mit
x, y, z = jeweils 0 bis 1; a, b = jeweils 0 bis 2, c = 0,05 bis 2
und d = 0,01 bis 2 mit der Maßgabe x, y, z = 1, a, b, c = 0,02 bis
2,0 und d/c = 0,05 bis 2,05) hat.
5. Wärmetauscher-Vorrichtung nach Anspruch 4, wobei die
Verbindung CF und/oder CF2-Gruppen enthält, die im ESCA-
Spektrum zu Maxima bei 290 ± 1 eV (hervorgerufen durch CF-
Gruppen) bzw. 293 ± 1 eV (hervorgerufen durch CF2-Gruppen)
führen.
6. Wärmetauscher-Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis
5, wobei die Wärmetauscherwand aus einem Metall, wie
Kupfer, Aluminium, Nickel, Chrom, Titan, Vanadium, Niob,
Eisen oder deren Mischungen oder deren Legierungen
besteht.
7. Wärmetauscher-Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis
5, wobei die Wärmetauscherwand aus Kunststoff bevorzugt
Polypropylen, Polyester, Polyamid, Polyurethan,
Polyethylen, Polytetrafluorethylen besteht.
8. Wärmetauscher-Vorrichtung, wobei die dünne Schicht der
Verbindung auf der Wärmetauscherwand 20 nm bis 2 mm dick
ist.
9. Verfahren zur Herstellung der dünnen Schicht auf der
Wärmetauscherwand der Wärmetauscher-Vorrichtung nach
einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei die zu beschichtende
Wärmetauscherwand teilweise oder im Ganzen in eine
Vakkumbeschichtungsanlage eingebracht wird, worin mittels
Elektronenstrahlverdampfung Titan, Zirkonium und/oder
Hafnium verdampft wird und durch "mass flow controler"
die Elemente Stickstoff, Sauerstoff, Kohlenstoff und/oder
Fluor gasförmig beigegeben werden.
10. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch
9, dadurch gekennzeichnet, dass im Deckel einer
zylindrischen Vakuumkammer ein Tragrohr angebracht ist an
welchem ein Wickelmechanismus mit mindestens zwei
Umlenkwalzen, einer Ab- und einer Aufwickelwalze befestigt
ist, wobei die Vakuumkammer mit Elektronenstrahlkanonen
und Gaszuflusskontrollern (mass flow controler)
ausgestattet ist.
11. Verwendung der Wärmetauscher-Vorrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis 8 in einer Feuchtluftdestille.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2001122329 DE10122329B4 (de) | 2001-05-08 | 2001-05-08 | Wärmetauscher-Vorrichtung mit einer oberflächenbeschichteten Wand, die Medium 1 von Medium 2 trennt |
| PCT/DE2002/001669 WO2002090859A1 (de) | 2001-05-08 | 2002-05-08 | Wärmetauscher-vorrichtung mit einer oberflächenbeschichteten wand, die medium 1 von medium 2 trennt |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2001122329 DE10122329B4 (de) | 2001-05-08 | 2001-05-08 | Wärmetauscher-Vorrichtung mit einer oberflächenbeschichteten Wand, die Medium 1 von Medium 2 trennt |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE10122329A1 true DE10122329A1 (de) | 2002-11-21 |
| DE10122329B4 DE10122329B4 (de) | 2004-06-03 |
Family
ID=7684030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2001122329 Expired - Lifetime DE10122329B4 (de) | 2001-05-08 | 2001-05-08 | Wärmetauscher-Vorrichtung mit einer oberflächenbeschichteten Wand, die Medium 1 von Medium 2 trennt |
Country Status (2)
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