DE10036995A1 - Verfahren zum Gravieren einer Druckform mit Laserstrahl - Google Patents
Verfahren zum Gravieren einer Druckform mit LaserstrahlInfo
- Publication number
- DE10036995A1 DE10036995A1 DE2000136995 DE10036995A DE10036995A1 DE 10036995 A1 DE10036995 A1 DE 10036995A1 DE 2000136995 DE2000136995 DE 2000136995 DE 10036995 A DE10036995 A DE 10036995A DE 10036995 A1 DE10036995 A1 DE 10036995A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- engraving
- printing
- printing form
- copper
- absorption
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/16—Curved printing plates, especially cylinders
- B41N1/20—Curved printing plates, especially cylinders made of metal or similar inorganic compounds, e.g. plasma coated ceramics, carbides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/02—Engraving; Heads therefor
- B41C1/04—Engraving; Heads therefor using heads controlled by an electric information signal
- B41C1/05—Heat-generating engraving heads, e.g. laser beam, electron beam
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/04—Printing plates or foils; Materials therefor metallic
- B41N1/06—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for relief printing or intaglio printing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
Es wird ein Verfahren zum Gravieren einer Druckform mit einem Laserstrahl beschrieben, bei dem auf die Oberfläche der Druckform eine absorbierende Schicht aufgebracht wird, deren Absorption für das Laserlicht höher ist als die Absorption des Druckformmaterials. Dadurch wird die für das Schmelzen oder Verdampfen des Druckformmaterials benötigte Laserleistung herabgesetzt. Die absorbierende Schicht kann durch chemische Veränderung der Oberfläche der Druckform erzeugt werden, durch galvanische Abscheidung oder durch ein mechanisches Verfahren wie Aufdampfen, Aufsprühen, Aufschmelzen oder Lackieren. Zusätzlich kann die Absorption der Oberfläche der Druckform durch Aufrauhen des Druckformmaterials oder der absorbierenden Schicht erhöht werden. Das Verfahren wird vorzugsweise zum Gravieren von Tiefdruckformen mit einer Kupferoberfläche eingesetzt.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Gravieren einer Druckform mit einem Laser
strahl, beispielsweise für Tiefdruck, Offsetdruck, Hochdruck, Siebdruck oder Fle
xodruck. Bei der Herstellung von Druckformen ist es erforderlich, sehr feine Strukturen
auf der Oberfläche der Druckform zu erzeugen, da hochaufgelöste Bildinformationen
wie Text, Rasterbilder, Grafiken (Linework) und Linienmuster wiedergegeben werden
sollen.
Nach dem Stand der Technik bekannte Gravierverfahren zur direkten Gravur von Tief
druckformen arbeiten entweder mit einem Diamantstichel, einem Elektronenstrahl oder
einem Laserstrahl, um Vertiefungen - sogenannte Näpfchen -, die jeweils einen Rast
erpunkt bilden, aus dem Druckformmaterial herauszuarbeiten. Im Tiefdruck werden
normalerweise als Druckformen Druckzylinder verwendet, deren Oberfläche aus Kup
fer besteht, in die die für den Druck erforderlichen Strukturen in Form von Näpfchen
mittels eines Diamantstichels in den Druckzylinder eingraviert werden. Die Druckzylin
der werden nach ihrer Fertigstellung in eine Druckmaschine eingebracht, in der die
Näpfchen mit Druckfarbe gefüllt werden und die Druckfarbe beim Druckprozeß auf den
Bedruckstoff übertragen wird.
Man verwendet Kupferzylinder wegen ihrer langen Standzeit im Druckprozeß. Eine
lange Standzeit ist bei hohen Auflagen erforderlich, insbesondere im Magazindruck
oder Verpackungsdruck, da beim Druckprozeß die Oberfläche der Druckform ver
schleißt. Um die Standzeit noch weiter zu verlängern, werden die Druckzylinder nach
der Gravur auch noch galvanisch verchromt. Hieraus ergibt sich, daß Kupfer als Mate
rial für die Oberfläche von Tiefdruckzylindern am geeignetsten ist. Andere Materialien
als Kupfer haben sich bisher für hohe Auflagen nicht bewährt.
Bei der Erzeugung der Näpfchen schneidet der Diamantstichel entlang einer Umfangs
linie Vertiefungen in den rotierenden Druckzylinder, während sich das Graviersystem in
Achsrichtung entlang des Druckzylinders bewegt. Die Hubbewegung des Diamantsti
chels erfolgt über ein elektromechanisch angetriebenes Magnetsystem mit einem os
zillierenden Anker, auf dem der Diamantstichel befestigt ist. Ein solches elektromecha
nisches Schwingungssystem kann wegen der aufzubringenden Kräfte, die zum Gravie
ren der Näpfchen erforderlich sind, nicht beliebig schnell gemacht werden. Um die
Graviergeschwindigkeit noch weiter zu steigern, sind bei den heutigen Graviermaschi
nen mehrere solcher Graviersysteme nebeneinander in Achsrichtung des Druckzylin
ders angeordnet. Beim Einsatz mehrerer Graviersysteme werden in die Oberfläche
des Druckzylinders gleichzeitig mehrere sogenannte Stränge eingraviert. Ein solcher
Strang enthält z. B. eine oder mehrere ganze Magazinseiten. Ein dabei auftretendes
Problem ist, daß in den einzelnen Strängen wegen der verschiedenen Graviersysteme,
die unabhängig voneinander angesteuert werden, bei gleichem zu gravierenden Ton
wert Näpfchen unterschiedlicher Volumina erzeugt werden, was zu Unterschieden in
den einzelnen Strängen führt, die das Auge beim späteren Betrachten erkennt. Aus
diesem Grund wird z. B. beim Verpackungsdruck nur mit einem Graviersystem gear
beitet, damit diese Fehler, die im Magazindruck toleriert werden, nicht auftreten.
Bei der Gravur der Näpfchen wird das Näpfchenvolumen abhängig vom Bildinhalt der
zu druckenden Vorlage variiert. Hierbei soll der jeweilige Tonwert der Vorlage beim
Druck möglichst genau wiedergegeben werden. Um die entsprechenden Volumina zu
erzeugen, wird die Eindringtiefe des Diamantstichels in die Kupferoberfläche durch die
Ansteuerung des Magnetsystems variiert, wobei sich die Geometrie der Näpfchen et
wa zwischen 120 µm Durchmesser bei einer Tiefe von 40 µm und etwa 30 µm Durch
messer bei einer Tiefe von 3 µm ändert. Weil nur ein sehr kleiner Variationsbereich in
der Tiefe der Näpfchen zwischen 40 µm und 3 µm zur Verfügung steht, muß die Ein
dringtiefe des Stichels, mit dem die Näpfchen graviert werden, mit sehr hoher Präzisi
on gesteuert werden, um den gewünschten Tonwertumfang reproduzierbar zu errei
chen. Da die Geometrie der gravierten Näpfchen direkt von der Form des Stichels ab
hängt, werden außerdem noch sehr hohe Anforderungen an die Geometrie des Dia
mantstichels gestellt. Außerdem unterliegt der Diamantstichel einem Verschleiß, da bei
der Gravur eines großen Druckzylinders ca. 20 Millionen Näpfchen von einem Stichel
graviert werden müssen. Bricht während der Gravur eines Druckzylinders einer der Di
amantstichel ab, so ist der ganze Druckzylinder unbrauchbar, was einerseits einen er
heblichen finanziellen Schaden anrichtet und zum anderen einen beträchtlichen Zeit
verlust darstellt, da ein neuer Zylinder graviert werden muß und der Druckbeginn um
Stunden hinausgeschoben wird.
Die gravierten Näpfchen, die später die Druckfarbe aufnehmen sollen, sind entspre
chend dem Druckraster auf der Oberfläche der Druckform angeordnet, wobei für jede
Druckfarbe ein separater Druckzylinder hergestellt wird, der jeweils ein anderes Raster
mit unterschiedlichem Winkel und unterschiedlicher Rasterweite erhält. Bei diesen
Rastern verbleiben zwischen den einzelnen Näpfchen schmale Stege, die beim Druck
in der Druckmaschine das Rakelmesser tragen, das die überflüssige Farbe nach dem
Einfärben abrakelt. Bedingt durch die Einschränkung, daß die Näpfchen nur entlang
einer Umfangslinie graviert werden können, steht für die Raster auch nur eine be
schränkte Auswahl an Rasterwinkeln zur Verfügung. Ein weiterer Nachteil der Be
triebsweise der elektromechanischen Gravur ist, daß auch Texte und Linien gerastert
wiedergegeben werden müssen, was zu Vertreppungen der Konturen der Schriftzei
chen und der Linien führt, die das Auge als störend erkennt. Dies ist ein Nachteil des
Tiefdrucks gegenüber dem Offsetdruck, bei dem diese Vertreppung so klein gehalten
werden kann, daß die Konturen von Schriftzeichen und Linien dem Auge vollkommen
glatt erscheinen.
Ebenso können bei der Tiefdruckgravur bedingt durch die mechanische Randbedin
gung in der Graviermaschine, daß die Näpfchen nur entlang einer Umfangslinie gra
viert werden können, keine frequenzmodulierten Raster erzeugt werden, bei denen
die Größe und die Position der Näpfchen dem Tonwert entsprechend zufällig verteilt
wird. Solche frequenzmodulierten Raster hätten den Vorteil einer verbesserten Bild
qualität, weil Details schärfer wiedergegeben werden können und weil kein Moire zwi
schen den Grundfarben des Drucks auftreten kann.
Alles in allem ist die elektromechanische Gravur gut geeignet, um Tiefdruckzylinder
hoher Qualität herzustellen. Sie hat aber doch eine Reihe von Schwachpunkten und ist
sehr aufwendig. Man würde diese Nachteile gerne durch ein anderes Gravierverfahren
eliminieren, das nicht mit den Einschränkungen der elektromechanischen Gravur ar
beitet.
Weiterhin ist es bekannt, zur Erzeugung der Näpfchen das in der Materialbearbeitung
angewendete Elektronenstrahlgravierverfahren einzusetzen, das wegen der hohen
Energie des Elektronenstrahls und der Präzision bezüglich Strahlablenkung und Strahl
geometrie sehr gute Resultate gezeigt hat. Dieses Verfahren ist in der Druckschrift
"Schnelles Elektronenstrahlgravierverfahren zur Gravur von Metallzylindern", Optik 77,
No. 2 (1987) Seiten 83-92, Wissenschaftliche Verlagsgesellschaft mbH Stuttgart, be
schrieben. Wegen des sehr hohen Aufwandes, der für die Hardware und Elektronik
erforderlich ist, wurde die Elektronenstrahlgravur in der Praxis bisher nicht für die Gra
vur von Kupferzylindern für den Tiefdruck eingesetzt, sondern nur in der Stahlindustrie
zur Oberflächengravur von sogenannten Texturwalzen für die Blechherstellung, mit
denen Texturen in die Bleche gewalzt werden.
In der Fachliteratur und auch in der Patentliteratur ist wiederholt vorgeschlagen wor
den, die Kupferzylinder mittels Laser zu gravieren. Da Kupfer aber für Laserstrahlung
ein sehr guter Reflektor ist, sind sehr hohe Leistungen und insbesondere sehr hohe
Leistungsdichten der Laser erforderlich, um in das Kupfer einzudringen und es aufzu
schmelzen bzw. zu verdampfen. Es gibt bisher keine Lasergraviereinheit mit Laser
strahlungsquellen entsprechend hoher Leistungsdichte und Energie, mit der es gelingt,
die Kupferzylinder für den Tiefdruck mit der geforderten Näpfchenstruktur in der Kup
feroberfläche zu versehen.
Man hat trotzdem versucht, Laser für die Tiefdruckgravur einzusetzen, indem man auf
andere Materialien als Kupfer ausgewichen ist. So ist z. B. in der Druckschrift
DE-A-19 27 323 vorgeschlagen worden, Kupferzylinder mittels chemischer Ätzung so vorzube
reiten, daß die Oberfläche des Kupferzylinders bereits Näpfchen aufweist, die ein Vo
lumen haben, das der maximalen Druckdichte entspricht. Diese Näpfchen werden mit
einem festen Füllmaterial z. B. Kunststoff gefüllt. Mittels eines Lasers wird dann von
dem Füllmaterial soviel entfernt, bis das gewünschte Näpfchenvolumen erreicht ist.
Dieses Verfahren kommt zwar mit geringerer Laserleistung aus, als nötig wäre, um
das Kupfer wie bei der Elektronenstrahlgravur aufzuschmelzen und zu verdampfen.
Bei diesem Verfahren wird aber im Druckprozeß der verbleibende Kunststoff vom Lö
sungsmittel der Druckfarbe angegriffen und zersetzt, so daß nur eine geringe Druck
auflage möglich ist. Dieses Verfahren hat sich in der Praxis nicht bewährt und ist nicht
zum Einsatz gekommen.
Es ist weiterhin in der Druckschrift der VDD Seminarreihe "Direktes Lasergravierver
fahren für metallbeschichtete Tiefdruckzylinder", herausgegeben im Rahmen eines
"Kolloquium vom Verein Deutscher Druckingenieure e.V. und dem Fachgebiet Druck
maschinen und Druckverfahren, Fachbereich Maschinenbau, Technische Hochschule
Darmstadt", von Dr. phil. nat. Jakob Frauchiger, MDC Max Dätwyler, AG, Darmstadt,
12. Dez. 1996, vorgeschlagen worden, mit Zink beschichtete Tiefdruckzylinder durch
einen mit Bogenlampen gepumpten, gütegeschalteten Nd : YAG Hochleistungs-
Festkörperlaser zu gravieren. Bei diesem Verfahren wird das Volumen der Näpfchen
durch die optische Leistung des Lasers bestimmt.
Ein Nachteil dieses Verfahrens ist, daß die zum Pumpen des Lasers erforderlichen
Bogenlampen eine relativ kurze Lebensdauer haben und nach ca. 500 Betriebsstun
den ersetzt werden müssen. Beim einem Ausfall der Pumplichtquelle während der
Gravur wird der Gravierzylinder unbrauchbar. Dies entspricht einem Ausfall des Dia
mantstichels bei der elektromechanischen Gravur und hat die gleichen Nachteile zur
Folge.
Ein entscheidender Nachteil dieses Verfahrens besteht jedoch darin, daß Zink wesent
lich weicher als Kupfer ist und als Oberflächenmaterial für Druckzylinder nicht geeignet
ist. Da das Rakelmesser, mit dem vor dem Druck in der Druckmaschine die über
schüssige Farbe abgerakelt wird, ein Stahlmesser ist, wird die Zinkoberfläche nach ei
ner gewissen Zeit beschädigt und der Druckzylinder wird unbrauchbar. Ein Druckzylin
der mit einer Oberfläche aus Zink erreicht daher nicht annähernd eine so lange Stand
zeit im Druck, wie ein Druckzylinder mit einer Oberfläche aus Kupfer. Druckformen mit
Zinkoberfläche sind deshalb nicht für hohe Auflagen geeignet.
Auch wenn man, wie weiterhin vorgeschlagen wurde, die Zinkoberfläche nach der
Gravur verchromt, um die Standzeit zu erhöhen, kommt die Standfestigkeit den nor
malen Kupferzylindern nicht nahe. Chrom haftet auf Zink nicht so gut, wie auf Kupfer
und das sog. "Heißverchromen", das bei Kupferzylindern mit Erfolg angewendet wird,
um eine optimale Haftung des Chroms auf dem Kupfer zu erreichen, ist bei Zink nicht
möglich, da das Zink hierbei schmelzen würde. Da die Chromschicht nicht sehr gut auf
dem Zink haftet, wird sie ebenfalls vom Rakelmesser angegriffen, was zu einem relativ
frühen Ausfall der Druckzylinder führt. Werden dagegen Kupferzylinder nach diesem
Verfahren verchromt, so sind extrem hohe Auflagen möglich, da das Chrom fest auf
der Kupferoberfläche haftet, so daß diese Kupferzylinder die verchromten Zinkzylinder
bei weitem übertreffen.
Aus der Druckschrift EP-B-0 473 973, die ebenfalls das im vorangehenden beschrie
bene Verfahren betrifft, geht hervor, daß bei diesem Verfahren zum Ausheben eines
Näpfchens mit einem Durchmesser von 120 µm und einer Tiefe von 30 µm bei Zink ei
ne Energie von 6 mWsec erforderlich ist. Für Kupfer wird in dieser Druckschrift eine E
nergie von 165 mWsec angegeben, was einen Faktor von 27,5 bei der erforderlichen
Laserleistung ausmacht. Damit werden Laser mit einer Dauerstrichleistung von einigen
Kilowatt bei guter Strahlqualität erforderlich, um Näpfchen in Kupfer mit einer für die
Druckindustrie annehmbaren Geschwindigkeit herzustellen. Eine solche Leistung
kann aber mit der im vorangehenden beschriebenen Laseranordnung nicht erzeugt
werden. Aus diesem Grunde ist es auch nur möglich, in eine Zinkoberfläche zu gravie
ren.
Weiterhin wäre bei einer solchen Anordnung für die Gravur von Kupferzylindern ein
aufwendiger Modulator erforderlich. Modulatoren für sehr hohe Laserleistungen sind
langsam, was zu einer Verringerung der Modulationsfrequenz und damit der Gravier
frequenz führt. Ist die Gravierfrequenz aber zu gering, diffundiert die Energie in die
Umgebung des Bearbeitungsfleckes auf der Oberfläche, ohne ein Näpfchen auszuhe
ben. Daher ist es erforderlich, neben der hohen Energie zum Ausheben auch eine ho
he Leistung aufzubringen.
Will man die Vorteile der Kupferoberfläche nutzen und diese mit einem Laser gravie
ren, ist es unabdingbar, die zum Eindringen in die Oberfläche des Kupfers erforderli
che hohe Leistungsdichte und die zum Aufschmelzen bzw. Verdampfen des Kupfers
erforderliche hohe Energie aufzubringen. Dies ist aber bisher mit einem Festkörperla
ser nicht gelungen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, die beschriebenen Nachteile der
Verfahren nach dem Stand der Technik zu vermeiden und ein Verfahren zum Gravie
ren von Druckformen - vorzugsweise von Kupferzylindern für den Tiefdruck - mit einem
Laserstrahl anzugeben, das mit einer geringeren Leistungsdichte und Energie aus
kommt und deshalb kostengünstig ist. Diese Aufgabe wird durch die Merkmale der An
sprüche 1 bis 8 gelöst.
Das erfindungsgemäße Verfahren beruht auf der Beobachtung, daß sich die Absorpti
on der Kupferoberfläche für Lichtenergie stark erhöht, wenn ein Teil des Kupfers im
Bearbeitungsfleck bereits verdampft ist. In der Druckschrift "Der Laser in der Druckin
dustrie" von Werner Hülsbuch, Seite 540, Verlag W. Hülsbusch, Konstanz, ist be
schrieben, daß es bei der Materialbearbeitung bei Leistungsdichten ab typisch 107 bis
108 W/cm2 bei allen Materialien zu einer spontanen Verdampfung des Materials
kommt, die mit einem sprunghaften Absorptionsanstieg verbunden ist, was besonders
vorteilhaft ist, da dann anschließend die Laserleistung nicht mehr von der Metallober
fläche reflektiert wird.
Das Ziel der Erfindung ist, das Einsetzen des Aufschmelzens bzw. der Verdampfung
des Kupfers und den damit verbundenen Anstieg der Absorption schon bei wesentlich
geringeren Leistungsdichten zu erreichen. Wenn die Absorption durch die einsetzende
Verdampfung entsprechend erhöht ist, genügt die geringere Leistungsdichte auch zur
Fortsetzung des Abtragungsprozesses, so daß weiteres Material aus der Kupferober
fläche entfernt wird. Auf diese Weise wird es möglich, den Gravierprozeß aufrechtzu
erhalten und Näpfchen mit variabler Tiefe in die Kupferoberfläche zu gravieren.
Die Herabsetzung der Leistungsdichteschwelle für das Einsetzen der Verdampfung
wird nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erreicht, indem durch eine Vorbehand
lung des Tiefdruckzylinders die Absorption der Kupferoberfläche erhöht wird. Vor
zugsweise wird die Oberfläche in einer dünnen Schicht in eine chemische Kupferver
bindung umgewandelt, die eine hohe Absorption für Laserlicht aufweist, beispielsweise
in eine Kupferoxidschicht. Die chemische Umwandlung der Kupferoberfläche kann
durch die Einwirkung von Säuren, Laugen oder Salzlösungen erreicht werden, wobei
der Vorgang bei Bedarf durch Erwärmung oder auch durch Elektrolyse beschleunigt
und intensiviert werden kann.
Nach einer alternativen Lösung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird auf die Kup
feroberfläche eine dünne Schicht eines anderen Metalls mit höherer Absorption für das
Laserlicht aufgebracht, vorzugsweise auf galvanischem Weg. Diese Metallschicht soll
nicht wie bei den bekannten Verfahren so dick sein, daß die Näpfchen ausschließlich
in dieses andere Metall graviert werden. Sie soll nur durch das Verdampfen dieser
dünnen Schicht und die damit verbundene Erhöhung der Absorption die Leistungs
schwelle für die Kupferverdampfung herabsetzen. Die eigentliche Gravur der Näpfchen
erfolgt dann in der Kupferschicht.
Eine weitere Lösung zur Erhöhung der Absorption der Kupferoberfläche ist das me
chanische Aufbringen einer dünnen gut absorbierenden Schicht, beispielsweise einer
Kunststoffschicht. Dazu können Techniken wie Aufdampfen, Aufsprühen, Aufschmel
zen oder Lackieren verwendet werden, gegebenenfalls unterstützt durch einen nach
folgenden Einbrennvorgang. Auch hier soll die aufgebrachte Schicht nur die Einsatz
schwelle für die Kupferverdampfung herabsetzen, so daß die eigentliche Gravur der
Näpfchen dann in der Kupferschicht erfolgt.
Eine erhöhte Absorption der Kupferoberfläche kann schließlich auch durch eine Erhö
hung der Rauhigkeit der Oberfläche erreicht werden, beispielsweise durch Ätzen der
Oberfläche. Die Erhöhung der Rauhigkeit kann auch mit den zuvor genannten Lösun
gen kombiniert werden, d. h. nach der Erzeugung bzw. dem Aufbringen der dünnen ab
sorbierenden Schicht wird diese Schicht noch zusätzlich aufgerauht.
Claims (8)
1. Verfahren zum Gravieren einer Druckform mit einem Laserstrahl, dadurch ge
kennzeichnet, daß auf die Oberfläche der Druckform eine absorbierende Schicht
aufgebracht wird, deren Absorption für das Laserlicht höher ist als die Absorpti
on des Druckformmaterials.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die absorbierende
Schicht die für das Schmelzen oder Verdampfen des Druckformmaterials benö
tigte Laserleistung herabsetzt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die absorbie
rende Schicht durch chemische Veränderung der Oberfläche der Druckform er
zeugt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die absorbie
rende Schicht durch galvanische Abscheidung erzeugt wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die absorbie
rende Schicht durch ein mechanisches Verfahren wie Aufdampfen, Aufsprühen,
Aufschmelzen oder Lackieren aufgebracht wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die
Absorption der Oberfläche der Druckform durch Aufrauhen des Druckformmate
rials oder der absorbierenden Schicht erhöht wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die
Druckform eine Tiefdruckform ist.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das
Druckformmaterial Kupfer ist.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2000136995 DE10036995A1 (de) | 2000-07-29 | 2000-07-29 | Verfahren zum Gravieren einer Druckform mit Laserstrahl |
| PCT/DE2001/002590 WO2002009941A1 (de) | 2000-07-29 | 2001-07-11 | Verfahren zum gravieren einer druckform mit laserstrahl |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2000136995 DE10036995A1 (de) | 2000-07-29 | 2000-07-29 | Verfahren zum Gravieren einer Druckform mit Laserstrahl |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE10036995A1 true DE10036995A1 (de) | 2002-02-07 |
Family
ID=7650649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2000136995 Withdrawn DE10036995A1 (de) | 2000-07-29 | 2000-07-29 | Verfahren zum Gravieren einer Druckform mit Laserstrahl |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE10036995A1 (de) |
| WO (1) | WO2002009941A1 (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1334822A3 (de) * | 2002-02-06 | 2004-06-30 | Tech Epikos - S.R.L. | Verfahren und Anlage zum Lasergravieren von chalkografischen Platten oder Zylindern |
| CN112874127A (zh) * | 2021-01-08 | 2021-06-01 | 黄山精工凹印制版有限公司 | 一种制备无缝接镭射模压辊的工艺方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4012279A1 (de) * | 1990-04-17 | 1991-10-24 | Laser Optronic | Verfahren zum herstellen von druckklischees |
| DE4033230C2 (de) * | 1990-10-19 | 1992-09-10 | Fa. Eduard Hueck, 5880 Luedenscheid, De | |
| EP0591559A1 (de) * | 1992-09-28 | 1994-04-13 | Schablonentechnik Kufstein Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zum Gravieren von Rundschablonen |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5221562A (en) * | 1989-05-02 | 1993-06-22 | Praxair S.T. Technology, Inc. | Liquid transfer articles and method for producing them |
| DE59106977D1 (de) * | 1990-09-04 | 1996-01-11 | Daetwyler Ag | Verfahren zum Bearbeiten von Tiefdruckformen. |
| DE19507827C2 (de) * | 1995-02-22 | 1999-03-25 | Hartmut Frerichs | Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offset- oder Tiefdruck |
| DE19544272C2 (de) * | 1995-11-28 | 2002-09-12 | Saueressig Gmbh & Co | Verfahren zur Herstellung einer metallischen flächenvariablen Tiefdruckform |
| US6240636B1 (en) * | 1998-04-01 | 2001-06-05 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Method for producing vias in the manufacture of printed circuit boards |
-
2000
- 2000-07-29 DE DE2000136995 patent/DE10036995A1/de not_active Withdrawn
-
2001
- 2001-07-11 WO PCT/DE2001/002590 patent/WO2002009941A1/de not_active Ceased
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4012279A1 (de) * | 1990-04-17 | 1991-10-24 | Laser Optronic | Verfahren zum herstellen von druckklischees |
| DE4033230C2 (de) * | 1990-10-19 | 1992-09-10 | Fa. Eduard Hueck, 5880 Luedenscheid, De | |
| EP0591559A1 (de) * | 1992-09-28 | 1994-04-13 | Schablonentechnik Kufstein Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zum Gravieren von Rundschablonen |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| JP 60101538 A.,In: Patent Abstracts of Japan * |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1334822A3 (de) * | 2002-02-06 | 2004-06-30 | Tech Epikos - S.R.L. | Verfahren und Anlage zum Lasergravieren von chalkografischen Platten oder Zylindern |
| CN112874127A (zh) * | 2021-01-08 | 2021-06-01 | 黄山精工凹印制版有限公司 | 一种制备无缝接镭射模压辊的工艺方法 |
| CN112874127B (zh) * | 2021-01-08 | 2021-10-01 | 黄山精工凹印制版有限公司 | 一种制备无缝接镭射模压辊的工艺方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2002009941A1 (de) | 2002-02-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2060661C3 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Fläche in Form eines Reliefs sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
| DE69008040T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Artikeln zur Flüssigkeitsübertragung. | |
| WO2000020217A1 (de) | Stichtiefdruckverfahren zum vollflächigen bedrucken grosser flächen | |
| EP1151857B1 (de) | Gesteuerte Bebilderung und Löschung einer Druckform aus metallischem Titan | |
| CH694159A5 (de) | Verfahren zum Gravieren von Gravurzylindern. | |
| DE102012006558B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Flexodruckform | |
| EP0473973A1 (de) | Verfahren zum Bearbeiten von Tiefdruckformen | |
| EP1410923B1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Tiefdruck | |
| DE19612100B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer metallischen Tiefdruckform | |
| DE10126264A1 (de) | Tiefdruckzylinder, Verfahren zum Herstellen eines Tiefdruckzylinders und Verfahren zum Recyceln eines Tiefdruckzylinders | |
| DE2531947A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer tiefdruckplatte sowie nach diesem verfahren hergestellte platte und deren verwendung | |
| AT504185A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer druckplatte | |
| DE10063819B4 (de) | Maskenerstellung zur Herstellung einer Druckform | |
| DE19507827C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offset- oder Tiefdruck | |
| DE10036995A1 (de) | Verfahren zum Gravieren einer Druckform mit Laserstrahl | |
| DE2508397A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines tiefdruckzylinders | |
| DE2111628A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Druckformen,insbesondere Tiefdruckformen | |
| EP1333976A1 (de) | Verfahren zur herstellung von rasternäpfchen in einer tiefdruckform und in dem verfahren verwendbarer grundkörper | |
| DE2729391A1 (de) | Traegerplatte fuer lithographische drucktechnik | |
| DE102008043957A1 (de) | Rasterwalze und Verfahren zu deren Herstellung | |
| DE4012279A1 (de) | Verfahren zum herstellen von druckklischees | |
| DE19544272C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer metallischen flächenvariablen Tiefdruckform | |
| EP3928982B1 (de) | Verfahren zum gravieren einer intaglio-stichtiefdruckplatte, intaglio-stichtiefdruckplatte und druckverfahren | |
| DE102009058845B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Druckwalze mit einer Laser-gravierten Oberfläche | |
| DE19528114C2 (de) | Farbgeberwalze und Verfahren zu deren Herstellung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
| 8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |