DE1095951B - Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von HalbleiteranordnungenInfo
- Publication number
- DE1095951B DE1095951B DEN15810A DEN0015810A DE1095951B DE 1095951 B DE1095951 B DE 1095951B DE N15810 A DEN15810 A DE N15810A DE N0015810 A DEN0015810 A DE N0015810A DE 1095951 B DE1095951 B DE 1095951B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- carrier
- electrodes
- attached
- semiconducting
- disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H10W72/30—
-
- H10P95/00—
-
- H10W72/0198—
-
- H10W72/073—
-
- H10W72/07336—
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49121—Beam lead frame or beam lead device
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49787—Obtaining plural composite product pieces from preassembled workpieces
Landscapes
- Die Bonding (AREA)
- Dicing (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
DEUTSCHES
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen, wie Transistoren
oder Dioden. Eine solche Halbleiteranordnung enthält gewöhnlich eine kleine dünne Halbleiterscheibe,
deren eine Oberfläche auf einer Trägerelektrode befestigt ist.
Im allgemeinen erfolgt diese Befestigung durch Löten, aber es ist auch möglich, erhärtende Bindemittel
zu benutzen.
Es ist üblich, solche halbleitenden Scheiben dadurch herzustellen, daß aus einem verhältnismäßig großen
Kristall Schnittscheiben gesägt werden, diese Scheiben in Streifen geteilt und aus diesen Streifen kleine
Scheiben gesägt werden.
Solche Scheiben haben eine Stärke in der Größenordnung von 100 μ, während ihre Länge und Breite
wenige Millimeter betragen können. Bei der Herstellung der Elektrodensysteme werden im allgemeinen
mehrere dieser Scheiben in eine Schablone oder Matrize eingelegt und die Basiselektrode und die weiteren
Elektroden mit diesen Scheiben verschmolzen. Dabei wird das Hantieren der Scheiben durch ihre
kleinen Abmessungen erschwert.
Zur Beseitigung dieses Nachteils hat man schon ein Verfahren vorgeschlagen, bei dem an einer halbleitenden
Scheibe mehrere Trägerelektroden befestigt werden und die Scheibe in je an einer Trägerelektrode
befestigte, kleinere Scheiben zerteilt wird. Gemäß diesem bekannten Verfahren wird eine Anzahl von
kantigen Elektrodenstäben zu einer Art Kabel gebündelt, und die zusammenhängende und bündige Stirnseite
dieses Kabels wird alsdann z. B. durch Verlöten mit einer großflächigen Scheibe aus halbleitendem
Material, z. B. Germanium, versehen. Die Halbleiterscheibe wird anschließend längs der Kanten, an denen
die Elektrodenstäbe passend aneinanderstoßen, in kleinere Scheiben aufgeteilt, z. B. durch Sägen. Auf
diese Weise werden mehrere kleine Halbleiterscheiben erhalten, die durch die Anwesenheit der mit ihnen
verbundenen Trägerelektroden bequem zu hantieren sind.
Die Durchführung dieses bekannten Verfahrens stößt jedoch auf erhebliche Schwierigkeiten. So>
wird z. B. beim Verlöten das geschmolzene Lot leicht zwischen den Elektrodenstäben durchdringen und die
nachträgliche Aufteilung erschweren. Weiterhin muß die Trennung, z. B. durch Sägen oder Schneiden, sehr
genau gemäß den Trennflächen der Stäbe vorgenommen werden, was bei den in Frage kommenden kleinen
Abmessungen schwer durchzuführen ist.
Die Erfindung bezweckt, unter anderem das Zerteilungsverfahren
der Scheiben zu vereinfachen, und bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von
Halbleiteranordnungen, wie Transistoren oder Dioden, Verfahren zur Herstellung
von Halbleiteranordnungen
von Halbleiteranordnungen
Anmelder:
N. V. Philips' Gloeilampenfabrieken,
Eindhoven (Niederlande)
Eindhoven (Niederlande)
Vertreter: Dr. rer. nat. P. Roßbach, Patentanwalt,
Hamburg 1, Mönckebergstr. 7
Hamburg 1, Mönckebergstr. 7
Beanspruchte Priorität:
Niederlande vom 5. November 1957
Niederlande vom 5. November 1957
Pieter Johannes Wilhelmus Jochems,
Eindhoven (Niederlande),
ist als Erfinder genannt worden
ist als Erfinder genannt worden
bei dem an einer halbleitenden Scheibe mehrere Trägerelektroden befestigt werden und die Scheibe in
je an einer Trägerelektrode befestigte, kleinere Scheiben zerteilt wird. Erfindungsgemäß werden die Trägerelektroden
in einem so großen Abstand voneinander an der Scheibe befestigt, daß die Scheibe zwischen
den Trägerelektroden durchgebrochen werden kann, und danach wird die Scheibe zwischen den Trägerelektroden
durchgebrochen.
Überraschenderweise hat es sich herausgestellt, daß die Befestigungsstellen der Trägerelektroden an
der Halbleiterscheibe bei deren Zerbrechen unverletzt bleiben. Das Verfahren der Erfindung macht die Verwendung
von Säge- oder Schneidvorrichtungen und die damit zusammenhängende Einstellungsvorrichtung
überflüssig. Überdies ergibt sich der Vorteil, daß nunmehr kein vom Sägen oder Schneiden herrührender
Schmutz anfällt, so daß ein nachträgliches Spülen und Ätzen zur Beseitigung dieser Verunreinigungen
unnötig geworden ist.
Es wird noch bemerkt, daß ein einfaches Brechen der Halbleiterscheibe bei dem obenerwähnten bekannten
Verfahren praktisch nicht durchzuführen ist, weil beim Verlöten der Stirnseite der zum Kabel gebündelten
Elektrodenstäbe mit der Halbleiterscheibe das geschmolzene Lötmaterial durch Kapillarwirkung zwischen
den Elektrodenstäben durchdringen wird, so daß die Elektrodenstäbe nicht nur mit der Halbleiterscheibe,
sondern auch miteinander verlötet werden.
Bei dem Verfahren gemäß der Erfindung wird vorzugsweise eine Halbleiterscheibe von der Form eines
Streifens verwendet. Dieser Halbleiterstreifen wird
009 680/410
vorzugsweise auf den Enden der Zähne einer kammförmigen
Metallplatte befestigt, wonach die kammförmige Metallplatte in mehrere die Trägerelektrode
darstellende Streifen zerteilt und dann der Halbleiterstreifen zwischen den Zähnen durchgebrochen wird.
Nach einer anderen Ausführungsweise des Verfahrens werden Trägerelektroden reihenweise in
Halterungsvorrichtungen verankert, die Halterungsvorrichtungen zu einem Stapel vereinigt, und es wird
die halbleitende Scheibe auf den Stirnflächen der stabförmigen Trägerelektroden befestigt, wonach die
Scheibe durch Trennen der Halterungsvorrichtungen in Streifen gebrochen wird, die beim Herausnehmen
der Trägerelektroden aus den Halterungsvorrichtungen schließlich in die kleineren Scheiben zerbrochen
werden.
Die Erfindung wird an Hand eines in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert.
Fig. 1 und 2 sind eine schaubildliche Darstellung zweier Herstellungsstadien eines Transistors;
Fig. 3 zeigt einen Schnitt einer Scheibe mit Trägern nach Fig. 2;
Fig. 4 ist eine schaubildliche Darstellung einer Vorrichtung zur Herstellung von Kristalldioden;
Fig. 5 bis 7 zeigen Einzelheiten dieser Vorrichtung.
In Fig. 1 bezeichnet 1 einen Streifen aus einkristallinem Germanium, der dadurch erzielt ist,
daß aus einem stabförmigen Einkristall dünne Scheiben gesägt und diese in schmale Streifen aufgeteilt
wurden. Die Länge kann z. B. 30 mm, die Breite 2 mm und die Stärke 100 μ betragen. Darunter befindet
sich ein aus Nickel mit einer Stärke von 100 μ hergestellter kammförmiger Teil 2 mit zehn Zähnen
oder Trägern 3, die an der Oberseite mit einer Menge Zinn 4 überdeckt sind. Der Streifen 1 und der Kamm 2
können, gegebenenfalls durch eine nicht dargestellte Schablone unterstützt, in einen Ofen eingeführt und
in einer Umgebung eines neutralen oder reduzierenden Gases aufeinandergeschmolzen werden. Gleichzeitig,
zuvor oder in einer nachfolgenden Bearbeitung können auf dem Germaniumstreifen über jedem Träger 3
andere Elektroden aufgeschmolzen werden, wie in Fig. 2 eine Emitterkugel 5 und ein Basisring 6. Dann
wird der Rücken des Kammes gemäß den strichpunktierten Linien 8 durchgeschnitten und der Germaniumstreifen
1 wird etwa gemäß den Strichpunktlinien 9 durchgebrochen. Wie aus Fig. 3 ersichtlich, ist der
Streifen 1 an der Stelle, an der die Träger 3 aufgelötet sind, beträchtlich verstärkt, so daß der Bruch
des einkristallinen Streifens in weitaus den meisten Fällen dem nicht mit Lot bedeckten Teil des Kristalles
folgt.
Die Anwendung des obenbeschriebenen Kammes ist naturgemäß für die Erfindung nicht wesentlich. Es ist
auch möglich, mehrere lose Träger gegen den Streifen 1 zu befestigen und diesen dann durchzubrechen.
Auch ist die Erfindung nicht an die elektrischen Eigenschaften der Verbindung zwischen den Trägern
und dem halbleitenden Körper gebunden. Diese Verbindung kann gegebenenfalls gleichrichtend sein. Die
Erfindung ist auch nicht an die Anzahl, Form und Eigenschaften weiterer auf diesen Körper angebrachter
Elektroden oder Kontakte gebunden. Naturgemäß müssen diese die zwischen den mit Lot oder Bindemittel
4 üljerdeckten Teile des halbleitenden Körpers liegenden Teile nicht so viel verstärken, daß die Brüche
den zuerst genannten Teilen nicht mehr folgen würden.
Auf ähnliche Weise ist es möglich, kleine halbleitende Körper auf die Enden stabförmiger Träger
anzubringen. Zu diesem Zweck kann, wie in Fig. 4 dargestellt, ein Halter 20 verwendet werden, der aus
einem Stapel flacher Halter 21 zusammengesetzt ist (s. Fig. 5), in dem eine Reihe von Trägern 22 festgeklemmt
ist. Diese Träger haben ein flaches, verzinntes Oberende. Alle dijese Oberenden befinden sich
in einer einzigen Ebene, und auf diese Enden wird
ίο eine dünne Schnittscheibe 23 aus einkris'tallinem Germanium
aufgelötet. Dann werden die Halter 21 stückweise vom Stapel 20 abgenommen, und die Scheibe 23
wird gemäß den strichpunktierten Linien 24 durchgebrochen. Nach dem öffnen eines Halters 21 erzielt
man dann einen Streifen aus halbleitendem Material mit mehreren Trägern, wie in Fig. 6 dargestellt.
Dieser Streifen kann gemäß den Linien 25 durchgebrochen werden. Im allgemeinen ist es natürlich
erwünscht, daß die unbedeckten Teile der Scheibe 23 schmal und geradlinig sind, damit beim Brechen die
Bruchspannung in solchen Teilen konzentriert wird. Es ist daher zweckmäßig, die Träger 22 mit rechteckigen
Köpfen zu versehen, die nur kleine Zwischenräume aufweisen (s. Fig. 7).
Claims (4)
1. Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen, wie Transistoren oder Dioden, bei
dem an einer halbleitenden Scheibe mehrere Trägerelektroden befestigt werden und die Scheibe in je
an einer Trägerelektrode befestigte, kleinere Scheiben zerteilt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die
Trägerelektroden in einem so großen Abstand voneinander an der Scheibe befestigt werden, daß die
Scheibe zwischen den Trägerelektroden durchgebrochen werden kann und daß danach die
Scheibe zwischen den Trägerelektroden durchgebrochen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine Scheibe von der Form eines
Streifens verwendet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der halbleitende Streifen auf den
Enden der Zähne einer kammförmigen Metallplatte befestigt wird und daß danach die kammförmige
Metallplatte in mehrere die Trägerelektrode darstellende Streifen zerteilt wird und daß dann der
halbleitende Streifen zwischen den Zähnen durchgebrochen wird.
4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß Trägerelektroden
reihenweise in Halterungsvorrichtungen verankert werden, daß die Halterungsvorrichtungen zu einem
Stapel vereinigt werden, daß die halbleitende Scheibe auf den Stirnflächen der stabförmigen
Trägerelektroden befestigt wird und daß die Scheibe durch Trennen der Haiterungsvorrichtungen
in Streifen gebrochen wird, die beim Herausnehmen der Trägerelektroden aus den Halterungsvorrichtungen
schließlich in die kleineren Scheiben zerbrochen werden.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentanmeldung Nr. S 29085 VIIIc/21g (bekanntgemacht am 24. 9. 1953);
Deutsche Patentanmeldung Nr. S 29085 VIIIc/21g (bekanntgemacht am 24. 9. 1953);
deutsche Patentschrift Nr. 823 468;
schweizerische Patentschrift Nr. 209 915;
USA.-Patentschrift Nr. 2 748 041.
schweizerische Patentschrift Nr. 209 915;
USA.-Patentschrift Nr. 2 748 041.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
© 009 680/410 12.60
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL222168 | 1957-11-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1095951B true DE1095951B (de) | 1960-12-29 |
Family
ID=19751026
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEN15810A Pending DE1095951B (de) | 1957-11-05 | 1958-11-03 | Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3080640A (de) |
| BE (1) | BE572660A (de) |
| CH (1) | CH370842A (de) |
| DE (1) | DE1095951B (de) |
| FR (1) | FR1216993A (de) |
| GB (1) | GB899997A (de) |
| NL (2) | NL222168A (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1199408B (de) * | 1961-06-28 | 1965-08-26 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen von Halbleiterbau-elementen und nach diesem Verfahren hergestelltes Halbleiterbauelement |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3168687A (en) * | 1959-12-22 | 1965-02-02 | Hughes Aircraft Co | Packaged semiconductor assemblies having exposed electrodes |
| US3266137A (en) * | 1962-06-07 | 1966-08-16 | Hughes Aircraft Co | Metal ball connection to crystals |
| US3283271A (en) * | 1963-09-30 | 1966-11-01 | Raytheon Co | Notched semiconductor junction strain transducer |
| US3273029A (en) * | 1963-08-23 | 1966-09-13 | Hoffman Electronics Corp | Method of attaching leads to a semiconductor body and the article formed thereby |
| US3298087A (en) * | 1964-03-09 | 1967-01-17 | Sylvania Electric Prod | Method for producing semiconductor devices |
| US3293743A (en) * | 1965-01-22 | 1966-12-27 | Glass Tite Ind Inc | Machine for welding articles of manufacture |
| DE1514015A1 (de) * | 1965-06-01 | 1970-08-20 | Itt Ind Gmbh Deutsche | Verfahren zum Herstellen von mit einer Huelle umgebenen und mit Zuleitungen versehenen Halbleiteranordnungen |
| US3411193A (en) * | 1965-08-31 | 1968-11-19 | Marshall Ind | Terminal leads for electrical devices |
| DE1614364C3 (de) * | 1966-06-01 | 1979-04-05 | Rca Corp., New York, N.Y. (V.St.A.) | Verfahren zur Montage eines Halbleiter-Kristallelementes |
| US3633274A (en) * | 1966-07-13 | 1972-01-11 | Ncr Co | Method of making magnetic head device |
| DE1277446B (de) * | 1966-08-26 | 1968-09-12 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen von Halbleiterbauelementen mit vollstaendig gekapseltem Halbleiterelement |
| US3537175A (en) * | 1966-11-09 | 1970-11-03 | Advalloy Inc | Lead frame for semiconductor devices and method for making same |
| US3490141A (en) * | 1967-10-02 | 1970-01-20 | Motorola Inc | High voltage rectifier stack and method for making same |
| US3698073A (en) * | 1970-10-13 | 1972-10-17 | Motorola Inc | Contact bonding and packaging of integrated circuits |
| CH557618A (fr) * | 1972-07-07 | 1974-12-31 | Oscilloquartz Sa | Procede de fabrication d'un resonateur piezo-electrique et, resonateur obtenu par ce procede. |
| US4330915A (en) * | 1980-04-21 | 1982-05-25 | Rca Corporation | Technique for uniform stylus configuration |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH209915A (de) * | 1938-05-07 | 1940-05-15 | Hermes Patentverwertungs Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichtern. |
| DE823468C (de) * | 1941-03-27 | 1951-12-03 | Western Electric Co | Elektrische UEbertragungsvorrichtung mit einem aus Silizium bestehenden Kontakt-Gleichrichterelement |
| US2748041A (en) * | 1952-08-30 | 1956-05-29 | Rca Corp | Semiconductor devices and their manufacture |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2670530A (en) * | 1954-03-02 | Method for making terminal strips | ||
| US2339072A (en) * | 1942-12-29 | 1944-01-11 | Themselves | Method of producing getter and formed metal ribbon |
| US2344931A (en) * | 1943-01-09 | 1944-03-21 | Herzog Carl | Method of producing getters |
| US2365698A (en) * | 1943-10-19 | 1944-12-26 | Standard Telephones Cables Ltd | Rectifier and method of making the same |
| US2743506A (en) * | 1952-02-23 | 1956-05-01 | Int Resistance Co | Method of manufacturing rectifier cells |
| US2865082A (en) * | 1953-07-16 | 1958-12-23 | Sylvania Electric Prod | Semiconductor mount and method |
| GB748675A (en) * | 1953-12-09 | 1956-05-09 | Ici Ltd | Production of electric fuseheads |
| US2887558A (en) * | 1956-04-10 | 1959-05-19 | Sanders Associates Inc | Electrical resistors and process for manufacturing same |
| US2970730A (en) * | 1957-01-08 | 1961-02-07 | Motorola Inc | Dicing semiconductor wafers |
-
0
- NL NL109587D patent/NL109587C/xx active
- BE BE572660D patent/BE572660A/xx unknown
- NL NL222168D patent/NL222168A/xx unknown
-
1958
- 1958-10-31 US US771106A patent/US3080640A/en not_active Expired - Lifetime
- 1958-11-03 GB GB35207/58A patent/GB899997A/en not_active Expired
- 1958-11-03 CH CH6571158A patent/CH370842A/de unknown
- 1958-11-03 DE DEN15810A patent/DE1095951B/de active Pending
- 1958-11-04 FR FR778256A patent/FR1216993A/fr not_active Expired
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH209915A (de) * | 1938-05-07 | 1940-05-15 | Hermes Patentverwertungs Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichtern. |
| DE823468C (de) * | 1941-03-27 | 1951-12-03 | Western Electric Co | Elektrische UEbertragungsvorrichtung mit einem aus Silizium bestehenden Kontakt-Gleichrichterelement |
| US2748041A (en) * | 1952-08-30 | 1956-05-29 | Rca Corp | Semiconductor devices and their manufacture |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1199408B (de) * | 1961-06-28 | 1965-08-26 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen von Halbleiterbau-elementen und nach diesem Verfahren hergestelltes Halbleiterbauelement |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US3080640A (en) | 1963-03-12 |
| FR1216993A (fr) | 1960-04-29 |
| NL222168A (de) | |
| CH370842A (de) | 1963-07-31 |
| GB899997A (en) | 1962-06-27 |
| BE572660A (de) | |
| NL109587C (de) |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE1095951B (de) | Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen | |
| DE68909316T2 (de) | Vorrichtung zum automatischen Trennen entlang vorherbestimmter Biegebruchlinien in keramischen Grundplättchen von elektronischen Hybridschaltungen. | |
| DE1027325B (de) | Verfahren zur Herstellung von Silicium-Legierungs-Halbleiter-Anordnungen | |
| EP0093406B1 (de) | Verfahren zum Sägen von Kristallstäben und Mehrblattinnenlochsäge zur Durchführung des Verfahrens | |
| DE1087704B (de) | Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen mit wenigstens einem p-n-UEbergang | |
| DE2450929A1 (de) | Verfahren zum herstellen von isolationsgittern in koerpern aus halbleitendem material | |
| DE1106422B (de) | Blattfoermig zusammengesetztes, aus mehreren Lagen bestehendes Plaettchen aus Elektrodenmaterial zum Einlegieren von p-n-UEbergaengen in Halbleiteranordnungen | |
| DE1178518C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Halbleiter-bauelementen | |
| DE1280416B (de) | Verfahren zum Herstellen epitaktischer Halbleiterschichten auf elektrisch leitenden Schichten | |
| DE1027798B (de) | Verfahren zur Herstellung von Elektrodensystemen, die einen halbleitenden Koerper enthalten, insbesondere Kristalldioden oder Transistoren | |
| DE1095952B (de) | Verfahren zur Herstellung von gleich langen Halbleiterstreifen aus einem homogenen einkristallinen Halbleiterstab fuer mehrere Halbleiteranordnungen | |
| DE2826110A1 (de) | Verfahren zur zerspaltung einer halbleiter-wafer in halbleiter-pellets | |
| DE2333033B2 (de) | Verfahren zur Herstellung und Anbringung einer Haltevorrichtung für einen piezoelektrischen Resonator und mit einer solchen Haltevorrichtung versehener Resonator | |
| AT207417B (de) | Verfahren zur Herstellung halbleitender Elektrodensysteme | |
| DE1275208B (de) | Steuerbarer Halbleitergleichrichter | |
| DE1071846B (de) | ||
| DE1036391B (de) | Verfahren zur Herstellung von Flaechen-Halbleiterkristalloden mit mindestens zwei verschmolzenen Halbleiterteilen von entgegengesetzten Leitfaehigkeitstyp | |
| AT231512B (de) | Verfahren zur Herstellung von Halbeitervorrichtungen | |
| DE569830C (de) | Verfahren zur Herstellung von elektrischen Gluehdrahtzuendern | |
| DE2635747C3 (de) | Halterung für scheibenförmige piezoelektrische Kristalle und Verfahren zur Herstellung der Halterung | |
| DE2321186B2 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Silicium- oder Siliciumcarbid-Rohres | |
| DE1439717C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelementes | |
| DE1514893B2 (de) | Verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung | |
| DE1564846C3 (de) | Transistor und Verfahren zur Herstellung einer Mehrzahl von solchen Transistoren | |
| DE1116826B (de) | Verfahren zum Herstellen einer in einem Schutzgehaeuse untergebrachten, mindestens zwei dicht nebeneinander in einer Ebene einlegierte Metallelektroden aufweisenden Halbleiterkristallanordnung |