CN222570409U - 一种半导体衬底精密抛光机的水箱系统 - Google Patents
一种半导体衬底精密抛光机的水箱系统 Download PDFInfo
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Abstract
一种半导体衬底精密抛光机的水箱系统，能够分离半导体衬底精密抛光机在工作过程中产生的不同种类物质，可过滤液体中固废再集中处理排放，对研磨过程中研磨液、抛光液等回收利用，防止研磨液、抛光液沉淀，并且结构紧凑、占地面积小。电动水泵、搅拌部件、过滤槽均安装固定在水箱箱体的箱盖上，过滤槽的横截面为长方形，其底部和四周设有过滤网，过滤槽对准半导体衬底精密抛光机的液体排出管道，排出的物质通过过滤槽的过滤网滤掉杂质进入水箱箱体内，通过电动水泵将水箱箱体内的物质抽出，经过水管到半导体衬底精密抛光机需要该介质的位置处，搅拌部件通过电机驱动叶轮来对水箱箱体内液体物质进行搅拌，水箱箱体具有常闭盖子。
Description
技术领域
本实用新型涉及抛光设备和水处理的技术领域，尤其涉及一种半导体衬底精密抛光机的水箱系统。
背景技术
半导体衬底精密抛光机在工作过程中会产生不同的液体，比如在修盘时会有切削液，清洗设备过程中会有清洗废水等。液体中可能有切削产生的铁屑和废渣、管道中的杂质等，此时需要过滤固废，再集中处理排放。研磨过程中的辅助研磨液、抛光过程中的抛光液等可能需要回收利用，且研磨液和抛光液需要不断搅拌防止沉淀。
发明内容
为克服现有技术的缺陷，本实用新型要解决的技术问题是提供了一种半导体衬底精密抛光机的水箱系统，其能够分离半导体衬底精密抛光机在工作过程中产生的不同种类物质，可过滤液体中固废再集中处理排放，对研磨过程中研磨液、抛光液等回收利用，防止研磨液、抛光液沉淀，并且结构紧凑、占地面积小。
本实用新型的技术方案是：一种半导体衬底精密抛光机的水箱系统，其安装在半导体衬底精密抛光机的液体排出管道的下方，且包括：电动水泵、搅拌部件、过滤槽、水箱箱体；
电动水泵、搅拌部件、过滤槽均安装固定在水箱箱体的箱盖上，过滤槽的横截面为长方形，其底部和四周设有过滤网，过滤槽对准半导体衬底精密抛光机的液体排出管道，排出的物质通过过滤槽的过滤网滤掉杂质进入水箱箱体内，通过电动水泵将水箱箱体内的物质抽出，经过水管到半导体衬底精密抛光机需要该介质的位置处，搅拌部件通过电机驱动叶轮来对水箱箱体内液体物质进行搅拌，水箱箱体具有常闭盖子。
本实用新型的电动水泵、搅拌部件、过滤槽均安装固定在水箱箱体的箱盖上，因此结构紧凑、占地面积小；过滤槽的横截面为长方形，其底部和四周设有过滤网，过滤槽对准半导体衬底精密抛光机的液体排出管道，排出的物质通过过滤槽的过滤网滤掉杂质进入水箱箱体内，因此能够分离半导体衬底精密抛光机在工作过程中产生的不同种类物质，可过滤液体中固废再集中处理排放；通过电动水泵将水箱箱体内的物质抽出，经过水管到半导体衬底精密抛光机需要该介质的位置处，搅拌部件通过电机驱动叶轮来对水箱箱体内液体物质进行搅拌，对研磨过程中研磨液、抛光液等回收利用，防止研磨液、抛光液沉淀；水箱箱体具有常闭盖子，防止在搅拌过程中液体飞溅。
附图说明
图1示出了根据本实用新型的半导体衬底精密抛光机的水箱系统的安装使用状态图。
图2示出了根据本实用新型的半导体衬底精密抛光机的水箱系统的结构示意图。
图3示出了根据本实用新型的半导体衬底精密抛光机的水箱系统的剖视图。
图4示出了根据本实用新型的半导体衬底精密抛光机的水箱系统的过滤槽的结构示意图。
具体实施方式
如图1-4所示，一种半导体衬底精密抛光机的水箱系统，其安装在半导体衬底精密抛光机的液体排出管道6的下方，且包括：电动水泵1、搅拌部件2、过滤槽3、水箱箱体4；
电动水泵、搅拌部件、过滤槽均安装固定在水箱箱体的箱盖上，过滤槽的横截面为长方形，其底部和四周设有过滤网31，过滤槽对准半导体衬底精密抛光机的液体排出管道，排出的物质通过过滤槽的过滤网滤掉杂质进入水箱箱体内，通过电动水泵将水箱箱体内的物质抽出，经过水管到半导体衬底精密抛光机需要该介质的位置处，搅拌部件通过电机驱动叶轮来对水箱箱体内液体物质进行搅拌，水箱箱体具有常闭盖子。
本实用新型的电动水泵、搅拌部件、过滤槽均安装固定在水箱箱体的箱盖上，因此结构紧凑、占地面积小；过滤槽的横截面为长方形，其底部和四周设有过滤网，过滤槽对准半导体衬底精密抛光机的液体排出管道，排出的物质通过过滤槽的过滤网滤掉杂质进入水箱箱体内，因此能够分离半导体衬底精密抛光机在工作过程中产生的不同种类物质，可过滤液体中固废再集中处理排放；通过电动水泵将水箱箱体内的物质抽出，经过水管到半导体衬底精密抛光机需要该介质的位置处，搅拌部件通过电机驱动叶轮来对水箱箱体内液体物质进行搅拌，对研磨过程中研磨液、抛光液等回收利用，防止研磨液、抛光液沉淀；水箱箱体具有常闭盖子，防止在搅拌过程中液体飞溅。
优选地，如图2所示，该水箱系统还包括万向轮5，其固定在水箱箱体的底部。万向轮5可以承载水箱箱体4任意移动。
优选地，如图4所示，所述过滤槽的前面、后面、左面、右面、底面均开设两个矩形孔。这样的结构可以使过滤槽的结构强度更高。
优选地，如图4所示，在所述过滤槽的左面、右面分别设置提手32。这样方便及时倾倒过滤出来的固废，然后集中处理排放。
以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例，并非对本实用新型作任何形式上的限制，凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属本实用新型技术方案的保护范围。
Claims (4)
1.一种半导体衬底精密抛光机的水箱系统，其特征在于：其安装在半导体衬底精密抛光机的液体排出管道(6)的下方，且包括：电动水泵(1)、搅拌部件(2)、过滤槽(3)、水箱箱体(4)；
电动水泵、搅拌部件、过滤槽均安装固定在水箱箱体的箱盖上，过滤槽的横截面为长方形，其底部和四周设有过滤网(31)，过滤槽对准半导体衬底精密抛光机的液体排出管道，排出的物质通过过滤槽的过滤网滤掉杂质进入水箱箱体内，通过电动水泵将水箱箱体内的物质抽出，经过水管到半导体衬底精密抛光机需要该介质的位置处，搅拌部件通过电机驱动叶轮来对水箱箱体内液体物质进行搅拌，水箱箱体具有常闭盖子。
2.根据权利要求1所述的半导体衬底精密抛光机的水箱系统，其特征在于：该水箱系统还包括万向轮(5)，其固定在水箱箱体的底部。
3.根据权利要求2所述的半导体衬底精密抛光机的水箱系统，其特征在于：所述过滤槽的前面、后面、左面、右面、底面均开设两个矩形孔。
4.根据权利要求3所述的半导体衬底精密抛光机的水箱系统，其特征在于：在所述过滤槽的左面、右面分别设置提手(32)。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202420399007.4U CN222570409U (zh) | 2024-03-01 | 2024-03-01 | 一种半导体衬底精密抛光机的水箱系统 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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| CN222570409U true CN222570409U (zh) | 2025-03-07 |
Family
ID=94791388
Family Applications (1)
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| CN202420399007.4U Active CN222570409U (zh) | 2024-03-01 | 2024-03-01 | 一种半导体衬底精密抛光机的水箱系统 |
Country Status (1)
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2024
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