CN221926924U - 接近式曝光机 - Google Patents

Abstract

本实用新型的实施例提供一种接近式曝光机，通过沿第二方向设置的多个传输装置沿第一方向同步传输待曝光件，有效提升待曝光件的传输速度；通过可沿上下方向靠近或远离曝光装置的曝光平台，在低位上下料，高位对待曝光件进行曝光处理，还可在曝光过程中自动调节曝光承载台和掩模版的位置，保证曝光承载台与掩膜版平行度在一定范围之内，提高电池片和掩模版的对准精度；通过一个曝光装置只对一片待曝光件进行曝光，相比于现有技术中一个曝光装置同时对多片待曝光件曝光，缩小了曝光装置中出光面积，提高光源功率，缩短曝光时间，有效提高产能，同时，全自动化曝光减少了人力物力，进而降低了曝光生产成本。

Description

接近式曝光机

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池制造装备领域，特别是涉及一种接近式曝光机。

背景技术

在太阳能电池领域中，异质结太阳能电池技术的研发日渐成熟，异质结太阳能电池包括N型异质结太阳能电池和P型异质结太阳能电池，随着P型异质结太阳能电池逼近效率极限，逐渐展开对P型异质结太阳能电池的替代。N型异质结太阳能电池因具有较高的转换效率、良好的温度特性、较低的工艺制备温度等优点，成为太阳能电池发展的热点，但由于N型异质结太阳能电池目前价格始终大幅高于P型太阳能电池，尤其金属栅线技术路线、设备、材料成本均居高不下，目前金属栅线技术提效降本成为异质结太阳能电池规模应用迫切需解决的问题。国内外研究团队通过不同的太阳能电池金属栅线设计及电极制备方式显著影响了载流子的输运、收集，从而对电性能产生影响。因此，降低正面光学损失、减小栅线的欧姆损耗、改善电极与TCO的接触及低成本的电极制备方式是金属电极的研究方向，由于金属栅线严重制约了异质结太阳能电池的主要成本，研发新的金属栅线技术成为其提效降本的关键。

在制备金属栅线时，需要对电池片进行曝光处理，在现有的曝光机中，因电池片与掩模版上掩模图形对位受限，整体曝光产能较低，不利于大规模生产。例如，常规异质结太阳能电池片规格为210mm*105mm，采用单轨道传输进行曝光产能较低，采用双轨道同时对两片电池片进行掩模图形对位的方式，对曝光设备的要求较高，对位效率低，影响整机曝光产能。

应该注意，上面对技术背景的介绍只是为了方便对本申请的技术方案进行清楚、完整的说明，并方便本领域技术人员的理解而阐述的。不能仅仅因为这些方案在本申请的背景技术部分进行了阐述而认为上述技术方案为本领域技术人员所公知。

鉴于以上，亟需提供一种新的接近式曝光机来进行解决上述问题。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种接近式曝光机，至少解决现有技术中的问题之一。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种接近式曝光机，所述接近式曝光机包括：

N个曝光模组，N个所述曝光模组沿水平的第一方向依次设置，任意相邻两个所述曝光模组沿水平的第二方向交错设置，所述第一方向和所述第二方向分别沿水平方向延伸，所述第一方向与所述第二方向相互垂直，N≥2，且N为整数；所述曝光模组包括位置检测装置和曝光装置，所述位置检测装置与所述曝光装置沿所述第一方向交替设置，所述位置检测装置被配置为检测待曝光件的位置，所述曝光装置被配置为对所述待曝光件进行曝光处理，所述曝光装置的下表面设置有可调节位置的掩模版；

传输装置，所述传输装置被配置为同时承载N片所述待曝光件的传输承载台，所述传输装置被配置为沿所述第一方向传输所述待曝光件，以顺序的经过N个所述曝光模组下方，分别完成对每片所述待曝光件的曝光处理；

曝光平台，所述曝光平台沿所述上下方向间隔设置于每个所述曝光装置下方，所述曝光平台可沿所述上下方向靠近或远离所述曝光装置，所述曝光平台包括曝光承载台，所述曝光承载台被配置为承载所述待曝光件进行曝光处理。

可选地，所述接近式曝光机包括：N个传输模组，N个所述传输模组沿所述第一方向依次设置，所述传输模组沿上下方向间隔设置于所述曝光模组下方，每个所述传输模组包括N个传输装置，N个所述传输装置沿所述第二方向依次设置，所述传输装置包括两个沿所述第一方向依次设置的所述传输承载台，所述传输装置被配置为沿所述上下方向移动所述待曝光件，所述传输装置的两个所述传输承载台均为条形结构，两个条形结构的所述传输承载台相背设置；所述曝光承载台上设置有凹槽，所述凹槽沿所述第一方向贯穿所述曝光承载台，条形结构的所述传输承载台可沿所述第一方向插入所述凹槽，所述凹槽的深度大于所述传输承载台的厚度，所述凹槽的宽度大于所述传输承载台的宽度。

可选地，所述传输装置包括：固定件，所述传输承载台固定设置于所述固定件的上表面；第一连接件，所述第一连接件上表面一端与所述固定件下表面固定连接；第二连接件，所述第二连接件的上表面与所述第一连接件的下表面一端固定连接，所述第二连接件的一侧面设置有沿所述上下方向延伸的第一滑块；第三连接件，所述第三连接件的一个侧面设置有沿所述上下方向延伸的第一导轨，所述第二连接件的所述第一滑块插设在所述第一导轨内，使得所述第二连接件可带动所述第一连接件和所述传输承载台沿所述上下方向移动，所述第三连接件的另一个侧面设置有沿所述第一方向延伸的第二滑块；第一驱动装置，所述第一驱动装置竖直固定设置于所述第三连接件有所述第一导轨的侧面，所述第一驱动装置的输出端与所述第二连接件固定连接，以驱动所述第二连接件带动所述第一连接件和所述传输承载台沿所述上下方向移动。

可选地，所述接近式曝光机还包括：直线交互模组，所述直线交互模组沿所述第一方向设置，所述直线交互模组的侧面设置有沿所述第一方向延伸的第二导轨，所述第三连接件的所述第二滑块插设在所述第二导轨内，使得所述第三连接件可带动整个所述传输装置沿所述第一方向移动；第二驱动装置，所述第二驱动装被配置为驱动所述第三连接件带动整个所述传输装置沿所述第一方向移动。

可选地，所述曝光平台还包括：定位传感器，所述定位传感器设置于所述曝光承载台周侧，所述定位传感器被配置为获取所述曝光承载台上表面至所述掩模版下表面之间的距离信息；调平装置，所述调平装置设置于所述曝光承载台下方，所述调平装置被配置为调平所述曝光承载台；固定板，所述调平装置固定设置于所述固定板上表面；第一连接板，所述第一连接板包括沿所述第二方向依次间隔设置的两个，两个所述第一连接板分别竖直固定设置于所述固定板下表面的两端，所述第一连接板的一侧面设置有第三滑块；第二连接板，所述第二连接板的一个侧面设置有沿所述上下方向延伸的第三导轨，所述第一连接板的所述第三滑块插设在所述第三导轨内，使得所述第一连接板可带动所述固定板、所述调平装置、所述定位传感器和所述曝光承载台沿所述上下方向移动；第三驱动装置，所述第三驱动装置竖直固定设置于所述第二连接板具有所述第三导轨的侧面，所述第三驱动装置的输出端与所述第一连接板固定连接，以驱动所述第一连接板带动所述固定板、所述调平装置、所述定位传感器和所述曝光承载台沿所述上下方向移动。

可选地，所述曝光装置还包括：吸附装置，所述吸附装置设置于所述曝光装置的下端，所述吸附装置配置为吸附所述掩模版的四周边缘，以将所述掩模版固定吸附于所述曝光装置下表面；掩模版调平装置，所述掩模版调平装置设置于所述吸附装置上方，所述掩模版调平装置配置为调平所述掩模版；至少两个夹紧气缸，两个所述加紧气缸设置于所述掩模版的相对两旁侧，所述夹紧气缸的工作端设置有L型支架，在工作状态下，以将不被吸附的所述掩模版托举支撑；照明装置，所述照明装置设置于所述掩模版上方，所述照明装置被配置为对曝光过程提供曝光光源。

可选地，所述接近式曝光机还包括上料装置，所述上料装置包括：N个上料流道，N个所述上料流道沿所述第二方向依次设置，所述上料流道配置为沿所述第一方向传输所述待曝光件；吹风装置，所述吹风装置设置于所述上料流道上方，所述吹风装置被配置为吹风清除所述上料流道上所述待曝光件表面的异物；矫正装置，所述矫正装置设置于所述上料流道的侧边，所述矫正装置配置为矫正所述上料流道上所述待曝光件的位置。

可选地，所述接近式曝光机还包括下料装置，所述下料装置包括：N个下料流道，N个所述下料流道沿所述第二方向依次设置，所述下料流道配置为沿所述第一方向传输完成曝光处理的所述待曝光件；输送线，所述输送线沿所述第一方向可伸缩地设置于所述下料流道上游，所述输送线伸长时，可将完成曝光处理的所述待曝光件传入所述下料装置，所述输送线收缩时，可将完成曝光处理的所述待曝光件传输至所述下料流道，进行下料；伸缩驱动装置，所述伸缩装置被配置为驱动所述输送线沿所述第一方向伸缩；下料平台，所述下料流道和所述输送线固定设置于所述下料平台上表面；第一下料支撑板，所述第一下料支撑板竖直地固定设置于所述下料平台下表面；第二下料支撑板，所述第二下料支撑板竖直地固定设置于所述下料平台下表面，所述第二下料支撑板的一侧面设置有沿所述上下方向延伸的第四滑块；第三下料支撑板，所述第三下料支撑板的一侧面固定设置于所述第一下料支撑板的一侧面，所述第三下料支撑板的另一侧面设置有沿上下方向延伸的第四导轨，所述第二下料支撑板的所述第四滑块插设于所述第四导轨内，使得所述第二下料支撑板可带动所述下料平台、所述下料流道和所述输送线沿所述上下方向移动；第四驱动装置，所述第四驱动装置设置于所述第一下料支撑板和/或所述第三下料支撑板上，所述第四驱动装置的输出端与所述第二下料支撑板固定连接，以驱动所述第二下料支撑板带动所述下料平台、所述下料流道和所述输送线沿所述上下方向移动。

可选地，所述传输承载台和所述曝光承载台上表面均设置有多个吸附孔，多个所述吸附孔均相互连通，所述吸附孔还与真空发生器连通，所述真空发生器吸附被配置为通过所述吸附孔吸附所述待曝光件。

可选地，所述接近式曝光机还包括机台，所述机台包括底座及支架，所述底座被配置为承载所述传输装置和曝光平台，所述支架被配置为承载所述曝光模组。

如上所述，本实用新型实施例的接近式曝光机，具有以下有益效果：

本实用新型实施例的接近式曝光机通过沿第二方向设置的多个传输装置沿第一方向同步传输待曝光件，有效提升待曝光件的传输速度，通过可沿上下方向靠近或远离曝光装置的曝光平台，只在上下方向移动，不在第一方向运动，也即在低位上下料，高位对待曝光件进行曝光处理，还可在曝光过程中自动调节曝光承载台和掩模版的位置，保证曝光承载台与掩膜版平行度在一定范围之内，提高电池片和掩模版的对准精度；本实用新型实施例的接近式曝光机通过连续的一个曝光装置只对一片待曝光件进行曝光，相比于现有技术中一个曝光装置同时对多片待曝光件曝光，缩小了曝光装置中出光面积，提高光源功率，缩短曝光时间，有效提高产能，同时，全自动化曝光减少了人力物力，进而降低了曝光生产成本。

附图说明

图1显示为本实用新型实施例的接近式曝光机的立体结构示意图。

图2显示为本实用新型实施例的接近式曝光机的俯视简易曝光动作示意图。

图3至图18显示为本实用新型实施例的接近式曝光机的侧视简易曝光动作步骤示意图。

图19显示为本实用新型实施例的上料装置、传输装置、曝光平台和直线模组的立体结构示意图。

图20显示为本实用新型实施例的曝光平台的立体结构示意图。

图21显示为本实用新型实施例的掩模版的立体结构示意图。

图22显示为本实用新型实施例的下料装置的立体结构示意图。

元件标号说明

1 第一电池片

2 第二电池片

3 待曝光件

10 曝光模组

11 第一位置检测装置

12 第一曝光装置

13 第二位置检测装置

14 第二曝光装置

20 传输装置

200 传输承载台

21 第一传输承载台

22 第二传输承载台

23 第三传输承载台

24 第四传输承载台

201 固定件

202 第一连接件

203 第二连接件

204 第三连接件

205 第一驱动装置

30 曝光平台

31 第一曝光平台

32 第二曝光平台

301 曝光承载台

302 凹槽

303 定位传感器

304 调平装置

305 固定板

306 第一连接板

307 第二连接板

308 第三驱动装置

40 直线交互模组

41 第二导轨

50 掩模版

501 第一掩模版

502 第二掩模版

51 掩模版调平装置

52 夹紧气缸

60 上料装置

61 上料流道

62 吹风装置

63 矫正装置

70 下料装置

71 下料流道

72 输送线

73 伸缩驱动装置

74 下料平台

75 第一下料支撑板

76 第二下料支撑板

77 第三下料支撑板

78 第四驱动装置

80 真空发生器

91 底座

92 支架

101 第一工位

102 第二工位

103 第三工位

104 第四工位

105 第五工位

具体实施方式

以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。

请参阅图1至图22。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本实用新型可实施的范畴。

为了便于描述和理解接近式曝光机的具体结构，在本实用新型实施例中的接近式曝光机中构建XYZ三维坐标系，其中，第一方向X、第二方向Y、上下方向Z三者两两垂直，第一方向X与第二方向Y分别沿水平方向延伸。本实用新型的实施例中定义待曝光件31的传输方向为第一方向X正方向，定义第一方向X正方向为接近式曝光机的右侧，定义第一方向X负方向为接近式曝光机的左侧。

本实施例中的接近式曝光机适用于对半导体加工器件进行曝光处理，在本实施例中，待曝光件3为待曝光处理的电池片。在现有的应用于镀铜工艺中掩模材料的曝光机，因电池片与掩模版50上掩模图形对位受限，整体曝光产能较低，不利于大规模生产。例如，常规异质结太阳能电池片规格为210mm*105mm，采用单轨道传输进行曝光产能较低，采用双轨道同时对两片电池片进行掩模图形对位的方式，对曝光设备的要求较高，对位效率低，影响整机曝光产能。

基于以上，如图1所示，本实用新型提供一种接近式曝光机，接近式曝光机包括：N个曝光模组10，N个曝光模组10沿水平的第一方向X依次设置，任意相邻两个曝光装置沿水平的第二方向Y交错设置，第一方向X和第二方向Y分别沿水平方向延伸，第一方向X与第二方向Y相互垂直，N≥2，且N为整数；曝光模组10包括位置检测装置和曝光装置，位置检测装置与曝光装置沿第一方向X交替设置，位置检测装置被配置为检测待曝处理的电池片的位置，曝光装置被配置为对待曝处理的电池片进行曝光处理，曝光装置的下表面设置有可调节位置的掩模版50；传输装置20，传输装置20被配置为同时承载N片待曝光处理电池片的传输承载台200，传输装置20被配置为既可沿第一方向X传输待曝光处理的电池片，以顺序的经过N个曝光模组10下方，分别完成对每片待曝光处理电池片的曝光处理，又可沿上下方向Z移动所述待曝光件3；曝光平台，曝光平台沿上下方向Z间隔设置于每个曝光装置下方，曝光平台可沿上下方向Z靠近或远离曝光装置，曝光平台包括曝光承载台301，优选地为可调节的曝光承载台301，曝光承载台301被配置为承载待曝光处理的电池片进行曝光处理。本实施例中的接近式曝光机还包括控制曝光模组10、传输模组和曝光平台的控制模块，以配合所有装置完成对待曝光处理的电池片进行曝光处理，进一步提高整个装置的自动化水平。

本实施例的接近式曝光机通过传输装置20沿第一方向X同步传输电池片，有效提升电池片的传输速度，通过可沿上下方向Z靠近或远离曝光装置的曝光平台，只在上下方向Z移动，不在第一方向X运动，也即在低位上下料，高位对电池片进行曝光处理，还可在曝光过程中自动调节曝光承载台301和掩模版50的位置，保证曝光承载台301与掩膜版平行度在一定范围之内，提高电池片和掩模版50的对准精度；本实施例的接近式曝光机通过一个曝光装置只对一片210mm*105mm规格的电池片进行曝光，相比于现有技术中一个曝光装置同时对多片电池片曝光，缩小了曝光装置中出光面积，提高光源功率，缩短曝光时间，有效提高产能，同时，全自动化曝光减少了人力物力，进而降低了曝光生产成本。

在本实施例的一种具体示例中，所述接近式曝光机包括：N个传输模组，N个传输模组沿第一方向X依次设置，传输模组沿上下方向Z间隔设置于曝光模组10下方，每个传输模组包括N个传输装置20，N个传输装置20沿第二方向Y依次设置。

如图1所示，在本实施例的一种具体示例中，沿第一方向X依次设置两个曝光模组10，两个曝光模组10沿第二方向Y交错设置，具体地，沿第一方向X依次设置有第一位置检测装置11、第一曝光装置12、第二位置检测装置13和第二曝光装置14，第一曝光装置12下表面的掩模版50为第一掩模版501，第二曝光装置14下表面的掩模版50为第二掩模版502。沿上下方向Z曝光模组10间隔设置两个传输模组，两个传输模组沿第一方向X依次设置，每个传输模组沿第二方向Y依次设置两个传输装置20，每个传输装置20沿第一方向X依次设置两个传输承载台200，也即本示例中共有八个传输承载台200可以同时传输八片待曝光处理的电池片，并对其进行曝光处理。这里需要说明的是，接近式曝光机还包括机台，机台包括底座91及支架92，底座91被配置为承载传输模组和曝光平台，支架92被配置为承载曝光模组10的重量，支架92固定设置于底座91上。

为实现对待曝光处理的电池片进行曝光，以接近时曝光机在曝光作业中的俯视图和侧视图为例，充分说明电池片在接近式曝光机中的曝光过程。

如图2所示，在一种可实施的具体示例中，接近式曝光机上沿第一方向X正方向依次设置有五个工位，具体为第一工位101、第二工位102、第三工位103、第四工位104和第五工位105，第一工位101处于第一位置检测装置11的正下方，第二工位102处于第一曝光装置12的正下方，第三工位103处于第二位置检测装置13的正下方，第四工位104处于第二曝光装置14的正下方，第五工位105位于第四工位104沿第一方向X的下游。两片沿第二方向Y排布的待曝光处理的电池片同时进行上料，为便于对不同电池片曝光过程的描述，两片沿第二方向Y依次设置的待曝光处理的电池片分别定义为第一电池片1和第二电池片2，第一电池片1和第二电池片2在第一工位101同时进行上料，且第一位置检测装置11获取第一电池片1的具体位置信息；两片电池片沿第一方向X正向传输从第一工位101传入第二工位102，第一曝光装置12上的第一掩模版501根据第一电池片1的位置信息进行位置调整，使得第一掩模版501的掩模图形与第一电池片1的待曝光面精准对位，并对第一电池片1进行曝光处理；两片电池片沿第一方向X传输从第二工位102传入第三工位103，第二位置检测装置13获取第二电池片2的具体位置信息；两片电池片沿第一方向X正向传输，从第三工位103传入第四工位104，第二曝光装置14上的第二掩模版502根据第二电池片2的位置信息进行位置调整，使得第二掩模版502的掩模图形与第二电池片2的待曝光面精准对位，并对第二电池片2进行曝光处理；两片电池片沿第一方向X从第四工位104传入第五工位105，在第五工位105上同时进行下料。

如图3至图18所示，在一种可实施的具体示例中，以接近式曝光机的侧视简易结构动作图来说明电池片在接近式曝光机中的曝光过程。待曝光处理的电池片沿第一方向X依次传输，两个传输模组分别沿第一方向X的正向和负向往复运动，以传输电池片，两个传输模组中的传输承载台200，沿第一方向X在初始状态下，依次占据第一工位101、第二工位102、第三工位103和第四工位104。在曝光作业的过程中，两个传输模组在五个工位中往复运动，为便于描述待曝光处理的电池片的曝光过程，定义如图3至图18中沿第一方向X正向设置的传输承载台200依次为第一传输承载台21、第二传输承载台22、第三传输承载台23和第四传输承载台24，这里需要说明的是，第一传输承载台21、第二传输承载台22、第三传输承载台23和第四传输承载台24均包括沿第二方向Y设置的两个传输承载台200，两个传输承载台200分别承载第一电池片1和第二电池片2。

如图3所示，在第一个曝光动作中，第一传输承载台21在第一工位101上进行上料，沿第二方向Y依次承载第一电池片1和第二电池片2，第一位置检测装置11获取第一传输承载台21上第一电池片1的具体位置信息；如图4所示，在第二个曝光动作中，第一传输承载台21承载两片电池片沿第一方向X正向传输，进入第二工位102；如图5所示，在第三个曝光动作中，第一曝光平台31沿上下方向Z上升，将两片电池片脱离第一传输承载台21，由第一曝光平台31的曝光承载台301承载第一电池片1和第二电池片2，并上升到达第一曝光装置12的曝光的工作距离内；如图6所示，在第四个曝光动作中，第一掩模版501根据第一电池片1的具体位置调整其自身的位置，使得掩模图案对准第一电池片1的待曝光面，第一曝光装置12对第一曝光平台31上的第一电池片1进行曝光处理，第二传输承载台22沿第一方向X负向移动至第一曝光平台31下方，第一传输承载台21进入第一工位101，在第一工位101继续对两片电池片进行上料，也定义此时第一传输承载台21沿第二方向Y依次承载的电池片为第一电池片1和第二电池片2；如图7所示，在第五个曝光动作中，第一曝光平台31沿上下方向Z下降，将第一电池片1和第二电池片2脱离第一曝光平台31，由第二传输承载台22承台第一电池片1和第二电池片2，第一位置检测装置11继续获取第一承载装置上的第一电池片1的具体位置信息；如图8所示，在第六个曝光动作中，第二传输承载台22承载第一电池片1和第二电池片2沿第一方向X正向进入第三工位103，第一传输承载台21承载两片电池片进入第二工位102；如图9所示，在第七个曝光动作中，第一曝光平台31沿上下方向Z上升，将第一电池片1和第二电池片2脱离第一传输承载台21，由第一曝光平台31的曝光承载台301承载第一电池片1和第二电池片2，并上升到达第一曝光装置12的曝光工作距离内；如图10所示，在第八个曝光动作中，第一掩模版501根据第一电池片1的具体位置调整其自身的位置，使得掩模图案对准第一电池片1的待曝光面，第一曝光装置12对第一曝光平台31上的第一电池片1进行曝光处理，同时，第二传输承载台22上承载的第一电池片1和第二电池片2传输至第三传输承载台23，第三传输承载台23沿第一方向X负向进入第三工位103，第二传输承载台22进入第二工位102，位于第一曝光平台31下方，第一传输承载台21进入第一工位101继续进行上料；如图11示，在第九个曝光动作中，第二位置检测装置13获取第三传输承载台23上的第二电池片2的具体位置信息，第一曝光平台31沿上下方向Z下降，将第一电池片1和第二电池片2脱离第一曝光平台31，由第二传输掩模版50承载第一电池片1和第二电池片2，第一位置检测装置11获取第一传输承载台21上的第一电池片1的具体位置信息；如图12示，在第十个曝光动作中，第三传输承载台23沿第一方向X正向进入第四工位104，位于第二曝光装置14下方，第二传输承载台22进入第三工位103，第二位置检测装置13获取第二传输承载台22上的第二电池片2的具体位置信息，第一传输承载台21进入第二工位102，位于第一曝光装置12下方；如图13示，在第十一个曝光动作中，第二曝光平台32沿上下方向Z上升，将第一电池片1和第二电池片2脱离第三承载装置，由第二曝光平台32的曝光承载台301承载第一电池片1和第二电池片2，并上升到达第二曝光装置14的曝光的工作距离内，同时，第一曝光平台31沿上下方向Z上升，将第一电池片1和第二电池片2脱离第一承载装置，由第一曝光平台31的曝光承载台301承载第一电池片1和第二电池片2上升到达第一曝光装置12的曝光的工作距离内；如图14示，在第十二个曝光动作中，第二掩模版502根据第二电池片2的具体位置调整其自身的位置，使得掩模图案对准第二电池片2的待曝光面，第二曝光装置14对第二曝光平台32上的第二电池片2进行曝光处理，第一掩模版501根据第一电池片1的具体位置调整其自身的位置，使得掩模图案对准第一电池片1的待曝光面，第一曝光装置12对第一曝光平台31上的第一电池片1进行曝光处理，同时，第四传输承载台24沿第一方向X负方向进入第四工位104，位于第二曝光平台32下方，第二传输承载台22上承载的两片电池片在第三工位103上传输至第三传输承载台23，第二传输承载台22沿第一方向X负向进入第二工位102，位于第一曝光平台31下方，第一承载台进入第一工位101继续进行上料；如图15示，在第十三个曝光动作中，第二曝光平台32沿上下方向Z下降，将第一电池片1和第二电池片2脱离第二曝光平台32，由第四传输掩模版50承载第一电池片1和第二电池片2，第二位置检测装置13获取第三传输承载台23上的第二电池片2的具体位置信息，第一曝光平台31沿上下方向Z下降，将第一电池片1和第二电池片2脱离第一曝光平台31，由第二传输掩模版50承载第一电池片1和第二电池片2，第一位置检测装置11获取第一传输承载台21上的第一电池片1的具体位置信息；如图16示，在第十四个曝光动作中，第四传输承载台24沿第一方向X正向进入第五工位105，第三传输承载台23进入第四工位104，位于第二曝光平台32下方，第二传输承载台22进入第三工位103，第二位置检测装置13获取第二传输承载台22上的第二电池片2的具体位置信息，第一传输承载台21进入第二工位102，位于第一曝光平台31下方；如图17示，在第十五个曝光动作中，第二曝光平台32沿上下方向Z上升，将第一电池片1和第二电池片2脱离第三承载装置，由第二曝光平台32的曝光承载台301承载第一电池片1和第二电池片2，并上升到达第二曝光装置14的曝光的工作距离内，同时，第一曝光平台31沿上下方向Z上升，将第一电池片1和第二电池片2脱离第一承载装置，由第一曝光平台31的曝光承载台301承载第一电池片1和第二电池片2，并上升到达第一曝光装置12的曝光的工作距离内；如图18示，在第十六个曝光动作中，曝光完成的第一电池片1和第二电池片2在第五工位105进行下料，第二曝光平台32沿上下方向Z下降，将第一电池片1和第二电池片2脱离第二曝光平台32，由第四传输掩模版50承载第一电池片1和第二电池片2，第二位置检测装置13获取第三传输承载台23上的第二电池片2的具体位置信息，第一曝光平台31沿上下方向Z下降，将第一电池片1和第二电池片2脱离第一曝光平台31，由第二传输掩模版50承载第一电池片1和第二电池片2，第一传输承载台21进入第一工位101继续进行上料。

如图1及图19所示，为实现传输装置20和曝光平台之间电池片的传输，在一种可实施的具体示例中，传输装置20的两个传输承载台200均为条型结构，两个条形结构的传输承载台200相背设置，或，两个传输承载台共用一个长的条型结构；曝光承载台上301设置有凹槽302，凹槽302沿第一方向X贯穿曝光承载台301，条形结构的传输承载台200可沿第一方向X插入凹槽302，凹槽302的深度大于传输承载台300的厚度，凹槽302的宽度大于传输承载台200的宽度。在本实施例中，优选地，传输装置20的两个传输承载台200均为U型结构，两个U型结构的传输承载台200的U型开口相背设置；曝光平台上的曝光承载台301上设置有沿所述第二方向Y平行设置的凹槽302，凹槽302沿第一方向X贯穿曝光承载台301，传输承载台200的U型开口可沿第一方向X插入凹槽302，凹槽302的深度大于传输承载台200的厚度，凹槽302的宽度大于传输承载台200的宽度。

具体地，当承载有电池片的传输承载台200向曝光承载台301上传输电池片时，传输承载台200的U型开口沿第一方向X插入曝光承载台301上的凹槽302，此时电池片下表面高于于曝光承载台301上表面，传输承载台200的下表面高于凹槽302的槽底，随后，传输承载台200沿上下方向Z下降，使得传输承载台200上表面低于曝光承载台301上表面，电池片的下表面与曝光承载台301上表面贴合，从而曝光承载台301承载电池片，电池片脱离传输承载台200，传输承载台200的U型开口沿第一方向X从凹槽302中移出。当承载有电池片的曝光承载台301向传输承载台200上传输电池片时，传输承载台200的U型开口沿第一方向X插入曝光承载台301上的凹槽302，此时电池片的下表面高于传输承载台200，随后传输承载台200沿上下方向Z上升，使得传输承载台200上表面高于曝光承载台301上表面，电池片的下表面脱离曝光承载台301的上表面，由传输承载台200承载电池片，传输承载台200的U型开口沿第一方向X从凹槽302中移出。

如图1及图19所示，为实现传输装置20沿上下方向Z移动待曝光处理的电池片，在一种可实施的具体示例中，传输装置20包括：固定件201、第一连接件202、第二连接件203和第三连接件204，传输承载台200固定设置于固定件201的上表面；第一连接件202上表面一端与固定件201下表面固定连接；第二连接件203的上表面与所述第一连接件202的下表面一端固定连接，第二连接件203的一侧面设置有沿上下方向Z延伸的第一滑块；第三连接件204和第二连接件203沿第二方向Y平行设置，第三连接件204的一个侧面设置有沿上下方向Z延伸的第一导轨，第二连接件203的第一滑块插设在第一导轨内，使得第二连接件203可带动第一连接件202和传输承载台200沿上下方向Z移动，第三连接件204的另一个侧面设置有沿第一方向X延伸的第二滑块。进一步地，传输装置20还包括第一驱动装置205，第一驱动装置205竖直固定设置于第三连接件204有第一导轨的那一侧面，第一驱动装置205的输出端与第二连接件203固定连接，以驱动第二连接件203带动第一连接件202和传输承载台200沿上下方向Z移动。第一驱动装置205和控制模块电连接，以配合接近式曝光机的自动化曝光作业，在本实施例中，第一驱动装置205为Z轴驱动电机，输出端向上设置。

如图19所示，为实现传输装置20在传输电池片时电池片的位置不发生偏移，传输装置20的传输承载台200上表面上还设置有多个均匀排布的吸附孔，在传输承载台200内部设置有吸附空间，使得多个吸附孔互相连通，吸附空间还与真空发生器80连通，真空发生器80设置于传输装置20的第一连接件202的上表面，真空吸附装置被配置为通过吸附孔吸附电池片。

如图1及图19所示，为实现传输装置20既可沿第一方向X传输待曝光处理的电池片，在一种可实施的具体示例中，接近式曝光机还包括直线交互模组40，直线交互模组40沿第一方向X设置，直线交互模组40的侧面设置有沿第一方向X延伸的第二导轨41，第三连接件204的第二滑块插设在第二导轨41内，使得第三连接件204可带动整个传输装置20沿第一方向X移动；进一步地，直线交互模组40还包括第二驱动装置，第二驱动装被配置为驱动第三连接件204带动整个传输装置20沿第一方向X移动，第二驱动装置和控制模块电连接，以配合接近式曝光机自动化的曝光作业。具体地，在本实施例中，直线交互模组40沿第二方向Y的两个侧边均设置有第二导轨41，承载两个沿第二方向Y设置的传输装置20。直线交互模组40设置于机台的底座91上，机台为整个接近式曝光机提供重量支撑。在沿第二方向Y设置有多个传输装置20的其他示例中，也可设置其他可以承载传输装置20沿第一方向X传输的装置，可根据实际需要进行选择，在此不做限制。

如图20所示，为实现待曝光处理的电池片进入曝光装置的工作距离内，在一种可实施的具体示例中，接近式曝光机上设置曝光平台，曝光平台可沿上下方向Z靠近或远离曝光装置，具体地，曝光平台还包括固定板305、第一连接板306和第二连接板307，曝光承载台301设置于固定板305上表面；第一连接板306包括沿第二方向Y依次间隔设置的两个，两个第一连接板306分别竖直固定设置于固定板305下表面的两端，第一连接板306的一侧面设置有第三滑块；第二连接板307的一个侧面设置有沿上下方向Z延伸的第三导轨，第一连接板306的第三滑块插设在第三导轨内，使得第一连接板306可带动固定板305、曝光承载台301沿上下方向Z移动，具体地，第二连接板307固定设置于底座91上表面，为了加强第二连接板307与底座91的连接，以及支撑整个曝光平台的重量，第二连接板307侧边设置有加强筋，下方设置有第三连接板，第三连接板与底座91固定连接，加强固定面积，加强筋固定连接第二连接板307和第三连接板。

进一步地，传输装置20还包括第三驱动装置308，第三驱动装置308竖直固定设置于第二连接板307具有第三导轨的侧面，第三驱动装置308的输出端与第一连接板306固定连接，以驱动第一连接板306带动固定板305和曝光承载台301沿上下方向Z移动。第三驱动装置308和控制模块电连接，以配合接近式曝光机自动化的曝光作业，在本实施例中，第三驱动装置308为Z轴驱动电机，输出端向上设置。

进一步地，为保障曝光承载台301上表面与掩模版50下表面之间距离的准确性，曝光平台还包括定位传感器303和调平装置304，定位传感器303设置于曝光承载台301周侧，定位传感器303被配置为获取曝光承载台301上表面至掩模版50下表面之间的距离信息，调平装置304设置于曝光承载台301下方，也即固定板305上表面，调平装置304被配置为调平曝光承载台301，在曝光作业中，定位传感器303将获取的曝光承载台301上表面至掩模版50下表面之间的距离信息，并传递至控制模块，控制模块将距离信息反馈至调平装置304，由调平装置304将曝光承载台301的位置进行调整。在另一种示例中，每片电池片的薄厚均不相同，定位传感器303也可获取电池片的待曝光面至掩模版50下表面之间的距离信息，并传递至控制模块，控制模块将距离信息反馈至调平装置304，由调平装置304将曝光承载台301的位置进行调整，以将电池片的待曝光面与掩模版50下表面平行，并处于曝光距离内。

为实现曝光平台在沿上下方向Z移动电池片时电池片的位置不发生偏移，曝光平台的曝光承载台301上表面上还设置有多个均匀排布的吸附孔，在曝光承载台301内部设置有吸附空间，使得多个吸附孔互相连通，吸附空间还与真空发生器80连通，真空发生器80设置于曝光平台的固定板305的上表面，真空吸附装置被配置为通过吸附孔吸附电池片。

如图21所示，为实现掩模版50固定于曝光装置的下表面，在一种可实施的具体示例中，还可在曝光前将掩模版50通过曝光平台沿上下方向Z上升至曝光装置下表面附近进行安装，曝光平台的固定板305上可设置导轨，将底部设置有滑块的安装装置，沿导轨固定于曝光平台上，将掩模版50放置于安装装置上表面上。曝光装置还包括吸附装置和掩模版调平装置51，吸附装置包括吸附孔，当掩模版50通过曝光平台靠近曝光装置时，吸附孔正对掩模版50侧边，以将掩模版50上表面的侧边固定吸附于曝光装置下表面，且避免掩模版50上的图案被遮蔽，掩模版调平装置51设置于吸附装置上方，掩模版调平装置51配置为调平掩模版50。掩模版50的成本较高，在曝光作业中，为避免吸附装置突发故障，掩模版50掉落，进一步地，曝光装置还包括至少两个夹紧气缸52，两个夹紧气缸52设置于掩模版50的相对两旁侧，夹紧气缸52的工作端设置有L型支架92，两个L型支架92相对设置，两个L型支架92不与掩模版50相接触，留有间隙，当吸附装置吸附掩模版50前，两个夹紧气缸52的L型支架92相互远离，两个L型支架92的距离大于掩模版50的尺寸，为吸附装置吸附掩模版50提供充足的吸附空间，当吸附装置吸附掩模版50后，夹紧气缸52的L型支架92相互靠近，两个L型支架92的距离稍小于掩模版50的尺寸，以在掩模版50不被吸附装置吸附时，能够托举支撑掩模版50，避免掩模版50掉落的情况发生。掩模版50安装后，可将安装装置从曝光平台上移除，进行对电池片进行曝光处理。

这里需要说明的是，夹紧气缸52的数量也可设置为多个，分设于掩模版50的周侧，在工作状态下托举支撑掩模版50，具体夹紧气缸52的数量及位置，可根据实际情况进行设置，在此不做限制，工作端的L型支架92也可为其他形状的支架92，只要能起到托举支撑作用即可，可根据实际情况进行设置，在此不做限制。

曝光装置还包括照明装置，照明装置设置于掩模版50上方，照明装置被配置为对曝光过程提供曝光光源，光源通过掩模版50将掩模版50上的图形映射在待曝光处理电池片的待曝光面上，一个曝光装置只对一片待曝光件3进行曝光，也即一个照明装置的曝光光源对应一个待曝光处理的电池片，相比于现有技术中一个曝光装置中的一个曝光光源同时对应多片待曝光处理的电池片，缩小了曝光装置中的出光面积，提高光源功率，缩短曝光时间，有效提高产能。

如图19所示，为实现对待曝光处理的电池片的上料，在一种可实施的具体示例中，接近式曝光机还包括上料装置60，在本实施例中，上料装置60包括两个上料流道61，两个上料流道61沿第二方向Y依次设置，上料流道61配置为沿第一方向X传输带曝光处理的电池片，上料流道61包括两个沿第二方向Y平行设置的传输带，当传输装置20从上料流道61上料时，传输承载台200的U型开口可伸入两条传输带之间，传输承载台200沿上下方向Z上升，使得待曝光处理的电池片从传输带上表面脱离，由传输承载台200上表面进行承载待曝光处理的电池片，再将待曝光处理的电池片进行传输。

进一步地，在曝光前，需要对待曝光处理电池片的待曝光面进行清洁和位置矫正，上料装置60还包括吹风装置62和矫正装置63，吹风装置62设置于上料流道61上方，吹风装置62被配置为吹风清除上料流道61上待曝光处理电池片表面的异物，矫正装置63设置于上料流道61的侧边，矫正装置63配置为矫正上料流道61上待曝光处理电池片的位置，以保证待曝光处理电池片的位置在上料时不发生大的偏移。

如图22所示，为实现对完成曝光处理的电池片的下料，在一种可实施的具体示例中，接近式曝光机还包括下料装置70，本实施例的下料装置70包括两个下料流道71，两个下料流道71沿第二方向Y依次设置，下料流道71配置为沿第一方向X传输完成曝光处理的电池片，下料流道71包括两个沿第二方向Y平行设置的传输带；下料流道71上还设置有输送线72和伸缩驱动装置73，输送线72沿第一方向X可伸缩地设置于下料流道71上游，输送线72伸长时，可将完成曝光处理的电池片传入下料装置70，输送线72收缩时，可将完成曝光处理的电池片传输至下料流道71，进行下料，伸缩装置被配置为驱动输送线72沿第一方向X伸缩，以实现下料的自动化。下料装置70还包括下料平台74、第一下料支撑板75、第二下料支撑板76和第三下料支撑板77，下料流道71和输送线72固定设置于下料平台74上表面，第一下料支撑板75竖直地固定设置于下料平台74下表面，第一支撑板固定设置于底座91上，以支撑整个下料装置70的重量，在另一示例中，第一支撑板为不设置第二导轨41的直线模组，第二下料支撑板76竖直地固定设置于下料平台74下表面，第二下料支撑板76的一侧面设置有沿上下方向Z延伸的第四滑块，第三下料支撑板77的一侧面固定设置于第一下料支撑板75的一侧面，第三下料支撑板77的另一侧面设置有沿上下方向Z延伸的第四导轨，第二下料支撑板76的第四滑块插设于第四导轨内，使得第二下料支撑板76可带动下料平台74、下料流道71和输送线72沿上下方向Z移动。进一步地，下料装置70还包括第四驱动装置78，第四驱动装置78设置于第一下料支撑板75和/或第三下料支撑板77上，第四驱动装置78的输出端与第二下料支撑板76固定连接，以驱动第二下料支撑板76带动下料平台74、下料流道71和输送线72沿上下方向Z移动。第四驱动装置78和控制模块电连接，以配合接近式曝光机自动化的下料，在本实施例中，第四驱动装置78为Z轴驱动电机，输出端向上设置。

本实施例中的上料装置60和下料装置70保持同步运动，在第一方向X正向和负向移动，上下方向Z移动完成上下料动作。

本实施例的接近式曝光机同样适用于电池片丝网印刷浆料或油墨等，只需要将曝光装置替换成印刷装置即可，其他装置均与接近式曝光机的其他装置相同，在此不做赘述。

综上所述，本实用新型的实施例提供一种接近式曝光机，接近式曝光机包括：N个曝光模组10，N个曝光模组10沿水平的第一方向X依次设置，任意相邻两个曝光模组10沿水平的第二方向Y交错设置，第一方向X和第二方向Y分别沿水平方向延伸，第一方向X与第二方向Y相互垂直，N≥2，且N为整数；曝光模组10包括位置检测装置和曝光装置，位置检测装置与曝光装置沿第一方向X交替设置，位置检测装置被配置为检测待曝光件3的位置，曝光装置被配置为对待曝光件3进行曝光处理，曝光装置的下表面设置有可调节位置的掩模版50；传输装置20，传输装置20被配置为同时承载N片待曝光件3的传输承载台200，传输装置20被配置为既可沿第一方向X传输待曝光件3，以顺序的经过N个曝光模组10下方，分别完成对每片待曝光件3的曝光处理，又可沿上下方向Z移动待曝光件3；曝光平台，曝光平台沿上下方向Z间隔设置于每个曝光装置下方，曝光平台可沿上下方向Z靠近或远离曝光装置，曝光平台包括可调平的曝光承载台301，曝光承载台301被配置为承载待曝光件3进行曝光处理。本实用新型实施例的接近式曝光机通过传输装置20沿第一方向X同步传输待曝光件3，有效提升待曝光件3的传输速度，通过可沿上下方向Z靠近或远离曝光装置的曝光平台，只在上下方向Z移动，不在第一方向X运动，也即在低位上下料，高位对待曝光件3进行曝光处理，还可在曝光过程中自动调节曝光承载台301和掩模版50的位置，保证曝光承载台301与掩膜版平行度在一定范围之内，提高电池片和掩模版50的对准精度；本实用新型实施例的接近式曝光机通过连续的一个曝光装置只对一片待曝光件3进行曝光，相比于现有技术中一个曝光装置同时对多片待曝光件3曝光，缩小了曝光装置中出光面积，提高光源功率，缩短曝光时间，有效提高产能，同时，全自动化曝光减少了人力物力，进而降低了曝光生产成本。所以，本实用新型有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。

Claims (10)

1.一种接近式曝光机，其特征在于，所述接近式曝光机包括：

N个曝光模组，N个所述曝光模组沿水平的第一方向依次设置，任意相邻两个所述曝光模组沿水平的第二方向交错设置，所述第一方向和所述第二方向分别沿水平方向延伸，所述第一方向与所述第二方向相互垂直，N≥2，且N为整数；所述曝光模组包括位置检测装置和曝光装置，所述位置检测装置与所述曝光装置沿所述第一方向交替设置，所述位置检测装置被配置为检测待曝光件的位置，所述曝光装置被配置为对所述待曝光件进行曝光处理，所述曝光装置的下表面设置有可调节位置的掩模版；

传输装置，所述传输装置被配置为同时承载N片所述待曝光件的传输承载台，所述传输装置被配置为沿所述第一方向传输所述待曝光件，以顺序的经过N个所述曝光模组下方，分别完成对每片所述待曝光件的曝光处理；

曝光平台，所述曝光平台沿所述上下方向间隔设置于每个所述曝光装置下方，所述曝光平台可沿所述上下方向靠近或远离所述曝光装置，所述曝光平台包括曝光承载台，所述曝光承载台被配置为承载所述待曝光件进行曝光处理。

2.根据权利要求1所述的接近式曝光机，其特征在于，所述接近式曝光机包括：N个传输模组，N个所述传输模组沿所述第一方向依次设置，所述传输模组沿上下方向间隔设置于所述曝光模组下方，每个所述传输模组包括N个传输装置，N个所述传输装置沿所述第二方向依次设置，所述传输装置被配置为沿所述上下方向移动所述待曝光件，所述传输装置包括两个沿所述第一方向依次设置的所述传输承载台，所述传输装置的两个所述传输承载台均为条形结构，两个条形结构的所述传输承载台相背设置；所述曝光承载台上设置有凹槽，所述凹槽沿所述第一方向贯穿所述曝光承载台，条形结构的所述传输承载台可沿所述第一方向插入所述凹槽，所述凹槽的深度大于所述传输承载台的厚度，所述凹槽的宽度大于所述传输承载台的宽度。

3.根据权利要求1所述的接近式曝光机，其特征在于，所述传输装置包括：

固定件，所述传输承载台固定设置于所述固定件的上表面；

第一连接件，所述第一连接件上表面一端与所述固定件下表面固定连接；

第二连接件，所述第二连接件的上表面与所述第一连接件的下表面一端固定连接，所述第二连接件的一侧面设置有沿所述上下方向延伸的第一滑块；

第三连接件，所述第三连接件的一个侧面设置有沿所述上下方向延伸的第一导轨，所述第二连接件的所述第一滑块插设在所述第一导轨内，使得所述第二连接件可带动所述第一连接件和所述传输承载台沿所述上下方向移动，所述第三连接件的另一个侧面设置有沿所述第一方向延伸的第二滑块；

第一驱动装置，所述第一驱动装置竖直固定设置于所述第三连接件有所述第一导轨的侧面，所述第一驱动装置的输出端与所述第二连接件固定连接，以驱动所述第二连接件带动所述第一连接件和所述传输承载台沿所述上下方向移动。

4.根据权利要求1所述的接近式曝光机，其特征在于，所述接近式曝光机还包括：

直线交互模组，所述直线交互模组沿所述第一方向设置，所述直线交互模组的侧面设置有沿所述第一方向延伸的第二导轨，所述第三连接件的所述第二滑块插设在所述第二导轨内，使得所述第三连接件可带动整个所述传输装置沿所述第一方向移动；

第二驱动装置，所述第二驱动装被配置为驱动所述第三连接件带动整个所述传输装置沿所述第一方向移动。

5.根据权利要求1所述的接近式曝光机，其特征在于，所述曝光平台还包括：

定位传感器，所述定位传感器设置于所述曝光承载台周侧，所述定位传感器被配置为获取所述曝光承载台上表面至所述掩模版下表面之间的距离信息；

调平装置，所述调平装置设置于所述曝光承载台下方，所述调平装置被配置为调平所述曝光承载台；

固定板，所述调平装置固定设置于所述固定板上表面；

第一连接板，所述第一连接板包括沿所述第二方向依次间隔设置的两个，两个所述第一连接板分别竖直固定设置于所述固定板下表面的两端，所述第一连接板的一侧面设置有第三滑块；

第二连接板，所述第二连接板的一个侧面设置有沿所述上下方向延伸的第三导轨，所述第一连接板的所述第三滑块插设在所述第三导轨内，使得所述第一连接板可带动所述固定板、所述调平装置、所述定位传感器和所述曝光承载台沿所述上下方向移动；

第三驱动装置，所述第三驱动装置竖直固定设置于所述第二连接板具有所述第三导轨的侧面，所述第三驱动装置的输出端与所述第一连接板固定连接，以驱动所述第一连接板带动所述固定板、所述调平装置、所述定位传感器和所述曝光承载台沿所述上下方向移动。

6.根据权利要求1所述的接近式曝光机，其特征在于，所述曝光装置还包括：

吸附装置，所述吸附装置设置于所述曝光装置的下端，所述吸附装置配置为吸附所述掩模版的四周边缘，以将所述掩模版固定吸附于所述曝光装置下表面；

掩模版调平装置，所述掩模版调平装置设置于所述吸附装置上方，所述掩模版调平装置配置为调平所述掩模版；

至少两个夹紧气缸，两个所述加紧气缸设置于所述掩模版的相对两旁侧，所述夹紧气缸的工作端设置有L型支架，在工作状态下，以将不被吸附的所述掩模版托举支撑；

照明装置，所述照明装置设置于所述掩模版上方，所述照明装置被配置为对曝光过程提供曝光光源。

7.根据权利要求1所述的接近式曝光机，其特征在于，所述接近式曝光机还包括上料装置，所述上料装置包括：

N个上料流道，N个所述上料流道沿所述第二方向依次设置，所述上料流道配置为沿所述第一方向传输所述待曝光件；

吹风装置，所述吹风装置设置于所述上料流道上方，所述吹风装置被配置为吹风清除所述上料流道上所述待曝光件表面的异物；

矫正装置，所述矫正装置设置于所述上料流道的侧边，所述矫正装置配置为矫正所述上料流道上所述待曝光件的位置。

8.根据权利要求1所述的接近式曝光机，其特征在于，所述接近式曝光机还包括下料装置，所述下料装置包括：

N个下料流道，N个所述下料流道沿所述第二方向依次设置，所述下料流道配置为沿所述第一方向传输完成曝光处理的所述待曝光件；

输送线，所述输送线沿所述第一方向可伸缩地设置于所述下料流道上游，所述输送线伸长时，可将完成曝光处理的所述待曝光件传入所述下料装置，所述输送线收缩时，可将完成曝光处理的所述待曝光件传输至所述下料流道，进行下料；

伸缩驱动装置，所述伸缩装置被配置为驱动所述输送线沿所述第一方向伸缩；

下料平台，所述下料流道和所述输送线固定设置于所述下料平台上表面；

第一下料支撑板，所述第一下料支撑板竖直地固定设置于所述下料平台下表面；

第二下料支撑板，所述第二下料支撑板竖直地固定设置于所述下料平台下表面，所述

第二下料支撑板的一侧面设置有沿所述上下方向延伸的第四滑块；

第三下料支撑板，所述第三下料支撑板的一侧面固定设置于所述第一下料支撑板的一侧面，所述第三下料支撑板的另一侧面设置有沿上下方向延伸的第四导轨，所述第二下料支撑板的所述第四滑块插设于所述第四导轨内，使得所述第二下料支撑板可带动所述下料平台、所述下料流道和所述输送线沿所述上下方向移动；

第四驱动装置，所述第四驱动装置设置于所述第一下料支撑板和/或所述第三下料支撑板上，所述第四驱动装置的输出端与所述第二下料支撑板固定连接，以驱动所述第二下料支撑板带动所述下料平台、所述下料流道和所述输送线沿所述上下方向移动。

9.根据权利要求1所述的接近式曝光机，其特征在于：所述传输承载台和所述曝光承载台上表面均设置有多个吸附孔，多个所述吸附孔均相互连通，所述吸附孔还与真空发生器连通，所述真空发生器吸附被配置为通过所述吸附孔吸附所述待曝光件。

10.根据权利要求1所述的接近式曝光机，其特征在于，所述接近式曝光机还包括机台，所述机台包括底座及支架，所述底座被配置为承载所述传输装置和曝光平台，所述支架被配置为承载所述曝光模组。