CN203037348U - 玻璃基板表面积光量的检测装置 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title abstract description 18
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title abstract description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims description 15
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 5
- 150000001398 aluminium Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000005433 ionosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical group [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Cleaning In General (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
本实用新型涉及一种玻璃基板表面积光量的检测装置，其特点是：包括传送机构(6)，在该传送机构(6)上设有一铝板(5)，在该铝板(5)中间开有一通孔，在该通孔内安装有紫外线传感器(4)。采用本实用新型的检测装置后，检测到的数据很准确，能确切的判断出基板实际接收到的有效照射量，从而可以通过有效地进行监控、调整来提高玻璃基板良品率。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种玻璃基板表面积光量的检测装置。
背景技术
在显示设备制造过程中，玻璃基板在进行制程工艺之前都必须经过紫外线清洗机进行清洗，紫外线清洗机通过紫外线灯管的网状电极施加高压交流电，在内部合成石英玻璃（电离层）之间形成等离子状态，形成电离后放电气体氙原子被激发时瞬间转换为激态准分子状态，激态准分子状态转换为原来状态时发出172纳米的真空紫外线；制程气体(主要成分：氮气和氧气)中的氧气吸收受激紫外线灯发射的172纳米的紫外线生成氧自由基和臭氧，172纳米的紫外线同时破坏玻璃基板上有机（碳氢化合物）的分子结构，氧自由基与分解后的有机物结合，生成水、二氧化碳、一氧化碳等挥发性气体，从而达到去除有机物清洗基板的目的。紫外线清洗机对于基板表面上的有机薄膜具有清洗作用，但如果照射条件高于基板表面有机薄膜可承受的程度，那紫外线清洗机将会对基板表面有机薄膜造成损坏。因此需要对紫外线清洗机照射强度进行监控。
目前在显示设备制造领域，例如TFT（薄膜场效应晶体管）LCD、LTPS（低温多晶硅）、OLED（有机发光二极管）生产线上，应用于生产线上的紫外线清洗机照射时，涉及（玻璃）基板表面积光量的检测。一般情况下由于紫外线清洗机与玻璃基板表面距离很近，普通照度计无法放置，所以只能进行灯管表面照度检测而不能进行基板表面积光量的检测。这样检测的数据不是很准确，无法判断出基板实际接收到的有效照射量。另外由于172纳米紫外线具有腐蚀性，当照度如果过高时，将会造成基板表面有机膜的损坏。当照度过低时，又会造成基板清洁不够干净，导致后续工艺出现异物不良。照度高低直接影响到整个工序的良品率。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种玻璃基板表面积光量的检测装置，能够准确检测紫外线灯管的照射强度。
一种玻璃基板表面积光量的检测装置，其特别之处在于：包括传送机构，在该传送机构上设有一铝板，在该铝板中间开有一通孔，在该通孔内安装有紫外线传感器。
其中传送机构为滚轴传送机或滚轮传送机。
其中紫外线传感器的探头与铝板上表面平齐。
采用本实用新型的检测装置后，检测到的数据很准确，能确切的判断出基板实际接收到的有效照射量，从而可以通过有效地进行监控、调整来提高玻璃基板良品率。
附图说明
附图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示，一种玻璃基板表面积光量的检测装置，包括传送机构6，传送机构6可以采用滚轴或滚轮传送机，在该传送机构6上设有一铝板5，在该铝板5中间开有一通孔，在该通孔内安装有紫外线传感器4，紫外线传感器4的探头与铝板5上表面（按图1中方向）平齐，当然也可以略低。
本实用新型的使用方法及工作原理如下：
如图1所示，紫外线清洗机1安装在上部，紫外线清洗机1下部安装紫外线灯管2。紫外线传感器4连接在铝板5上，其探头顶部与铝板5上表面水平，而紫外线传感器4的其它部分则置于铝板5下。
使用时玻璃基板3放置于铝板5之上，紫外线灯管2距离玻璃基板3为2.5～3.5mm。铝板5放置在滚轴或滚轮传送机上，紫外线传感器4放置于相邻2个滚轴或滚轮间隙之内，滚轴或滚轮之间的间距为100mm。滚轴或滚轮运动带动铝板5和玻璃基板3运动，通过紫外线清洗机1，同时紫外线传感器4的探头记录紫外线灯管2照射强度。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，任何所属技术领域的技术人员，在不脱离本实用新型之精神的范围内，可作一些更动与改进，因此本实用新型之保护范围当以权利要求为准。
Claims (3)
1.一种玻璃基板表面积光量的检测装置，其特征在于：包括传送机构(6)，在该传送机构(6)上设有一铝板(5)，在该铝板(5)中间开有一通孔，在该通孔内安装有紫外线传感器(4)。
2.如权利要求1所述的玻璃基板表面积光量的检测装置，其特征在于：其中传送机构(6)为滚轴传送机或滚轮传送机。
3.如权利要求1或2所述的玻璃基板表面积光量的检测装置，其特征在于：其中紫外线传感器(4)的探头与铝板(5)上表面平齐。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201220660621 CN203037348U (zh) | 2012-12-04 | 2012-12-04 | 玻璃基板表面积光量的检测装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201220660621 CN203037348U (zh) | 2012-12-04 | 2012-12-04 | 玻璃基板表面积光量的检测装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN203037348U true CN203037348U (zh) | 2013-07-03 |
Family
ID=48689459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN 201220660621 Expired - Fee Related CN203037348U (zh) | 2012-12-04 | 2012-12-04 | 玻璃基板表面积光量的检测装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN203037348U (zh) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN108535965A (zh) * | 2017-03-01 | 2018-09-14 | 株式会社斯库林集团 | 曝光装置、基板处理装置、曝光方法及基板处理方法 |
| US10401736B2 (en) | 2017-03-01 | 2019-09-03 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Exposure device, substrate processing apparatus, exposure method of substrate and substrate processing method |
-
2012
- 2012-12-04 CN CN 201220660621 patent/CN203037348U/zh not_active Expired - Fee Related
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| CN108535965B (zh) * | 2017-03-01 | 2022-03-11 | 株式会社斯库林集团 | 曝光装置、基板处理装置、曝光方法及基板处理方法 |
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