CN201930863U - 基板喷淋装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种基板喷淋装置，适用于对显示器中的基板进喷淋处理液，包括机架、直线驱动器、喷淋支架、水平输送装置及若干喷管，所述基板承载于所述水平输送装置上，所述水平输送装置带动所述基板在水平方向传输，所述喷淋支架活动连接于所述机架上并位于所述基板的上方，所述直线驱动器驱动所述喷淋支架在水平方向作直线往复运动，所述喷淋支架的运动方向垂直于所述基板的传输方向，所述喷管呈平行的安装于所述喷淋支架上，所述喷管开设有与处理液连通的处理液进入口，所述喷管朝向所述基板的一侧设有若干呈针孔状的喷嘴。本实用新型基板喷淋装置适用于对半导体基板进行清洗，结构简单，操控方便，喷淋均匀。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种喷淋设备，尤其涉及一种对显示器中的基板进行喷淋处理液清洗的基板喷淋装置。
背景技术
生产半导体存储装置或液晶显示器、等离子体显示器和有机发光二极管显示器等平板显示器通常要在半导体基板和玻璃基板等基板上进行各种重复的单元处理。例如，在半导体基板或玻璃基板上进行诸如薄膜处理、给薄膜进行图案化处理以及清洁处理等各种单元处理，从而在基板上形成具有各种电气和光学特征的电路图形，而这些单元处理通常使用处于清洁室内的各种加工设备以一些特殊的处理方法进行。具体的，在半导体基板上进行刻蚀或清洁以及干燥处理等方法是将处理液供给到基板上。例如，在清洁处理中将各种清洁溶液输送到基板喷淋装置上再从基板喷淋装置供给到基板上，以将诸如玻璃基板等半导体基板上的杂质去除。但是，现有的基板喷淋装置均存在着结构复杂，不易控制、运动繁琐的技术缺陷。
因此，需要一种能对半导体基板进行清洗，结构简单，操控方便、喷淋均匀的基板喷淋装置。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种能对半导体基板进行清洗，结构简单，操控方便、喷淋均匀的基板喷淋装置。
为了实现上述目的，本实用新型提供一种基板喷淋装置，适用于对显示器中的基板进喷淋处理液，包括机架、直线驱动器、喷淋支架、水平输送装置及若干喷管，所述基板承载于所述水平输送装置上，所述水平输送装置带动所述基板在水平方向传输，所述喷淋支架活动连接于所述机架上并位于所述基板的上方，所述直线驱动器驱动所述喷淋支架在水平方向作直线往复运动，所述喷淋支架的运动方向垂直于所述基板的传输方向，所述喷管呈平行的安装于所述喷淋支架上，所述喷管开设有与处理液连通的处理液进入口，所述喷管朝向所述基板的一侧设有若干呈针孔状的喷嘴。
较佳地，所述喷管均匀分布于所述喷淋支架上。多个所述喷管分布在所述喷淋支架上，能有效提高喷淋效率。
较佳地，所述处理液进入口开设于所述喷管的中部且竖直向上。竖直向上的处理液入口方便地使处理液进入。
较佳地，所述喷嘴均匀分布于所述喷管上且竖直向下。所述喷嘴能喷出雾状的处理液，竖直向下便能使处理液直接落到所述基板上，使所述基板喷淋得非常均匀。
较佳地，所述喷淋支架包括喷管承载框、支撑轴及传动轴，所述喷管固定于所述喷管承载框上，所述传动轴呈水平设置且一端与所述喷管承载框固定连接，所述传动轴的另一端与所述直线驱动器连接，所述支撑轴呈水平设置且一端固定于所述机架上，所述支撑轴的另一端呈滑动的连接于所述机架上。通过所述传动轴及所述支撑轴的直线运动，使所述喷管承载框沿与所述基板输送方向轴向垂直的方向来回运动，进一步使所述基板喷淋得更加均匀。
较佳地，所述水平输送装置包括旋转马达及若干滚轮轴，所述滚轮轴上套接有滚轮，所述滚轮轴均匀的安装于所述机架上且位于同一平面，所述旋转马达驱动所述滚轮轴转动，所述基板承载于所述滚轮上。通过驱动所述滚轮轴转动从而驱动所述滚轮滚动，使所述滚轮带动所述基板移动，结构简单，传输可靠，控制容易。
与现有技术相比，由于本实用新型在所述喷淋支架上放置所述喷管，并在所述喷管装置上设置多个呈针孔状的所述喷嘴，所述喷嘴能将所述处理液喷出，使处理液呈雾状落到所述基板上，通过利用直线驱动器驱动所述喷淋支架，使所述喷淋支架沿与所述基板输送方向轴向垂直的方向来回运动，从而使喷淋更加均匀，整个基板喷淋装置结构简单，操控方便，适合于对半导体基板进行清洗、显影、刻蚀及脱膜等工艺。
附图说明
图1是本实用新型基板喷淋装置的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示，本实用新型基板喷淋装置100包括机架(图中未示)、直线驱动器(图中未示)、喷淋支架1、水平输送装置2及若干喷管3，所述水平输送装置2包括旋转马达(图中未示)及若干滚轮轴21，所述滚轮轴21上套接有滚轮22，所述滚轮轴21均匀的安装于所述机架上且位于同一平面，所述旋转马达驱动所述滚轮轴21转动，所述基板200承载于所述滚轮22上，所述水平输送装置2带动所述基板200在水平方向传输。所述喷淋支架1活动连接于所述机架上并位于所述基板200的上方，包括喷管承载框11、支撑轴12及传动轴13，所述喷管3固定于所述喷管承载框11上，所述传动轴13呈水平设置且一端与所述喷管承载框11固定连接，所述传动轴13的另一端与所述直线驱动器连接，所述支撑轴12呈水平设置且一端固定于所述机架上，所述支撑轴12的另一端呈滑动的连接于所述机架上。所述直线驱动器驱动所述喷淋支架1在水平方向作直线往复运动，所述喷淋支架1的运动方向垂直于所述基板200的传输方向，所述喷管3呈平行且均匀分布地安装于所述喷淋支架1上，所述喷管3开设有与处理液连通的处理液进入口31，所述处理液进入口31开设于所述喷管3的中部且竖直向上，所述喷管3朝向所述基板200的一侧设有若干呈针孔状的喷嘴32，所述喷嘴32均匀分布于所述喷管3上且竖直向下。
综合上述，下面对所述基板喷淋装置100的工作原理进行详细描述，如下：
工作时，所述基板200放置于所述水平输送装置2上，然后驱动所述水平输送装置2运动，所述滚轮轴21转动带动所述滚轮22转动，所述滚轮22带动所述基板200，使所述基板200缓慢地在所述喷管3的下方移动，此时，将具有一定压力的处理液从所述处理液进入口31注入所述喷管3内，并通过所述喷嘴32喷出，由于所述喷嘴32为针孔喷嘴，喷出的处理液呈雾状并落到所述基板200上，同时，直线驱动器直线驱动所述传动轴13，所述传动轴13带动所述喷淋支架1，所述喷淋支架1在与所述基板200输送方向轴向垂直的方向来回运动，从而对所述基板200均匀地进行喷淋。
由于本实用新型在所述喷淋支架1上放置多个所述喷管3，并在所述喷管3上设置多个呈针孔状的所述喷嘴32，所述喷嘴32能将所述处理液喷出，使处理液呈雾状落到所述基板200上，通过所述传动轴13及所述支撑轴12利用直线驱动器驱动所述喷淋支架1，使所述喷淋支架1沿与所述基板200输送方向轴向垂直的方向来回运动，不但提高喷淋效率而且使喷淋更加均匀，整个基板喷淋装置100结构简单，操控方便，适合于对半导体基板进行清洗、显影、刻蚀及脱膜等工艺。
本实用新型基板喷淋装置100所涉及到的所述机架及所述直线驱动器的工作原理均为本领域普通技术人员所熟知，在此不再做详细的说明。
以上所揭露的仅为本实用新型的较佳实例而已，当然不能以此来限定本实用新型之权利范围，因此依本实用新型申请专利范围所作的等同变化，仍属于本实用新型所涵盖的范围。
Claims (6)
1.一种基板喷淋装置，适用于对显示器中的基板进喷淋处理液，其特征在于：包括机架、直线驱动器、喷淋支架、水平输送装置及若干喷管，所述基板承载于所述水平输送装置上，所述水平输送装置带动所述基板在水平方向传输，所述喷淋支架活动连接于所述机架上并位于所述基板的上方，所述直线驱动器驱动所述喷淋支架在水平方向作直线往复运动，所述喷淋支架的运动方向垂直于所述基板的传输方向，所述喷管呈平行的安装于所述喷淋支架上，所述喷管开设有与处理液连通的处理液进入口，所述喷管朝向所述基板的一侧设有若干呈针孔状的喷嘴。
2.如权利要求1所述的基板喷淋装置，其特征在于：所述喷管均匀分布于所述喷淋支架上。
3.如权利要求1所述的基板喷淋装置，其特征在于：所述处理液进入口开设于所述喷管的中部且竖直向上。
4.如权利要求1所述的基板喷淋装置，其特征在于：所述喷嘴均匀分布于所述喷管上且竖直向下。
5.如权利要求1-4中任意一项所述的基板喷淋装置，其特征在于：所述喷淋支架包括喷管承载框、支撑轴及传动轴，所述喷管固定于所述喷管承载框上，所述传动轴呈水平设置且一端与所述喷管承载框固定连接，所述传动轴的另一端与所述直线驱动器连接，所述支撑轴呈水平设置且一端固定于所述机架上，所述支撑轴的另一端呈滑动的连接于所述机架上。
6.如权利要求1所述的基板喷淋装置，其特征在于：所述水平输送装置包括旋转马达及若干滚轮轴，所述滚轮轴上套接有滚轮，所述滚轮轴均匀地安装于所述 机架上且位于同一平面，所述旋转马达驱动所述滚轮轴转动，所述基板承载于所述滚轮上。
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