CN201814454U - 保健脸盆 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种能够在水中产生负离子，有助于脸部清洁和毛巾洗涤且具有保健功效的保健脸盆。它包括脸盆，所述脸盆的底部设有负离子发生装置。优点：一是有助于脸部清洁；二是具有保健功效；三是能够对毛巾消毒；四是结构简单，制造成本低。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种脸盆，特别涉及一种保健脸盆，属日常生活用品制造领域。
背景技术
传统的脸盆只是作为一种盛水的工具使用，并没有其他的功能，单单用水无法将脸彻底洗干净，而且毛巾在水里也无法彻底洗干净。
实用新型内容
设计目的：避免背景技术中的不足之处，设计一种能够在水中产生负离子，有助于脸部清洁和毛巾洗涤且具有保健功效的保健脸盆。
设计方案：为了实现上述目的，本实用新型做了如下的设计：脸盆的底部设有负离子发生装置的设计，是本实用新型的技术特征。这样做的目的在于：负离子发生装置能够产生负离子，并且将负离子散发到水中，负离子有助于脸部的清洁，负离子还具有保健的作用，含有负离子的水还能对毛巾进行消毒。
技术方案：保健脸盆，它包括脸盆，所述脸盆的底部设有负离子发生装置。
本实用新型与背景技术相比，主要优点在于：一是有助于脸部清洁；二是具有保健功效；三是能够对毛巾消毒。
附图说明
图1是保健脸盆的主视结构图。
具体实施方式
实施例1：参照附图1。保健脸盆，它包括脸盆1，所述脸盆1的底部设有负离子发生装置3，负离子发生装置3采用已有技术，在此不作描述；所述脸盆1的外侧设有开关2。
上述各部件的制作工艺及安装方法均采用现有可行的技术。洗脸时将水倒入脸盆1中，然后按下开关2起到负离子发生装置3，水中就会有负离子，接着就可以洗脸了，将毛巾放到水中还可以对毛巾进行消毒。
需要理解的是：上述实施例虽然对本实用新型的设计思路做了比较详细的文字描述，但是这些文字描述，只是对本实用新型设计思路的简单文字描述，而不是对本实用新型设计思路的限制，任何不超出本实用新型设计思路的组合、增加或修改，均落入本实用新型的范围内。
Claims (2)
1. 一种保健脸盆，它包括脸盆（1），其特征是：所述脸盆（1）的底部设有负离子发生装置（3）。
2.根据权利要求1所述的保健脸盆，其特征是：所述脸盆（1）的外侧设有开关（2）。
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2010
- 2010-09-27 CN CN2010205440202U patent/CN201814454U/zh not_active Expired - Fee Related
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Granted publication date: 20110504 Termination date: 20110927 |