CN201495175U - 瀑布式层流蚀刻切割装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供的瀑布式层流蚀刻切割装置，其主要包含可调整成角度为0-85°倾斜状的载台、在载台表面上的凸状物，以及蚀刻溶液释放器。在操作时，主要使玻璃基板呈现倾斜状态，且由蚀刻溶液释放器的凹槽溢出的蚀刻溶液，利用瀑布般自然流下方式均匀地流经摆放在该载台上的玻璃基板，使玻璃基板被均匀地蚀刻薄化或将贴有形状各异保护膜的晶粒切割下来。这样，基于倾斜状态的玻璃基板，使得蚀刻玻璃基板所产生的生成物，将随着剩余的蚀刻溶液一起顺着该玻璃基板的倾斜方向流下。

Description

瀑布式层流蚀刻切割装置

技术领域

本实用新型涉及一种玻璃层流蚀刻切割装置，特别涉及一种瀑布式层流蚀刻切割装置。

背景技术

目前将玻璃基板加工成所需要的晶粒方法只有如下几种：1、采用仿形车边磨削来进行外形切割，倒角等。2、采用激光切割来进行切割。3、采用水切割方式进行切割(即通过超高压发生器将水加压到300MPa以上，通过一个专用的切割喷射出极细的高压水流对玻璃基板进行加工)。但上述方式设备投资大，且都只能单片处理，不能适用大规模的生产，生产成本同样很高。

中国专利公开号为CN1986873A公开的手机视窗防护屏的制备方法，采用CNC加工技术对超薄玻璃按产品的设计尺寸和形状进行切割，倒角。

上述薄形玻璃基板的切割方法普遍存在着有可能造成的崩角和切割中有可能造成分层，完成后的产品需要磨边，同时增加了时间和作业成本。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种瀑布式层流蚀刻切割装置，使得蚀刻溶液在重力作用下以瀑布流方式流经玻璃基板。瀑布流可以带走表面的反应生成物，从而获得较平均的蚀刻表面和形状良好的晶粒。

本实用新型所要解决的技术问题还在于提供一种瀑布式层流蚀刻装置，使得玻璃基板与载台的接触面积极小。这样做的目的是，尽量减少玻璃基板与载台的接触面积，有效的防止玻璃基板与载台粘附而导致取出时破裂。接触面积的减小还可以有效避免玻璃基板的划伤。

基于上述目的，本实用新型瀑布式层流蚀刻切割装置主要包含：

载台，可以在0-85°范围内调节。通过改变载台的倾斜角度可使得玻璃基板在0-85°范围内调整。倾斜的载台使得反应生成物可以顺着瀑布流排放掉，保证了反应的均一性。

蚀刻溶液释放器，放置在载台上方，并具有可以存储蚀刻溶液的长条状凹槽。蚀刻溶液从凹槽自然流下，均匀的流经载台上的玻璃基板。

操作时，玻璃基板呈倾斜状放置，使得蚀刻溶液可以通过蚀刻溶液释放器凹槽均匀的流经玻璃基板。倾斜放置的玻璃基板有利于蚀刻生成物的去除，均匀的瀑布流保证了切割的均匀性。

载台上可以有多个凸状物，使得玻璃基板以极小的接触面积放置在载台上。极小的接触面积可以避免玻璃基板与载台粘附和划伤。

本实用新型中的载台可以左右匀速的移动，使得放置在其上的玻璃基板也随之移动。左右匀速移动的玻璃基板可以获得更均匀的表面瀑布流。

上述的蚀刻溶液为氟化氢溶液，蚀刻玻璃基板产生的生成物为氟化硅。

该瀑布式层流蚀刻切割装置进一步包含：

一固定治具，固定住摆放在载台上的玻璃基板。

本实用新型的优点是：当薄化玻璃基板的时候，针对现有技术中的诸多手段，本实用新型巧妙地运用蚀刻溶液自身的重力本质，使其均匀地以瀑布流下的方式从玻璃基板的表面流下，而不会吸附在玻璃基板上，进而玻璃基板可以均匀地被蚀刻；另一方面玻璃基板与载台的接触依靠凸状物，减少了破片和划伤的风险。再一方面可以使切割产生的切割道很窄，从而减少了对产品的伤害，非机械力切割也避免了传统切割存在的崩角和分层现象。完成后的产品也不需要磨边，节省了时间和作业成本。蚀刻液可以反复利用也降低了成本。

附图说明

图1为本实用新型实施例中瀑布式层流蚀刻切割装置的示意图。

图2A-图2B为本实用新型另一实例中瀑布式层流蚀刻切割装置的示意图。

图中：1-蚀刻溶液释放器，2-载台，3-蚀刻溶液，4-玻璃基板，5-凸状物，6-固定治具。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式来进一步阐述本发明。

参考图1，图1为本实用新型瀑布式层流蚀刻切割装置的示意图。如图1所示，本实用新型瀑布式层流蚀刻切割装置主要包含载台2、具有储存蚀刻溶液3的长条状凹槽的蚀刻溶液释放器1，这其中，固定治具(图中未示出)可固定住摆放在载台2上的玻璃基板4。在蚀刻溶液3浓度在重量百分比浓度5-55％条件下，其蚀刻率可以达到5μm/min-25μm/min。

本实用新型瀑布式层流蚀刻切割装置通过倾斜的载台2使得玻璃基板4呈现0-85°的倾斜状态。而蚀刻溶液释放器1溢出的蚀刻溶液3，在重力的作用下以瀑布流的方式均匀的流经玻璃基板4。瀑布流起到了蚀刻玻璃基板和带走反应生成物的作用，借助此瀑布流达到切割出形状各异玻璃基板之目的。

在蚀刻溶液释放器1溢出瀑布流的同时，载台2和玻璃基板4也左右均匀的移动以获得最佳蚀刻均一性。

通过改变载台2的倾斜角度可以控制蚀刻溶液3对玻璃基板4的蚀刻速率。同时，由于载台的倾斜状使得反应生成物可以自然流下，解决了生成物附着影响蚀刻的问题。

此外，为了将玻璃基板4固定在载台2上，通常会用胶带固定玻璃基板4。这样做不但操作复杂，作业完成撕胶膜时很可能导致玻璃基板4破裂。而且玻璃基板4与载台2粘附也会增加破片的几率。为解决以上问题，本实用新型中可以使用有固定治具6和凸状物5的载台来解决此类问题。

图2A，图2B为本实用新型瀑布式层流蚀刻切割装置的另一示意图。如图2A所示，本实用新型瀑布式层流蚀刻切割装置的载台2上安装有多个凸状物5，从而使得玻璃基板4与载台2的接触面积极小，如图2B所示。

如此一来，玻璃基板4在固定治具6的作用下可以嵌入在载台2上，同时玻璃基板4与载台2的接触面积也很小。然后再用胶带将周围的空隙封住就能够避免蚀刻溶液3的渗入，保护了玻璃基板4的背面也降低了卸下玻璃基板4时的风险。

以上简要描述了本实用新型的基本原理，主要特征及优点。本行业的从业人员应该了解，本实用新型包括但不限于上述实例。上述实例和说明书仅简要阐明了本实用新型的原理，在不脱离本使用新型之精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化及改进。这些变化和改进都在本实用新型所要求的保护之下，本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (4)

1.瀑布式层流蚀刻切割装置，用以蚀刻或切割玻璃基板，该蚀刻切割装置包含：

一载台，该载台可在0-85°之间自由调整，使得放置在其上的玻璃基板4也随之呈现0-85°倾斜；

一蚀刻溶液释放器，放置在该载台的上方，并具有储存蚀刻溶液的长条状凹槽；

其中，由蚀刻溶液释放器的凹槽溢出的蚀刻溶液可自然流下，而均匀地流经摆放在该载台上的玻璃基板。

2.如权利要求1所述的瀑布式层流蚀刻切割装置，其特征在于，在该载台上具有多个凸状物，使得摆放在该载台上的未接触到该载台的平面状表面。

3.如权利要求1所述的瀑布式层流蚀刻切割装置，其特征在于，所述载台可左右移动，使得摆放在该倾斜面上的玻璃基板也左右移位，并使得流经该玻璃基板的蚀刻溶液更均匀地流下。

4.如权利要求1所述的瀑布式层流蚀刻切割装置，其特征在于，该瀑布式层流蚀刻切割装置进一步包含：

一固定治具，固定住摆放在该载台上的该玻璃基板。

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