CN201438866U - 安全帽帽壳结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种安全帽帽壳结构，其中是在帽壳内表面形成有凹凸结构。正是该凹凸结构的设置，当安全帽受到冲击时，其可大大延长速度改变的作用时间(即提高Δt)，达到降低加速度(a值)，进而降低作用力(F值)，因此，该凹凸结构可以提升帽壳刚性，增大与安全帽中缓冲层的接触面积，达到缓冲的效果，吸收更多的冲击能量，让人体头部得到有效的保护；并且在同等抗冲击性能要求下，采用凹凸结构的帽壳可以减少帽壳材料的使用量，降低安全帽的重量，提高使用的舒适性。
Description
技术领域
本实用新型是关于复合材料或是注塑成型的安全帽结构，特别是指一种安全帽帽壳结构。
背景技术
在许多场合，由于危险性较高，因此必须使用安全帽。安全帽可在人的头部受到撞击时，最大程度地保护头部不受伤害，这就需要安全帽的帽壳必须具有高强度。然而，帽壳的强度却并非越高越好，相反，业者在设计帽壳时，通常令帽壳在受到强大外力撞击后破裂，这样才能消除最多的能量。其原因在于：根据力学原理，作用力F＝ma(m为质量，a为加速度)，其中质量是不变量，因此欲减少使用力F，就必须使a变小；而a＝ΔV/Δt(ΔV为速度变化量，Δt为时间变化量)，其中速度变化量无法改变，因此要减小加速度，就必须延长力的作用时间；也就是说，在帽壳破裂的过程中，就可以延长作用时间，从而减小冲击力，使头部受到尽可能小的伤害。这就是业内所说的不会破裂的安全帽并不是最好的安全帽。
但是，虽然业者可以通过令安全帽帽壳破坏的方式消除能量，可在实际应用时，却不尽如意。这是因为：帽壳破坏所能延长的时间毕竟有限，因此当受到强冲击力时，仍无法有效保护头部。为提高安全帽帽壳的抗冲击能力，业者多是通过增加帽壳的厚度而实现，但是这势必造成帽壳重量的增加，材料成本的提高。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种可有效提升帽壳的抗冲击效果，同时降低帽壳重量达节约材料成本的安全帽帽壳结构。
为实现上述目的，本实用新型的技术解决方案是：
一种安全帽帽壳结构，其中：是在帽壳内表面形成有凹凸结构。
所述帽壳还设有下颚，而下颚内表面亦形成有凹凸结构。
所述凹凸结构是形成于帽壳或下颚的整个内表面。
所述凹凸结构是形成于帽壳或下颚内表面的局部位置。
所述凹凸结构为形成于帽壳或下颚内表面的肋条。
所述凹凸结构为形成于帽壳或下颚内表面的凸粒、凹点或凹坑。
所述凹坑为圆形、四边形或多边形。
所述凹凸结构为形成于帽壳或下颚内表面凸出的凸块。
所述凸块为圆形、四边形或多边形。
采用上述方案后，由于本实用新型安全帽的帽壳内表面形成为凹凸结构，当安全帽受到冲击时，其可大大延长速度改变的作用时间(即提高Δt)，达到降低加速度(a值)，进而降低作用力(F值)，因此，该凹凸结构可以提升帽壳刚性，增大与安全帽中缓冲层的接触面积，达到缓冲的效果，吸收更多的冲击能量，让人体头部得到有效的保护；并且在同等抗冲击性能要求下，采用凹凸结构的帽壳可以减少帽壳材料的使用量，降低安全帽的重量，提高使用的舒适性。
附图说明
图1是本实用新型实施例一的结构示意图；
图2是本实用新型实施例一帽壳的截面图；
图3是本实用新型实施例二的结构示意图；
图4是本实用新型实施例二帽壳的截面图。
具体实施方式
本实用新型的安全帽帽壳结构，其主要是在帽壳的内表面上形成有凹凸结构，若帽壳还设有下颚3，则下颚3的内表面上亦形成有凹凸结构。
如图1、2所示，为本实用新型实施例一：帽壳1及下颚3内表面的凹凸结构为密布于内表面上的正六边形凹坑2。
如图3、4所示，为本实用新型实施例二：帽壳1及下颚3内表面的凹凸结构为密布于内表面上的圆形凹点3。
当然，上述的凹凸结构是分布于帽壳1及下颚3的整个内表面，亦可在分布于帽壳1及下颚3内表面的局部位置。并且，该凹凸结构不仅局限于上述结构，还可设置为凹凸的肋条、凸粒或圆形、四边形或多边形的凸块、凹坑。另，该安全帽帽壳可采注塑成型或是复材成型。
正是该凹凸结构的设置，使得安全帽帽壳当安全帽受到冲击时，其可大大延长速度改变的作用时间(即提高Δt)，达到降低加速度(a值)，进而降低作用力(F值)，因此，该凹凸结构可以提升帽壳刚性，增大与安全帽中缓冲层(EPS)的接触面积，达到缓冲的效果，吸收更多的冲击能量，让人体头部得到有效的保护；并且在同等抗冲击性能要求下，采用凹凸结构的帽壳可以减少帽壳材料的使用量，减小安全帽的重量，提高安全帽使用的舒适性。
Claims (9)
1.一种安全帽帽壳结构，其特征在于：是在帽壳内表面形成有凹凸结构。
2.如权利要求1所述的安全帽帽壳结构，其特征在于：帽壳还设有下颚，而下颚内表面亦形成有凹凸结构。
3.如权利要求1或2所述的安全帽帽壳结构，其特征在于：凹凸结构是形成于帽壳及下颚的整个内表面。
4.如权利要求1或2所述的安全帽帽壳结构，其特征在于：凹凸结构是形成于帽壳及下颚内表面的局部位置。
5.如权利要求1或2所述的安全帽帽壳结构，其特征在于：凹凸结构为形成于帽壳及下颚内表面的肋条。
6.如权利要求1或2所述的安全帽帽壳结构，其特征在于：凹凸结构为形成于帽壳及下颚内表面的凸粒、凹点或凹坑。
7.如权利要求6所述的安全帽帽壳结构，其特征在于：凹坑为圆形、四边形或多边形。
8.如权利要求1或2所述的安全帽帽壳结构，其特征在于：凹凸结构为形成于帽壳及下颚内表面凸出的凸块。
9.如权利要求8所述的安全帽帽壳结构，其特征在于：凸块为圆形、四边形或多边形。
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| CN102217811A (zh) * | 2011-07-05 | 2011-10-19 | 吴星强 | 一种太阳帽 |
| CN103238975A (zh) * | 2013-05-31 | 2013-08-14 | 北京航空航天大学 | 一种具有新型微结构外壳的安全头盔 |
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| CN103238975A (zh) * | 2013-05-31 | 2013-08-14 | 北京航空航天大学 | 一种具有新型微结构外壳的安全头盔 |
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