CN201239064Y - 足部按摩保健浴盆 - Google Patents
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Abstract
足部按摩保健浴盆，涉及有盆体和按摩凸起构成，盆体的横截面为梯形状，在盆体的内部的底面上均匀设置有按摩凸起，所说的按摩凸起的高度不同，在所说的足部按摩保健浴盆的盆底边缘部分的按摩凸起较低，盆底中央部分的按摩凸起较高。盆底边缘部分按摩凸起的高度为0.5厘米，在盆体底面中央的按摩凸起的高度高于四周的按摩凸起，盆体底面中央的按摩凸起的高度为1厘米，各按摩凸起之间的距离为1厘米，以便使脚部脚弓凹陷部分在浴洗过程中得到充分按摩。本实用新型所述的足部按摩保健浴盆，结构简单，使用方便，该保健浴盆能调整和维持人体内部平衡，改善血液循环及微循环，提高机体免疫功能，增强组织器官的新陈代谢，从而达到防病治病的目的。
Description
技术领域：
本实用新型涉及足部按摩装置，尤其涉及足部按摩保健浴盆。
背景技术：
热水泡脚、足部穴位按摩，是中医传统疗法的重要组成部分，足部按摩能调整和维持人体内部平衡，改善血液循环及微循环，提高人体免疫功能，增强组织器官的新陈代谢，从而达到防病治病的目的。但目前公知的普通洗脚盆大都只能用于洗脚，对脚部没有按摩保健作用，因此，不能满足人们在洗脚的同时，又能全过程进行足部保健按摩的需求.
实用新型内容：
本实用新型的目的在于，克服现有技术的不足之处，提供一种结构简单，使用方便的足部按摩保健浴盆。
本实用新型所述的足部按摩保健浴盆，涉及有盆体和按摩凸起构成，所说的盆体是用来承装浴脚液体的容器，盆体的横截面为梯形状，在所说盆体的内部的底面上均匀设置有按摩凸起，所说的按摩凸起的高度不同，在所说的足部按摩保健浴盆的盆底边缘部分的按摩凸起较低，盆底中央部分的按摩凸起较高。盆底边缘部分按摩凸起的高度为0.5厘米，在盆体底面中央的按摩凸起的高度高于四周的按摩凸起，盆体底面中央的按摩凸起的高度为1厘米，各按摩凸起之间的距离为1厘米，以便使脚部脚弓凹陷部分在浴洗过程中得到充分按摩。
本实用新型所述的足部按摩保健浴盆，结构简单，使用方便，该保健浴盆能调整和维持人体内部平衡，改善血液循环及微循环，提高机体免疫功能，增强组织器官的新陈代谢，从而达到防病治病的目的。
附图说明：
附图是本实用新型所述足部按摩保健浴盆的结构示意图。1—盆体2—按摩凸起
具体实施方式：
现参照附图1，结合实施例说明如下：本实用新型所述的足部按摩保健浴盆，涉及有盆体1和按摩凸起2构成，所说的盆体1是用来承装浴脚液体的容器，盆体1的横截面为梯形状，在所说盆体1的内部的底面上均匀设置有按摩凸起2，所说的按摩凸起2的高度不同，在所说的足部按摩保健浴盆的盆底边缘部分的按摩凸起2较低，盆底中央部分的按摩凸起2较高。盆底边缘部分按摩凸起2的高度为0.5厘米，在盆体1底面中央的按摩凸起2的高度高于四周的按摩凸起2，盆体1底面中央的按摩凸起2的高度为1厘米，各按摩凸起2之间的距离为1厘米，以便使脚部脚弓凹陷部分在浴洗过程中得到充分按摩。本实用新型所述的足部按摩保健浴盆，结构简单，使用方便，该保健浴盆能调整和维持人体内部平衡，改善血液循环及微循环，提高机体免疫功能，增强组织器官的新陈代谢，从而达到防病治病的目的。
Claims (1)
1、足部按摩保健浴盆，其特征在于盆体(1)的横截面为梯形状，在所说盆体(1)的内部的底面上均匀设置有按摩凸起(2)，所说的按摩凸起(2)的高度不同，在所说的足部按摩保健浴盆的盆底边缘部分的按摩凸起(2)较低，盆底中央部分的按摩凸起(2)较高；盆底边缘部分按摩凸起(2)的高度为0.5厘米，在盆体(1)底面中央的按摩凸起(2)的高度高于四周的按摩凸起(2)，盆体(1)底面中央的按摩凸起(2)的高度为1厘米，各按摩凸起(2)之间的距离为1厘米。
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