CN201200981Y - 一种多级干式真空泵的清洗装置 - Google Patents
一种多级干式真空泵的清洗装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN201200981Y CN201200981Y CNU2008200133658U CN200820013365U CN201200981Y CN 201200981 Y CN201200981 Y CN 201200981Y CN U2008200133658 U CNU2008200133658 U CN U2008200133658U CN 200820013365 U CN200820013365 U CN 200820013365U CN 201200981 Y CN201200981 Y CN 201200981Y
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- vacuum pump
- dry vacuum
- gas piping
- mass flow
- cleaning device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 19
- 208000002925 dental caries Diseases 0.000 claims description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 32
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 4
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 2
- 208000027418 Wounds and injury Diseases 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000035611 feeding Effects 0.000 description 1
- 208000014674 injury Diseases 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 1
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
本实用新型涉及真空泵清洗技术，具体地说是一种多级干式真空泵的清洗装置，包括减压阀、质量流量控制器、电磁阀及气体管路，减压阀的一端与气体输入端相连，另一端连接有质量流量控制器；气体管路分为封闭独立的第一部分及第二部分，质量流量控制器的输出端分为两路、分别与气体管路的第一、二部分相连接；质量流量控制器与气体管路连接的每一路均设有电磁阀；气体管路中的第一部分与干式真空泵的一级腔体相连接，第二部分分别与干式真空泵的二～五腔体连接。本实用新型对每一级腔体均起到了清洗作用，清洗彻底，具有控制简单、准确，真空度高等优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空泵清洗技术，具体地说是一种多级干式真空泵的清洗装置。
背景技术
随着半导体工业、电子工业的蓬勃兴起，对于真空环境的要求越来越多、越来越严格。由于由普通的油封机械泵、扩散泵所组成的真空系统易于向真空室中返油，真空室中的油分子会在硅片晶体上沉积，使硅晶体成为废品。所以这样的真空系统在半导体工业、电子工业中的应用受到了限制。相反，由于干式真空泵不需要润滑油来润滑密封，做到了无油蒸汽污染，而且对被抽气体中含有的灰尘和水蒸气不敏感。所以，由干式真空泵组成的真空系统得到了广泛的应用，并在半导体工业、电子工业的发展过程中起到了推动的作用。
由于在半导体工艺(特别是中等工艺、苛刻工艺，例如离子注入源、CVD(化学气相沉积)、PECVD(等离子体增强化学气相沉积)等)中会产生大量的有毒以及腐蚀性气体(例如氨气、甲烷等)，这些气体通过干泵的腔体经排气口排出。由于这些气体对人体的毒害非常大，对设备的腐蚀性也非常强，因此避免废气对干式真空泵的腐蚀，将产生的废气进行稀释从而达到保护人体以及设备的安全，已成为亟待解决的问题。
实用新型内容
为了解决干式真空泵被废气腐蚀的问题，本实用新型的目的在于提供一种多级干式真空泵的清洗装置，解决了在半导体工艺中产生的废气对干式真空泵的腐蚀问题，减少了毒害气体对人体的伤害，起到对泵体气冷(通过氮气吹扫功能使泵冷却)作用。
本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的：
本实用新型包括减压阀、质量流量控制器、电磁阀及气体管路，减压阀的一端与气体输入端相连，另一端连接有质量流量控制器；气体管路分为封闭独立的第一部分及第二部分，质量流量控制器的输出端分为两路、分别与气体管路的第一、二部分相连接；质量流量控制器与气体管路连接的每一路均设有电磁阀；气体管路中的第一部分与干式真空泵的一级腔体相连接，第二部分分别与干式真空泵的二～五腔体连接。
其中：所述气体管路中的第一部分上连接有连接管，连接管的另一端通过气路头、通孔螺钉与干式真空泵的一级腔体相连接，在连接管上设有单向阀；单向阀为单向节流阀；所述气体管路中的第二部分上连接有四根连接管，每根连接管的另一端均通过气路头、通孔螺钉与干式真空泵的二～五腔体连接，在每根连接管上均设有单向阀；单向阀为单向节流阀；所述气体管路中设有封堵，将气体管路分为封闭独立的第一部分及第二部分；所述减压阀通过快卸接头与气体输入端相连接。
本实用新型的优点与积极效果为：
1.本实用新型与多级干式真空泵的每一级腔体均有连接，对每一级腔体均起到了清洗作用，清洗彻底。
2.本实用新型采用质量流量控制器的输出信号来时时显示能入干式真空泵腔体N2流量的数值，采用减压阀调节N2流量大小，采用电磁阀控制N2的通断，控制简单、准确。
3.本实用新型对应不同的真空级腔体充入的N2流量不同，防止了由于充入N2而造成真空底降低。
4.本实用新型在管路上设置了单向阀，防止气体返流；单向阀可为单向节流阀，采用限流的方式来控制通入每一级腔体内的N2大小。
5.本实用新型采用电气控制N2流量，对于真空度影响极小。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型质量流量检测的电路原理图；
图3为本实用新型电磁阀控制的电路原理图；
图4为本实用新型的控制流程图；
其中：1为减压阀，2为质量流量控制器，3为第一电磁阀，4为气体管路，5为单向阀，6为气路头，7为通孔螺钉，8为第二电磁阀，9为封堵，10为第一部分，11为第二部分，12为连接管。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步详述。
如图1所示，本实用新型包括减压阀1、质量流量控制器2、电磁阀及气体管路4，减压阀1的一端通过快卸接头与N2输入端相连，另一端连接有质量流量控制器2；气体管路4中设有封堵9，将气体管路4分为封闭独立的第一部分10及第二部分11；质量流量控制器2的输出端分为两路、分别与气体管路4的第一、二部分10、11相连接；质量流量控制器2与气体管路4连接的两条管路上分别设有第一、二电磁阀3、8；气体管路4中的第一部分10上连接有连接管12，连接管12的另一端通过气路头6、通孔螺钉7与干式真空泵的一级腔体A(低压级腔体)相连接，在连接管12上设有单向阀5；气体管路4中的第二部分11上连接有四根连接管12，每根连接管12的另一端均通过气路头6、通孔螺钉7与干式真空泵的二～五腔体B～E连接，可以起到稀释毒害气体的作用，在每根连接管12上均设有单向阀5。本实施例的单向阀5为单向节流阀，可以在防止返流的同时对进入不同腔体的气体进行节流，从高真空级开始，流量逐级增大。
由于针对不同的半导体工艺通入的N2吹扫量不相同，因此本实用新型的N2通过减压阀1来控制其流量。N2流量的大小通过质量流量控制器2传输的电信号通过干式真空泵的前控制面板来读取。第一、二电磁阀3、8分别对两路N2进行控制，对于相对较清洁的半导体工艺，只需打开高真空级端的第一电磁阀3，通入N2对一级腔体A(轴封端)进行清洗，保护轴承不被腐蚀。而对于较为苛刻的工艺需要同时打开第一、二电磁阀3、8进行N2吹扫。为了防止通入干式真空泵腔体内的N2返流，在通往各级腔体的连接管12上均安装了单向阀5；为了减小对真空度的影响，单向阀5为单向节流阀，采用限流的方式来控制通入每一级腔体内的N2大小，从干式真空泵的高真空级(一级腔体A)到低真空级(五级腔体E)，吹入的N2流量依次增大。
如图2所示，N2流量检测电路设计原理是采用质量流量控制器，将气体流量信号转化成电信号，经过运算放大器进行增益调节后送CPU的AD转换通道，将模拟信号转换成数字信号，最后通过显示屏进行流量显示。
如图3所示，电磁阀控制电路的设计原理是通过前面板的按键传递阀门开、关信息，当CPU的输入端接收到相应的信息后，通过I/O口输出端给触发器U7信号，再经驱动模块U9触发对应的电磁阀控制继电器线圈，相应的继电器接点闭合，电磁阀带电，开、关相应的气体管路。
如图4所示，本实用新型的工作流程为：
通过快卸接头接入N2供给系统，根据工艺环境选择是否需要同时开启第一、二电磁阀3、8；如果针对干净清洁的工艺，可以不开启电磁阀；其它情况下轴封端的第一电磁阀3应该开启，通入N2对轴封端进行清洗。若工艺环境较为苛刻，则将第一、二电磁阀3、8同时开启，再调节减压阀1读取流量示数，检测N2流量是否达到规定要求，若达到要求，进行N2吹扫；若没有达到要求，再重新调节减压阀1直至N2流量达到规定要求。
本实用新型在抽气过程中可保持真空环境不受污染，适用于半导体、石化、冶金、食品、医药、电子、包装、印刷等行业。
Claims (7)
1.一种多级干式真空泵的清洗装置，其特征在于：包括减压阀(1)、质量流量控制器(2)、电磁阀及气体管路(4)，减压阀(1)的一端与气体输入端相连，另一端连接有质量流量控制器(2)；气体管路(4)分为封闭独立的第一部分(10)及第二部分(11)，质量流量控制器(2)的输出端分为两路、分别与气体管路(4)的第一、二部分(10、11)相连接；质量流量控制器(2)与气体管路(4)连接的每一路均设有电磁阀；气体管路(4)中的第一部分(10)与干式真空泵的一级腔体(A)相连接，第二部分(11)分别与干式真空泵的二～五腔体(B～E)连接。
2.按权利要求1所述的多级干式真空泵的清洗装置，其特征在于：所述气体管路(4)中的第一部分(10)上连接有连接管(12)，连接管(12)的另一端通过气路头(6)、通孔螺钉(7)与干式真空泵的一级腔体(A)相连接，在连接管(12)上设有单向阀(5)。
3.按权利要求2所述的多级干式真空泵的清洗装置，其特征在于：所述单向阀(5)为单向节流阀。
4.按权利要求1所述的多级干式真空泵的清洗装置，其特征在于：所述气体管路(4)中的第二部分(11)上连接有四根连接管(12)，每根连接管(12)的另一端均通过气路头(6)、通孔螺钉(7)与干式真空泵的二～五腔体(B～E)连接，在每根连接管(12)上均设有单向阀(5)。
5.按权利要求4所述的多级干式真空泵的清洗装置，其特征在于：所述单向阀(5)为单向节流阀。
6.按权利要求1所述的多级干式真空泵的清洗装置，其特征在于：所述气体管路(4)中设有封堵(9)，将气体管路(4)分为封闭独立的第一部分(10)及第二部分(11)。
7.按权利要求1所述的多级干式真空泵的清洗装置，其特征在于：所述减压阀(1)通过快卸接头与气体输入端相连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNU2008200133658U CN201200981Y (zh) | 2008-06-06 | 2008-06-06 | 一种多级干式真空泵的清洗装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNU2008200133658U CN201200981Y (zh) | 2008-06-06 | 2008-06-06 | 一种多级干式真空泵的清洗装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN201200981Y true CN201200981Y (zh) | 2009-03-04 |
Family
ID=40423292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNU2008200133658U Expired - Lifetime CN201200981Y (zh) | 2008-06-06 | 2008-06-06 | 一种多级干式真空泵的清洗装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN201200981Y (zh) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20130019900A1 (en) * | 2011-07-19 | 2013-01-24 | Multivac Sepp Haggenmuller Gmbh & Co. Kg | Cleaning method and system for a vacuum pump |
| CN105649953A (zh) * | 2014-11-11 | 2016-06-08 | 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 | 一种用于多级干式真空泵的气路系统 |
| CN112705538A (zh) * | 2020-12-04 | 2021-04-27 | 浙江银轮机械股份有限公司 | 罗茨泵和螺杆泵真空机组清洗组件 |
| CN114593036A (zh) * | 2020-12-07 | 2022-06-07 | 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 | 一种用于多级干式真空泵的气路分配系统 |
| CN114962269A (zh) * | 2021-02-26 | 2022-08-30 | 中国科学院微电子研究所 | 真空泵及真空泵系统 |
| CN116428155A (zh) * | 2023-04-13 | 2023-07-14 | 北京通嘉宏瑞科技有限公司 | 泵体清扫系统及泵体清扫控制方法 |
-
2008
- 2008-06-06 CN CNU2008200133658U patent/CN201200981Y/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20130019900A1 (en) * | 2011-07-19 | 2013-01-24 | Multivac Sepp Haggenmuller Gmbh & Co. Kg | Cleaning method and system for a vacuum pump |
| CN105649953A (zh) * | 2014-11-11 | 2016-06-08 | 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 | 一种用于多级干式真空泵的气路系统 |
| CN112705538A (zh) * | 2020-12-04 | 2021-04-27 | 浙江银轮机械股份有限公司 | 罗茨泵和螺杆泵真空机组清洗组件 |
| CN114593036A (zh) * | 2020-12-07 | 2022-06-07 | 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 | 一种用于多级干式真空泵的气路分配系统 |
| CN114962269A (zh) * | 2021-02-26 | 2022-08-30 | 中国科学院微电子研究所 | 真空泵及真空泵系统 |
| CN116428155A (zh) * | 2023-04-13 | 2023-07-14 | 北京通嘉宏瑞科技有限公司 | 泵体清扫系统及泵体清扫控制方法 |
| CN116428155B (zh) * | 2023-04-13 | 2024-03-22 | 北京通嘉宏瑞科技有限公司 | 泵体清扫系统及泵体清扫控制方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN201200981Y (zh) | 一种多级干式真空泵的清洗装置 | |
| US11802562B2 (en) | Device and method for evacuating a chamber and purifying the gas extracted from said chamber | |
| EP2831423B1 (en) | Vacuum pump system | |
| CN104632604A (zh) | 干式真空泵抽气工艺模拟测试方法及测试系统 | |
| TW482871B (en) | Vacuum device | |
| US9685352B2 (en) | Apparatus for conserving electronic device manufacturing resources including ozone | |
| CN102853252B (zh) | 用于高纯安全特气的钢瓶更换方法 | |
| CN102374381B (zh) | 防止吹扫气体倒灌的气柜装置及方法 | |
| CN214598218U (zh) | 一种半导体制程排气分离与处理系统 | |
| US20100275843A1 (en) | hvpe reactor arrangement | |
| CN208443607U (zh) | 一种免吹扫自排空自闭型液体密闭采样器 | |
| CN110906003A (zh) | 具有收集装置的用于密封装置的免于泄漏检测系统及方法 | |
| CN102853257A (zh) | 高纯安全特气柜系统 | |
| CN221763309U (zh) | 一种双氧水供应系统 | |
| CN114837944A (zh) | 整体式氮气吹扫装置和干式真空泵 | |
| CN221973798U (zh) | 一种干式真空泵及废气处理系统 | |
| CN221766714U (zh) | 一种盐酸供应体系 | |
| CN110512190B (zh) | 集成气动阀组的改装机构、气动阀组装置、气相沉积设备 | |
| CN202812797U (zh) | 高纯安全特气柜系统 | |
| CN222131750U (zh) | 一种混配化学品供应系统 | |
| CN115899720A (zh) | 一种外延安全管控的方法 | |
| JP2001132864A (ja) | 排気切替ユニット | |
| US20240138448A1 (en) | Vacuum system and method for sterilization | |
| CN221472899U (zh) | 一种半导体用液体硅源分配阀门箱 | |
| CN221763313U (zh) | 一种自混酸填充与供应系统 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C56 | Change in the name or address of the patentee |
Owner name: CAS SHENYANG SCIENTIFIC INSTRUMENTS CO., LTD. Free format text: FORMER NAME: SHENYANG SCIENTIFIC INSTRUMENT RESEARCH + MFG. CENTER CO., LTD., C.A.S |
|
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: Hunnan Shenyang 110197 Liaoning province Xinyuan street, No. 1 Patentee after: Shenyang Scientific Apparatus Co., Ltd. of Chinese Academy of Sciences Address before: Xinyuan street Shenyang Hunnan New District of 110168 cities in Liaoning province. Patentee before: Shenyang Scientific Instrument Research & Mfg. Center Co., Ltd., C.A.S |
|
| EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract |
Assignee: Shanghai Kai Kai Vacuum Technology Co., Ltd. Assignor: Shenyang Scientific Apparatus Co., Ltd. of Chinese Academy of Sciences Contract record no.: 2016210000006 Denomination of utility model: Cleaner of multilevel dry-type vacuum pump Granted publication date: 20090304 License type: Exclusive License Record date: 20160203 |
|
| LICC | Enforcement, change and cancellation of record of contracts on the licence for exploitation of a patent or utility model | ||
| CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20090304 |
|
| CX01 | Expiry of patent term |