CN201166780Y - 掩膜保护装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型的掩膜保护装置，是用于保持掩膜洁净，该掩膜保护装置包括一框体，此框体与掩膜接触面配置至少一凹槽，另外在框体内设置一贯穿孔，此贯穿孔贯穿凹槽与框体，贯穿孔的一端设有气阀开关，当此气阀开关与一泵连结时，凹槽的压力小于大气压力，则此框体会与掩膜紧密吸附，保持气密状态。本实用新型无需使用粘着剂，可避免粘着剂挥发或摩擦所产生的污染微粒对掩膜造成的伤害。
Description
技术领域
本实用新型是有关一种半导体制程中的掩膜保护装置，特别是指其中的掩膜保护框体的附着机构改良，而使污染度降低。
背景技术
近代半导体科技发展迅速，其中光学光刻技术(Optical Lithography)扮演重要的角色，只要是关于图形(pattern)定义，皆需仰赖光刻技术。
光学光刻在半导体的应用上，是将设计好的线路制作成具有特定形状可透光的掩膜(photo mask)。利用曝光原理，则光源通过掩膜投影至硅晶片(siliconwafer)可曝光显示特定图案。由于任何附着于掩膜上的尘埃颗粒(如微粒、粉尘或有机物)都会造成投影成像的品质劣化，用于产生图形的掩膜必须保持绝对洁净，因此在一般的晶片制程中，都提供无尘室(cleanroom)的环境以避免空气中的颗粒污染。然而，目前的无尘室也无法达到绝对无尘状态，因此目前掩膜的使用是设置掩膜保护框体于掩膜上方，使掩膜保持洁净，由于光线是依据掩膜位置进行聚焦(focus)，即便有微粒沉积于掩膜保护框体上，其形成的离焦(defocus)影像对于图形成像品质的不良影响也较小。
先前技术中，美国专利第6083577号是使用粘着剂组合成掩膜保护框体，固定于掩膜上使其保持气体通透与无尘环境；中国台湾专利第454104号则是使用圆桶形状压敏粘着剂将掩膜保护框体固定于掩膜上，可避免空气间隙产生，并设置一设有滤片的空气溢路穿孔以维持框体内外压力平衡。然以上方法所使用的粘着剂亦是污染微粒制造来源，会使制程品质下降。
中国台湾专利申请第200523691号则是在掩膜保护框体的上设置一浮动透光胶卷，胶卷的浮动会根据内外压差进行伸缩调整，此方法可维持框体内的气密，并补偿压力上的变化。然浮动透光胶卷的伸缩会造成不必要的阴影，在曝光制程上增加原本没有的缺点。
有鉴于以上缺点，本实用新型所提供的掩膜保护装置，乃针对先前技术加以改良。
实用新型内容
基于解决上述先前技术的缺点，本实用新型所提供的掩膜保护装置可避免使用粘着剂所产生的微粒污染。
本实用新型的一目的在于提供一掩膜保护装置，是可阻绝污染微粒沉积或附着于掩膜表面，提升掩膜表面的洁净度，提升产品良率。
本实用新型的另一目的在于提供一不产生污染微粒的的掩膜保护装置，无需涂附粘着剂于框体与掩膜的接触面，可避免粘着剂挥发或摩擦所产生的微粒造成掩膜污染。
本实用新型所提供的一种掩膜保护装置，其包含一框体，该框体是由一中空结构所形成，该掩膜保护装置的特征在于：
该框体与掩膜接触的表面上配置有至少一凹槽且于该框体的一端上设置一贯穿该框体及该凹槽的贯穿孔。
其中进一步包含一弹性组件，是配置于该凹槽中。
其中该弹性组件为一种O型环结构。
其中该弹性组件为一环状的矩型结构，且构成该环状矩形结构的四边为一中空形态。
其中该弹性组件为一高分子材料。
其中该贯穿孔的一端上还配置一气阀开关。
其中还配置一泵与该贯穿孔的一端连接。
其中该框体与掩膜接触的表面是经过阳极处理。
本实用新型提供一种掩膜保护装置，其包含一框体，该掩膜保护装置的特征在于：该框体是由气压差与掩膜接合。
其中该框体具有一贯穿孔。
其中该贯穿孔可连通该掩膜保护装置的内部与外部。
其中该贯穿孔的一端上还配置一气阀开关。
其中还配置一泵与该贯穿孔的一端连接。
其中进一步包含一掩膜保护膜。
其中该框体与掩膜接触的表面是经过阳极处理。
本实用新型的有益效果是：
本实用新型的掩膜保护装置，是可阻绝污染微粒沉积或附着于掩膜表面，提升掩膜表面的洁净度，提升产品良率。
本实用新型的掩膜保护装置，提供一不产生污染微粒的掩膜保护装置，无需涂附粘着剂于框体与掩膜的接触面，可避免粘着剂挥发或摩擦所产生的微粒造成掩膜污染。
附图说明
为使审查员方便简捷了解本实用新型的其它特征内容与优点及其所达成的功效能够更为显现，以下结合实施例及附图详细说明如后，其中：
图1是一立体图，是本实用新型的掩膜保护装置一较佳实施例的框体。
图2是一示意图，是本实用新型一较佳实施例的贯穿孔与凹槽的剖面图。
图3是一示意图，是本实用新型一较佳实施例的贯穿孔、凹槽与气阀开关的连接关系。
图4是一示意图，是本实用新型一较佳实施例的贯穿孔、凹槽、气阀开关与泵的连接关系。
图5A是一示意图，是本实用新型一较佳实施例的贯穿孔、凹槽、弹性组件与气阀开关的连接关系。
图5B是一示意图，是本实用新型一较佳实施例的贯穿孔、凹槽、弹性组件、气阀开关与泵的连接关系。
图6A-图6D是示意图，是本实用新型不同态样的贯穿孔。
图7是一示意图，是本实用新型一较佳实施例的掩膜保护装置。
图8a是一示意图，是本实用新型一较佳实施例的掩膜保护装置。
图8b是一示意图，是本实用新型一较佳实施例的掩膜保护装置。
具体实施方式
由于本实用新型是揭露一种掩膜保护装置，其中所利用到的一些基本组件与彼此间的结合方式，已于先前技术中详细揭露，故以下文中的说明，不再作完整描述。同时，对于掩膜保护装置的主要结构与原理，属于该领域具有通常知识的人士所能轻易理解者，亦不再赘述。而以下文中所对照的附图，是表达与本实用新型特征有关的结构示意，并未亦不需要依据实际尺寸完整绘制，事先说明。
根据本实用新型一较佳实施例，请参见图1与图2，本实用新型设置一掩膜保护装置，包括一框体100与一掩膜保护膜300，框体100的第一端102与掩膜200接触，并于第一端102配置一凹槽104，以及贯穿凹槽104与框体100侧部的一贯穿孔106，此贯穿孔106可使凹槽104与框体100外部环境为气体连通状态。如图3所示，在贯穿孔106的一端设置一气阀开关108，此气阀开关108开启时，贯穿孔106与外部环境呈现气体连通状态，此时凹槽104内充满气体，在气阀开关108关闭时，贯穿孔106内部为气体闭塞状态，如图4所示，当此气阀开关108与一泵400连结，使凹槽104的内部压力相对外部环境的大气压力为小，则掩膜200与框体100因压力差而紧密接合，可维持气密。
根据本实用新型另一较佳实施例，请参见图5A，本实用新型提出一掩膜保护装置，具有一框体100与一掩膜保护膜300，其第一端102与掩膜200接触，于第一端102配置一凹槽104，凹槽104内设置一弹性组件110，并有一贯穿孔106贯穿凹槽104与框体100侧部，此贯穿孔106可使凹槽104与框体100外部为气体连通状态，在贯穿孔106的一端设置一气阀开关108，此气阀开关108开启时，贯穿孔106与外部环境呈现气体连通状态，此时凹槽104内充满气体，在气阀开关108关闭时，贯穿孔106与凹槽104为气体闭塞状态。如图5B所示，当此气阀开关108与一泵400连结，使凹槽104的内部压力相对外部环境的大气压力为小，则掩膜200与框体100因压力差而紧密接合，且因弹性组件110具有良好密合特性，可以完全阻绝气体流通。
图6A至图6D所示，为本实用新型的贯穿孔106不同态样的变化。图6A所示为贯穿孔106a为一内径均匀结构；图6B所示为贯穿孔106b为一弯曲且内径均匀结构；图6C所示为贯穿孔106c位于框体100外侧的开口小于凹槽104侧的开口；图6D所示为贯穿孔106d为一弯曲且内径不均匀结构。
根据本实用新型又一较佳实施例，如图7所示，本实用新型设置一掩膜保护装置，具有一框体100，框体的第一端102与掩膜200接触，并于第一端102配置一凹槽104，以及贯穿凹槽104与框体100侧部的一贯穿孔106，此贯穿孔106在框体100设置两开口116a、116b，可使凹槽104与框体100外部环境为气体连通状态。在贯穿孔106的一开口116a设置一气阀开关108，此气阀开关108开启时，贯穿孔106与外部环境呈现气体连通状态，此时凹槽104内充满气体，在气阀开关108关闭时，贯穿孔106与框体104内部为气体闭塞状态；在贯穿孔106的一开口116b与一泵400连结，使贯穿孔106的内部压力相对外部环境的大气压力为小，则掩膜200与掩膜保护框体100因压力差而紧密接合，可维持气密。
根据本实用新型又一较佳实施例，如图8a与图8b所示，本实用新型设置一掩膜保护装置，包含一框体100与一掩膜保护膜300；框体100具有一贯穿孔126可使掩膜保护装置的内部与外部为气体连通状态，在贯穿孔126的一端设置一气阀开关108，此气阀开关108开启时，掩膜保护装置的内部与外部环境呈现气体连通状态，此时掩膜保护装置内充满气体，在气阀开关108关闭时，掩膜保护装置内部为气体闭塞状态。当此气阀开关108与一泵400连结，泵400抽气使掩膜保护装置的内部压力相对外部环境的大气压力为小，则掩膜200与框体100因压力差而紧密接合。
综上所述，本实用新型提供的掩膜保护装置是利用框体的凹槽与掩膜的压力差或掩膜保护装置内外压力差，使框体与掩膜紧密接合，无需涂附粘着剂于框体与掩膜的接触面，可避免粘着剂挥发或摩擦所产生的微粒造成掩膜污染，提升掩膜表面的洁净度，提升产品良率。
Claims (15)
1、一种掩膜保护装置，其包含一框体，该框体是由一中空结构所形成，该掩膜保护装置的特征在于：
该框体与掩膜接触的表面上配置有至少一凹槽且于该框体的一端上设置一贯穿该框体及该凹槽的贯穿孔。
2、如权利要求1所述的掩膜保护装置，其特征在于，其中进一步包含一弹性组件，是配置于该凹槽中。
3、如权利要求2所述的掩膜保护装置，其特征在于，其中该弹性组件为一种O型环结构。
4、如权利要求2所述的掩膜保护装置，其特征在于，其中该弹性组件为一环状的矩型结构，且构成该环状矩形结构的四边为一中空形态。
5、如权利要求2所述的掩膜保护装置，其特征在于，其中该弹性组件为一高分子材料。
6、如权利要求1所述的掩膜保护装置，其特征在于，其中该贯穿孔的一端上还配置一气阀开关。
7、如权利要求1所述的掩膜保护装置，其特征在于，其中还配置一泵与该贯穿孔的一端连接。
8、如权利要求1所述的掩膜保护装置，其特征在于，其中该框体与掩膜接触的表面是经过阳极处理。
9、一种掩膜保护装置，其包含一框体，该掩膜保护装置的特征在于：该框体是由气压差与掩膜接合。
10、如权利要求9所述的掩膜保护装置，其特征在于，其中该框体具有一贯穿孔。
11、如权利要求9所述的掩膜保护装置，其特征在于，其中该贯穿孔可连通该掩膜保护装置的内部与外部。
12、如权利要求9所述的掩膜保护装置，其特征在于，其中该贯穿孔的一端上还配置一气阀开关。
13、如权利要求9所述的掩膜保护装置，其特征在于，其中还配置一泵与该贯穿孔的一端连接。
14、如权利要求9所述的掩膜保护装置，其特征在于，其中进一步包含一掩膜保护膜。
15、如权利要求9所述的掩膜保护装置，其特征在于，其中该框体与掩膜接触的表面是经过阳极处理。
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2008
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