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CN206921804U - 一种阻尼二极管 - Google Patents

一种阻尼二极管 Download PDF

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Publication number
CN206921804U
CN206921804U CN201720307398.2U CN201720307398U CN206921804U CN 206921804 U CN206921804 U CN 206921804U CN 201720307398 U CN201720307398 U CN 201720307398U CN 206921804 U CN206921804 U CN 206921804U
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CN
China
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frame
doped region
base
bipolar transistor
emitter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201720307398.2U
Other languages
English (en)
Inventor
王金富
徐初惠
王伟
张艳
许柏松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jiangsu Xinshun Microelectronics Co.,Ltd.
Original Assignee
XINSUN CO Ltd
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Publication date
Application filed by XINSUN CO Ltd filed Critical XINSUN CO Ltd
Priority to CN201720307398.2U priority Critical patent/CN206921804U/zh
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Publication of CN206921804U publication Critical patent/CN206921804U/zh
Active legal-status Critical Current
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Classifications

    • H10W72/5475
    • H10W90/756

Landscapes

  • Bipolar Transistors (AREA)
  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)

Abstract

本实用新型涉及一种阻尼二极管,它包括框架和NPN双极晶体管,在所述框架的一侧依次设置有阳极、中引脚和阴极,所述NPN双极晶体管安装于框架上,所述NPN双极晶体管的发射极和基极分别通过金属线连接至框架上的阳极上,使得发射极与基极短接,所述NPN双极晶体管的集电极以共晶方式连接至框架的阴极上,框架的中引脚悬空并剪切,使其短于阳极和阴极引脚。本实用新型有着储存时间长及平滑截止的特性。在RLC回路应用上,它的长储存时间提供足够的时间周期以回收损耗的能量;同时为了避免电压及电流重叠而造成损耗的发生,利用平滑截止的特性来缓冲电流。

Description

一种阻尼二极管
技术领域
本实用新型涉及一种应用于手机充电电路的阻尼二极管。属于集成电路或分立器件芯片制造技术领域。
背景技术
随着智能手机的快速发展,手机电池容量也在稳步提高,与之对应的充电速度要 求越来越高,充电功率及转化效率这两点是衡量“快充技术”的重要指标。图1为充电电路中 RLC回路示意图,图1圈出的二极管现在使用的是1N4005、1N4006等整流二极管,其转化效率 见表一:
负载 0 20% 50% 100%
输出电流(A) 0 0.398 0.9965 2.9946
输出电压(V) 5.051 5.049 5.047 5.046
输出功率(W) 0 2.009502 5.029336 10.06475
输入电流(mA) 28.952 50.13 95.54 172.99
输入功率(W) 0.268 2.868 6.767 13.482
输入电压(V) 230 230 230 230
转化效率(%) 0.00% 70.07% 74.32% 74.65%
表一
不足之处在于:电压波形有震荡,转化效率偏低。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是针对上述现有技术提供一种能改善电压波形、提高转化效率的二极管。
本实用新型解决上述问题所采用的技术方案为:一种阻尼二极管,它包括框架和NPN双极晶体管,在所述框架的一侧依次设置有阳极、中引脚和阴极,所述NPN双极晶体管安装于框架上,所述NPN双极晶体管的发射极和基极分别通过金属线连接至框架上的阳极上,使得发射极与基极短接,所述NPN双极晶体管的集电极以共晶方式连接至框架的阴极上,框架的中引脚悬空并剪切,使其短于阳极和阴极引脚。
优选地,所述NPN双极晶体管包括环掺杂区、基极掺杂区、发射极掺杂区和集电极掺杂区,所述环掺杂区开设于集电极掺杂区上,所述基极掺杂区位于环掺杂区(2.1)内部且两者紧密相连,所述发射极掺杂区位于基极掺杂区内部且两者紧密相连,通过在集电极掺杂区掺杂浓磷和淡磷并扩散形成集电极,通过在环掺杂区内掺杂浓硼并扩散形成GR环,结深达到15um左右,通过在基极掺杂区进行掺杂淡硼并扩散形成基极,结深达到5um左右,对发射极掺杂区进行掺杂浓磷并扩散形成发射极,结深达到2um左右。
与现有技术相比,本实用新型的优点在于:
本实用新型的阻尼二极管短路连接了NPN高频高压双极型晶体管的基极与发射极,相较普通的整流二极管,本发明的阻尼二极管有着储存时间长及平滑截止的特性。在RLC回路应用上,他的长储存时间提供足够的时间周期以回收损耗的能量;同时为了避免电压及电流重叠而造成损耗的发生,利用平滑截止的特性来缓冲电流。
附图说明
图1 为本实用新型的结构示意图。
图2为本实用新型中NPN双极晶体管的结构示意图。
图中:
框架1、NPN双极晶体管2、环掺杂区2.1、基极掺杂区2.2、发射极掺杂区2.3、集电极掺杂区2.4、阳极3、中引脚4、阴极5、金属线6。
具体实施方式
以下结合实施例对本实用新型作进一步详细描述。
参见图1、2,本实用新型涉及一种阻尼二极管,它包括框架1和NPN双极晶体管2,在所述框架1的一侧依次设置有阳极3、中引脚4和阴极5,所述NPN双极晶体管2安装于框架1上,包括环掺杂区2.1、基极掺杂区2.2、发射极掺杂区2.3和集电极掺杂区2.4,所述环掺杂区2.2开设于集电极掺杂区2.4上,所述基极掺杂区2.2位于环掺杂区2.1内部且两者紧密相连,所述发射极掺杂区2.3位于基极掺杂区2.2内部且两者紧密相连,通过在集电极掺杂区2.4掺杂浓磷和淡磷并扩散形成集电极,通过在环掺杂区2.1内掺杂浓硼并扩散形成GR环,结深达到15um左右,通过在基极掺杂区2.2进行掺杂淡硼并扩散形成基极,结深达到5um左右,对发射极掺杂区2.3进行掺杂浓磷并扩散形成发射极,结深达到2um左右,其“GR环”结深设计的较深,以提高击穿电压BVCBO典型值;同时基区结深设计的比较浅,基区宽度较小,可以得到较理想的高频性能。所述NPN双极晶体管2的发射极和基极分别通过金属线6(打线方式)连接至框架1上的阳极3上,使得发射极与基极短接,从而使整个二极管具有平滑截止的特性,可以避免电压和电流重叠造成的损耗,所述NPN双极晶体管2的集电极以共晶方式连接至框架1的阴极5上,框架1的中引脚5悬空并剪切,使其短于阳极和阴极的引脚。
采用上述阻尼二极管后的转化效率见表二:
负载 0 20% 50% 100%
输出电流(A) 0 0.398 0.9965 2.9946
输出电压(V) 5.049 5.049 5.048 5.048
输出功率(W) 0 2.009502 5.030332 10.06874
输入电流(mA) 28.923 49.614 94.26 170.53
输入功率(W) 0.262 2.811 6.621 13.254
输入电压(V) 230 230 230 230
转化效率(%) 0.00% 72.49% 75.98% 75.97%
表二
除上述实施例外,本实用新型还包括有其他实施方式,凡采用等同变换或者等效替换方式形成的技术方案,均应落入本实用新型权利要求的保护范围之内。

Claims (2)

1.一种阻尼二极管,其特征在于:它包括框架(1)和NPN双极晶体管(2),在所述框架(1)的一侧依次设置有阳极(3)、中引脚(4)和阴极(5),所述NPN双极晶体管(2)安装于框架(1)上,所述NPN双极晶体管(2)的发射极和基极分别通过金属线(6)连接至框架(1)上的阳极(3)上,使得发射极与基极短接,所述NPN双极晶体管(2)的集电极以共晶方式连接至框架(1)的阴极(5)上,框架(1)的中引脚(4)悬空并剪切,使其短于阳极和阴极引脚。
2.根据权利要求1所述的一种阻尼二极管,其特征在于:所述NPN双极晶体管(2)包括环掺杂区(2.1)、基极掺杂区(2.2)、发射极掺杂区(2.3)和集电极掺杂区(2.4),所述环掺杂区(2.1)开设于集电极掺杂区(2.4)上,所述基极掺杂区(2.2)位于环掺杂区(2.1)内部且两者紧密相连,所述发射极掺杂区(2.3)位于基极掺杂区(2.2)内部且两者紧密相连,通过在集电极掺杂区(2.4)掺杂浓磷和淡磷并扩散形成集电极,通过在环掺杂区(2.1)内掺杂浓硼并扩散形成GR环,结深达到15um左右,通过在基极掺杂区(2.2)进行掺杂淡硼并扩散形成基极,结深达到5um左右,对发射极掺杂区(2.3)进行掺杂浓磷并扩散形成发射极,结深达到2um左右。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106876339A (zh) * 2017-03-28 2017-06-20 江阴新顺微电子有限公司 一种阻尼二极管

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CP01 Change in the name or title of a patent holder
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Address after: 214434 Chengjiang East Road, Binjiang Development Zone, Jiangyin City, Wuxi City, Jiangsu Province

Patentee after: Jiangsu Xinshun Microelectronics Co.,Ltd.

Address before: 214434 Chengjiang East Road, Binjiang Development Zone, Jiangyin City, Wuxi City, Jiangsu Province

Patentee before: XINSUN Co.,Ltd.