CN1700099A - 具有动态光瞳填充的剪切干涉仪 - Google Patents
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Abstract
一种包括电磁辐射源的波前测量系统。把所述电磁辐射传送到物平面的照明系统。衍射图案的源在物平面内。投射光学系统把衍射图案投射到像平面，该投射光学系统包括引进横向剪切的机构(如剪切光栅)。检测器置于光学上与投射光学系统的光瞳共轭位置，并从像平面接收剪切波前之间干涉产生的瞬时条纹图案。该衍射图案动态地扫描投射光学系统的光瞳，并把从检测器得到的时间积分干涉图，用于测量整个光瞳上的波前像差。
Description
技术领域
本发明一般涉及光刻系统，更具体说，是涉及测量光刻系统中的波前参数。
背景技术
光刻技术是用于在基片表面建立特征的处理过程。该基片可以包括那些在制作平板显示器、电路板、各种集成电路、等等中使用的基片。这种应用中经常使用的基片，是半导体晶片。本领域熟练人员知道，本文的说明同样可用于其他类型的基片。
在光刻处理过程中，放在晶片台(WS)上的晶片，被光刻系统内的曝光系统投射在晶片表面的像曝光。曝光系统包括把像投射在晶片上的掩模版(亦称掩模)。
掩模版(reticle)通常安装在掩模版台(RS)上，一般置于晶片与光源之间。在光刻技术中，掩模版用作，例如把电路印刷在晶片上的光掩模。光刻的光通过掩模照射，然后又通过一系列使像缩小的光学透镜。之后把该小的像投射到晶片上。这个处理过程与照相机使光弯曲，在胶片上成像过程类似。光在光刻处理过程中，起主要作用。例如，在微处理器(亦称计算机芯片)的制作中，建立更强大微处理器的关键，在于光波长的大小。波长越短，在晶片上形成的晶体管越多。有许多晶体管的晶片，导致更强大、更快速的微处理器。
随着芯片制造商已经能使用更短的光波长，他们遇到的问题是，较短波长的光被计划用于会聚光的玻璃透镜吸收。由于较短波长的光被吸收，光不能到达硅晶片。结果是，在硅晶片上不能建立电路图。在试图克服这一问题的过程中，芯片制造商研发了一种称为远紫外光光刻技术(Extreme Ultraviolet Lithography，EUVL)。在该技术的处理过程中，可以用反射镜代替玻璃透镜。
测量波前不需要的微扰(常常称为波前像差)，是光刻应用中的永恒课题。这些波前像差源于各种物理原因，诸如光学元件(透镜或反射镜)因机械位移或形变产生的折射或反射性质的变化，或光学元件受热或光致压紧产生的光学性质变化。具体说，需要在晶片生产及曝光过程中，测量光刻设备中的波前质量，而不是在设备停机情况下进行测量，停机测量增加物主的费用、降低生产率、或引起某些其他类型的低效率。
发明内容
本发明针对一种有动态光瞳填充的扫描干涉仪，该干涉仪可以缓解有关技术中的一个或多个问题及缺点。
本发明的一个实施例，包括一种波前测量系统，该波前测量系统包括电磁辐射源。把电磁辐射传送到物平面的照明系统。产生衍射图案，并置于物平面内的物体。把物体的像投射在像平面的投射光学系统。从像平面接收条纹图案的检测器。把该衍射图案在投射光学系统的光瞳上扫描。
本发明的另一个实施例，包括一种有照明系统的波前测量系统，该照明系统把电磁辐射传送到物平面。在物平面中有电磁辐射波束的源。投射光学系统把波束会聚在像平面上。检测器从像平面接收波束的条纹图案。使该波束在投射光学系统的光瞳上扫描。
本发明的另一个实施例，包括一种测量波前的方法，该方法包括：在源上产生电磁辐射；把该电磁辐射传送到光学系统的物平面；在该物平面上产生衍射图案；使该衍射图案在光学系统的光瞳上扫描；在接收源的像的同时，使衍射图案扫描；和从该像确定波前参数。
本发明另外的特征及优点，将在下面的说明中阐述，且部分将从说明中明显看出，或可以通过本发明的实践学到。本发明的优点，将通过下面的说明和权利要求书，以及附图特别指出的结构实现并获得。
应当指出，前面的一般说明和下面的详细说明，都是示例性的和解释性的，并意在对本发明的权利要求作进一步的解释。
附图说明
本文包括的这些附图，是为了演示本发明的实施例，并与本说明书结合且构成说明书的一部分，这些附图表明本发明的实施例并与说明一起，用于解释本发明的原理。其中：
图1画出本发明示例性光刻系统的一部分。
图2和3表明使用干涉仪来产生剪切波前。
图4表明干涉条纹的一个例子，这些干涉条纹由于本发明的使用而出现在焦平面上。
图5以程式化的、示意性的方式画出光学曝光系统，表明本发明的基本原理。
图6画出在物平面有扩展的物体的干涉图中，衍射级的数值和变化。
图7表明用Ronchi光栅调制扩展物体的作用。
图8表明本发明可以使用的光学元件的另一种排列。
图9表明使用倾斜的反射Ronchi光栅的动态光瞳填充。
具体实施方式
现在详细参考本发明的实施例，这些实施例的例子画在附图中。
用物平面中对应场点发射的球面波波前像差，来表征投射光学系统(PO)与场有关的像差，是方便的。能够用各种干涉计量技术，测量该球面波的像差。在1999年1月J.Opt.Soc.Am.A，Vol.16，No.1，pp.131-140中，J.Braat和A.J.E.M.Janssen的论文Improved Ronchitest with Extended Source说明一种剪切干涉计量技术，这种技术基于物平面中扩展的非相干源，该物平面和与剪切光栅匹配的物平面光栅重叠，这里引用该论文，供参考。还有Naulleau等人的论文：StaticMicrofield Printing at the ALS with the ETS-2Set Optic，Proc.SPIE4688，64-71(2002)(
http：//goldherg.1bl.gov/papers/Naulleau SPIE 4688(2002).pdf)，这里引用该论文，供参考，该论文说明实施EUV的动态光瞳填充照明系统，以便在同步加速光源上印刷时，控制部分相干光，该同步加速光源的照明是相干的。
图1画出按照本发明的光刻系统100。系统100包括照明光源105、会聚透镜102、扩展物体103(位于物平面)、有光瞳105的投射光学系统104、像平面剪切光栅106、检测器透镜107、和CCD检测器108，按图示排列。这些元件还要在下面讨论。
光栅106包括透射区和不透明区。不透明区可以用吸收辐射(例如，在EUV光刻的情形，是对13.5nm的曝光波长，或在使用更长波长的光刻系统的情形，是光辐射)的材料构成，如镍、铬、或其他金属。
显然，虽然本发明可用于使用折射光学元件(如投射光学系统104和成像光学系统)的光刻系统，但必要时，本发明也可用于使用其他波长、以适当的透射/折射部件取代反射部件的系统。
光栅106还可以包括反射(不透明)区。这些反射区可以用吸收辐射(例如，对EUV的13.5nm曝光波长)的材料构成，如镍、铬、或其他金属。
选择光栅106的间距，以提供适当的剪切比，此时CCD检测器108在条纹平面(即在系统的焦平面或像平面)，并“看见”条纹图案(干涉图)或许多交叠的圆，下面还要进一步讨论。剪切比是两个圆交叠的测量，而零的剪切比表示完全交叠。还应当指出，理想的情形是，CCD检测器108只“看见”零级和+1及-1级衍射像，并消除+2及-2级衍射像。此外，扩展物体103的构成要有助于消除不需要的级。但重要的是，无论使用的是何种透射和反射面积的图案，它应是规则的图案。
最好还选择源模块光栅203的间距，使之与剪切光栅的间距匹配，以便作为剪切的结果，使光瞳中的光重新分配给那些将相互交叠的位置。
图2和3画出横向剪切干涉仪210中的参考波前和剪切。横向剪切干涉仪210使波前与自身干涉，或者换句话说，它使波前的相移复制本与自身干涉。如在图2和3所示，位于像平面的光栅106，充当剪切干涉仪，并产生有波前211A的透射波204及有波前211B的衍射波205。因此，横向剪切干涉仪210建立一个或多个表面上的源，这些表面上的源的波前211A、311B发生干涉，产生条纹212。
图4画出从CCD检测器108看到的波前条纹(图2中的212A、212B)。如图4所示，右上方的照片中，表示单个物体分隔缝的条纹，该缝位于非相干的、漫射源的前面，该非相干漫射源以填充最大的数值孔径，并使任何波前的不均匀性平滑化。右下方的图表示画出的条纹可见度函数401，有零级图案502和第一级衍射图案403。光栅106上50％的占空比使衍射图案所有偶数级条纹不可见。在图4的左下方，画出剪切比0.5的像空间共享光栅(image space sharing grating)106。
实际上，源点(101)被“扩展物体103”代替，以增加光的通过量。扩展物体103的尺寸，由可用的照明功率和用于测量干涉图的检测器装置灵敏度的支配。依赖于投射光学系统104的物方数值孔径(NA)和光通过量的要求，情况常常是，扩展物体103的衍射图案的角宽度，比PO104的物方NA小。在这种情况下，来自该物体的大部分光，最后聚集在PO104光瞳105的小面积内。正如最好的完全像差测量，即使对投射光学系统104的最高光瞳填充，光瞳105仍然是没有被完全填充的。在这种情形下，对出现在光瞳105较小照明面积外的PO104的像差，波前测量方法将有非常低的灵敏度。因此，PO104的光瞳105，最好或多或少不均匀地被填充。
测量波前像差的问题，必须在两个竞争的利益之间平衡。是以光填充整个光瞳105(代价是非常低的强度)，或是要有足够的强度，但只能在光瞳105的一小部分。
下面的方法可以确保在剪切干涉仪中有需要的光瞳填充：
(1)在扩展物体103内部，引入与剪切光栅(如Ronchi光栅)匹配的透射图案，并对扩展物体103提供充分非相干的照明[见上述的Baselmans]；和
(2)把扩展的非相干源放在物平面内(通过在物平面中使用临界照明或漫射体)，并把与剪切光栅匹配的Ronchi光栅重叠在物平面上[见上述的Bratt等]。
这些方法有若干问题：
(1)由于有效源的剩余相干性(这种情况适合方法1和2)，或由于物平面漫射体元件的有限大小(这种情况适合方法2)，测量干涉图出现散斑干扰。散斑干扰对测量的干涉图增加高频强度的起伏，导致波前测量的误差；
(2)当测量使波前测量处理过程复杂化时，需要切换到特定的照明模式(这种情况适合方法1和2)；和
(3)光的相当大部分从扩展物体103衍射，离开光瞳105，从而不参与剪切干涉图的形成。
本发明因而适用于如下情况：为确保要求的光学通过量，需要扩展物体103的大小是，使衍射图案的特征宽度远小于PO104的物方NA，即λ/扩展物体大小＜＜物方NA。
借助扩展物体103，可以获得动态的光瞳填充。在用干涉图测量的过程中，可以动态地改变扩展物体103，以便使该物体的衍射图案扫描整个入射光瞳105。测量剪切干涉图的CCD检测器108，对测量过程中出现的瞬间干涉图进行积分(或求和)。
扩展物体103的动态改变，可以用反射元件，例如倾斜的反射镜，或用有变化斜率的和/或其他特征(如抛物面或球面透镜)的折射物体，对着孔径移动来实施。
上述反射和透射的扩展物体使用的动态光相位变化，是借助在扩展物体103内、或在整个扩展物体103上线性地改变复反射率/透射率产生的。但是，也可以用任意(非线性)相位变化作用来动态地以光填充光瞳105。本领域熟练人员周知的许多物理方案，可用于实施这种任意的非线性相位变化。举例说，这种任意非线性相位变化的实施，可以使用扩展的可移动物体，该物体的结构在物体内或在整个物体上变化，和/或动态地形变，和/或别的动态变化(如使用空间光调制器)。其他动态地引入相位变化的可能实施方法，包括在透射或反射的柔性基片上形成的漫射器图案，该柔性基片能够在物理上形变，该柔性基片包括塑料、压电材料、和由致动器引起应力变化的应力双折射材料、等等。
除非利用的是非常小的剪切，在上述方法的任一个方法中，扩展物体103必须有透射率图案(与剪切光栅匹配的物平面Ronchi光栅)重叠在其上，用于在光瞳105中给出光的附加的重新分配，如在上面列举的Bratt等人和Baselmans所述。
实施的动态改变，为的是使扩展物体内的透射率函数，随时间作相位的线性变化，确保扩展物体的衍射图案在测量过程中，在光瞳105中移动，动态地扫过光瞳105。
干涉图的测量是用CCD检测器108实施的，该CCD检测器108记录在CCD检测器108上的能量分布。该CCD检测器108在测量过程中，能在检测器108平面内的每一点，对随时间变化的强度进行积分，收集足够数量的光子。目前波前传感器使用的CCD阵列(如CCD检测器108)，满足这一要求。
如上所述，扩展物体103的动态改变，可以通过任何数量的机构获得。例如，可以用反射的扩展物体103。这种反射物体的例子包括：
(1)可以用倾斜的平坦反射镜与孔径组合，或大的倾斜物体只有一小的平坦部分是反射的。相对大的倾斜反射镜比微反射镜更易控制(如倾斜和旋转)。在本例中的扩展物体103与图9中所示倾斜平坦反射镜叠合。
(2)倾斜的微反射镜，例如空间光调制器(SLM)阵列的反射镜，可以用作整个扩展物体103(见图9)。为了扫过光瞳105，微反射镜必须能绕物平面内两个轴倾斜。如果微反射镜只能绕一个轴倾斜，则它应能绕垂直于物平面的轴旋转，从而能实现对2D光瞳105的圆锥扫描。实际上，这种情形是少见的。
(3)具有变化斜率反射表面的反射物体，例如在小孔径后面作线性运动的抛物面或球面反射镜，能够用作整个扩展物体103.
应当指出，在用反射元件使衍射图案在光瞳105上扫描的情形中，这些反射元件不一定位于物平面。例如，可以把平坦的倾斜反射镜放在物平面与PO104的光瞳105之间(还起折叠系统光轴的作用)。
扩展物体103也可以是透射的。在这种情形中，动态光瞳的填充，可以通过移动折射元件获得，该折射元件在对着小孔径的表面之一上有变化的斜率(如抛物面或球面透镜)，如图8所示。也可以用透射光栅，该光栅上各个区域有不同的光栅间距，且在光栅的平面内使光栅作线性运动(即垂直于电磁辐射的传播方向)，以便改变波束的方向(即，使波束在光瞳105上扫描)。同样重要的是，应当明白，随着使用的扩展物体103的具体类型，要保持恰当聚焦在像平面中，光瞳105的大小及扫描方法可能成为问题，因为衍射图案是在光瞳105上扫描的。但是，一般相信，虽然最好是保持聚焦，但有某些离焦是可以接受的。
除非利用的是非常小的剪切，在上述实施方案的任一个中，扩展物体103必须有透射率图案(与剪切光栅匹配的物平面Ronchi光栅)重叠在其上，用于在光瞳105中给出光的附加的重新分配，如Bratt等人和Baselmans所述。此外，上述物体的任一个最好能在两个横向维度中移动，以便在剪切干涉仪测量中实现优选的条纹相移读出。
CCD检测器108测量的最后剪切干涉图，是对聚集在光瞳105一小部分内大多数光得到的瞬间剪切干涉图，进行时间积分的结果。瞬间剪切干涉图只在检测器平面中光瞳像相对小的一部分内，才有高反差干涉条纹，这些高反差干涉条纹是由各干涉衍射级形成的。它们被CCD检测器108测量的时间积分，在整个光瞳105上有非常确定的干涉条纹，这些条纹可以用于(通常与相位跳跃结合)计算波前像差。
这是由于上述动态光瞳填充，事实上等价于使用与卷入动态运动的实际源对应的静态源(源扫描)。因此，不论实际源照明的相干度如何，有效源提供完全的非相干照明。
图5画出本发明的基本原理，以程式化的、示意性的方式表明光学曝光系统。该图涉及在物平面中使用针孔，以便产生填充光瞳105的球面波，且它的像差由剪切干涉仪测量。如图5所示，从图的上部到下部，光从光源通过会聚透镜102，然后通过有针孔的物平面。在投射光学系统104的光瞳105上，场的振幅以曲线图A表示，图上光瞳105的坐标以“f”给出。然后，光聚焦在像平面605，然后通过任选的检测器投射光学系统107，并被检测器平面中的检测器108检测。曲线图B画出剪切光栅形成的-1和+1衍射级的振幅，剪切光栅位于像平面605内。曲线图C画出从剪切光栅衍射级得到的干涉图。注意图中可见的像的变化，它是由于得到的干涉图中存在的像差(相位变化)引起的。
图6画出干涉图中衍射级的数值和变化，此时的情况是，放在物平面的扩展物体103只对光瞳105的一小部分实施填充，导致检测器平面中观察到与扩展物体103剪切衍射图案对应的非交叠峰内非常低(可忽略)反差的干涉图条纹。如图5中所示，图6的曲线图A画出投射光学系统104光瞳105中场的振幅，“f”为光瞳坐标。曲线图B画出当扩展物体103在物平面内时，剪切光栅106形成的0、-1、和+1衍射级的振幅。曲线图C画出从剪切光栅衍射级得到的干涉图。因为衍射级没有完全交叠，得到的干涉图只略微依赖于波前像差。
图7画出用Ronchi光栅调制扩展物体103的结果，该Ronchi光栅使光瞳105中的光，重新分配到那些作为剪切结果而相互交叠的位置。与图5和6比较，曲线图A画出投射光学系统104光瞳105中场的振幅。曲线图B画出剪切光栅106形成的0、-1、和+1衍射级的振幅，和曲线图C画出从剪切光栅衍射级及匹配的Ronchi光栅得到的干涉图。作为0、-1、和+1衍射级之间交叠的结果，在交叠区内(各峰内)的干涉图强烈依赖于波前像差。
图8画出本发明可以使用的光学元件的另一种排列，即用运动的折射物体进行动态的光瞳填充。图8画出的排列，主要可用于透射的扩展物体103。例如，如图8所示，可以用透射的Ronchi光栅801，与有变化斜率的折射物体一起对着物平面运动。图8右下方的曲线图画出这种排列得到的干涉图。需要指出，如上所述，折射物体例如可以是对着一小孔径运动的球面或抛物面透镜。
图9是使用倾斜的反射Ronchi光栅901的动态光瞳填充例子，同时画出波束图案。如图9所示，波束分束器902也是必需的。反射的扩展物体103(在本例中是Ronchi光栅901)放在倾斜的反射镜上。右下方的曲线图画出得到的干涉图图案。大的反射镜可以与孔径组合使用，或可以只有一小的、平坦的部分，或可以是大的倾斜物体中小的平坦部分，这些小的部分是反射的。相对大的反射镜，或大的物体，比微反射镜更易处理(换句话说，是倾斜和旋转)。本例中的扩展物体103应与大的倾斜反射镜叠合，如图9所示。
还有，可以用倾斜的微反射镜(例如，空间光调制器阵列中的反射镜)作为整个扩展物体103。
本发明与常规系统相比，有许多优点。例如，动态光瞳填充，消除了必需在物平面中设置漫射体(如在EUV波前传感器中)，因此消除或降低散斑引起的波前测量误差。
动态光瞳填充，还在波前测量过程中，消除了必需切换到特定的照明模式。在曝光过程中可以使用同一照明模式进行波前测量。(但是，仍需要把有倾斜反射镜在其上的掩模版台恰当定位。)
动态光瞳填充，还能对PO光瞳105实施“紧密”填充，从而显著降低光损耗，这种损耗是用其他方法常有的。如有必要或需要，动态光瞳填充还能只对PO光瞳感兴趣的部分进行抽样。
本领域熟练人员显而易见，可以对本发明的形式及细节作各种变化，而不违背本发明的精神和范围，本发明的精神和范围由后面的权利要求书规定。因此，本发明的广度和范围不受上述任何示例性实施例的限制，而只能按照下面的的权利要求书及其等价叙述定义。
Claims (34)
1.一种波前测量系统，包括：
电磁辐射源；
把所述电磁辐射引向物平面的照明系统；
在物平面中产生衍射图案的物体；
把所述物体的像投射在像平面上的投射光学系统；和
从所述像平面接收条纹图案的检测器，
其中衍射图案被扫描越过所述投射光学系统的光瞳。
2.按照权利要求1的系统，其中的物体包括可倾斜的反射镜，用于使衍射图案扫描越过光瞳。
3.按照权利要求1的系统，其中的物体包括有可变间距的衍射光栅，用于使衍射图案扫描越过光瞳。
4.按照权利要求1的系统，其中的物体包括具有可变楔角的折射棱镜，用于使衍射图案扫描越过光瞳。
5.按照权利要求1的系统，其中的物体包括空间光调制器，用于使衍射图案扫描越过光瞳。
6.按照权利要求1的系统，其中的物体产生使衍射图案扫描越过光瞳的从一侧到另一侧的非线性相位变化。
7.按照权利要求1的系统，其中的物体包含使衍射图案扫描越过光瞳的应力双折射材料。
8.按照权利要求1的系统，还包括反射的光学部件，用于使衍射图案扫描越过光瞳。
9.按照权利要求1的系统，还包括折射光学部件，用于使衍射图案扫描越过光瞳。
10.按照权利要求1的系统，其中的物体包括具有可变表面斜率的可移动反射镜，用于使衍射图案扫描越过光瞳。
11.按照权利要求1的系统，其中的衍射图案，动态地扫描所述投射光学系统的光瞳。
12.按照权利要求1的系统，其中的检测器，置于光学上与光瞳共轭的平面内。
13.按照权利要求1的系统，还包括在像平面中产生条纹图案的光栅。
14.一种波前测量系统，包括：
把电磁辐射传送到物平面的照明系统；
在物平面中产生电磁辐射波束的物体；
把该波束投射到像平面的投射光学系统；和
从像平面接收波束的条纹图案的检测器，
其中波束被扫描越过投射光学系统的光瞳。
15.按照权利要求14的系统，其中的物体包括可倾斜的反射镜，用于使波束扫描越过光瞳。
16.按照权利要求14的系统，其中的物体包括有可变间距的衍射光栅，用于使波束扫描越过光瞳。
17.按照权利要求14的系统，其中的物体包括具有可变楔角的折射棱镜，用于使波束扫描越过光瞳。
18.按照权利要求14的系统，其中的物体包括空间光调制器，用于使波束扫描越过光瞳。
19.按照权利要求14的系统，其中的衍射图案源产生从一侧到另一侧的非线性相位变化，以使衍射图案扫描越过光瞳。
20.按照权利要求14的系统，其中的衍射图案源包括应力双折射材料，用于使波束扫描越过光瞳。
21.按照权利要求14的系统，还包括反射光学部件，用于使波束扫描越过光瞳。
22.按照权利要求14的系统，还包括折射光学部件，用于使波束扫描越过光瞳。
23.按照权利要求14的系统，其中的物体包括具有可变表面斜率的可移动反射镜，用于使波束扫描越过光瞳。
24.按照权利要求14的系统，其中的检测器，置于光学上与光瞳共轭的平面内。
25.按照权利要求14的系统，还包括在像平面中产生条纹图案的光栅。
26.一种测量光学系统的波前的方法，包括：
在辐射源上产生电磁辐射；
把所述电磁辐射传送到所述光学系统的物平面；
在所述物平面产生衍射图案；
扫描衍射图案越过所述光学系统的光瞳；
在扫描该衍射图案的同时，接收所述辐射源的像；和
从所述像确定波前参数。
27.按照权利要求26的方法，其中的扫描步骤包括使反射镜倾斜，引导该衍射图案越过光瞳。
28.按照权利要求26的方法，其中的扫描步骤包括移动有可变间距的衍射光栅，引导该衍射图案越过光瞳。
29.按照权利要求26的方法，其中的扫描步骤包括有可变楔角的折射棱镜，引导该衍射图案越过光瞳。
30.按照权利要求26的方法，其中的扫描步骤包括调整空间光调制器，引导该衍射图案越过光瞳。
31.按照权利要求26的方法，其中的扫描步骤使用反射光学部件，使衍射图案扫描越过光瞳。
32.按照权利要求26的方法，其中的扫描步骤使用折射光学部件，使衍射图案扫描越过光瞳。
33.一种测量投射光学系统的波前的方法，包括：
(1)把电磁辐射传送到投射光学系统的物平面，以便产生在该投射光学系统上被引导的波束；
(2)把检测器定位在投射光学系统像平面的下面；
(3)在使该波束扫描越过光学系统的光瞳的同时，在检测器上接收波束的条纹图案；和
(4)从条纹图案计算波前的像差。
34.一种波前测量系统，包括：
产生电磁辐射的装置；
把所述电磁辐射传送到投射光学系统的物平面的装置；
在物平面中产生衍射图案的装置；
该投射光学系统把所述衍射图案的像投射到像平面上；和
从所述像平面检测条纹图案的装置，
使该衍射图案扫描越过所述投射光学系统的光瞳的装置。
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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Open date: 20051123 |