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CN120346128A - 一种高遮瑕滋润气垫粉底液及其制备方法 - Google Patents

一种高遮瑕滋润气垫粉底液及其制备方法

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Publication number
CN120346128A
CN120346128A CN202510566749.0A CN202510566749A CN120346128A CN 120346128 A CN120346128 A CN 120346128A CN 202510566749 A CN202510566749 A CN 202510566749A CN 120346128 A CN120346128 A CN 120346128A
Authority
CN
China
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phase
film forming
forming agent
concealer
moisturizing
Prior art date
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Pending
Application number
CN202510566749.0A
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English (en)
Inventor
谢旭
刘晓慧
杨菊
桑永帅
任皓晨
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hangzhou Meixi Aesthetics Biotechnology Co ltd
Shanghai Meixi Aesthetic Biomedical Technology Co ltd
Shanghai Mianhuatang Biotechnology Co ltd
Original Assignee
Hangzhou Meixi Aesthetics Biotechnology Co ltd
Shanghai Meixi Aesthetic Biomedical Technology Co ltd
Shanghai Mianhuatang Biotechnology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hangzhou Meixi Aesthetics Biotechnology Co ltd, Shanghai Meixi Aesthetic Biomedical Technology Co ltd, Shanghai Mianhuatang Biotechnology Co ltd filed Critical Hangzhou Meixi Aesthetics Biotechnology Co ltd
Priority to CN202510566749.0A priority Critical patent/CN120346128A/zh
Publication of CN120346128A publication Critical patent/CN120346128A/zh
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

本申请涉及化妆品的技术领域,尤其是涉及一种高遮瑕滋润气垫粉底液及其制备方法,所述高遮瑕滋润气垫粉底液包括A相、B相、C相和D相,A相各原料的重量百分含量如下:乳化剂3‑4.8%、环五聚二甲基硅氧烷/环己聚二甲基硅氧烷15‑25%、硬膜成膜剂3‑9%、软膜成膜剂0.5‑4%、湿膜成膜剂1‑6%、肤感改性剂1‑3%、氢化聚癸烯2‑5%、羟基硬脂酸乙基己酯2‑4%;C相各原料的重量百分含量如下:Ti‑18AS 0‑5%、Ti‑02ITD 0‑15%、YP‑75ITD 1‑1.5%、RP‑29ITD0.1‑0.3%、BP‑50ITD 0.02‑0.07%;其具有兼顾气垫粉底液的遮瑕效果和滋润度的优点。

Description

一种高遮瑕滋润气垫粉底液及其制备方法
技术领域
本申请涉及化妆品的技术领域,尤其是涉及一种高遮瑕滋润气垫粉底液及其制备方法。
背景技术
随着生活水平的提高,越来越多的人习惯化妆,对底妆类产品的需求标准也越来越高。其中,气垫是粉底类化妆品,由于其产品设计便于携带,可以随时随地快速上妆、补妆,市场需求越来越高。与传统的粉底液、BB霜相比,气垫只需用内配的粉扑沾取适量粉霜,在脸部按压均匀即可。气垫比传统的粉底液能够形成更为轻薄的遮瑕底妆,能够使皮肤更好地呼吸,减少对皮肤的影响。但也由于其轻薄,其遮瑕效果往往不足。为了提高遮瑕效果,气垫粉底液中会添加较多的着色剂,如二氧化钛、硅石等,但着色剂添加较多容易造成拔干、卡粉、浮粉、成膜性差,持妆时间短的问题。
发明内容
为了兼顾气垫粉底液的遮瑕效果和滋润度,本申请提供一种高遮瑕滋润气垫粉底液及其制备方法。
第一方面,本申请提供一种高遮瑕滋润气垫粉底液,采用如下技术方案:
一种高遮瑕滋润气垫粉底液,其包括如下重量百分含量的原料:A相:乳化剂3-4.8%、环五聚二甲基硅氧烷/环己聚二甲基硅氧烷15-25%、硬膜成膜剂3-9%、软膜成膜剂0.5-4%、湿膜成膜剂1-6%、肤感改性剂1-3%、氢化聚癸烯2-5%、羟基硬脂酸乙基己酯2-4%;
B相:增稠剂0.1-0.5%、肤感改性剂1-3%;
C相:Ti-18AS 0-5%、Ti-02ITD 0-15%、YP-75ITD 1-1.5%、RP-29ITD0.1-0.3%、BP-50ITD 0.02-0.07%;
D相:保湿剂5-10%、防腐剂0.7-1.1%、稳定剂0.7-1.1%,余量为溶剂。
通过采用上述技术方案,本申请通过将成膜剂进行复配,选择硬膜成膜剂、软膜成膜剂和湿膜成膜剂共同添加,硬膜的干爽持妆抗蹭性好,但其具有一定的紧绷感;软膜好补妆且可以缓解硬膜的紧绷感,但其比较黏腻;湿膜不抗蹭,但其滋润度比较好,通过对其添加量进行限定,使得本申请的气垫粉底液的成膜性优异,并且成膜具备保湿不拔干的舒适感和持妆久的优点;并且Ti-18AS的遮瑕度好;Ti-02ITD的显色度好,细腻度、滋润度好,两者结合使用,可以兼顾遮瑕和细腻滋润度。
作为优选:所述硬膜成膜剂为三甲基硅烷氧基硅酸酯;所述软膜成膜剂为聚甲基倍半硅氧烷、异十二烷/丙烯酸(酯)类/聚三甲基硅氧烷甲基丙烯酸酯共聚物、丙烯酸(酯)类/聚二甲基硅氧烷共聚物等中的一种或多种;所述湿膜成膜剂为聚丙基倍半硅氧烷、聚苯基倍半硅氧烷、氢化松脂酸甲酯等中的一种或多种。
通过采用上述技术方案,各成膜剂的原料在此范围内选择均可达到与本申请实施例相似的技术效果,实施例中并未一一探究,但均在本申请的保护范围内。
作为优选:所述Ti-18AS的重量百分含量为4%,所述Ti-02ITD的重量百分含量为13%。
通过采用上述技术方案,Ti-18AS的遮瑕度好;Ti-02ITD的显色度好,细腻度、滋润度好;两者结合使用,可以兼顾遮瑕和细腻滋润度。
作为优选:所述D相中还包括重量百分含量为0.5-0.9%的聚乙烯吡咯烷酮。
通过采用上述技术方案,通过添加聚乙烯吡咯烷酮,利用其优良的溶解性、生物相容性、成膜性,可以使气垫粉底液的成膜性更好,贴肤性更强,并且能够与其他乳化剂相结合,提高乳化性能,使气垫粉底液中水相和有机相的相容性更强,整体性更强。
作为优选:所述聚乙烯吡咯烷酮的型号为PVP K12和PVP K15中的一种或两种。
通过采用上述技术方案,聚乙烯吡咯烷酮的分子量过大,会增加气垫粉底液的黏腻感,容易造成厚重和闷的感觉,降低气垫的温和性和清透性。
作为优选:所述溶剂为水、花水和纯露中的一种或多种。
作为优选:所述增稠剂为二甲基甲硅烷基化硅石、二硬脂二甲铵锂蒙脱石中的一种或两种。
作为优选:所述肤感改性剂为聚二甲基硅氧烷/聚二甲基硅氧烷交联聚合物、硫酸钡、甲基丙烯酸甲酯交联聚合物、硅石、硅弹性体的一种或多种。
通过采用上述技术方案,肤感改性剂在此范围内选择,能够调节气垫粉底液的控油保湿效果,提高气垫的使用舒适感。
第二方面,本申请提供一种高遮瑕滋润气垫粉底液的制备方法,采用如下技术方案:一种高遮瑕滋润气垫粉底液的制备方法,其包括如下步骤:
S1、取部分环五聚二甲基硅氧烷/环己聚二甲基硅氧烷和硬膜成膜剂混合均匀,制得成膜剂混合液I;
S2、将成膜剂混合液I、软膜成膜剂、湿膜成膜剂和羟基硬脂酸乙基己酯混合均匀,制得成膜剂混合液II;
S3、将C相各原料通过高速混粉机混合均匀,制得混合粉末;然后将混合粉末与成膜剂混合液II混合均匀,用三辊研磨机研磨,制得色浆混合物;
S4、将A相中剩余原料混合,用乳化机均质搅拌均匀,制得A相;
S5、将B相各原料加入A相中,继续用乳化机均质搅拌均匀,然后加入色浆混合物,继续用乳化机均质搅拌均匀,制得A+B+C相;
S6、将D相各原料预先混合搅拌均匀,制得D相,然后将其慢慢加入A+B+C相中,用乳化机均质搅拌均匀,得高遮瑕滋润气垫粉底液。
通过采用上述技术方案,通过将成膜剂、部分润湿剂和着色剂进行研磨,可以使成膜剂和润湿剂将着色剂进行包覆,一方面使着色剂与体系的相容性好,分散更均匀,提高其遮瑕度;另一方面,使气垫粉底液在成膜的整体性更强,不易出现卡粉和浮粉现象,具有更高的持妆性;并且润湿剂的共同研磨,也使着色剂的拔干性能大大降低,提高了气垫粉底液的滋润度。
综上所述,本申请包括以下至少一种有益技术效果:
1、本申请通过将成膜剂进行复配,选择硬膜成膜剂、软膜成膜剂和湿膜成膜剂共同添加,硬膜的干爽持妆抗蹭性好,但其具有一定的紧绷感;软膜好补妆且可以缓解硬膜的紧绷感,但其比较黏腻;湿膜不抗蹭,但其滋润度比较好,通过对其添加量进行限定,使得本申请的气垫粉底液的成膜性优异,并且成膜具备保湿不拔干的舒适感和持妆久的优点;并且Ti-18AS的遮瑕度好;Ti-02ITD的显色度好,细腻度、滋润度好,两者结合使用,可以兼顾遮瑕和细腻滋润度。
2、通过将成膜剂、部分润湿剂和着色剂进行研磨,可以使成膜剂和润湿剂将着色剂进行包覆,一方面使着色剂与体系的相容性好,分散更均匀,提高其遮瑕度;另一方面,使气垫粉底液在成膜的整体性更强,不易出现卡粉和浮粉现象,具有更高的持妆性;并且润湿剂的共同研磨,也使着色剂的拔干性能大大降低,提高了气垫粉底液的滋润度。
3、本申请制备的气垫粉底液的保湿性能表现优异,同时其持妆效果和遮瑕效果均表现良好;说明本申请的气垫粉底液能够同时兼顾滋润性和遮瑕效果。
附图说明
图1为实施例1和对比例1的耐刮蹭图,左侧对应实施例1,右侧对应对比例1;
图2为实施例1(左)和对比例1(右)的抗皮脂图;
图3为实施例1(上)和对比例1(下)的遮瑕度图。
具体实施方式
以下结合具体内容对本申请作进一步详细说明。
原料
本申请实施例中所用的原料均通过普通市售购得其中,甲基丙烯酸甲酯交联聚合物、着色剂均购自上海蔻沣生物科技有限公司;异十二烷/丙烯酸(酯)类/聚三甲基硅氧烷甲基丙烯酸酯共聚物的牌号为FA4012、聚苯基倍半硅氧烷的牌号为1686、聚二甲基硅氧烷/聚二甲基硅氧烷交联聚合物的牌号为9014,均购自Dow Inc.;山梨坦倍半油酸酯的牌号为Span 83,羟基硬脂酸乙基己酯的牌号为OHS,均购自Croda plc;月桂基PEG-9聚二甲基硅氧乙基聚二甲基硅氧烷的牌号为KF-6038,购自信越有机硅国际贸易(上海)有限公司;三甲基硅烷氧基硅酸酯的牌号为TMS 803;二硬脂二甲铵锂蒙脱石的牌号为Bentone 38VCG,购自海名斯(上海)新材料有限公司。
实施例
实施例1
一种高遮瑕滋润气垫粉底液,其各原料及各原料用量如表1所示,其制备方法如下:
S1、取4.5wt%的环五聚二甲基硅氧烷/环己聚二甲基硅氧烷和三甲基硅烷氧基硅酸酯混合均匀,制得成膜剂混合液I;
S2、将成膜剂混合液I、异十二烷/丙烯酸(酯)类/聚三甲基硅氧烷甲基丙烯酸酯共聚物、聚苯基倍半硅氧烷和羟基硬脂酸乙基己酯混合均匀,制得成膜剂混合液II;
S3、将C相各原料通过高速混粉机混合均匀,制得混合粉末;然后将混合粉末与成膜剂混合液II混合均匀,用三辊研磨机研磨3遍,制得色浆混合物;
S4、将A相中剩余原料混合,用乳化机均质搅拌均匀,制得A相;
S5、将B相各原料加入A相中,继续用乳化机均质搅拌均匀,然后加入色浆混合物,继续用乳化机均质搅拌均匀,制得A+B+C相;
S6、将D相各原料预先混合搅拌均匀,制得D相,然后将其慢慢加入A+B+C相中,用乳化机均质搅拌均匀,得高遮瑕滋润气垫粉底液。
表1实施例1的各原料及各原料用量(kg)
实施例2
一种高遮瑕滋润气垫粉底液,与实施例1的不同之处在于,其C相中,将Ti-18AS替换为等质量的Ti-02ITD,其余步骤与实施例1均相同。
实施例3
一种高遮瑕滋润气垫粉底液,与实施例1的不同之处在于,其C相中,将Ti-02ITD替换为等质量的Ti-18AS,其余步骤与实施例1均相同。
实施例4
一种高遮瑕滋润气垫粉底液,与实施例1的不同之处在于,其D相中还含有0.7kg的PVP,型号为PVP K12,其余步骤与实施例1均相同。
实施例5
一种高遮瑕滋润气垫粉底液,与实施例1的不同之处在于,其D相中还含有0.7kg的PVP,型号为PVP K15,其余步骤与实施例1均相同。
对比例
对比例1
一种高遮瑕滋润气垫粉底液,与实施例1的不同之处在于,其A相原料中,将三甲基硅烷氧基硅酸酯替换为等质量的质量比为3:1的异十二烷/丙烯酸(酯)类/聚三甲基硅氧烷甲基丙烯酸酯共聚物和聚苯基倍半硅氧烷的混合物,其余步骤与实施例1均相同。
对比例2
一种高遮瑕滋润气垫粉底液,与实施例1的不同之处在于,其A相原料中,将异十二烷/丙烯酸(酯)类/聚三甲基硅氧烷甲基丙烯酸酯共聚物替换为等质量的质量比为4.5:2的三甲基硅烷氧基硅酸酯和聚苯基倍半硅氧烷的混合物,其余步骤与实施例1均相同。
对比例3
一种高遮瑕滋润气垫粉底液,与实施例1的不同之处在于,其A相原料中,将聚苯基倍半硅氧烷替换为等质量的质量比为4.5:6的三甲基硅烷氧基硅酸酯和异十二烷/丙烯酸(酯)类/聚三甲基硅氧烷甲基丙烯酸酯共聚物的混合物,其余步骤与实施例1均相同。
对比例4
一种高遮瑕滋润气垫粉底液,与实施例1的不同之处在于,其制备方法如下:
S1、将A相中各原料混合,用乳化机均质搅拌均匀,制得A相;
S2、将B相各原料加入A相中,继续用乳化机均质搅拌均匀,制得A+B相;
S3、将C相中各原料用高速混粉机混合均匀,得到C相,将C相加入A+B相中,用乳化机均质搅拌均匀,制得A+B+C相;
S4、将D相各原料预先混合搅拌均匀,制得D相,然后将其慢慢加入A+B+C相中,用乳化机均质搅拌均匀,得高遮瑕滋润气垫粉底液。
性能检测试验
检测方法/试验方法
按照实施例1-5和对比例1-4的制备方法分别制备气垫粉底液,然后按照如下检测方法进行检测,其检测结果如表2和表3所示。
微生物检测和理化检测:按照《化妆品安全技术规范》(2015年版)中的检测方法进行检测;本申请实施例1-7和对比例1-4的气垫均符合要求;
保湿性能检测:招募到志愿者45人,随机分为9组,分别对应实施例1-5和对比例1-4的气垫粉底液制备的气垫,基础护肤后,沾取适量样品用粉扑均匀点涂于面部及颈部,沿肌肤纹理轻轻向外延展均匀,然后分别对其使用前、使用后1h、使用后4h和实用后8h的皮肤含水量进行检测,采用皮肤水份测试仪Corneometer CM825进行检测,然后均取其平均值;妆容持久度:招募到志愿者30人,在基础护肤后,分别应用适量实施例1-5和对比例1-4的气垫均匀涂于面部及颈部,沿肌肤纹理轻柔地向外均匀涂抹,每名志愿者均分区域同时涂抹各样品,每0.5小时采用高强数码拍照,直至脸上浮粉、卡粉,然后记录持妆时间,取平均值;其直观度可以参考图1和图2;其中,图1为样品上放置色牢度摩擦测试布,刮棒在测试布上刮蹭,取下测试布观察样品残留情况。通过反复摩擦、刮蹭100次后,样品残留情况判断(残留越多,越抗刮蹭),图1中可以看出,本申请的气垫粉底液抗蹭效果较好。图2为在样品表面滴一滴人工皮脂,脱落情况的图,脱落较少的具有更好的抗皮脂性能,图2左侧为实施例1的气垫粉底液,图2右侧为对比例4的粉底液,可以看出,实施例1的气垫粉底液的抗皮脂性能较好,持妆性更优。
遮瑕效果:招募到志愿者50人,面部均有痘印或斑点,分别使用实施例1-5和对比例1-4的气垫粉底液制备的气垫,分别使用一周,然后对其进行评价,其中,1分为非常不满意,2分为不满意,3分为一般,4分为满意,5分为非常满意,然后统计其4分以上的人数所占的比例;其直观度可参考图3。
表2实施例1-5和对比例1-4的保湿和持妆检测结果
表3实施例1、4、5和对比例1-4的遮瑕检测结果(%)
贴肤性 遮瑕度 持妆性 清透性 温和性
实施例1 98 94 94 94 96
实施例4 100 96 94 92 96
实施例5 100 96 94 90 94
对比例1 92 92 86 82 80
对比例2 88 90 88 86 82
对比例3 88 90 86 86 84
对比例4 80 70 70 74 76
通过实施例1-5和对比例1-4,以及表2和表3、图1-3的检测数据可以看出,本申请制备的气垫粉底液的保湿性能表现优异,同时其持妆效果和遮瑕效果均表现良好;说明本申请的气垫粉底液能够同时兼顾滋润性和遮瑕效果。
本申请通过将成膜剂进行复配,选择硬膜成膜剂(三甲基硅烷氧基硅酸酯)、软膜成膜剂(异十二烷/丙烯酸(酯)类/聚三甲基硅氧烷甲基丙烯酸酯共聚物)和湿膜成膜剂(聚苯基倍半硅氧烷)共同添加,硬膜的干爽持妆抗蹭性好,但其具有一定的紧绷感;软膜好补妆且可以缓解硬膜的紧绷感,但其比较黏腻;湿膜不抗蹭,但其滋润度比较好,通过对其添加量进行限定,使得本申请的气垫粉底液的成膜性优异,并且成膜具备舒适感和持妆久的优点。并且本申请制备工艺中,通过将成膜剂、部分润湿剂和着色剂进行研磨,可以使成膜剂和润湿剂将着色剂进行包覆,一方面使着色剂与体系的相容性好,分散更均匀,提高其遮瑕度;另一方面,使气垫粉底液在成膜的整体性更强,不易出现卡粉和浮粉现象,具有更高的持妆性;并且润湿剂的共同研磨,也使着色剂的拔干性能大大降低,提高了气垫粉底液的滋润度。通过实施例1和对比例1-4的检测数据可以得到验证。在此基础上,着色剂中,Ti-18AS的遮瑕度好;Ti-02ITD的显色度好,细腻度、滋润度好;两者结合使用,可以兼顾遮瑕和细腻滋润度。通过实施例1-3的检测数据可以得到验证。
通过实施例1和实施例4-5的检测数据可以看出,通过添加聚乙烯吡咯烷酮,利用其优良的溶解性、生物相容性、成膜性,可以使气垫粉底液的成膜性更好,贴肤性更强,并且能够与其他乳化剂相结合,提高乳化性能,使气垫粉底液中水相和有机相的相容性更强,整体性更强。
本具体实施例仅仅是对本发明的解释,其并不是对本发明的限制,本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改,但只要在本发明的权利要求范围内都受到专利法的保护。

Claims (9)

1.一种高遮瑕滋润气垫粉底液,其特征在于:其包括如下重量百分含量的原料:A相:乳化剂3-4.8%、环五聚二甲基硅氧烷/环己聚二甲基硅氧烷15-25%、硬膜成膜剂3-9%、软膜成膜剂0.5-4%、湿膜成膜剂1-6%、肤感改性剂1-3%、氢化聚癸烯2-5%、羟基硬脂酸乙基己酯2-4%;
B相:增稠剂0.1-0.5%、肤感改性剂1-3%;
C相:Ti-18AS 0-5%、Ti-02ITD 0-15%、YP-75ITD 1-1.5%、RP-29ITD0.1-0.3%、BP-50ITD0.02-0.07%;
D相:保湿剂5-10%、防腐剂0.7-1.1%、稳定剂0.7-1.1%,余量为溶剂。
2.根据权利要求1所述的一种高遮瑕滋润气垫粉底液,其特征在于:所述硬膜成膜剂为三甲基硅烷氧基硅酸酯;所述软膜成膜剂为聚甲基倍半硅氧烷、异十二烷/丙烯酸(酯)类/聚三甲基硅氧烷甲基丙烯酸酯共聚物、丙烯酸(酯)类/聚二甲基硅氧烷共聚物等中的一种或多种;所述湿膜成膜剂为聚丙基倍半硅氧烷、聚苯基倍半硅氧烷、氢化松脂酸甲酯等中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的一种高遮瑕滋润气垫粉底液,其特征在于:所述Ti-18AS的重量百分含量为4%,所述Ti-02ITD的重量百分含量为13%。
4.根据权利要求1所述的一种高遮瑕滋润气垫粉底液,其特征在于:所述D相中还包括重量百分含量为0.5-0.9%的聚乙烯吡咯烷酮。
5.根据权利要求4所述的一种高遮瑕滋润气垫粉底液,其特征在于:所述聚乙烯吡咯烷酮的型号为PVP K12和PVP K15中的一种或两种。
6.根据权利要求1所述的一种高遮瑕滋润气垫粉底液,其特征在于:所述溶剂为水、花水和纯露中的一种或多种。
7.根据权利要求1所述的一种高遮瑕滋润气垫粉底液,其特征在于:所述增稠剂为二甲基甲硅烷基化硅石、二硬脂二甲铵锂蒙脱石中的一种或两种。
8.根据权利要求1所述的一种高遮瑕滋润气垫粉底液,其特征在于:所述肤感改性剂为聚二甲基硅氧烷/聚二甲基硅氧烷交联聚合物、硫酸钡、甲基丙烯酸甲酯交联聚合物、硅石、硅弹性体的一种或多种。
9.一种权利要求1-8任一所述的高遮瑕滋润气垫粉底液的制备方法,其特征在于:其包括如下步骤:
S1、取部分环五聚二甲基硅氧烷/环己聚二甲基硅氧烷和硬膜成膜剂混合均匀,制得成膜剂混合液I;
S2、将成膜剂混合液I、软膜成膜剂、湿膜成膜剂和羟基硬脂酸乙基己酯混合均匀,制得成膜剂混合液II;
S3、将C相各原料通过高速混粉机混合均匀,制得混合粉末;然后将混合粉末与成膜剂混合液II混合均匀,用三辊研磨机研磨,制得色浆混合物;
S4、将A相中剩余原料混合,用乳化机均质搅拌均匀,制得A相;
S5、将B相各原料加入A相中,继续用乳化机均质搅拌均匀,然后加入色浆混合物,继续用乳化机均质搅拌均匀,制得A+B+C相;
S6、将D相各原料预先混合搅拌均匀,制得D相,然后将其慢慢加入A+B+C相中,用乳化机均质搅拌均匀,得高遮瑕滋润气垫粉底液。
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