CN113970878A - 曝光装置以及利用其的显示装置制造方法 - Google Patents
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Abstract
公开曝光装置以及利用其的显示装置制造方法。根据一实施例的曝光装置包括:工作台,包括多个销孔;光源部,向所述工作台射出光;多个升降销,配置成分别贯穿所述工作台的所述多个销孔;升降销移动部,升降所述多个升降销;以及多个销冷却套管,在所述工作台之下配置于所述多个升降销的每一个,并各自包括与所述多个销孔连通且被插入所述升降销的至少一部分的升降销容纳孔以及与所述升降销容纳孔连通的气体供应孔。
Description
技术领域
本发明涉及曝光装置以及利用其的显示装置制造方法。
背景技术
随着多媒体的发展,显示装置其重要性在增加。为此,使用液晶显示装置(LiquidCrystal Display,LCD)、有机发光显示装置(Organic Light Emitting Display,OLED)等之类多种显示装置。
在如上那样的显示装置的制造过程中,可以执行将涂布在基板上的单体进行紫外线曝光而进行硬化的工艺。所述单体层根据温度而扩散性不同,因此为了防止因温度偏差产生的斑点,重要的是适当调整执行所述曝光以及硬化工艺的装置以及容纳其的腔室的温度。
发明内容
本发明所要解决的课题在于提供能够减少在曝光以及硬化工艺中产生的斑点的曝光装置以及利用其的显示装置制造方法。
本发明的课题不限于以上所提及的课题,尚未提及的其他技术课题会通过以下记载使本领域技术人员明确理解。
用于解决所述课题的根据一实施例的曝光装置包括:工作台,包括多个销孔;光源部,向所述工作台射出光;多个升降销,配置成分别贯穿所述工作台的所述多个销孔;升降销移动部,升降所述多个升降销;以及多个销冷却套管,在所述工作台之下配置于所述多个升降销的每一个,并各自包括与所述多个销孔连通且被插入所述升降销的至少一部分的升降销容纳孔以及与所述升降销容纳孔连通的气体供应孔。
可以是,当在所述工作台装载对象基板时,所述多个升降销上升以从所述工作台的上面凸出,从而支承所述对象基板的下面,当所述光源部曝光所述对象基板时,所述多个升降销下降而分别收纳在所述多个销孔中。
可以是,在所述多个升降销下降时,通过所述气体供应孔向所述升降销容纳孔喷射气体。
可以是,所述气体为氮气。
可以是,在所述多个升降销下降时,所述多个升降销的各端部容纳在所述升降销容纳孔内。
可以是,所述对象基板包括基底基板以及配置在所述基底基板上且包括单体的硬化层。
可以是,所述对象基板包括:基底基板;所述基底基板上的薄膜晶体管层;所述薄膜晶体管层上的发光元件层;所述发光元件层上的无机膜;以及涂布在所述无机膜上并包括单体的有机膜组合物。
可以是,所述工作台包括向上方喷射气体的多个气体喷射孔,在曝光所述对象基板时,所述对象基板通过由所述多个气体喷射孔喷射的气体而上升。
可以是,所述销冷却套管包括:气缸部,围绕所述升降销容纳孔,所述气缸部的一侧插入于所述销孔;以及延伸部,从所述气缸部的外周面向圆心方向凸出而限制所述气缸部的所述一侧的插入深度。
可以是,所述曝光装置还包括:气体供应流路,与所述多个销冷却套管的所述气体供应孔连接;以及气体供应部,与所述气体供应流路连接。
可以是,所述气体供应流路包括:主流路,一端与所述气体供应部连接;多个第一子流路,从所述主流路分支;以及多个第二子流路,从所述多个第一子流路分支,并分别与所述多个销冷却套管连接。
可以是,所述多个销冷却套管配置成矩阵形态,所述多个第一子流路的各第一子流路连接多个第二子流路中与同一行的销冷却套管连接的所述第二子流路。
可以是,所述多个销冷却套管的行的数量可以小于所述多个销冷却套管的列的数量。
可以是,所述曝光装置还包括:第一控制阀,配置在所述主流路;多个第二控制阀,配置在所述多个第一子流路的每一个;以及多个第三控制阀,配置在所述多个第二子流路的每一个。
可以是,所述第一控制阀为调节器,所述第二控制阀以及所述第三控制阀为调速器。
可以是,用于解决所述课题的根据一实施例的显示装置制造方法包括:在工作台装载对象基板的步骤;使支承所述对象基板的下面的多个升降销下降的步骤;以及向所述多个升降销喷射气体而冷却所述多个升降销的步骤。
可以是,所述显示装置制造方法还包括在所述多个升降销下降之后向所述对象基板照射紫外线的步骤,所述多个升降销的冷却和所述紫外线的照射同时执行。
可以是,所述显示装置制造方法还包括:在照射所述紫外线之后,使冷却后的所述多个升降销上升而支承所述对象基板的步骤;以及从所述工作台卸载所述对象基板的步骤。
可以是,冷却所述多个升降销的步骤包括向容纳所述多个升降销的至少一个孔喷射所述气体的步骤。
可以是,所述显示装置制造方法还包括:在装载所述对象基板之前,向所述对象基板涂布单体层的步骤;以及按照事先赋予的顺序,将完成所述单体层的涂布的所述对象基板移送至多个曝光装置中的任一个曝光装置的步骤。
其他实施例的具体事项包含在详细的说明以及附图中。
(发明效果)
根据一实施例的曝光装置以及利用其的显示装置制造方法,能够提供用于曝光以及硬化的适当的温度环境,并减少因温度上升及/或温度偏差产生的斑点。
根据实施例的效果不限于以上例示的内容,更多种效果包括在本说明书中。
附图说明
图1是示出与根据一实施例的显示装置制造装置有关的显示装置的图。
图2是沿着图1的I-I′截取的截面图。
图3是根据一实施例的显示装置制造装置的立体图。
图4是根据一实施例的显示装置制造装置的分解立体图。
图5是图3的“A”部分的截面图。
图6是放大图3的“A”部分的工作台的下面的立体图。
图7a以及图7b是根据一实施例的显示装置制造装置的销冷却套管的俯视图以及侧视图。
图8是根据一实施例的显示装置制造装置的冷却流路的俯视图。
图9是根据一实施例的显示装置制造系统的示意配置图。
图10是根据一实施例的显示装置制造系统的涂布装置的立体图。
图11是根据一实施例的显示装置制造方法的流程图。
图12至图14是示出根据一实施例的显示装置制造方法的步骤的图。
图15是示出使用根据一实施例的显示装置制造系统时和未使用时曝光装置的工作台、曝光腔室内的空气以及曝光装置的升降销的温度以及温度偏差的表。
图16a以及图16b是对使用根据一实施例的显示装置制造系统时和未使用时的斑点的轮廓进行比较的实验结果。
图17是对使用根据一实施例的显示装置制造系统时和未使用时的斑点的强度进行比较的实验结果。
(附图标记说明)
1:显示装置
10:曝光装置
100:光源部
200:工作台
300:多个升降销
400:升降销移动部
500:销冷却套管
600:气体供应流路
700:气体供应部
800:支承部
900:控制部
1000:显示装置制造系统
具体实施方式
本发明的优点、特征以及实现其的方法参照与所附附图一起详细后述的实施例会变得明确。然而,本发明并不限于以下公开的实施例,可以以彼此不同的各种形态实现,本实施例仅是用于使本发明的公开变完整,为了向本发明所属技术领域中具有通常知识的人员完整地告知发明的范畴而提供,本发明仅通过权利要求书的范畴而界定。
称为元件(elements)或者层位于其他元件或者层“上(on)”的情况将直接位于其他元件之上或者在中间夹有其他层或者其他元件的情况全部包括。遍及整个说明书,相同的附图标记指代相同的构成要件。在用于说明实施例的图中公开的形状、大小、比率、角度、数量等仅是例示,因此本发明不限于图示的事项。
以下,参照附图说明具体实施例。
图1是示出与根据一实施例的显示装置制造装置有关的显示装置的图。图2是沿着图1的I-I′截取的截面图。
以下,例示后述的显示装置制造装置及/或通过显示装置制造系统制造的显示装置1,但不限于此。
参照图1以及图2,显示装置1可以指代提供显示画面的所有电子装置。例如,不仅是提供显示画面的移动电话、智能电话、平板个人计算机(PC)、电子表、智能手表、手表电话、移动通信终端、电子手册、电子书、PMP(Portable Multimedia Player;便携式多媒体播放器)、导航仪、游戏机、数码相机等之类便携式电子设备,电视、笔记本电脑、显示器、广告牌、物联网等也可以包含在显示装置1中。显示装置1可以包括可折叠显示装置、可卷绕显示装置以及可弯曲显示装置等。
显示装置1可以形成为在平面上实质上呈长方形形状。显示装置1在平面上可以是边角垂直的长方形或者边角为圆形的长方形形状。显示装置1可以包括四个边或者边缘。显示装置1可以包括长边和短边。
显示装置1可以包括显示画面的显示区域DA以及不显示画面的非显示区域NDA。当显示装置1具有触摸功能时,显示区域DA及/或非显示区域NDA可以包括形成触摸输入的感测的触摸区域。
显示区域DA可以包括多个像素PX。多个像素PX可以向行列方向排列。各像素PX的形状在俯视图上(即,当以俯视图状态观察时)可以具有长方形、正方形或者菱形形状。
非显示区域NDA配置在显示区域DA的周围。非显示区域NDA可以围绕显示区域DA的至少一部分。非显示区域NDA可以是边框区域。在非显示区域NDA可以配置有用于向显示区域DA施加信号的信号布线或者驱动电路。
显示装置1可以包括显示面板10。
显示面板10可以举出有机发光显示面板、微型LED显示面板、纳米LED显示面板、量子点发光显示面板、液晶显示面板、等离子体显示面板、场发射显示面板、电泳显示面板、电润湿显示面板等。以下,作为显示面板10的一例,例示有机发光显示面板,但不限于此。
显示面板10可以包括基板SUB、所述基板SUB上的薄膜晶体管层TFTL、所述薄膜晶体管层TFTL上的发光元件层EL以及所述发光元件层EL上的薄膜封装层TFE。在若干实施例中,显示面板10可以还包括触摸层,所述触摸层配置在薄膜封装层TFE上并包括用于感测触摸输入的多个电极。
基板SUB可以由玻璃材质或者例如聚酰亚胺之类的塑胶材质形成。基板SUB具有可挠性而可以弯曲。
薄膜晶体管层TFTL可以控制向显示装置1的各像素PX传递的电流来控制各像素PX的亮度。薄膜晶体管层TFTL例如可以包括能够流通电流的有源层以及用于驱动所述有源层的栅极电极、源极电极、漏极电极。
发光元件层EL可以包括正极、负极以及有机发光层,所述有机发光层配置在所述正极和所述负极之间,并由通过所述正极和负极移动的电荷与空穴的复合而自发光的有机化合物构成。
薄膜封装层TFE可以覆盖发光元件层EL而防止水分和空气渗透到发光元件层EL。
薄膜封装层TFE可以将多个无机膜以及至少一个有机膜OL交替成膜而形成。例如,薄膜封装层TFE可以包括第一无机膜IOL1、第二无机膜IOL2以及第一无机膜IOL1和第二无机膜IOL2之间的有机膜OL。例如,所述有机膜OL可以通过将涂布在基板SUB上的单体紫外线曝光而形成。
参照图1以及图3,在将薄膜封装层TFE的有机膜OL紫外线曝光进行硬化的曝光工艺中,可能在薄膜封装层TFE的有机膜OL产生斑点STN。所述斑点STN可能由于曝光工艺中支承基板SUB的背面的升降销300的温度上升及/或由有机膜OL硬化时传导导致的基板SUB的温度上升而产生。所述斑点STN被肉眼观察到而影响审美感,并可能引起显示装置1的故障或者错误操作。
为了去除或者减少所述斑点STN,可以考虑调整曝光装置以及配置有曝光装置的曝光腔室的温度上升以及偏差。所述曝光腔室的温度上升以及偏差的调整可以通过后述的曝光装置以及显示装置制造方法而实现。
以下,参照图3至图8详细说明显示装置制造装置。
图3是根据一实施例的显示装置制造装置的立体图。图4是根据一实施例的显示装置制造装置的分解立体图。图5是图3的“A”部分的截面图。图6是放大图3的“A”部分的工作台的下面的立体图。图7a以及图7b是根据一实施例的显示装置制造装置的销冷却套管的俯视图以及侧视图。图8是根据一实施例的显示装置制造装置的冷却流路的俯视图。
以下,第一方向DR1、第二方向DR2以及第三方向DR3向彼此不同方向交叉。第一方向DR1可以是横方向。第二方向DR2可以是纵方向。第三方向DR3可以是厚度方向。第一方向DR1、第二方向DR2及/或第三方向DR3可以包括两个以上的方向。例如,第三方向DR3可以包括朝向图的上侧的上侧方向以及朝向图的下侧的下侧方向。由此,可以是,配置成面朝上侧方向的部件的一面指代上面,配置成面朝下侧方向的部件的另一面指代下面。然而,所述方向是例示性且是相对性的,不限于上述提及的情况。
以下说明的对象基板T包括基底基板T_SUB以及硬化层T_MN,所述硬化层T_MN层叠在所述基底基板T_SUB上并包括通过曝光硬化的单体,曝光装置10可以是将所述对象基板T的至少一层曝光而进行处理的装置。在若干实施例中,所述对象基板T的基底基板T_SUB可以包括图2中例示的基板SUB、所述基板SUB上的薄膜晶体管层TFTL、所述薄膜晶体管层TFTL上的发光元件层EL、所述发光元件层EL上的第一无机膜IOL1以及为了在所述第一无机膜IOL1上形成有机膜OL而进行涂布并包括单体的有机膜组合物。
参照图3至图5,曝光装置10包括光源部100、工作台200、多个升降销300、升降销移动部400以及多个销冷却套管500。曝光装置10可以还包括气体供应流路600、气体供应部700、支承部800以及控制部900。
光源部100射出具有特定波长范围的光。例如,所述光源部100可以射出具有10nm至400nm的波长区间的紫外线。在一实施例中,光源部100可以配置在工作台200上并向下方射出光,从而曝光装载在工作台200上的对象基板T。在若干实施例中,曝光装置10可以还包括将光源部100向至少一个方向移动的光源移动部110。在若干实施例中,光源部100也可以配置在容纳曝光装置10的曝光腔室的内部空间。在若干实施例中,也可以是光源部100被固定而后述的工作台200移动。
工作台200用于装载对象基板T。在一实施例中,工作台200可以是包括多个气体喷射孔210的气浮工作台。所述多个气体喷射孔210可以配置在工作台200的上面并向上方喷射气体,从而使对象基板T上升以从工作台200的上面隔开。工作台200可以还包括供后述的多个升降销300贯穿的多个销孔220。在一实施例中,工作台200可以被对向第一方向DR1延伸的工作台200的两侧进行支承的支承部800支承为预定的高度,但不限于此。
多个升降销300由杆状的部件构成,配置成各自贯穿工作台200的多个销孔220。多个升降销300可以通过后述的升降销移动部400而升降。多个升降销300可以上升为从工作台200的上面凸出而支承对象基板T的下面。具体地,在从外部移送对象基板T的情况及/或将完成曝光工艺的对象基板T向外部移送的情况下,多个升降销300可以上升而支承对象基板T的下面。当对象基板T因从工作台200喷射的气体的压力而漂浮时,多个升降销300可以下降。在该情况下,多个升降销300其端部收纳在工作台200的多个销孔220内而可以不从工作台200的上面凸出。在一实施例中,16个升降销300配置成具有4行和4列的矩阵形状,但不限于此。
如图5所示,当多个升降销300上升时,多个升降销300的端部可以与对象基板T的下面接触。在该情况下,多个升降销300的温度因紫外线的吸收及/或单体硬化时产生的热等而可能高于相邻的曝光装置10的其他部件,例如工作台200及/或配置有曝光装置10的腔室内部的空气温度。由此,与升降销300的端部接触的对象基板T的一部分的温度可能比剩余部分的温度变高。如上所述那样的温度上升及/或温度偏差可能引起配置在对象基板T的所述一部分中的硬化层T_MN的厚度偏差而产生斑点STN。例如,位于升降销300的上侧的硬化层T_MN的一部分随着因温度上升而扩散性增加,可能比周围区域凹陷,所述硬化层T_MN的一部分的边缘区域可能比周围凸出。由如上所述那样的升降销300的温度上升及/或温度偏差导致的斑点STN的产生可以通过后述的销冷却套管500而变少。
再次参照图3至图5,升降销移动部400使多个升降销300升降。升降销移动部400例如可以以通过液压或气压驱动的气缸及/或通过伺服电机驱动的线型移动导轨实现。在一实施例中,升降销移动部400可以在工作台200之下配置为多个,并且以连接并支承向第二方向DR2配置的多个升降销300的一部分的棒状部件构成,但不限于此。
多个销冷却套管500可以在工作台200之下配置于多个升降销300的每一个。在一实施例中,多个销冷却套管500可以配置在升降销移动部400和工作台200之间。多个升降销300可以配置成贯穿多个销冷却套管500以及多个销孔220。
进一步参照图6、图7a以及图7b,多个销冷却套管500可以包括气缸部510、升降销容纳孔520、气体注入孔530以及延伸部540。
气缸部510可以以具有内径以及外径的管状部件构成。在一实施例中,可以是,气缸部510的上端510_1插入工作台200的销孔220中,气缸部510的下端510_2被升降销移动部400支承。
升降销容纳孔520可以贯穿形成在气缸部510中,在内部容纳升降销300的至少一部分。升降销容纳孔520可以形成为向与工作台200的销孔220相同的方向,例如垂直方向延伸,一端与所述工作台200的销孔220连接而与所述销孔220连通。
气体注入孔530可以在所述气缸部510向与升降销容纳孔520所延伸的方向交叉的方向,例如水平方向贯穿形成。气体注入孔530可以形成为贯穿形成升降销容纳孔520的气缸部510的内周面以及围绕所述内周面的气缸部510的外周面。气体注入孔530其一端可以与升降销容纳孔520连接以与升降销容纳孔520连通。
延伸部540可以从气缸部510的外周面向圆心方向凸出形成。延伸部540的上面可以与工作台200的下面紧贴而限制气缸部510的插入深度。
气体供应流路600连接多个销冷却套管500的气体注入孔530和气体供应部700。在一实施例中,气体供应流路600可以提供于工作台200的下面和升降销移动部400之间的空间,但不限于此。详细地,可以是,多个销冷却套管500配置于在工作台200的下面和升降销移动部400之间以矩阵形态配置的多个升降销300的每一个,气体供应流路600与各个销冷却套管500的气体注入孔530串联及/或并联连接。通过气体供应流路600传输的气体可以通过气体注入孔530供应于各销冷却套管500的升降销容纳孔520。
进一步参照图8,气体供应流路600可以包括:主流路610,一端与所述气体供应部700连接;多个第一子流路620,从所述主流路610分支;以及多个第二子流路630,从所述多个第一子流路620分支而分别与所述多个销冷却套管500连接。
如上所述,多个升降销300以及多个销冷却套管500可以配置成具有向一方向延伸的多个行R1、R2、R3、Rn以及向与所述一方向交叉的另一方向延伸的多个行C1、C2、C3、Cn的矩阵形态。可以是,所述一方向为第一方向DR1,所述另一方向为第二方向DR2,但不限于此。在一实施例中,多个升降销300以及多个销冷却套管500可以配置成具有M个列和N个行的矩阵形态。在该情况下,气体供应流路600可以配置在M个列及/或N个行之间。多个销冷却套管500配置于多个升降销300的每一个,因此以下以多个销冷却套管500为主进行说明。
多个第二子流路630可以根据多个销冷却套管500的行以及列的数量而配置成不同。具体地,多个第二子流路630可以连接与位于多个行R1、R2、R3、Rn和多个行C1、C2、C3、Cn中数字小的多个行R1、R2、R3、Rn或多个行C1、C2、C3、Cn的销冷却套管500连接的第二子流路630。由此,可以实现配管量的降低及/或后述的控制阀的有效配置。例如,当M大于N时,多个第二子流路630可以在多个行R1、R2、R3、Rn之间向列方向配置。举出另一例,当M小于N时,多个第二子流路630可以在多个行C1、C2、C3、Cn之间向行方向配置。
显示装置制造装置可以还包括:第一控制阀RT,配置于主流路610;多个第二控制阀SC1,配置于多个第一子流路620的每一个;以及多个第三控制阀SC2,配置于多个第二子流路630的每一个。
第一控制阀RT可以配置在首次分支的第一子流路620连接于主流路610的节点和连接于气体供应部700的节点之间。多个第二控制阀SC1可以分别配置在主流路610与第一子流路620连接的节点和第一子流路620与从第一子流路620首次分支的第二子流路630连接的节点之间。多个第三控制阀SC2可以分别配置在连接于第二子流路630的销冷却套管500的一端和连接于第一子流路620的另一端之间。
第一控制阀RT可以控制通过主流路610的气体的流量。第二控制阀SC1可以控制通过第一子流路620的气体的流量,第三控制阀SC2可以控制通过第二子流路630的气体的流量。详细地,可以是,第二控制阀SC1控制第一子流路620的来自主流路610的流量分支比率,第三控制阀SC2控制第二子流路630的来自第一子流路620的流量分支比率。
多个第一子流路620可以各自具有相同的流量。详细地,可以是,向第一行R1的销冷却套管500供应气体的第二子流路630的流量分支比率为1,向第二行R2的销冷却套管500供应气体的第二子流路630的流量分支比率为1/(N-(N-1)),向第三行R3的销冷却套管500供应气体的第二子流路630的流量分支比率为1/(N-(N-2)),向第n行Rn的销冷却套管500供应气体的第二子流路630的流量分支比率为1/(N-1)。在若干实施例中,多个第一子流路620也可以具有彼此不同的流量。
多个第二子流路630可以各自具有相同的流量。详细地,可以是,向第一列C1的销冷却套管500供应气体的第二子流路630的流量分支比率为1,向第二列C2的销冷却套管500供应气体的第二子流路630的流量分支比率为1/(M-(M-1)),向第三列C3的销冷却套管500供应气体的第二子流路630的流量分支比率为1/(M-(M-2)),向第m列Cm的销冷却套管500供应气体的第二子流路630的流量分支比率为1/(M-1)。在若干实施例中,多个第二子流路630也可以具有彼此不同的流量。
例如,当假设多个销冷却套管500以4×4矩阵形态排列,从气体供应部700供应的流量为100时,可以是,向4个第一子流路620分别分配25的流量,向16个第二子流路630分别均匀分配6.25的流量。
在一实施例中,可以是,第一控制阀RT为调节器,第二控制阀SC1以及第三控制阀SC2为调速器。根据位置配置不同的流量调节单元,从而可以组装简单、节约费用、有效活用工作台200下面和升降销移动部400之间的空间。所述调节器及/或调速器可以通过控制部900进行控制或者手动操作。例如,第一子流路620以及第二子流路630的流量可以通过适当调整调速器的指针及/或手柄的转数而进行调整。
气体供应部700通过气体供应流路600向多个销冷却套管500的气体注入孔530供应气体。气体供应部700供应的气体可以具有比曝光装置10及/或围绕曝光装置10的腔室的内部空间低的温度。即,所述气体可以是冷却气体。在一实施例中,所述气体可以是氮气(N2),但不限于此。在若干实施例中,气体供应部700可以包括至少一个泵以及用于控制气体的压力及/或流量的调节器。
再次参照图3以及图4,控制部900可以控制曝光装置10的整体动作。控制部900可以控制光源部100、工作台200、升降销移动部400、第一控制阀RT、第二控制阀SC1、第三控制阀SC2以及气体供应部700中的至少一个。
在若干实施例中,曝光装置10可以提供在腔室内。在若干实施例中,所述腔室可以保持氮气氛围。
图5中详细叙述的多个升降销300的温度上升及/或温度偏差不仅通过图4的曝光装置10的销冷却套管500,还可以通过以下图9以及图10的显示装置制造系统1000减小。
图9是根据一实施例的显示装置制造系统的示意配置图。图10是根据一实施例的显示装置制造系统的涂布装置的立体图。
参照图9以及图10,显示装置制造系统1000可以包括:执行涂布工艺的多个涂布腔室PC、执行曝光工艺的多个曝光腔室UC、在涂布腔室PC和曝光腔室UC之间移送对象基板T的移送机器人RBT以及控制部9000。
多个涂布腔室PC以及多个曝光腔室UC可以将供移送机器人RBT移动的通道置于中间而配置。在一实施例中,可以是,在所述通道的一侧配置第一涂布腔室PC1、第四曝光腔室UC4、第五曝光腔室UC5以及第六曝光腔室UC6,在所述通道的另一侧配置第二涂布腔室PC2、第一曝光腔室UC1、第二曝光腔室UC2以及第三曝光腔室UC3,但不限于此。
在多个涂布腔室PC内可以分别配置多个涂布装置20。在多个涂布腔室PC中,可以在对象基板T涂布包括单体且通过紫外线硬化的硬化层T_MN。
如图10所示,涂布装置20例如可以是包括工作台21、支承工作台21的支承部24、配置在所述工作台21上并将包括单体的油墨组合物印刷于对象基板T的喷墨头22以及将所述喷墨头22向至少一个方向移动的喷墨头移动部23的喷墨印刷机,但不限于此。
在多个曝光腔室UC内可以分别配置多个曝光装置10。所述曝光装置10可以是图4的曝光装置10。在一实施例中,曝光腔室UC的数量可以多于涂布腔室PC的数量。这是因为,涂布工艺所需的时间可能短于曝光工艺所需的时间。
移送机器人RBT移送对象基板T。移送机器人RBT可以从设置在通道的一端的入口门GT_IN接收对象基板T而移送至多个曝光腔室UC中的一个曝光腔室UC。移送机器人RBT可以将完成涂布的对象基板T从涂布腔室PC移送至曝光腔室UC。在完成曝光工艺的情况下,移送机器人RBT可以将对象基板T从曝光腔室UC移动至出口门GT_OUT。所述移送机器人RBT可以配置为多个。
控制部9000可以控制涂布腔室PC、曝光腔室UC、涂布装置20、曝光装置10以及移送机器人RBT中的至少一个。
控制部9000可以控制移送机器人RBT以将对象基板T按照预设顺序从涂布腔室PC移送至曝光腔室UC。详细地,控制部9000可以向多个曝光腔室UC分别赋予顺序,在完成涂布工艺的情况下,将对象基板T按照所述顺序移送至多个曝光腔室UC中的任一个曝光腔室UC。例如,移送机器人RBT可以按照第一曝光腔室UC1、第二曝光腔室UC2、第三曝光腔室UC3、第四曝光腔室UC4、第五曝光腔室UC5以及第六曝光腔室UC6的顺序移送对象基板T。具体地,可以是,当在第一涂布腔室PC1中完成涂布时,移送机器人RBT向第一曝光腔室UC1移送对象基板T,当在第二涂布腔室PC2中完成涂布时,移送机器人RBT向第二曝光腔室UC2而不是临近的第四曝光腔室UC4移送对象基板T。由此,可以均匀使用多个曝光腔室UC,防止在特定曝光腔室产生的拥挤,可以充分确保各曝光腔室的冷却时间。
控制部9000可以控制移送机器人RBT,以使得向多个曝光腔室UC依次移送对象基板T,并且基于是否经过预设时间,向各个曝光腔室UC移送下一个对象基板T。由此,可以在投入后续的其他对象基板T之前确保曝光腔室UC的冷却时间。
在一实施例中,所述预设时间可以从向曝光腔室UC投入前一个对象基板T的时刻开始计算。所述预设时间可以是约220秒。在若干实施例中,所述预设时间可以从某一个对象基板T被送出的时刻开始计算。在若干实施例中,所述预设时间可以从完成曝光之后曝光装置10的升降销300重新上升的时刻开始计算。
图11是根据一实施例的显示装置制造方法的流程图。图12至图14是示出根据一实施例的显示装置制造方法的步骤的图。
以下的显示装置制造方法可以通过图4的涂布装置20及/或图9的显示装置制造系统1000执行。
参照图11,显示装置制造方法可以包括:在工作台200装载对象基板T的步骤(S101);使支承对象基板T的下面的多个升降销300下降的步骤(S102);以及向多个升降销300喷射气体而冷却多个升降销300的步骤(S103)。
显示装置制造方法可以还包括在多个升降销300下降之后向对象基板T照射紫外线的步骤。在若干实施例中,多个升降销300的冷却和紫外线的照射可以同时执行。
显示装置制造方法可以还包括在照射紫外线之后使冷却后的多个升降销300上升而支承对象基板T的步骤以及从工作台200卸载对象基板T的步骤中的至少一个。
冷却多个升降销300的步骤可以包括向容纳多个升降销300的至少一个孔喷射气体的步骤。
显示装置制造方法可以还包括:在装载对象基板T之前,向对象基板T涂布单体层的步骤;以及按照事先赋予的顺序,将完成单体层的涂布的对象基板T移送至多个曝光装置10中的任一个曝光装置10的步骤中的至少一个。
显示装置制造方法不限于所述例示,可以省略所述步骤中的至少一部分,或者可以参照图1至图10还包括至少一个其他步骤。
以下,参照图12至图14详细说明显示装置制造方法。
参照图12,对象基板T可以被从外部移送而装载在工作台200上。在若干实施例中,对象基板T可以通过图9的移送机器人RBT移送到工作台200上。此时,对象基板T的下面可以被处于上升的状态的多个升降销300的端部支承而从工作台200的上面隔开。在若干实施例中,在装载对象基板T之前,多个升降销300分别收纳在多个销冷却套管500中,在多个销冷却套管500的升降销容纳孔520中喷射有从气体供应部700供应的气体,例如氮气,从而可以冷却多个升降销300。
参照图13,对象基板T被搁置在多个升降销300的端部上之后,从工作台200向上方进行喷射,从而可以使对象基板T上升。由此,对象基板T可以漂浮在工作台200的上面上。参照图5以及图13,当被提供用于使对象基板T上升的充分的气体压力时,多个升降销300下降,多个升降销300的端部可以收纳在工作台200的多个销孔220内。在一实施例中,多个升降销300的端部可以位于销冷却套管500的销容纳孔内。在若干实施例中,多个升降销300的端部也可以位于工作台200的销孔220内。在若干实施例中,当多个升降销300下降了时,可以通过调整从工作台200喷射的气体的压力,进行校平以使对象基板T平坦地配置。
当多个升降销300下降了时,可以从销冷却套管500的气体注入孔530喷射气体。所述气体可以具有比周围的温度低的温度而冷却升降销300。在一实施例中,所述气体可以是氮气,但不限于此。
在对象基板T漂浮之后,光源部100可以向对象基板T照射紫外线。对象基板T的硬化层T_MN可以通过紫外线曝光而被硬化。
参照图14,完成曝光之后,光源部100停止照射紫外线,多个升降销300重新上升而可以支承对象基板T的下面。被多个升降销300支承的对象基板T可以从工作台200卸载。例如,对象基板T可以通过图9的移送机器人RBT送出到曝光装置10的外部。
图15是示出使用根据一实施例的显示装置制造系统时和未使用时曝光装置的工作台、曝光腔室内的空气以及曝光装置的升降销的温度以及温度偏差的表。
参照图15,显示装置制造系统1000向多个曝光腔室UC依次投入对象基板T,通过向曝光装置10的销冷却套管500内喷射的气体冷却升降销300,从而能够减少曝光装置10的工作台200、曝光腔室UC内的空气、曝光装置10的升降销300的温度及/或温度偏差。例如,根据一实施例的显示装置制造系统1000能够将曝光装置10的工作台200、曝光腔室UC内的空气以及曝光装置10的升降销300的温度分别降低约0.1°、1.6°程度,将温度偏差降低约1.2°程度。
图16a以及图16b是对使用根据一实施例的显示装置制造系统时和未使用时的斑点的轮廓进行比较的实验结果。
图16a是示出未使用根据一实施例的显示装置制造系统1000时的斑点STN的轮廓的曲线图。图16b是示出使用根据一实施例的显示装置制造系统1000时的斑点STN的轮廓的曲线图。
曲线图的横轴表示从任意的测定点的距离,曲线图的纵轴表示硬化层T_MN的厚度。
参照图1、图16a以及图16b,当对象基板T没有被依次移送到多个曝光腔室UC且多个升降销300未被冷却时,斑点STN的大小S约为9mm至10mm,斑点STN的第一峰值点P1和第二峰值点P2之间的间距W为约5mm至6mm。另外,斑点STN的阶梯差D为约1.2μm至1.7μm。
当对象基板T被依次移送到多个曝光腔室UC且多个升降销300被冷却了时,斑点STN的大小S′为约9mm至10mm,斑点STN的第一峰值点P1′和第二峰值点P2′之间的间距W′为约4mm至5mm。另外,斑点STN的阶梯差D′为约1.2μm至1.7μm。
即,当利用根据一实施例的显示装置制造系统1000制造显示装置1时,能够减少显示装置1的斑点STN的第一峰值点P1′和第二峰值点P2′之间的间距以及斑点STN的阶梯差。
图17是对使用根据一实施例的显示装置制造系统时和未使用时的斑点的强度进行比较的实验结果。
图17的曲线图示出利用自动光学检测装置(Auto Optical Inspection Device)测定显示装置1的斑点STN的强度的情况。曲线图的横轴表示时间段,纵轴表示斑点STN的强度。
第一时段R1表示对象基板T没有被依次移送到多个曝光腔室UC且多个升降销300未被冷却时,显示装置1的斑点STN的强度。第二时段R2表示如图9的实施例那样对象基板T被依次移送到多个曝光腔室UC时的斑点STN的强度。第三时段R3表示对象基板T被依次移送到多个曝光腔室UC且如图5以及图13的实施例那样多个升降销300被从销冷却套管500的气体注入孔530喷射的气体冷却了时的斑点STN的强度。
参照图1以及图17,在第一时段R1,显示装置1的斑点STN的强度为约44,比其他时段相对大。与此相反,在第二时段R2,显示装置1的斑点STN的强度为约16,比第一时段R1小。即,当向多个曝光腔室UC依次移送了对象基板T时,斑点STN的强度减小。另外,在第三时段R3,显示装置1的斑点STN的强度为约11,比第一时段R1以及第二时段R2小。即,当多个升降销300被气体冷却时,斑点STN的强度可以进一步减小。即,当利用根据一实施例的显示装置制造系统1000制造显示装置1时,显示装置1的斑点STN的强度大幅减小到约1/4。
以上,参照附图说明了本发明的实施例,但本发明所属技术领域中具有通常知识的人能够理解在不改变本发明的其技术构思或必要特征的情况下可以实施为其他具体形式。因此,应理解为以上叙述的实施例在所有方面属于例示,并不用于限定。
Claims (10)
1.一种曝光装置,其中,包括:
工作台,包括多个销孔;
光源部,向所述工作台射出光;
多个升降销,配置成分别贯穿所述工作台的所述多个销孔;
升降销移动部,升降所述多个升降销;以及
多个销冷却套管,在所述工作台之下配置于所述多个升降销的每一个,并各自包括与所述多个销孔连通且被插入所述升降销的至少一部分的升降销容纳孔以及与所述升降销容纳孔连通的气体供应孔。
2.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,
当在所述工作台装载对象基板时,所述多个升降销上升以从所述工作台的上面凸出,从而支承所述对象基板的下面,当所述光源部曝光所述对象基板时,所述多个升降销下降而分别收纳在所述多个销孔中。
3.根据权利要求2所述的曝光装置,其中,
在所述多个升降销下降时,通过所述气体供应孔向所述升降销容纳孔喷射气体。
4.根据权利要求2所述的曝光装置,其中,
在所述多个升降销下降时,所述多个升降销的各端部容纳在所述升降销容纳孔内。
5.根据权利要求2所述的曝光装置,其中,
所述对象基板包括基底基板以及配置在所述基底基板上且包括单体的硬化层。
6.根据权利要求2所述的曝光装置,其中,
所述工作台包括向上方喷射气体的多个气体喷射孔,在曝光所述对象基板时,所述对象基板通过由所述多个气体喷射孔喷射的气体而上升。
7.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,
所述销冷却套管包括:气缸部,围绕所述升降销容纳孔,所述气缸部的一侧插入于所述销孔;以及延伸部,从所述气缸部的外周面向圆心方向凸出而限制所述气缸部的所述一侧的插入深度。
8.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,
所述曝光装置还包括:气体供应流路,与所述多个销冷却套管的所述气体供应孔连接;以及气体供应部,与所述气体供应流路连接。
9.根据权利要求8所述的曝光装置,其中,
所述气体供应流路包括:主流路,一端与所述气体供应部连接;多个第一子流路,从所述主流路分支;以及多个第二子流路,从所述多个第一子流路分支,并分别与所述多个销冷却套管连接。
10.根据权利要求9所述的曝光装置,其中,
所述多个销冷却套管配置成矩阵形态,所述多个第一子流路的各第一子流路连接所述多个第二子流路中与同一行的销冷却套管连接的所述第二子流路,所述多个销冷却套管的行的数量小于所述多个销冷却套管的列的数量。
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