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CN113936306A - 遮光元件基板以及显示装置 - Google Patents

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CN113936306A
CN113936306A CN202111191228.XA CN202111191228A CN113936306A CN 113936306 A CN113936306 A CN 113936306A CN 202111191228 A CN202111191228 A CN 202111191228A CN 113936306 A CN113936306 A CN 113936306A
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Abstract

本发明公开一种遮光元件基板以及显示装置，其中该遮光元件基板包括基板、透明岛状结构以及第一遮光层。透明岛状结构位于基板上。第一遮光层位于透明岛状结构上。第一遮光层重叠于透明岛状结构的部分顶面。第一遮光层具有重叠于透明岛状结构的顶面的第一通孔。

Description

遮光元件基板以及显示装置
技术领域
本发明涉及一种遮光元件基板以及显示装置。
背景技术
目前，为了增加产品的使用便利性，许多厂商会于产品中装设感测装置。举例来说，现有的手机内时常附载有指纹识别的感光装置。在现有的指纹识别技术中，感光装置侦测手指指纹所反射的光线，指纹的高低起伏会有不同强度的反射光，因此不同的指纹样貌会被感测装置所分辨出来。
一般而言，感光装置包含感光元件，若感光元件接受到大角度的入射光，会导致侦测出来的图像对比不佳，并导致指纹识别失败。
发明内容
本发明提供一种遮光元件基板，能改善第一遮光层的第一通孔的宽度过大的问题。
本发明提供一种显示装置，能提升感光元件侦测出来的影像的对比度。
本发明的至少一实施例提供一种遮光元件基板。遮光元件基板包括基板、透明岛状结构以及第一遮光层。透明岛状结构位于基板上。第一遮光层位于透明岛状结构上。第一遮光层重叠于透明岛状结构的部分顶面。第一遮光层具有重叠于透明岛状结构的顶面的第一通孔。
本发明的至少一实施例提供一种显示装置。显示装置包括遮光元件基板以及主动元件基板。遮光元件基板包括第一基板、透明岛状结构以及第一遮光层。透明岛状结构位于第一基板上。第一遮光层位于透明岛状结构上。第一遮光层重叠于透明岛状结构的部分顶面。第一遮光层具有重叠于透明岛状结构的顶面的第一通孔。主动(有源)元件基板重叠于遮光元件基板，且包括第二基板、感光元件以及第二遮光层。感光元件位于第二基板上。第二遮光层位于感光元件与第一遮光层之间。第二遮光层具有第二通孔。感光元件在第一基板的法线方向上重叠于第二通孔以及第一通孔。
附图说明
图1A至图1C是本发明的一实施例的一种遮光元件基板的制造方法的剖面示意图；
图2A是本发明的一实施例的一种遮光元件基板的上视示意图；
图2B是沿着图2A的线A-A’的剖面示意图；
图3A是本发明的一实施例的一种遮光元件基板的上视示意图；
图3B是沿着图3A的线A-A’的剖面示意图；
图4A是本发明的一实施例的一种遮光元件基板的上视示意图；
图4B是沿着图4A的线A-A’的剖面示意图；
图5A是本发明的一实施例的一种遮光元件基板的上视示意图；
图5B是沿着图5A的线A-A’的剖面示意图；
图6A是本发明的一实施例的一种遮光元件基板的上视示意图；
图6B是沿着图6A的线A-A’的剖面示意图；
图7是本发明的一实施例的一种显示装置的剖面示意图；
图8是本发明的一实施例的一种遮光元件基板的剖面示意图。
符号说明
1:显示装置
10、20、30、40、50、60、80:遮光元件基板
70:主动元件基板
100:第一基板
110:透明岛状结构
110t:顶面
112:延伸部
120:遮光材料层
120’:第一遮光层
120a:第一部分
120b:第二部分
700:第二基板
720:第二遮光层
730:反射层
740:像素控制电路
750:绝缘层
760:像素电极
810:感光元件
812:第一电极
814:感光层
816:第二电极
820:第二遮光层
830:第三遮光层
840:棱镜
A1、A2、A3、W1、W2:宽度
BL:背光模块
BP1:第一缓冲层
BP2:第二缓冲层
BP3:第三缓冲层
BP4:第四缓冲层
CR:色彩转换元件
CR1:第一色彩转换元件
CR2:第二色彩转换元件
CR3:第三色彩转换元件
D1:第一方向
D2:第二方向
D3:法线方向
IRC:红外光吸收材料
L:感光元件
LC:液晶层
L1、L2:光线
M:光掩模
O:开口
O1:第一开口
O2:第二开口
O3:第三开口
PL1:第一平坦层
PL2:第二平坦层
PL3:第三平坦层
PL4:第四平坦层
T1、T2、T3、T4、t1、t2、X:厚度
TH1:第一通孔
TH2:第二通孔
TH3:第三通孔
具体实施方式
图1A至图1C是依照本发明的一实施例的一种遮光元件基板的制造方法的剖面示意图。
请参考图1A，在第一基板100上形成透明岛状结构110。第一基板100的材质可为玻璃、石英、有机聚合物或是其他可适用的材料。透明岛状结构110为有机材料(例如固化的光致抗蚀剂(photo resist)、环氧树脂或其他合适的材料)或无机材料(例如铟锡氧化物、氧化硅、氮化硅或其他合适的材料)。透明岛状结构110为单层或多层结构。透明岛状结构110的厚度X为200纳米至1200纳米。
形成遮光材料层120于第一基板100以及透明岛状结构110上。遮光材料层120例如以旋转涂布或其他类似的方式形成。遮光材料层120具有流动性，因此遮光材料层120在第一基板100的法线方向上覆盖透明岛状结构110的部分的厚度t1小于遮光材料层120在第一基板100的法线方向上未覆盖透明岛状结构110的部分的厚度t2。
在一些实施例中，遮光材料层120包括正型光致抗蚀剂(Positive photoresist)或负型光致抗蚀剂(Negative photoresist)。
请参考图1B，以光掩模M为掩模，对遮光材料层120照射光线(例如紫外光)。在本实施例中，遮光材料层120为负型光致抗蚀剂，因此，光掩模M遮住遮光材料层120的第一部分120a的顶面，并使透明岛状结构110两侧的遮光材料层120的第二部分120b被固化，其中遮光材料层120的第一部分120a重叠于透明岛状结构110。在其他实施例中，若遮光材料层120为正型光致抗蚀剂，则选用的光掩模不遮住遮光材料层120的第一部分120a。
请参考图1C，对遮光材料层120执行显影制作工艺(Development process)，以形成第一遮光层120’。具体地说，移除遮光材料层120的第一部分120a以形成第一遮光层120’。至此，遮光元件基板10大致完成。
在一些实施例中，第一遮光层120’的材料包括固化的光致抗蚀剂，且第一遮光层120’的光密度(Optical density；OD)大于5。
在本实施例中，第一遮光层120’位于透明岛状结构110上。第一遮光层120’重叠于透明岛状结构110的部分顶面110t，且第一遮光层120’具有在第一基板100的法线方向上重叠于透明岛状结构110的顶面110t的第一通孔TH1。在一些实施例中，位于第一通孔TH1处的第一遮光层120’的厚度为T1。位于透明岛状结构110外侧，且在第一基板100的法线方向上不重叠于透明岛状结构110的第一遮光层120’的厚度为T2，T1小于T2。在一些实施例中，厚度T1为200纳米至1200纳米，厚度T2为1000纳米至2000纳米。
在一些实施例中，遮光材料层120(图1A与图1B)的光刻制作工艺的分辨极限会随着遮光材料层120的厚度减薄而提升，因此，通过透明岛状结构110的设置，位于第一通孔TH1处的第一遮光层120’的厚度为T1可以被缩小，进一步使第一通孔TH1的宽度A1得以缩小。基于此，可以改善第一通孔TH1的宽度A1过大的问题。在本实施例中，第一通孔TH1的宽度A1小于透明岛状结构110的宽度A2。在一些实施例中，第一通孔TH1的宽度A1为3微米至8微米。
在一些实施例中，遮光元件基板10适用于感光装置，且第一遮光层120’的第一通孔TH1适用于光学准直器(Optical collimator)，第一通孔TH1的宽度A1越小越能提升光准直效果。换句话说，在本实施例中，通过透明岛状结构110的设置可以提升光学准直器的光准直效果。在本实施例中，除了能于第一遮光层120’中形成宽度较小的第一通孔TH1之外，还能维持第一遮光层120’的遮光能力。
图2A是依照本发明的一实施例的一种遮光元件基板的上视示意图。图2B是沿着图2A的线A-A’的剖面示意图。
在此必须说明的是，图2A和图2B的实施例沿用图1A至图1C的实施例的元件标号与部分内容，其中采用相同或近似的标号来表示相同或近似的元件，并且省略了相同技术内容的说明。关于省略部分的说明可参考前述实施例，在此不赘述。
图2A的遮光元件基板20与图1C的遮光元件基板10的主要差异在于：图2A的遮光元件基板20还包括第一色彩转换元件CR1、第二色彩转换元件CR2以及第三色彩转换元件CR3。
请参考图2A与图2B，第一色彩转换元件CR1、第二色彩转换元件CR2以及第三色彩转换元件CR3例如为滤光材料(Color filter material)、量子点材料(Quantum dotmaterial)或其他适用于转换光线色彩的材料。
第一色彩转换元件CR1、第二色彩转换元件CR2以及第三色彩转换元件CR3例如分别为不同的颜色。举例来说，在一些实施例中，遮光元件基板20适用于显示装置，且第一色彩转换元件CR1、第二色彩转换元件CR2以及第三色彩转换元件CR3分别为红色滤光元件、绿色滤光元件以及蓝色滤光元件，且第一色彩转换元件CR1、第二色彩转换元件CR2以及第三色彩转换元件CR3分别对应红色子像素、绿色子像素以及蓝色子像素。
在本实施例中，第一遮光层120’具有第一开口O1、第二开口O2以及第三开口O3。第一开口O1、第二开口O2以及第三开口O3沿着第一方向D1排列。在一些实施例中，第一方向D1平行于显示装置的扫描线，且垂直于显示装置的数据线，但本发明不以此为限。在其他实施例中，第一方向D1平行于显示装置的数据线，且垂直于显示装置的扫描线。在本实施例中，第一通孔TH1位于第一开口O1、第二开口O2或第三开口O3的第二方向D2上，且第二方向D2实质上垂直于第一方向D1。
第一色彩转换元件CR1、第二色彩转换元件CR2以及第三色彩转换元件CR3分别位于第一开口O1、第二开口O2以及第三开口O3中。第一开口O1、第二开口O2以及第三开口O3不重叠于透明岛状结构110及第一通孔TH1。位于第一通孔TH1处的第一遮光层120’的厚度为T1，位于第一开口O1、第二开口O2以及第三开口O3处的第一遮光层120’的厚度为T2，T1小于T2。
第一开口O1、第二开口O2以及第三开口O3与第一通孔TH1例如是于同一道图案化制作工艺中形成。举例来说，执行一道光刻制作工艺(如图1B与图1C的制作工艺)以同时形成第一开口O1、第二开口O2、第三开口O3与第一通孔TH1。
在一些实施例中，感光元件L(图2B省略绘出)于第一基板100的法线方向D3上重叠于第一通孔TH1。感光元件L例如是形成于第一基板100上或形成于其他基板上。在一些实施例中，感光元件L形成于重叠于第一基板100的第二基板(未绘出)上，其中第二基板上的感光元件L在第一基板100的法线方向上重叠于第一通孔TH1。在图2A与图2B中，以一个感光元件L以及一个第一通孔TH1为例进行说明，但实际上，遮光元件基板20包括阵列的多个感光元件L以及阵列的多个第一通孔TH1。
基于上述，通过透明岛状结构110的设置，第一通孔TH1的宽度(包括第一方向D1、第二方向D2或其他任意方向上的宽度)得以缩小。因此，光学准直器的光准直效果以及感光元件L侦测出来的影像的对比度得以提升。
图3A是依照本发明的一实施例的一种遮光元件基板的上视示意图。图3B是沿着图3A的线A-A’的剖面示意图。
在此必须说明的是，图3A和图3B的实施例沿用图2A与图2B的实施例的元件标号与部分内容，其中采用相同或近似的标号来表示相同或近似的元件，并且省略了相同技术内容的说明。关于省略部分的说明可参考前述实施例，在此不赘述。
图3A的遮光元件基板30与图2A的遮光元件基板20的主要差异在于：图3A的遮光元件基板30还包括延伸部112。
请参考图3A与图3B，延伸部112自第一开口O1、第二开口O2以及第三开口O3底部延伸至第一通孔TH1底部。透明岛状结构110与延伸部112相连。
在本实施例中，透明岛状结构110与延伸部112为一体成形的单层结构，但本发明不以此为限。在其他实施例中，透明岛状结构110与延伸部112包括不同材料，且透明岛状结构110与延伸部112为多层结构。延伸部112适用于增加透明岛状结构110与第一基板100(或第一基板100上未绘出的其他层)之间的附着力(adhesion)。
图4A是依照本发明的一实施例的一种遮光元件基板的上视示意图。图4B是沿着图4A的线A-A’的剖面示意图。
在此必须说明的是，图4A和图4B的实施例沿用图3A与图3B的实施例的元件标号与部分内容，其中采用相同或近似的标号来表示相同或近似的元件，并且省略了相同技术内容的说明。关于省略部分的说明可参考前述实施例，在此不赘述。
图4A的遮光元件基板40与图3A的遮光元件基板30的主要差异在于：遮光元件基板40的透明岛状结构110与延伸部112构成一阶梯状结构。
请参考图4A与图4B，延伸部112不重叠于第一开口O1、第二开口O2以及第三开口O3。延伸部112连接透明岛状结构110的底部，且延伸部112的宽度大于透明岛状结构110的宽度。透明岛状结构110与延伸部112构成阶梯状结构。在本实施例中，透明岛状结构110与延伸部112为一体成形的单层结构，但本发明不以此为限。在其他实施例中，透明岛状结构110与延伸部112包括不同材料，且透明岛状结构110与延伸部112为多层结构。延伸部112适用于增加透明岛状结构110与第一基板100(或第一基板100上未绘出之其他层)之间的附着力。
图5A是依照本发明的一实施例的一种遮光元件基板的上视示意图。图5B是沿着图5A的线A-A’的剖面示意图。
在此必须说明的是，图5A和图5B的实施例沿用图2A与图2B的实施例的元件标号与部分内容，其中采用相同或近似的标号来表示相同或近似的元件，并且省略了相同技术内容的说明。关于省略部分的说明可参考前述实施例，在此不赘述。
图5A的遮光元件基板50与图2A的遮光元件基板20的主要差异在于：图5A的遮光元件基板50的透明岛状结构110在第一方向D1上的宽度W1大于第二开口O2在第一方向D1上的宽度W2。
请参考图5A与图5B，透明岛状结构110位于第一开口O1、第二开口O2以及第三开口O3的第二方向D2上。在本实施例中，透明岛状结构110的宽度W1越大，透明岛状结构110与第一基板100(或第一基板100上未绘出的其他层)之间的附着力越强。
图6A是依照本发明的一实施例的一种遮光元件基板的上视示意图。图6B是沿着图6A的线A-A’的剖面示意图。
在此必须说明的是，图6A和图6B的实施例沿用图2A与图2B的实施例的元件标号与部分内容，其中采用相同或近似的标号来表示相同或近似的元件，并且省略了相同技术内容的说明。关于省略部分的说明可参考前述实施例，在此不赘述。
图6A的遮光元件基板60与图2A的遮光元件基板20的主要差异在于：遮光元件基板60还包括红外光吸收材料IRC。
请参考图6A与图6B，红外光吸收材料IRC位于第一通孔TH1中。在一些实施例中，红外光吸收材料IRC对于波长大于或等于600纳米的光线的穿透率小于或等于3％，由此减少红外光对感光元件L造成不良影响。
红外光吸收材料IRC为单层或多层结构。在一些实施例中，红外光吸收材料IRC的材料选自第一色彩转换元件CR1的材料、第二色彩转换元件CR2的材料以及第三色彩转换元件CR3的材料中的一者或多者。在本实施例中，红外光吸收材料IRC的材料与第二色彩转换元件CR2的材料相同，例如为绿色滤光材料，但本发明不以此为限。
图7是依照本发明的一实施例的一种显示装置的剖面示意图。
在此必须说明的是，图7的实施例沿用图2A与图2B的实施例的元件标号与部分内容，其中采用相同或近似的标号来表示相同或近似的元件，并且省略了相同技术内容的说明。关于省略部分的说明可参考前述实施例，在此不赘述。
请参考图7，显示装置1包括遮光元件基板20以及主动元件基板70。
遮光元件基板20包括第一基板100、透明岛状结构110、第一遮光层120’以及色彩转换元件CR。透明岛状结构110位于第一基板100上。第一遮光层120’位于透明岛状结构110上。第一遮光层120’在第一基板100的法线方向D3上重叠于透明岛状结构110的部分顶面110t，且第一遮光层120’具有重叠于透明岛状结构110的顶面110t的第一通孔TH1。色彩转换元件CR位于第一遮光层120’的开口O中，且开口O在第一基板100的法线方向D3不重叠于透明岛状结构110。
主动元件基板70重叠于遮光元件基板20，且包括第二基板700、感光元件L以及第二遮光层720。在本实施例中，主动元件基板70还包括反射层730、像素控制电路740、绝缘层750以及像素电极760。
感光元件L以及第二遮光层720、反射层730、像素控制电路740、绝缘层750以及像素电极760位于第二基板700上。
反射层730位于感光元件L与第二基板700之间。反射层730例如为导电材料(例如金属)。在一些实施例中，反射层730可以作为传递讯号的导线，但本发明不以此为限。
感光元件L可以为任意类型的感光元件。举例来说，在一些实施例中，感光元件L例如包括以下材料中的至少一者：富硅氧化物、富硅氮化物、富硅氮氧化物、富硅碳化物、富硅碳氧化物、氢化富硅氧化物、氢化富硅氮化物及氢化富硅碳化物。在其他实施例中，感光元件L包括P型半导体与N型半导体的堆叠层。
第二遮光层720位于感光元件L与第一遮光层120’之间。第二遮光层720具有第二通孔TH2。感光元件L在第一基板100的法线方向D3上重叠于第二通孔TH2以及第一通孔TH1。在一些实施例中，第二遮光层720的厚度T3较第一遮光层120’的厚度T2小，但本发明不以此为限。
在一些实施例中，第二遮光层720的材料包括金属。在一些实施例中，第二遮光层720可以作为传递讯号的导线，但本发明不以此为限。
像素控制电路740包括一个或多个主动元件，且像素控制电路740适用于控制像素电极760上的电压。像素电极760电性连接至像素控制电路740。在一些实施例中，反射层730及/或第二遮光层720可以与像素控制电路740中的导电结构一起形成，但本发明不以此为限。
绝缘层750覆盖反射层730、第二遮光层720、感光元件L、像素控制电路740。虽然在图7中，绝缘层750简化绘示成一块，但实际上，绝缘层750为多层结构，且反射层730、第二遮光层720、感光元件L、像素控制电路740分布于前述多层结构中。
液晶层LC位于遮光元件基板20与主动元件基板70之间。主动元件基板70位于遮光元件基板20与背光模块BL之间。
在本实施例中，显示装置1适用于指纹识别，背光模块BL发出的光线L1、L2被指纹反射后回到显示装置1，其中入射角度大的光线L1被第一遮光层120’阻挡，且入射角度小的光线L2穿过第一通孔TH1与第二通孔TH2，接着被感光元件L所侦测。基于此，能提升感光元件L侦测出来的影像的对比度。
在本实施例中，显示装置1的遮光元件基板20可以用前述任一实施例的遮光元件基板取代。
图8是依照本发明的一实施例的一种遮光元件基板的剖面示意图。
在此必须说明的是，图8的实施例沿用图2A与图2B的实施例的元件标号与部分内容，其中采用相同或近似的标号来表示相同或近似的元件，并且省略了相同技术内容的说明。关于省略部分的说明可参考前述实施例，在此不赘述。
请参考图8，遮光元件基板80的感光元件810形成于第一基板100上。感光元件810包括第一电极812、感光层814以及第二电极816。感光层814位于第一电极812与第二电极816之间。在一些实施例中，第一电极812形成于第一基板100上，且包括金属或其他导电材料。感光层814形成于第一电极812上，且包括富硅氧化物或其他感光材料。第一平坦层PL1位于感光层814、第一电极812以及第一基板100上，且具有重叠感光层814的开口。第二电极816形成于第一平坦层PL1的开口中，且接触感光层814。第二电极816包括透明导电材料。
第一缓冲层BP1位于第二电极816以及第一平坦层PL1上。第二平坦层PL2位于第一缓冲层BP1上，第二缓冲层BP2位于第二平坦层PL2上。
透明岛状结构110以及第一遮光层120’形成于第二缓冲层BP2上。在一些实施例中，第二缓冲层BP2也可称为延伸部(如图3B的实施例的延伸部112)，且第二缓冲层BP2可以增加透明岛状结构110与第二平坦层PL2之间的附着力。第一遮光层120’具有第一通孔TH1，感光元件810于第一基板100的法线方向D3上重叠于第一通孔TH1。感光元件810位于第一基板100与透明岛状结构110之间。
第三平坦层PL3位于第一遮光层120’上。第三缓冲层BP3位于第三平坦层PL3上。第二遮光层820位于第三缓冲层BP3位于第三平坦层PL3上，且具有在第一基板100的法线方向D3上重叠于第一通孔TH1的第二通孔TH2。感光元件810在第一基板100的法线方向D3上重叠于第二通孔TH2以及第一通孔TH1。在本实施例中，第二遮光层820的厚度T4大于第一遮光层120’的厚度T1，且第二通孔TH2的宽度A3大于第一通孔TH1的宽度A1。在本实施例中，第二遮光层820与第一遮光层120’包括相同或不同的材料。
第四平坦层PL4位于第二遮光层820上。第四缓冲层BP4位于第四平坦层PL4上。第三遮光层830与棱镜(Lens)840位于第四缓冲层BP4上。棱镜(Lens)840位于第三遮光层830的第三通孔TH3中，第三通孔TH3其中在第一基板100的法线方向D3上重叠于第二通孔TH2以及第一通孔TH1。
在本实施例中，遮光元件基板80例如贴合于其他显示面板(未绘出)的背面。举例来说，遮光元件基板80贴合于有机发光二极管显示面板(OLED display panel)、微型发光二极管显示面板(micro-LED display panel)或其他类型的显示面板的背面。前述显示面板发出的光线被反射后，传递至遮光元件基板80中的感光元件810。
综上所述，透明岛状结构的设置能缩小第一遮光层的第一通孔的宽度，由此可以提升第一遮光层的光准直效果，因此，感光元件侦测出来的影像的对比度得以提升。

Claims (17)

1.一种遮光元件基板，包括：
基板；
透明岛状结构，位于该基板上；以及
第一遮光层，位于该透明岛状结构上，其中该第一遮光层重叠于该透明岛状结构的部分顶面，且该第一遮光层具有重叠于该透明岛状结构的顶面的第一通孔。
2.如权利要求1所述的遮光元件基板，其中该第一通孔的宽度小于该透明岛状结构的宽度。
3.如权利要求1所述的遮光元件基板，还包括：
第一色彩转换元件，位于该第一遮光层的第一开口中，且该第一开口不重叠于该透明岛状结构。
4.如权利要求3所述的遮光元件基板，其中位于该第一通孔处的该第一遮光层的厚度为T1，位于该第一开口处的该第一遮光层的厚度为T2，T1小于T2。
5.如权利要求4所述的遮光元件基板，其中厚度T1为200纳米至1200纳米，厚度T2为1000纳米至2000纳米。
6.如权利要求3所述的遮光元件基板，还包括：
延伸部，自该第一开口底部延伸至该第一通孔底部，其中该透明岛状结构与该延伸部相连。
7.如权利要求3所述的遮光元件基板，还包括：
延伸部，连接该透明岛状结构的底部，且该延伸部的宽度大于该透明岛状结构的宽度，其中该透明岛状结构与该延伸部构成阶梯状结构。
8.如权利要求3所述的遮光元件基板，还包括：
第二色彩转换元件以及第三色彩转换元件，分别位于该第一遮光层的第二开口以及第三开口中，且该第二开口以及该第三开口不重叠于该透明岛状结构，其中该第一开口、该第二开口以及该第三开口沿着第一方向排列，且该透明岛状结构在该第一方向上的宽度大于该第二开口在该第一方向上的宽度。
9.如权利要求1所述的遮光元件基板，其中该透明岛状结构的厚度为200纳米至1200纳米。
10.如权利要求1所述的遮光元件基板，还包括：
红外光吸收材料，位于该第一通孔中。
11.如权利要求1所述的遮光元件基板，其中该第一遮光层的材料包括固化的光致抗蚀剂，且该第一遮光层的光密度大于5。
12.如权利要求1所述的遮光元件基板，还包括：
感光元件，位于该基板上，且于该基板的法线方向上重叠于该第一通孔。
13.如权利要求12所述的遮光元件基板，还包括：
平坦层，位于该第一遮光层上；
第二遮光层，位于该平坦层上，且具有在该基板的法线方向上重叠于该第一通孔的第二通孔，其中该感光元件重叠于该第二通孔以及该第一通孔，且该感光元件位于该基板与该透明岛状结构之间。
14.一种显示装置，包括：
遮光元件基板，包括：
第一基板；
透明岛状结构，位于该第一基板上；以及
第一遮光层，位于该透明岛状结构上，其中该第一遮光层重叠于该透明岛状结构的部分顶面，且该第一遮光层具有重叠于该透明岛状结构的顶面的第一通孔；以及
主动元件基板，重叠于该遮光元件基板，且包括：
第二基板；
感光元件，位于该第二基板上；以及
第二遮光层，位于该感光元件与该第一遮光层之间，且具有第二通孔，其中该感光元件在该第一基板的法线方向上重叠于该第二通孔以及该第一通孔。
15.如权利要求14所述的显示装置，其中该第二遮光层的材料包括金属。
16.如权利要求14所述的显示装置，其中该遮光元件基板还包括：
色彩转换元件，位于该第一遮光层的开口中，且该开口不重叠于该透明岛状结构。
17.如权利要求16所述的显示装置，还包括：
液晶层，位于该遮光元件基板与该主动元件基板之间；以及
背光模块，该主动元件基板位于该遮光元件基板与该背光模块之间。
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