CN112864201A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置。所述显示面板包括阵列基板、设置于所述阵列基板上的多个像素电极、以及多个像素定义部，每一所述像素定义部位于对应的所述像素电极上，每一所述像素定义部设有暴露对应的所述像素电极的开口；其中，多个所述像素定义部间隔设置。本发明中的显示面板包括多个间隔设置的像素定义部，减少像素定义部的面积，有效降低有机功能层的脱气量，提高显示面板的可靠性。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
有源矩阵有机发光二极管(Active-matrix organic light-emitting diode，AMOLED)技术是面板行业的发展趋势，相比液晶显示(Liquid Crystal Display，LCD)技术而言，OLED具有结构简化，色域更广，响应时间更快等优点。AMOLED技术目前已量产的是底发光的白光有机发光二极管(White organic light-emitting diode，WOLED)，但该技术采用蒸镀方法制备OLED器件，对有机发光材料浪费极大；且WOLED需要彩膜滤光层(ColorFilter，CF)来滤色才能得到RGB，因而能耗相比传统LCD并不占优；此外，开口率低是底发光结构的先天缺陷，不利于高分辨显示应用。相比底发光的WOLED，顶发光的喷墨打印(InkjetPrinting，IJP)技术对原材料利用超过80％，无需CF进行滤色即可发出RGB色光，且顶发光有利于提高开口率。由于IJP技术的特殊性，需要用到多种有机功能材料，如平坦层、疏水层等，而这些有机功能材料的脱气(out-gas)是导致IJP OLED器件老化的重要因素之一。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种显示面板，所述显示面板包括多个间隔设置的像素定义部，减少像素定义部的面积，降低有机功能层的脱气(out-gas)量，提高显示面板的可靠性。
为实现上述目的，本发明的实施例提供一种显示面板，所述显示面板包括阵列基板、设置于所述阵列基板上的多个像素电极、以及多个像素定义部，每一所述像素定义部位于对应的所述像素电极上，每一所述像素定义部设有暴露对应的所述像素电极的开口；
其中，多个所述像素定义部间隔设置。
在一些实施例中，每一所述像素定义部覆盖对应的所述像素电极的边缘。
在一些实施例中，所述像素电极包括主体部，所述像素定义部包括基体部；
所述像素定义部的所述基体部覆盖所述像素电极的所述主体部的边缘。
在一些实施例中，所述像素电极的所述主体部呈长圆形，所述像素定义部的所述基体部呈环形。
在一些实施例中，所述像素电极包括自所述主体部的外侧延伸出的连接部，所述像素定义部包括自所述基体部的外侧延伸出的延伸部；
所述像素定义部的所述延伸部覆盖所述像素电极的所述连接部。
在一些实施例中，所述像素电极的所述连接部通过过孔与所述阵列基板的薄膜晶体管连接。
本发明实施例提供一种显示面板的制备方法，所述方法包括以下步骤：
提供一阵列基板；
在所述阵列基板上形成多个阵列分布的像素电极；
在所述阵列基板和多个所述像素电极上形成像素定义层；
图案化所述像素定义层以形成多个间隔设置的像素定义部，每一所述像素定义部位于对应的所述像素电极上，每一所述像素定义部设有暴露对应的所述像素电极的开口。
在一些实施例中，所述像素电极包括主体部和自所述主体部的外侧延伸出的连接部；
所述像素定义部包括基体部和自所述基体部的外侧延伸出的延伸部；
所述像素定义部的所述基体部覆盖所述像素电极的所述主体部的边缘，所述像素定义部的所述延伸部覆盖所述像素电极的所述连接部。
在一些实施例中，所述像素电极的所述主体部呈长圆形，所述像素定义部的所述基体部呈环形。
本发明实施例还提供一种显示装置，包括如前述实施例所述的显示面板或如前述实施例所述的方法制备的显示面板。
有益效果：本发明公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置。所述显示面板包括阵列基板、设置于所述阵列基板上的多个像素电极、以及多个像素定义部，每一所述像素定义部位于对应的所述像素电极上，每一所述像素定义部设有暴露对应的所述像素电极的开口；其中，多个所述像素定义部间隔设置。本发明中的显示面板包括多个间隔设置的像素定义部，减少像素定义部的面积，有效降低有机功能层的脱气量，提高显示面板的可靠性。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本发明一实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图2a-图2b为本发明一实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图3a-图3f为本发明一实施例提供的一种显示面板制备方法的层级结构流程图。
附图标记：
100-显示面板；1-阵列基板；11-衬底；12-薄膜晶体管；13-钝化层；14-平坦层；2-像素电极；21-主体部；22-连接部；3-像素定义部；31-基体部；32-延伸部；4-发光层；5-第一金属层。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本发明。此外，本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
具体的，请参阅图1至图2b，本发明提供一种显示面板100，所述显示面板100包括阵列基板1、设置于所述阵列基板1上的多个像素电极2、以及多个像素定义部3，每一所述像素定义部3位于对应的所述像素电极2上，每一所述像素定义部3设有暴露对应的所述像素电极2的开口；
其中，多个所述像素定义部3间隔设置。
所述显示面板100包括阵列基板11、设置于所述阵列基板11上的多个像素电极2、以及多个像素定义部33；多个所述像素电极2可以是呈阵列分布于所述阵列基板1上，也可以是用于与多个像素单元共同连接的公共像素电极2；所述像素电极2可以是ITO/Ag/ITO、Ag/ITO、Al/WOx、Ag/IZO等中的一种；
所述阵列基板1包括衬底11、设置于所述衬底11上的薄膜晶体管12、设置于所述衬底11和所述薄膜晶体管12上且覆盖所述薄膜晶体管12的钝化层13、以及设置于所述钝化层13上的平坦层14。所述衬底11可以是刚性的，也可以是柔性的材质；所述钝化层13可以是SiO2、SiNx、Al2O3等一种或其中任意几种的组合，通过等离子体增强化学的气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD)或溅射等方法制备的绝缘介质；所述平坦层14的材质可以是有机光阻，有机光阻可以是PI系、亚克力系等有机光阻中的一种。
所述显示面板100可以是AMOLED显示面板，具体的，所述显示面板100可以是顶发光模式的打印型AMOLED面板。所述显示面板100的膜层结构中会用到多种有机功能材料，而这些有机功能材料的脱气会导致OLED器件的老化。所述像素定义部3设置成位于对应的所述像素电极2上，且多个像素定义部3间隔设置；其中，所述像素定义部3的材质可以是特殊有机光阻，所述特殊有机光阻具有良好的疏水性。相较于现有的整层连续设置的像素定义层，间隔设置的像素定义部3能减少涂覆所需的面积，即有效降低了有机功能材料的使用量，其所释放的脱气量相应的减少，从而改善显示面板100的RA寿命，提高显示面板100的可靠性。
在一些实施例中，每一所述像素定义部3覆盖对应的所述像素电极2的边缘。可以理解的是，每一所述像素定义部3覆盖对应的所述像素电极2的边缘，以形成各像素单元的开口，在开口区域内设置发光层4，覆盖所述发光层4和所述像素定义部3的开口区域的第一金属层5；所述像素定义部3覆盖所述像素电极2的边缘部分，能够有效减少涂覆所需的面积，有效降低了有机功能材料的使用量及脱气的释放量，减小对所述发光层4的影响，提高显示面板100的可靠性。
在一些实施例中，所述像素电极2包括主体部21，所述像素定义部3包括基体部31；所述像素定义部3的所述基体部31覆盖所述像素电极2的所述主体部21的边缘。所述像素电极2的所述主体部21呈长圆形，所述像素定义部3的所述基体部31呈环形。
可以理解的是，所述像素电极2的具体结构可以包括主体部21，可以在阵列基板1上沉积金属层，将其图形化形成所述像素电极2的所述主体部21，再用蚀刻工艺把所述像素电极2以外的金属层蚀刻掉。与之对应的，所述像素定义部3的具体结构可以包括基体部31，所述基体部31覆盖所述像素电极2的所述主体部21的边缘，能够有效降低有机功能材料的使用量及脱气的释放量，提高显示面板100的可靠性。所述主体部21可以呈长圆形，所述像素定义部3的所述基体部31呈环形，在所述像素定义部3中对应形成长圆形结构的开口区域，有利于喷墨打印的墨水的均匀沉积，提高显示面板100的质量。
在一些实施例中，所述像素电极2包括自所述主体部21的外侧延伸出的连接部22，所述像素定义部3包括自所述基体部31的外侧延伸出的延伸部32；所述像素定义部3的所述延伸部32覆盖所述像素电极2的所述连接部22。所述像素电极2的所述连接部22通过过孔与所述阵列基板1的薄膜晶体管12连接。
可以理解的是，所述像素电极2包括自所述主体部21的外侧延伸出的连接部22，所述过孔贯穿所述阵列基板1的平坦层14和钝化层13，所述连接部22通过所述过孔能够与所述阵列基板1的薄膜晶体管12实现电连接，以实现驱动电路对各像素点明暗状态的控制转换。所述像素定义部3包括自所述基体部31的部分向外延展的延伸部32，所述延伸部32完全覆盖所述连接部22，并与所述连接部22的外形相对应，避免所述连接部22与所述显示面板100上端的第一金属层5短接；同时两者的外形相对应，在满足所述连接部22表面被覆盖的要求下，实现所述像素定义部3的面积最小化，能够有效降低有机功能材料的使用量及脱气的释放量，提高所述显示面板100的可靠性。
请参阅图3a至图3f，本发明实施例提供一种显示面板100的制备方法，所述方法包括以下步骤：
提供一阵列基板1；
在所述阵列基板1上形成多个像素电极2；
在所述阵列基板1和多个所述像素电极2上形成像素定义层；
图案化所述像素定义层以形成多个间隔设置的像素定义部3，每一所述像素定义部3位于对应的所述像素电极2上，每一所述像素定义部3设有暴露对应的所述像素电极2的开口。
可以理解的是，所述阵列基板1的制备包括以下步骤：在一衬底11上采用光刻工艺在薄膜晶体管12(Thin Film Transistor,TFT)相应电极位置进行图形化，并采用等离子体增强化学的气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD)制备一层无机材料的钝化层13；
在上述的钝化层13上制备平坦化的有机光阻材料的平坦层14，在相应位置进行图形化；
在上述的平坦层14上沉积金属层，将其图形化为多个像素电极2，再用蚀刻工艺把像素电极2图案以外的金属层蚀刻掉；
在所述阵列基板1和多个所述像素电极2上涂覆特殊有机光阻，以形成像素定义层，所述像素定义层经光刻工艺图案化后，多个间隔设置的像素定义部3，每一所述像素定义部3位于对应的所述像素电极2上。
具体的，所述衬底11可以是刚性的，也可以是柔性的材质；所述钝化层13可以是SiO2、SiNx、Al2O3等一种或其中任意几种的组合，通过等离子体增强化学的气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD)或溅射等方法制备的绝缘介质，；所述平坦层14的材质可以是有机光阻，有机光阻可以是PI系、亚克力系等有机光阻中的一种。可以采用一张半色调掩膜工艺得到钝化层13和平坦层14的图形，具体步骤包括曝光、显影和刻蚀工艺，同时制备形成贯穿钝化层13和平坦层14的过孔，其比现有的两步光刻制备钝化层13和平坦层14，能够节省光罩数量、简化工艺流程。所述像素电极2可以是ITO/Ag/ITO、Ag/ITO、Al/WOx、Ag/IZO等中的一种。所述显示面板100可以是AMOLED显示面板，具体的，所述显示面板100可以是顶发光模式的打印AMOLED面板。所述显示面板100的多膜层结构中会用到多种有机功能材料，而这些有机功能材料的脱气会导致OLED器件的老化；所述像素定义部3设置成位于对应的所述像素电极2上，且多个像素定义部3间隔设置；其中，所述像素定义部3的材质可以是特殊有机光阻，且所述特殊有机光阻具有良好的疏水性。相较于现有的整层连续设置的像素定义层，间隔设置的像素定义部3能减少涂覆所需的面积，即有效降低了有机功能材料的使用量，其所释放的脱气量相应的减少，从而改善显示面板100的RA寿命，提高显示面板100的可靠性。
在一些实施例中，所述像素电极2包括主体部21和自所述主体部21的外侧延伸出的连接部22；
所述像素定义部3包括基体部31和自所述基体部31的外侧延伸出的延伸部32；
所述像素定义部3的所述基体部31覆盖所述像素电极2的所述主体部21的边缘，所述像素定义部3的所述延伸部32覆盖所述像素电极2的所述连接部22。所述像素电极2的所述主体部21呈长圆形，所述像素定义部3的所述基体部31呈环形。
可以理解的是，所述像素电极2的具体结构可以包括主体部21，可以在阵列基板1上沉积金属层，将其图形化形成所述像素电极2的所述主体部21，再用蚀刻工艺把所述像素电极2以外的金属层蚀刻掉。与之对应的，所述像素定义部3的具体结构可以包括基体部31，所述基体部31覆盖所述像素电极2的所述主体部21的边缘，以形成各像素单元的开口，在开口区域内设置发光层4，覆盖所述发光层4和所述像素定义部3的开口区域的第一金属层5；所述像素定义部3覆盖所述像素电极2的边缘部分，能够有效减少涂覆所需的面积，有效降低了有机功能材料的使用量及脱气的释放量，减小对所述发光层4的影响，提高显示面板100的可靠性。所述主体部21可以呈长圆形，所述基体部31呈环形，在所述像素定义部3中对应形成长圆形结构的开口区域，有利于喷墨打印的墨水的均匀沉积，提高显示面板100的质量。
本发明实施例还提供一种显示装置，所述显示装置包括如前任一实施例中所述的显示面板或如前任一实施例中所述的方法制备的显示面板。所述显示装置可以是固定终端显示装置，例如计算机、家用电视、智能家居设备；也可以是移动终端显示装置，例如移动电话、平板电脑、导航仪、数码相机；以及可以是穿戴式终端显示装置，例如运动手表、虚拟现实穿戴设备。所述显示装置的具体结构可参考如前任一实施例中所述的显示面板的实施例及图1-图2b，在此不再赘述。
本发明公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置。所述显示面板包括阵列基板、设置于所述阵列基板上的多个像素电极、以及多个像素定义部，每一所述像素定义部位于对应的所述像素电极上，每一所述像素定义部设有暴露对应的所述像素电极的开口；其中，多个所述像素定义部间隔设置。本发明中的显示面板包括多个间隔设置的像素定义部，减少像素定义部的面积，有效降低有机功能层的脱气量，提高显示面板的可靠性。
以上对本发明实施例所提供的一种显示面板及其制备方法、显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括阵列基板、设置于所述阵列基板上的多个像素电极、以及多个像素定义部，每一所述像素定义部位于对应的所述像素电极上，每一所述像素定义部设有暴露对应的所述像素电极的开口；
其中，多个所述像素定义部间隔设置。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，每一所述像素定义部覆盖对应的所述像素电极的边缘。
3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述像素电极包括主体部，所述像素定义部包括基体部；
所述像素定义部的所述基体部覆盖所述像素电极的所述主体部的边缘。
4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述像素电极的所述主体部呈长圆形，所述像素定义部的所述基体部呈环形。
5.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述像素电极包括自所述主体部的外侧延伸出的连接部，所述像素定义部包括自所述基体部的外侧延伸出的延伸部；
所述像素定义部的所述延伸部覆盖所述像素电极的所述连接部。
6.如权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述像素电极的所述连接部通过过孔与所述阵列基板的薄膜晶体管连接。
7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
提供一阵列基板；
在所述阵列基板上形成多个像素电极；
在所述阵列基板和多个所述像素电极上形成像素定义层；
图案化所述像素定义层以形成多个间隔设置的像素定义部，每一所述像素定义部位于对应的所述像素电极上，每一所述像素定义部设有暴露对应的所述像素电极的开口。
8.如权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述像素电极包括主体部和自所述主体部的外侧延伸出的连接部；
所述像素定义部包括基体部和自所述基体部的外侧延伸出的延伸部；
所述像素定义部的所述基体部覆盖所述像素电极的所述主体部的边缘，所述像素定义部的所述延伸部覆盖所述像素电极的所述连接部。
9.如权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述像素电极的所述主体部呈长圆形，所述像素定义部的所述基体部呈环形。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-6任一项所述的显示面板或如权利要求7-9任一项所述的方法制备的显示面板。
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