CN112578600A - 液晶单元组装体 - Google Patents
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Abstract
一种方法,包括:在膜组件上原位形成间隔结构材料层,并且在所述膜组件上原位图案化所述间隔结构材料层以至少在液晶单元的有源区域中界定用于液晶单元阵列的间隔结构;在将密封剂材料分配到围绕液晶单元阵列的每个有源区域的相应密封剂沉积区域中的两个组件中的一个或多个上之后,以及在将一滴或多滴液晶材料分配到液晶单元阵列的每个有源区域中的两个组件中的一个或多个上之后,将对立组件施加到所述膜组件上;将两个组件压制在一起,以便将液晶材料的液滴散布在有源区域上;其中,在压制之后,用于每个液晶单元的密封剂材料与用于相应液晶单元的液晶材料交界;并且其中每个所述密封剂沉积区域具有相应的内周边,并且该方法还包括可控地改变横跨液晶单元阵列的所述内周边尺寸,以便补偿横跨液晶单元阵列的间隔结构的一个或多个特性的变化。
Description
技术领域
本发明涉及液晶单元装配的方法。
背景技术
液晶(LC)单元通常包括在其间界定了单元间隙的两个半单元,以及填充于该单元间隙的液晶材料。
在两个半单元之间散布的预先制备的间隔元件(例如间隔球/珠/纤维)已经用于界定在成品单元中两个半单元之间具有精确厚度的单元间隙;但是使用构建到半单元之一或两者中的间隔结构的有序阵列具有位置控制的优点。对于像素化显示器件的示例,优选的是将有源区域(active area)的间隔结构设置在像素区域之间的黑矩阵区域中。
本申请的发明人致力于开发一种大规模生产技术,该大规模生产技术包括处理大面积塑料薄膜组件(母组件)以从母组件产生多个LC单元。
参考图4,本申请的发明人已经观察到由单个母组件生产的一组LC单元中的局部缺陷,并且已经识别出LC单元中这些缺陷的出现与LC单元在生产其的母组件内占据的位置之间的相关性。观察到的缺陷包括(a)气泡和(b)当在彼此成45度取向的偏振片之间观察未驱动的LC单元时,它们自身表现为颜色不均匀性的缺陷,以及当在彼此成90度取向的两个偏振片之间LC单元被白色驱动时,它们自身表现为黄色斑点的缺陷。本申请的发明人已经将这些缺陷的出现归因于在母组件的区域上的间隔结构特性(起始厚度、弹性)的小变化。
发明内容
本发明提供一种方法,所述方法包括:在膜组件上原位形成间隔结构材料层,并且在所述膜组件上原位图案化所述间隔结构材料层以至少在液晶单元的有源区域中界定用于液晶单元阵列的间隔结构;在将密封剂材料分配到围绕液晶单元阵列的每个有源区域的相应密封剂沉积区域中的两个组件中的一个或多个上之后,以及在将一滴或多滴液晶材料分配到液晶单元阵列的每个有源区域中的两个组件中的一个或多个上之后,将对立组件施加到所述膜组件上;将两个组件压制在一起,以便将液晶材料的液滴散布在有源区域上;其中,在压制之后,用于每个液晶单元的密封剂材料与用于相应液晶单元的液晶材料交界;并且其中每个所述密封剂沉积区域具有相应的内周边,并且该方法还包括可控地改变横跨液晶单元阵列的所述内周边尺寸,以便补偿横跨液晶单元阵列的间隔结构的一个或多个特性的变化。
根据一种实施例,所述方法包括:基于一个或多个生产测试中的间隔结构测量来预测所述间隔结构的所述一个或多个特性的变化;并且其中,可控地改变横跨液晶单元阵列的所述内周边尺寸是基于所述预测的变化。
根据一种实施例,所述间隔结构的所述一个或多个特性包括所述间隔结构的高度。
附图说明
本发明的实施例在下面参考附图通过仅为示例的方式进行详细描述,其中:
图1示出了根据本发明的实施例的方法的两个早期阶段;
图2示出了图1的方法的后续阶段;
图3进一步示出了图2中所示的组件;以及
图4示出了在不使用本发明的情况下由单个母组件制造的一组LC单元中出现的局部缺陷。
具体实施方式
在一个示例性实施例中,该技术用于制造有机液晶显示(OLCD)器件,其包括用于控制组件的有机晶体管器件(例如有机薄膜晶体管(OTFT)器件)。OTFT包括用于半导体通道的有机半导体(例如有机聚合物或小分子半导体)。本发明的技术同样也可应用于其它类型器件的LC单元的生产,例如自适应透镜器件等。
参考图1,根据本发明实施例的方法的示例的描述,开始于在大面积膜组件(母组件)2上原位形成一层间隔结构材料层14。母组件2已经包括大面积支撑膜和在大面积支撑膜上原位形成的层的堆叠。该堆叠界定了用于多个LC单元的像素电极阵列,以及用于每个LC单元的电路以供通过超出相应像素电极阵列的边缘的导体来独立地寻址每个像素电极。在该示例中,被用于LC单元的像素电极阵列占据的区域是该LC单元的有源区域(activearea,AA)。
在该示例中,母组件2为十二个LC单元提供半单元,但在图1和图2中仅示出十二个半单元中的三个。
在该示例中,支撑膜是亚100微米厚的塑料膜,例如三乙酸纤维素(TAC)膜;并且用于通过显示器件的有源区域外部的导体独立控制每个像素电极处的电势的电路是有源矩阵电路。对于每个LC单元,堆叠为每个像素电极界定相应的薄膜晶体管(TFT)。该堆叠为每个LC单元界定了源极-漏极导体图案和栅极导体图案。用于LC单元的源极导体图案界定:(i)源极导体阵列,每个源极导体为相应的TFT行提供源极电极,并且每个源极导体延伸到有源显示区域(active display area)外部;以及(ii)漏极导体阵列,每个漏极导体与相应的像素电极接触。用于LC单元的栅极导体图案界定栅极导体阵列,每个栅极导体提供用于相应的TFT列的栅极电极,并且每个栅极导体延伸到有源显示区域的外部。术语“行”和“列”一起表示任何一对基本上正交的相对方向。每个像素电极与源极和栅极导体的相应唯一组合相关联,由此每个像素电极可以经由源极和栅极导体独立地被寻址。
在该示例中,该堆叠包括通过溶液处理在支撑膜上原位形成的有机聚合物半导体层,该半导体层提供用于上述TFT的半导体通道。该堆叠还包括也通过溶液处理在支撑膜上原位形成的有机聚合物绝缘体/介电层。
该母组件2的生产被设计成针对十二个LC单元中的每一个产生相同的像素电极阵列和相同的电路。
在该示例中,在母组件2上原位形成间隔结构材料层14包括沉积间隔结构材料的溶液的膜,所述膜通过液体处理技术(例如旋涂)沉积于母组件2的整个上表面的上述堆叠的最上面的隔离层16上。在该示例中,间隔结构材料是有机聚合物材料(例如光致抗蚀剂材料),其在显影剂溶剂中的溶解度可以通过暴露于辐射而改变。使用简单的二元光掩模,以引起间隔结构材料的溶解度改变的辐射频率,将间隔结构材料层14暴露于间隔结构阵列14所需的图案的辐射图像(负或正,取决于用于间隔结构材料的光致抗蚀剂材料的类型)。然后使用上述显影剂溶剂对所得的潜在溶解度图像进行显影,以产生用于十二个LC单元的间隔结构14a、14b、14c的相应阵列。通过参照由堆叠中的一个或多个导体图案界定的对准标记来控制上述光掩模的位置,可以控制每个间隔结构14相对于下面的电路的位置。
就形成或图案化间隔结构材料层的方式而言,在十二个LC单元之间没有差别,目的是产生对于所有十二个单元具有相同特性的间隔结构的相同阵列。然而,如上所述,本申请的发明人已经识别出产品LC单元中的缺陷,发明人认为这些缺陷是由于在大面积母组件2的区域上的间隔结构特性的非预期变化造成的。
在该示例中,最上面的隔离层16(其上形成有间隔结构)包括与用于间隔结构的光致抗蚀剂材料相同的光致抗蚀剂材料。通过整片辐射曝光(flood radiation exposure),使得整个最上面的隔离层16不溶于用于沉积间隔结构材料层14的溶剂。
在该示例中,通过包括以下步骤的技术为每个LC单元提供液晶取向表面:在形成间隔结构14的阵列之后,在母组件2上原位形成聚酰亚胺材料层18,并对所得工件的上表面进行摩擦处理,以在聚酰亚胺层18的暴露表面上产生微槽。用于产生LC取向表面的技术的另一个示例是光取向技术,其使用照射代替机械手段来获得控制LC材料的取向的表面。
参照图2和3,可固化的密封剂材料8a-8l被分配到母组件2上,于完全围绕在LC单元的相应的有源区域的相应的密封剂沉积区域8a-8l中。参照图2,将LC材料6a、6b、6c的液滴分配到母组件2上、于LC单元的有源区域AA中。在该示例中,为每个LC单元分配一滴LC材料。使用分配机来自动分配LC材料液滴,该分配机于各个LC单元之间不作任何区分。LC材料分配机被配置成为每个LC单元分配相同体积的LC材料。如上所述,将密封剂材料8a-8l完全围绕每个LC单元的有源区域AA地沉积于各个密封剂沉积区域8a-8l中。密封剂8a-8l可以在下述的母组件装配(LC单元装配)过程中从这些密封剂沉积区域扩散,但是密封剂的这种扩散程度预计对于所有LC单元基本上相同。在如下所述的母组件装配(单元装配)之后,在完成的LC单元中,密封剂材料8a-8l与LC材料交界,并防止LC材料横向扩散超过内周边IP(密封剂限制LC材料6可横向扩散的程度)。可固化密封剂材料8a-8l的分配也是自动的,但是密封剂分配机被设置成使得至少两个LC单元之间在密封剂沉积区域8a-8l的内周边尺寸(由内周边IPa-IPl限定的面积)方面产生差异。密封剂分配机的设置方面是基于对横跨母组件2的区域的间隔结构14的特性(预压缩厚度、弹性)变化的测试观察来确定的,并且通过调节LC材料可以扩散的区域来补偿间隔结构14的这些特性变化。在该示例中,在用于大规模生产的工艺之后的一个或多个测试运行中,在横跨母组件2的区域的多个点进行(使用3D显微镜或白光干涉测量法)间隔结构14的高度的局部测量(即,在图案化以界定间隔结构14之后,间隔结构层的高度)。从这些局部测量产生横跨母组件的间隔结构高度的过程特性变化的预测。对于母组件中被预测(基于上述测试运行测量)其间隔结构的高度小于母组件2的其他LC单元区域的间隔结构的高度的一个或多个LC单元区域,密封剂沉积区域(8a-8l)的内周边IPa-IPl尺寸被设置成大于(与预测的间隔结构高度差成比例)所述母组件2的其它区域,从而防止LC过量填充在这些LC单元区域的完成的LC单元中。类似地,对于母组件中被预测(基于上述测试运行测量)间隔结构14的高度小于其他LC单元区域的那些LC单元区域,密封剂沉积区域(8a-8l)的内周边IPa-IPl尺寸被设置为小于(与预测的间隔结构高度差成比例)所述母组件2的其他LC单元区域,从而防止LC未填满完成的LC单元。
在分配密封剂8a-8l和LC材料6a、6b、6c之后,将对立母组件4(其为所有十二个LC单元提供对立半单元)施加到母组件2;并且两个母组件2、4在真空下、在相对短的时间(通常小于60秒)内被压制在一起以装配LC单元。
持续进行两个母组件2、4的压制在一起,直到例如压力测量(或者例如在具有已知压力-时间曲线的压制过程的情况下的时间测量)指示计算出的值、该值对于将LC材料的液滴进一步散布在相应的有源区域AA上(并使LC材料6a、6b、6c与密封剂材料8a-8l接触)并完全界定LC填充是必要的。最终压力值(即,停止压制时的压力值)的计算考虑了间隔结构材料的可压缩性。如上所述,该压制过程也可导致密封剂材料8a-8l的一些扩散(即,密封剂8a-8l占据的区域的内周边尺寸的一些变化),但是扩散程度被预期对于横跨母组件2、4的整个区域的所有LC单元基本上相同。
在两个母组件2、4在真空下这样压制在一起的情况下,通过例如穿过母组件(以及在生产和单元装配过程期间暂时粘附到母组件以支撑母组件的相对刚性的载体)的密封剂材料的UV照射来执行密封剂8a-8l的固化(部分或完全)。固化的密封剂8a-8l用于在将两个母组件2、4压制在一起的外力去除之后将母组件保持在一起。
在此示例中,使所得母组件组装件经受热压过程以从母组件组装件释放相对刚性的载体。在该示例中,该热压过程在烘箱中在高于LC材料6a、6b、6c的清除温度Tc的温度下进行约1至120分钟的持续时间,在该示例中,密封剂材料8a-8l除了UV可固化组分(例如丙烯酸组分)之外还包括热可固化组分(例如环氧组分),并且该热可固化组分通过热压过程的热而固化。或者,密封剂材料8a-8l不包括热可固化组分,并且密封剂材料通过上述UV固化工艺而完全固化。
在该示例中,第二母组件4还包括大面积支撑膜(例如,诸如三乙酸纤维素(TAC)的另一亚100微米塑料膜)2,并为每个LC单元提供滤色器阵列10。在第二母组件的一个表面上还提供了液晶取向表面12。在该示例中,还通过在第二母组件4的柔性支撑膜2上原位形成聚酰亚胺材料层12(图2所示)(通过第二母组件4的滤色器阵列10),并对聚酰亚胺层12的表面进行机械摩擦处理以在聚酰亚胺层12的暴露表面中产生微槽,来提供该液晶取向表面。
于不存在由像素电极和对立电极(根据LC单元的类型,该对立电极可以是或可以不是与像素电极阵列相同的半单元的一部分)之间的电势差产生的任何覆盖电场的情况下,两个组件2、4的液晶取向表面用于控制LC材料的指向矢的取向。
在一个示例中,光间隔结构14以及最上面的隔离层16(在光间隔结构14正下方)都包括交联的环氧基光致抗蚀剂,称为SU-8。
如上所述,以上已经参考具体的处理细节详细描述了根据本发明的技术的示例,但是该技术在本申请的一般教示内可更广泛地适用。另外,根据本发明的一般教示,根据本发明的技术可以包括以上未描述的附加处理步骤,和/或省略以上描述的一些处理步骤。
除了上面明确提到的任何修改之外,对于本领域技术人员来说,显然可以在本发明的范围内对所描述的示例进行各种其他修改。
申请人由此独立地公开了本文所述的每个单独的特征以及两个或更多个这样的特征的任何组合,公开到以本领域技术人员的公知常识能够整体上基于本说明来执行这样的特征或组合的程度,而不论这样的特征或特征的组合是否解决本文所公开的任何问题,并且不对权利要求的范围造成限制。申请人指出,本发明的各方面可以由任何这样的单独特征或特征的组合来组成。
Claims (3)
1.一种方法,其特征在于,所述方法包括:在膜组件上原位形成间隔结构材料层,并且在所述膜组件上原位图案化所述间隔结构材料层以至少在液晶单元的有源区域中界定用于液晶单元阵列的间隔结构;在将密封剂材料分配到围绕液晶单元阵列的每个有源区域的相应密封剂沉积区域中的两个组件中的一个或多个上之后,以及在将一滴或多滴液晶材料分配到液晶单元阵列的每个有源区域中的两个组件中的一个或多个上之后,将对立组件施加到所述膜组件上;将两个组件压制在一起,以便将液晶材料的液滴散布在有源区域上;其中,在压制之后,用于每个液晶单元的密封剂材料与用于相应液晶单元的液晶材料交界;并且其中每个所述密封剂沉积区域具有相应的内周边,并且该方法还包括可控地改变横跨液晶单元阵列的所述内周边尺寸,以便补偿横跨液晶单元阵列的间隔结构的一个或多个特性的变化。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法包括:基于一个或多个生产测试中的间隔结构测量来预测所述间隔结构的所述一个或多个特性的变化;并且其中,可控地改变横跨液晶单元阵列的所述内周边尺寸是基于所述预测的变化。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述间隔结构的所述一个或多个特性包括所述间隔结构的高度。
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