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CN112002820A - Oled显示面板的制作方法及oled显示面板 - Google Patents

Oled显示面板的制作方法及oled显示面板 Download PDF

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CN112002820A
CN112002820A CN202010786585.XA CN202010786585A CN112002820A CN 112002820 A CN112002820 A CN 112002820A CN 202010786585 A CN202010786585 A CN 202010786585A CN 112002820 A CN112002820 A CN 112002820A
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disposing
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杜中辉
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Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
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Abstract

本申请提供了一种OLED显示面板的制作方法,包括以下步骤:提供一基板,所述基板上设置有多个间隔分布的像素界定层;在所述基板上设置空穴注入层,所述空穴注入层位于多个像素界定层的间隙内;在所述空穴注入层上设置空穴传输层;在所述空穴传输层上设置有机发光层;在所述有机发光层以及所述像素界定层上设置电子传输层;在所述电子传输层上设置阴极金属层,所述阴极金属层包括位于所述像素界定层上方的第一区域以及位于所述有机发光层上方的第二区域;对所述第一区域的阴极金属层进行处理,以降低所述第一区域的阴极传输层的导电性。

Description

OLED显示面板的制作方法及OLED显示面板
技术领域
本申请涉及显示技术领域,具体而言,涉及一种OLED显示面板的制作方法及OLED显示面板。
背景技术
有机电致发光器件(OLED)以其自发光、全固态、高对比等优点,成为近年来最具潜力的新型显示器件。目前OLED的应用方向有Side by Side的RGB OLED技术,以及WhiteOLED+CF的技术两大类。而产品主要分为小尺寸的手机、Pad屏幕和较大尺寸的TV屏幕等。在大尺寸OLED应用方向,面市产品集中在Bottom发光结构,阴极采用较厚的金属层。但随着分辨率的增长,Bottom OLED会受到开口率的限制,难以实现高分辨率。越来越多的从业者将精力转向Top OLED的开发,以期望实现更高的分辨率。
用喷墨打印技术制备R/G/B的OLED器件,容易发生漏电流。
发明内容
本申请实施例的目的在于提供一种OLED显示面板的制作方法及OLED显示面板,可以减小漏电流,避免OLED显示面板的分辨率被开口率限制,可以提高OLED显示面板的分辨率。
第一方面,本申请实施例提供了一种OLED显示面板的制作方法,包括:
提供一基板,所述基板上设置有多个间隔分布的像素界定层;
在所述基板上设置空穴注入层,所述空穴注入层位于多个像素界定层的间隙内;
在所述空穴注入层上设置空穴传输层;
在所述空穴传输层上设置有机发光层;
在所述有机发光层以及所述像素界定层上设置电子传输层;
在所述电子传输层上设置阴极金属层,所述阴极金属层包括位于所述像素界定层上方的第一区域以及位于所述有机发光层上方的第二区域;
对所述第一区域的阴极金属层进行处理,以降低所述第一区域的阴极传输层的导电性。
可选地,在本申请实施例所述的OLED显示面板的制作方法中,所述对所述第一区域的阴极金属层进行处理,以降低所述第一区域的阴极金属层的导电性的步骤包括:
采用紫外光对所述第一区域的阴极传输层进行照射处理,以降低第一区域的阴极金属层的导电性。
可选地,在本申请实施例所述的OLED显示面板的制作方法中,所述紫外光的光照度为10-60w/cm2
可选地,在本申请实施例所述的OLED显示面板的制作方法中,采用激光对所述第一区域的阴极传输层进行照射处理,以降低第一区域的阴极金属层的导电性。
可选地,在本申请实施例所述的OLED显示面板的制作方法中,所述对所述第一区域的阴极金属层进行处理,以降低所述第一区域的阴极金属层的导电性的步骤包括:
提供一遮光板,所述遮光板包括透光区域,所述透光区域的形状参数及尺寸参数分别与所述第一区域相同;
将所述遮光板放置在所述阴极金属层进行紫外光照射,,以降低所述第一区域的阴极金属层的导电性。
可选地,在本申请实施例所述的OLED显示面板的制作方法中,所述在所述基板上的位于所述多个像素界定层之间设置空穴注入层的步骤包括:
采用喷墨打印的方式在所述基板上的位于所述多个像素界定层之间设置空穴注入层。
可选地,在本申请实施例所述的OLED显示面板的制作方法中,所述在所述有机发光层以及所述像素界定层上设置电子传输层的步骤包括:
采用真空蒸镀工艺在所述有机发光层以及所述像素界定层上设置电子传输层。
可选地,在本申请实施例所述的OLED显示面板的制作方法中,所述在所述电子传输层上设置阴极金属层的步骤包括:
采用真空蒸镀工艺在所述电子传输层上设置阴极金属层
第二方面,本申请实施例还提供了一种OLED显示面板,包括:
基板,所述基板上设置有多个间隔分布的像素界定层;
空穴注入层,所述空穴注入层设置于所述基板上并位于多个像素界定层的间隙内;
空穴传输层,其设置于所述空穴注入层上;
有机发光层,其设置于所述空穴传输层上;
电子传输层,其设置于所述有机发光层以及所述像素界定层上;
阴极金属层,所述阴极金属层包括位于所述像素界定层上方的第一区域以及位于所述有机发光层上方的第二区域;所述第一区域的阴极金属层的导电性被处理为低于所述第二区域的阴极金属层的导电性。
可选地,在本申请实施例所述的OLED显示面板中,所述基板与所述空穴注入层之间还设置有阳极金属层。
由上可知,本申请实施例通过提供一基板,所述基板上设置有多个间隔分布的像素界定层;在所述基板上设置空穴注入层,所述空穴注入层位于多个像素界定层的间隙内;在所述空穴注入层上设置空穴传输层;在所述空穴传输层上设置有机发光层;在所述有机发光层以及所述像素界定层上设置电子传输层;在所述电子传输层上设置阴极金属层,所述阴极金属层包括位于所述像素界定层上方的第一区域以及位于所述有机发光层上方的第二区域;对所述第一区域的阴极金属层进行处理,以降低所述第一区域的阴极传输层的导电性;从而减小漏电流,避免OLED显示面板的分辨率被开口率限制,可以提高OLED显示面板的分辨率。
本申请的其他特征和优点将在随后的说明书阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本申请实施例了解。本申请的目的和其他优点可通过在所写的说明书、权利要求书、以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对本申请实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本申请实施例提供的OLED显示面板的制作方法的流程图。
图2-图4为本申请实施例提供的OLED显示面板的制作方法的详细示意图。
图5为本申请实施例提供的OLED显示面板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此,以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围,而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请的实施例,本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。同时,在本申请的描述中,术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
请参照图1,图1是本申请一些实施例中的一种OLED显示面板的制作方法的流程图,该OLED显示面板的制作方法包括以下步骤:
S101、提供一基板,所述基板上设置有多个间隔分布的像素界定层。
S102、在所述基板上设置空穴注入层,所述空穴注入层位于多个像素界定层的间隙内。
S103、在所述空穴注入层上设置空穴传输层。
S104、在所述空穴传输层上设置有机发光层。
S105、在所述有机发光层以及所述像素界定层上设置电子传输层。
S106、在所述电子传输层上设置阴极金属层,所述阴极金属层包括位于所述像素界定层上方的第一区域以及位于所述有机发光层上方的第二区域。
S107、对所述第一区域的阴极金属层进行处理,以降低所述第一区域的阴极传输层的导电性。
其中,在该步骤S101中,基板上方的两端设置有两个像素界定层,两个像素界定层与基板形成的区域为子像素区,像素界定层分为亲液性和疏液性两种,而像素界定层的材料性质会对形成在子像素区内的膜层造成影响,现有技术中,当像素界定层具有亲液性时,像素界定层中的材料为亲液性材料,在子像素区内容易形成边缘区域厚中间区域薄的有机膜层,当像素界定层具有疏液性时,像素界定层的材料为疏液性材料,在子像素区内容易形成边缘区域薄中间区域厚的有机膜层,这两种情况距会导致的发光亮度不均匀。
如图2所示,其中,在该步骤S102中,可以采用喷墨打印的方式在所述基板11上的位于所述多个像素界定层12之间设置空穴注入层13a。
如图2所示,其中,在该步骤S103中,可以采用喷墨打印的方式在所述基板11上的位于所述多个像素界定层12之间设置空穴传输层13b,当然可以采用沉积的方法来设置该空穴传输层13b。
如图2所示,其中,在该步骤S104中,该有机发光层14包括多个有机发光单体,通常情况下,该有机发光层14的多个有机发光层包括绿色发光单体、蓝色发光单体以及红色发光单体,其中,一绿色发光单体、蓝色发光单体以及红色发光单体组成一个像素单元。
如图2所示,其中,在该步骤S105中,可以采用真空蒸镀工艺在所述有机发光层以及所述像素界定层上设置电子传输层16。
如图3所示,其中,在该步骤S106中,可以采用真空蒸镀工艺在所述电子传输层16上设置阴极金属层17。
如图4所示,其中,在该步骤S107中,可以采用紫外光对所述第一区域的阴极传输层进行照射处理,以降低第一区域的阴极金属层的导电性。紫外光的光照度为10-60w/cm2。或者在另一些实施例中,可以采用激光对所述第一区域的阴极传输层进行照射处理,以降低第一区域的阴极金属层的导电性,从而减小漏电流,避免OLED显示面板的分辨率被开口率限制。
在一些实施例中,该步骤S107包括以下子步骤:提供一遮光板,所述遮光板包括透光区域,所述透光区域的形状参数及尺寸参数分别与所述第一区域相同;将所述遮光板放置在所述阴极金属层进行紫外光照射,以降低所述第一区域的阴极金属层的导电性。
由上可知,本申请实施例通过提供一基板,所述基板上设置有多个间隔分布的像素界定层;在所述基板上设置空穴注入层,所述空穴注入层位于多个像素界定层的间隙内;在所述空穴注入层上设置空穴传输层;在所述空穴传输层上设置有机发光层;在所述有机发光层以及所述像素界定层上设置电子传输层;在所述电子传输层上设置阴极金属层,所述阴极金属层包括位于所述像素界定层上方的第一区域以及位于所述有机发光层上方的第二区域;对所述第一区域的阴极金属层进行处理,以降低所述第一区域的阴极传输层的导电性;从而减小漏电流,避免OLED显示面板的分辨率被开口率限制,可以提高OLED显示面板的分辨率。
请参照图5,图5是本申请一些实施例中的一种OLED显示面板的结构示意图,OLED显示面板包括:基板11,所述基板11上设置有多个间隔分布的像素界定层12;空穴注入层13a,所述空穴注入层13a设置于所述基板11上并位于多个像素界定层12的间隙内;空穴传输层13b,其设置于所述空穴注入层上;有机发光层14,其设置于所述空穴传输层上;电子传输层15,其设置于所述有机发光层以及所述像素界定层上;阴极金属层16,所述阴极金属层包括位于所述像素界定层上方的第一区域以及位于所述有机发光层上方的第二区域;所述第一区域的阴极金属层的导电性被处理为低于所述第二区域的阴极金属层的导电性。可以理解地,该基板与所述空穴注入层之间还设置有阳极金属层。
在本申请所提供的实施例中,应该理解到,所揭露装置和方法,可以通过其它的方式实现。以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的,例如,所述单元的划分,仅仅为一种逻辑功能划分,实际实现时可以有另外的划分方式,又例如,多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统,或一些特征可以忽略,或不执行。另一点,所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些通信接口,装置或单元的间接耦合或通信连接,可以是电性,机械或其它的形式。
另外,作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的,作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元,即可以位于一个地方,或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。
再者,在本申请各个实施例中的各功能模块可以集成在一起形成一个独立的部分,也可以是各个模块单独存在,也可以两个或两个以上模块集成形成一个独立的部分。
在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。
以上所述仅为本申请的实施例而已,并不用于限制本申请的保护范围,对于本领域的技术人员来说,本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种OLED显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一基板,所述基板上设置有多个间隔分布的像素界定层;
在所述基板上设置空穴注入层,所述空穴注入层位于多个像素界定层的间隙内;
在所述空穴注入层上设置空穴传输层;
在所述空穴传输层上设置有机发光层;
在所述有机发光层以及所述像素界定层上设置电子传输层;
在所述电子传输层上设置阴极金属层,所述阴极金属层包括位于所述像素界定层上方的第一区域以及位于所述有机发光层上方的第二区域;
对所述第一区域的阴极金属层进行处理,以降低所述第一区域的阴极传输层的导电性。
2.根据权利要求1所述的OLED显示面板的制作方法,其特征在于,所述对所述第一区域的阴极金属层进行处理,以降低所述第一区域的阴极金属层的导电性的步骤包括:
采用紫外光对所述第一区域的阴极传输层进行照射处理,以降低第一区域的阴极金属层的导电性。
3.根据权利要求2所述的OLED显示面板的制作方法,其特征在于,所述紫外光的光照度为10-60w/cm2
4.根据权利要求1所述的OLED显示面板的制作方法,其特征在于,采用激光对所述第一区域的阴极传输层进行照射处理,以降低第一区域的阴极金属层的导电性。
5.根据权利要求1所述的OLED显示面板的制作方法,其特征在于,所述对所述第一区域的阴极金属层进行处理,以降低所述第一区域的阴极金属层的导电性的步骤包括:
提供一遮光板,所述遮光板包括透光区域,所述透光区域的形状参数及尺寸参数分别与所述第一区域相同;
将所述遮光板放置在所述阴极金属层进行紫外光照射,以降低所述第一区域的阴极金属层的导电性。
6.根据权利要求1所述的OLED显示面板的制作方法,其特征在于,所述在所述基板上的位于所述多个像素界定层之间设置空穴注入层的步骤包括:
采用喷墨打印的方式在所述基板上的位于所述多个像素界定层之间设置空穴注入层。
7.根据权利要求1所述的OLED显示面板的制作方法,其特征在于,所述在所述有机发光层以及所述像素界定层上设置电子传输层的步骤包括:
采用真空蒸镀工艺在所述有机发光层以及所述像素界定层上设置电子传输层。
8.根据权利要求1所述的OLED显示面板的制作方法,其特征在于,所述在所述电子传输层上设置阴极金属层的步骤包括:
采用真空蒸镀工艺在所述电子传输层上设置阴极金属层。
9.一种OLED显示面板,其特征在于,包括:
基板,所述基板上设置有多个间隔分布的像素界定层;
空穴注入层,所述空穴注入层设置于所述基板上并位于多个像素界定层的间隙内;
空穴传输层,其设置于所述空穴注入层上;
有机发光层,其设置于所述空穴传输层上;
电子传输层,其设置于所述有机发光层以及所述像素界定层上;
阴极金属层,所述阴极金属层包括位于所述像素界定层上方的第一区域以及位于所述有机发光层上方的第二区域;所述第一区域的阴极金属层的导电性被处理为低于所述第二区域的阴极金属层的导电性。
10.根据权利要求9所述的OLED显示面板,其特征在于,所述基板与所述空穴注入层之间还设置有阳极金属层。
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