CN111929992A - 移动体装置、曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法、以及物体的移动方法 - Google Patents

Abstract

一种移动体装置、曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法、以及物体的移动方法。使基板(P)移动的基板载台装置(20)具备：非接触保持具(32)，以非接触方式支承基板(P)；第1驱动系，使非接触保持具(32)移动；标尺板(82)，作为非接触保持具(32)的移动的基准；第1测量部，测量Y读头(78y)的位置信息，具有标尺板(46)与Y读头(78y)，标尺板(46)与Y读头(78y)中的一者设于非接触保持具(32)，标尺板(46)与Y读头(78y)中的另一者设于标尺板(82)与非接触保持具(32)之间；第2测量部，测量标尺板(46)与Y读头(78y)中的另一者的位置信息；及位置测量系，根据由第1及第2测量部测量的位置信息，求出非接触保持具(32)的位置信息。

Description

移动体装置、曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造 方法、以及物体的移动方法

本发明为申请日为2016年09月29日，申请号为“201680057195.0”，发明名称为“移动体装置、曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法、以及物体的移动方法”的发明专利的分案申请。

技术领域

本发明关于移动体装置、曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法、以及物体的移动方法，更详言之，关于使物体移动的移动体装置及移动方法、包含移动体装置的曝光装置、使用曝光装置的平面显示器、或元件的制造方法。

背景技术

以往，在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等的电子元件(微型元件)的微影工序中，使用步进扫描方式的曝光装置(所谓扫描步进机(也称为扫描机))等，其一边使光罩(photomask)或标线片(以下总称为“光罩”)与玻璃板或晶圆(以下总称为“基板”)沿着既定扫描方向同步移动，一边使用能量光束将形成在光罩的图案转印至基板上。

作为此种曝光装置，已知有使用基板载台装置所具有的棒反射镜(长条的镜)求出曝光对象基板在水平面内的位置信息的光干涉仪系统的装置(参照例如专利文献1)。

此处，在使用光干涉仪系统求出基板的位置信息的情况下，无法忽视所谓空气波动的影响。

先行技术文献

专利文献1：美国专利申请公开第2010/0266961号说明书

发明内容

根据本发明的第1方式，提供一种移动体装置，其具备：支承部，其以非接触方式支承物体；保持部，其保持被前述支承部以非接触方式支承的前述物体；第1驱动部，其使前述保持部向彼此交叉的第1及第2方向移动；基准构件，其作为前述保持部向前述第1及第2方向的移动的基准；第1测量部，其具有：具有前述第1方向的测量成分的第1格子部、以及配置成与前述第1格子部对置且对前述第1格子部照射测量光束的第1读头，前述第1格子部与前述第1读头中的一方设于前述保持部，前述第1格子部与前述第1读头中的另一方设于前述基准构件与前述保持部之间，藉由前述第1读头及前述第1格子构件测量前述第1读头的位置信息；第2测量部，其测量前述第1格子部与前述第1读头中的另一方的位置信息；以及位置测量系，其根据由前述第1及第2测量部测量的位置信息，求出在前述第1及第2方向中保持前述物体的前述保持部的位置信息。

根据本发明的第2方式，提供一种曝光装置，其具备：第1方式的移动体装置；以及使用能量束在前述物体形成既定图案的图案形成装置。

根据本发明的第3方式，提供一种平面显示器制造方法，其包含：使用第2方式的曝光装置使前述物体曝光的动作；以及使曝光后的前述物体显影的动作。

根据本发明的第4方式，提供一种元件制造方法，其包含：使用第2方式的曝光装置使前述物体曝光的动作；以及使曝光后的前述物体显影的动作。

根据本发明的第5方式，提供一种物体移动方法，其包含：藉由支承部以非接触方式支承物体的动作；藉由保持部保持被前述支承部以非接触方式支承的前述物体的动作；藉由第1驱动部使前述保持部向彼此交叉的第1及第2方向移动的动作；藉由第1测量部，使用第1读头及第1格子构件测量前述第1读头的位置信息的动作；该第1测量部具有：具有前述第1方向的测量成分的前述第1格子部、以及配置成与前述第1格子部对置且对前述第1格子部照射测量光束的前述第1读头，前述第1格子部与前述第1读头中的一方设于前述保持部，前述第1格子部与前述第1读头中的另一方设于作为前述保持部向前述第1及第2方向移动的基准的基准构件与前述保持部之间；藉由第2测量部测量前述第1格子部与前述第1读头中的另一方的位置信息的动作；以及根据由前述第1及第2测量部测量的位置信息，求出在前述第1及第2方向中保持前述物体的前述保持部的位置信息的动作。

附图说明

图1是概略表示第1实施方式的液晶曝光装置构成的图。

图2是图1的A－A线剖面图。

图3是表示图1的液晶曝光装置所具备的基板载台装置的详细的图。

图4是基板载台装置的要部放大图。

图5是图1的液晶曝光装置所具备的基板位置测量系的概念图。

图6是表示以液晶曝光装置的控制系为中心构成的主控制装置的输出入关系的框图。

图7是用以说明基板载台装置的动作(向－Y方向的步进动作)的图。

图8(a)及图8(b)是用以说明在曝光动作时的基板载台装置的动作(其1)的图(分别为俯视图及主视图)。

图9(a)及图9(b)是用以说明在曝光动作时的基板载台装置的动作(其2)的图(分别为俯视图及主视图)。

图10(a)及图10(b)是用以说明在曝光动作时的基板载台装置的动作(其3)的图(分别为俯视图及主视图)。

图11是第2实施方式的基板位置测量系的概念图。

图12(a)及图12(b)是表示第3实施方式的基板载台装置的图(分别为剖面图、俯视图)。

具体实施方式

《第1实施方式》

以下，使用图1～图10(b)说明第1实施方式。

图1概略表示第1实施方式的液晶曝光装置10的构成。液晶曝光装置10是以用于例如液晶显示装置(平面显示器)等的矩形(角型)的玻璃基板P(以下单称为基板P)作为曝光对象物的步进扫描方式的投影曝光装置、即所谓扫描机。

液晶曝光装置10，具有照明系12、保持形成有电路图案等图案的光罩M的光罩载台14、投影光学系16、装置本体18、保持于表面(图1中为朝向+Z侧的面)涂布有抗蚀剂(感应剂)的基板P的基板载台装置20、以及它们的控制系等。以下，将曝光时光罩M与基板P相对投影光学系16分别被扫描的方向作为X轴方向，将在水平面内与X轴正交的方向作为Y轴方向，将与X轴及Y轴正交的方向作为Z轴方向来进行说明。又，将绕X轴、Y轴、以及Z轴的旋转方向分别作为θx、θy、以及θz方向来进行说明。

照明系12与例如美国专利第5,729,331号说明书等所揭示的照明系同样地构成。也即，照明系12将从未图示的光源(例如水银灯)射出的光分别经由未图示的反射镜、分光镜、光阀、波长选择滤光器、各种透镜等，作为曝光用照明光(照明光)IL照射于光罩M。作为照明光IL，可使用i线(波长365nm)、g线(波长436nm)、h线(波长405nm)等的光(或者上述i线、g线、h线的合成光)。

光罩载台14保持光透过型的光罩M。主控制装置50(参照图6)，经由包含例如线性马达的光罩载台驱动系52(参照图6)将光罩载台14(也即光罩M)相对照明系12(照明光IL)向X轴方向(SCAN方向)以既定长行程驱动，且微幅驱动于Y轴方向及θz方向。光罩载台14在水平面内的位置信息，藉由包含例如激光干涉仪的光罩载台位置测量系54(参照图6)来求出。

投影光学系(投影系)16，配置于光罩载台14的下方。投影光学系16是与例如美国专利第6,552,775号说明书等所揭示的投影光学系相同构成的所谓多透镜投影光学系，具备例如形成正立正像的两侧远心的多个光学系。从投影光学系16投射至基板P的照明光IL的光轴AX与Z轴平行。

液晶曝光装置10，在藉由被来自照明系12的照明光IL照明位于既定照明区域内的光罩M后，藉由通过光罩M的照明光，经由投影光学系16将其照明区域内的光罩M的电路图案的投影像(部分图案的像)形成于基板P上的曝光区域。接着，相对照明区域(照明光IL)使光罩M相对移动于扫描方向，且相对曝光区域(照明光IL)使基板P相对移动于扫描方向，藉此进行基板P上的一个照射区域的扫描曝光，而在该照射区域转印形成在光罩M的图案。此处，光罩M上的照明区域与基板P上的曝光区域(照明光的照射区域)，藉由投影光学系16而成为彼此在光学上共轭的关系。

装置本体18是支承上述光罩载台14及投影光学系16的部分，经由多个防振装置18d而设置于洁净室的地F上。装置本体18与例如美国专利申请公开第2008/0030702号说明书所揭示的装置本体相同地构成，具有支承上述投影光学系16的上架台部18a(也称为光学平台等)、一对下架台部18b(图1中由于重叠于纸面深度方向故一方未图示。参照图2)、以及一对中架台部18c。

基板载台装置20是用以将基板P相对于投影光学系16(照明光IL)高精度地定位的部分，将基板P沿着水平面(X轴方向及Y轴方向)以既定长行程驱动，且微幅驱动于6自由度方向。基板载台装置20，具备底框22、粗动载台24、重量消除装置26、X导杆28、基板平台30、非接触保持具32、一对辅助平台34、基板载具40等。

底框22具备一对X柱22a。X柱22a由延伸于X轴方向的YZ剖面矩形的构件构成。一对X柱22a，在Y轴方向以既定间隔配置，在分别经由脚部22b而与装置本体18物理性分离(在振动上绝缘)的状态下设置于地F上。一对X柱22a及脚部22b，分别藉由连接构件22c而连接为一体。

粗动载台24是用以将基板P向X轴方向以长行程驱动的部分，与上述一对X柱22a对应地具备一对X托架24a。X托架24a形成为YZ剖面倒L字状，经由多个机械式线性导引装置24c而载置于对应的X柱22a上。

一对X托架24a，经由用以驱动基板平台30的基板平台驱动系56(参照图6)一部分也即X线性致动器并藉由主控制装置50(参照图6)，沿着对应的X柱22a向X轴方向被以既定长行程(基板P在X轴方向的长度的1～1.5倍程度)同步驱动。用以驱动X托架24a的X线性致动器的种类能适当变更，图2中，虽使用包含例如X托架24a所具有的可动件与对应的X柱22a所具有的固定件的线性马达24d，但并不限于此，也能使用例如进给螺杆(滚珠螺杆)装置等。

又，如图2所示，粗动载台24具有一对Y固定件62a。Y固定件62a由延伸于Y轴方向的构件构成(参照图1)。一方的Y固定件62a在粗动载台24的+X侧端部近旁，另一方的Y固定件62a则在粗动载台24的－X侧端部近旁，分别架设于一对X托架24a上(参照图1)。Y固定件62a的功能留待后述。

重量消除装置26，插入于粗动载台24所具有的一对X托架24a间，从下方支承包含基板平台30及非接触保持具32的系统的自重。关于重量消除装置26的详细，由于揭示于例如美国专利申请公开第2010/0018950号说明书，因此省略说明。重量消除装置26，经由从该重量消除装置26呈放射状延伸的多个连接装置26a(也称为挠曲装置)，对粗动载台24以机械方式连接，藉由被粗动载台24牵引，而与粗动载台24一体地移动于X轴方向。此外，重量消除装置26，虽经由从该重量消除装置26呈放射状延伸的连接装置26a连接于粗动载台24，但由于仅移动于X轴方向，因此也可为藉由延伸于X方向的连接装置26a而连接于粗动载台24的构成。

X导杆28是作为重量消除装置26移动时的平台发挥功能的部分。X导杆28由延伸于X轴方向的构件所构成，如图1所示，插入底框22所具有的一对X柱22a间，固定于装置本体18所具有的一对下架台部18b上。在Y轴方向，X导杆28的中心与藉由照明光IL而生成于基板P上的曝光区域的中心大致一致。X导杆28的上面设定为与XY平面(水平面)平行。上述重量消除装置26经由例如空气轴承26b以非接触状态载置于X导杆28上。粗动载台24在底框22上移动于X轴方向时，重量消除装置26在X导杆28上移动于X轴方向。

基板平台30，由在俯视时以X轴方向为长边方向的矩形板状(或箱形)的构件构成，如图2所示，以中央部经由球面轴承装置26c相对XY平面摆动自如的状态被重量消除装置26从下方以非接触方式支承。又，如图1所示，在基板平台30连接有一对辅助平台34(图2中未图示)。关于一对辅助平台34的功能，留待后述。

返回图2，基板平台30是基板平台驱动系56(参照图6)的一部分，藉由包含粗动载台24所具有的固定件与基板平台30本身所具有的可动件的多个线性马达30a(例如音圈马达)，而相对粗动载台24，被向相对水平面(XY平面)交叉的方向、也即Z轴方向、θx方向、及θy方向(以下称为Z倾斜方向)适当微幅驱动。

基板平台30，经由从基板平台30呈放射状延伸的多个连接装置30b(挠曲装置)对粗动载台24以机械方式连接。连接装置30b包含例如球接合件，以避免阻碍基板平台30相对粗动载台24的向Z倾斜方向的微小行程的相对移动。又，在粗动载台24向X轴方向以长行程移动时，经由上述多个连接装置30b而被粗动载台24牵引，藉此粗动载台24与基板平台30一体地移动于X轴方向。此外，基板平台30由于不向Y轴方向移动，因此也可不经由对粗动载台24呈放射状延伸的连接装置30b，而是经由在X轴方向平行的多个连接装置30b连接于粗动载台24。

非接触保持具32，由在俯视时以X轴方向为长边方向的矩形板状(或箱形)构件构成，以其上面从下方支承基板P。非接触保持具32，具有使基板P不产生挠曲、皱纹等(予以平面矫正)的功能。非接触保持具32固定于基板平台30的上面，与上述基板平台30一体地向X轴方向以长行程移动，且微幅移动于Z倾斜方向。

非接触保持具32的上面(基板支承面)中的四边各自的长度设定为与基板P四边各自的长度大致相同(实际为略短)。是以，非接触保持具32，能从下方支承基板P的大致整体，具体而言，能从下方支承基板P上的曝光对象区域(基板P的除了形成于端部近旁的空白区域以外的区域)。

设置于基板载台装置20外部的未图标的加压气体供给装置与真空吸引装置，经由例如管(tube)等配管构件连接于非接触保持具32。又，在非接触保持具32的上面(基板载置面)形成有多个与上述配管构件连通的微小孔部。非接触保持具32，藉由将从上述加压气体供给装置供给的加压气体(例如压缩空气)经由上述孔部(的一部分)对基板P下面喷出而使基板P浮起。又，非接触保持具32，与上述加压气体的喷出并用，藉由从上述真空吸引装置供给的真空吸引力，来吸引基板P的下面与基板支承面间的空气。藉此，在基板P作用荷重(预装载)，而沿着非接触保持具32的上面被平面矫正。不过，由于在基板P与非接触保持具32间形成间隙，因此不会阻碍基板P与非接触保持具32在与水平面平行的方向的相对移动。

基板载具40是保持基板P的部分，使该基板P相对照明光IL(参照图1)移动于水平面内的3自由度方向(X轴方向、Y轴方向、及θz方向)。基板载具40，形成为在俯视时为矩形的框状(画框状)，在保持有基板P端部(外周缘部)近旁的区域(空白区域)的状态下，相对非接触保持具32沿着XY平面移动。以下，使用图3说明基板载具40的详细。

基板载具40如图3所示，具备一对X框架42x与一对Y框架42y。一对X框架42x，分别由延伸于X轴方向的平板状构件所构成，在Y轴方向以既定(较基板P及非接触保持具32在Y轴方向的尺寸宽)间隔配置。又，一对Y框架42y，分别由延伸于Y轴方向的平板状构件所构成，在X轴方向以既定(较基板P及非接触保持具32在X轴方向的尺寸宽)间隔配置。

+X侧的Y框架42y，经由间隔件42s连接于一对X框架42x各自的+X侧端部近旁。同样地，－X侧的Y框架42y，经由间隔件42s连接于一对X框架42x各自的－X侧端部近旁中的下面。藉此，一对Y框架42y上面的高度位置(Z轴方向的位置)，设定为较一对X框架42x下面的高度位置低(－Z侧)。

又，在一对X框架42x各自的下面，在X轴方向分离安装有一对吸附垫44。是以，基板载具40，合计具有例如四个吸附垫44。吸附垫44，从一对X框架42x彼此相向的面向彼此对置的方向(基板载具40的内侧)突出配置。例如四个吸附垫44，其水平面内的位置(对X框架42x的安装位置)被设定成以基板P插入一对X框架42x间的状态从下方支承该基板P的四角部近旁(空白区域)。在例如四个吸附垫44分别连接有未图标的真空吸引装置。吸附垫44，藉由从上述真空吸引装置供给的真空吸引力而吸附保持基板P的下面。此外，吸附垫44的数目并不限定于此，能适当变更。

此处，如图2所示，在组合有非接触保持具32与基板载具40的状态下，基板P藉由基板载具40所具有的吸附垫44而从下方被支承(吸附保持)四角部近旁，且包含中央部的大致全面被非接触保持具32从下方以非接触方式支承。在此状态下，基板P的+X侧及－X侧的端部，从非接触保持具32的+X侧及－X侧的端部分别突出，例如四个吸附垫44(图2中一部分未图示)，吸附保持该基板P的从非接触保持具32突出的部分。也即，吸附垫44，其对X框架42x的安装位置被设定成在X轴方向位于非接触保持具32外侧。

其次说明用以驱动基板载具40的基板载具驱动系60(参照图6)。本实施方式中，主控制装置50(参照图6)经由该基板载具驱动系60，将基板载具40相对于非接触保持具32向Y轴方向以长行程驱动，且微幅驱动于水平面内的3自由度方向。又，主控制装置50，经由上述的基板平台驱动系56(参照图6)与基板载具驱动系60，将非接触保持具32与基板载具40向X轴方向一体地(同步地)驱动。

基板载具驱动系60如图2所示具备一对Y线性致动器62，该Y线性致动器62包含上述的粗动载台24所具有的Y固定件62a、及与该Y固定件62a协同地产生Y轴方向的推力的Y可动件62b。在一对Y线性致动器62各自的Y可动件62b，如图4所示安装有Y固定件64a与X固定件66a。

Y固定件64a，构成与安装于基板载具40(Y框架42y的下面)的Y可动件64b协同地对基板载具40赋予Y轴方向的推力的Y音圈马达64。又，X固定件66a，构成与安装于基板载具40(Y框架42y的下面)的X可动件66b协同地对基板载具40赋予X轴方向的推力的X音圈马达66。如此，基板载台装置20，在基板载具40的+X侧及－X侧分别具有各一个Y音圈马达64与X音圈马达66。

此处，在基板载具40的+X侧与－X侧，Y音圈马达64及X音圈马达66，分别以基板P的重心位置为中心配置成点对称。是以，在使用基板载具40的+X侧的X音圈马达66与基板载具40的－X侧的X音圈马达66对基板载具40作用向X轴方向的推力时，可得到与对基板P的重心位置作用向与X轴方向平行的推力的情况相同的效果，也即能抑制对基板载具40(基板P)作用θz方向的力矩。此外，关于一对Y音圈马达64，由于隔着在X轴方向的基板P的重心(线)配置，因此不会对基板载具40作用θz方向的力矩。

基板载具40，经由上述一对Y音圈马达64及一对X音圈马达66，藉由主控制装置50(参照图6)而相对粗动载台24(也即非接触保持具32)被向水平面内的3自由度方向微幅驱动。又，主控制装置50，在粗动载台24(也即非接触保持具32)向X轴方向以长行程移动时，使用上述一对X音圈马达66对基板载具40赋予X轴方向的推力，以使非接触保持具32与基板载具40一体地向X轴方向以长行程移动。

又，主控制装置50(参照图6)，使用上述一对Y线性致动器62及一对Y音圈马达64，使基板载具40相对于非接触保持具32向Y轴方向以长行程相对移动。具体说明之，主控制装置50一边使一对Y线性致动器62的Y可动件62b移动于Y轴方向，一边使用包含安装于该Y可动件62b的Y固定件64a的Y音圈马达64使Y轴方向的推力作用于基板载具40。藉此，基板载具40与非接触保持具32独立(分离)地向Y轴方向以长行程移动。

如上述，本实施方式的基板载台装置20中，保持基板P的基板载具40，在X轴(扫描)方向与非接触保持具32一体地以长行程移动，在Y轴方向，则与非接触保持具32独立地以长行程移动。此外，从图2可知，虽吸附垫44的Z位置与非接触保持具32的Z位置一部分重复，但基板载具40相对非接触保持具32以长行程移动的方向仅为Y轴方向，因此不会有吸附垫44与非接触保持具32接触之虞。

又，在基板平台30(也即非接触保持具32)被驱动于Z倾斜方向时，被非接触保持具32平面矫正后的基板P，由于与非接触保持具32一起在Z倾斜方向变化姿势，因此吸附保持基板P的基板载具40，会与该基板P一起在Z倾斜方向变化姿势。此外，也可藉由吸附垫44的弹性变形使基板载具40的姿势不变化。

返回图1，一对辅助平台34在基板载具40与非接触保持具32分离而向Y轴方向相对移动时与非接触保持具32协同动作而支承该基板载具40所保持的基板P的下面及基板载具40(X框架42x)的装置。如上所述，基板载具40，由于在保持有基板P的状态下相对非接触保持具32移动，因此在从例如图1所示的状态基板载具40向+Y方向移动后，基板P的+Y侧的端部近旁则变得不被非接触保持具32支承。因此，基板载台装置20，为了抑制上述基板P中不被非接触保持具32支承的部分的自重所导致的弯曲，使用一对辅助平台34中的一方从下方支承该基板P。一对辅助平台34，除了配置成纸面左右对称这点以外，其余实质上为相同构造。

辅助平台34如图3所示具有多个气浮单元36。此外，本实施方式中，气浮单元36虽形成为延伸于Y轴方向的棒状，多个气浮单元36是在X轴方向隔着既定间隔配置的构成，但只要能抑制因基板P自重所导致的弯曲，则其形状、数目、配置等不特别限定。多个气浮单元36如图4所示，被从基板平台30侧面突出的臂状支承构件36a从下方支承。在多个气浮单元36与非接触保持具32之间形成有微小间隙。

气浮单元36上面的高度位置设定为与非接触保持具32上面的高度位置大致相同(或略低)。气浮单元36，藉由从其上面对基板P下面喷出气体(例如空气)而以非接触方式支承该基板P。此外，上述的非接触保持具32，虽使预装载作用于基板P来进行基板P的平面矫正，但气浮单元36，由于只要能抑制基板P的弯曲即可，因此也可单仅对基板P下面供给气体，而不特别管理在气浮单元36上的基板P的高度位置。

其次，说明用以测量基板P(基板载具40)在6自由度方向的位置信息的基板位置测量系70(参照图6)。本实施方式的基板位置测量系70如图1所示具有一对读头单元72。一方的读头单元72配置于投影光学系16的－Y侧，另一方的读头单元72配置于投影光学系16的+Y侧。

一对读头单元72的各个读头单元，使用基板载具40所具有的反射型绕射格子来求出基板P在水平面内的位置信息(X轴方向及Y轴方向的位置信息、以及θz方向的旋转量信息)。与一对读头单元72对应地，在基板载具40的一对X框架42x各自的上面，如图3所示贴附有多个(图3中为例如六片)标尺板46。标尺板46是延伸于X轴方向的俯视带状的构件。标尺板46的X轴方向长度较X框架42x的X轴方向长度短，多个标尺板46在X轴方向相隔既定间隔(彼此分离地)排列。

图5表示－Y侧的X框架42x及与其对应的读头单元72。在固定于X框架42x上的多个标尺板46的各个标尺板形成有X标尺48x与Y标尺48y。X标尺48x形成于标尺板46的－Y侧的一半区域，Y标尺48y形成于标尺板46的+Y侧的一半区域。X标尺48x具有反射型X绕射格子，Y标尺48y具有反射型Y绕射格子。此外，图5中为了容易理解，形成X标尺48x、Y标尺48y的多条格子线间的间隔(节距)图示成较实际宽。

读头单元72，如图4所示具备Y线性致动器74、藉由该Y线性致动器74而相对投影光学系16(参照图1)被向Y轴方向以既定行程驱动的Y滑件76、以及固定于Y滑件76的多个测量读头(X编码器读头78x,80x、Y编码器读头78y,80y、Z传感器读头78z,80z)。除了在图1及图4中构成为纸面左右对称这点除外，一对读头单元72为相同构成。又，分别固定于一对X框架42x上的多个标尺板46，也在图1及图4中构成为左右对称。

Y线性致动器74固定于装置本体18所具有的上架台部18a的下面。Y线性致动器74，具备将Y滑件76向Y轴方向直进导引的线性导件与对Y滑件76赋予推力的驱动系。线性导件的种类虽无特别限定，但较佳为重复再现性高的空气轴承。又，驱动系的种类也无特别限定，能使用例如线性马达、皮带(或金属线)驱动装置等。

Y线性致动器74由主控制装置50(参照图6)控制。Y线性致动器74所致的Y滑件76向Y轴方向的行程量，设定为与基板P(基板载具40)向Y轴方向的行程量同等。

读头单元72，如图5所示具备一对X编码器读头78x(以下称为“X读头78x”)、一对Y编码器读头78y(以下称为“Y读头”78y)、以及一对Z传感器读头78z(以下称为“Z读头78z”)。一对X读头78x、Y读头78y、Z读头78z，分别在X轴方向相隔既定距离分离配置。

X读头78x及Y读头78y，是例如美国专利申请公开第2008/0094592号说明书所公开的所谓绕射干涉方式的编码器读头，对对应的标尺(X标尺48x、Y标尺48y)朝下(－Z方向)照射测量光束，并接收来自该标尺的光束(返回光)，藉此将基板载具40的位移量信息供给至主控制装置50(参照图6)。

也即，基板位置测量系70(参照图6)，构成用以藉由一对读头单元72所具有的合计例如四个X读头78x、与该X读头78x对置的X标尺48x来求出基板载具40在X轴方向的位置信息的例如四个X线性编码器系统。同样地，构成用以藉由一对读头单元72所具有的合计例如四个Y读头78y、与该Y读头78y对置的Y标尺48y来求出基板载具40在Y轴方向的位置信息的例如四个Y线性编码器系统。

此处，一对读头单元72分别所具有的一对X读头78x及一对Y读头78y各自在X轴方向的间隔设定为较相邻的标尺板46间的间隔宽。藉此，X编码器系统及Y编码器系统，不论基板载具40的X轴方向的位置为何，一对X读头78x中始终有至少一方与X标尺48x对置且一对Y读头78y中有至少一方始终与Y标尺48y对置。

具体而言，主控制装置50(参照图6)，在一对X读头78x均与X标尺48x对置的状态下，根据该一对X读头78x的输出的平均值求出基板载具40的X位置信息。又，主控制装置50，在仅一对X读头78x的一方与X标尺48x对置的状态下，仅根据该一方的X读头78x的输出求出基板载具40的X位置信息。是以，X编码器系统，能将基板载具40的位置信息不中断地供给至主控制装置50。关于Y编码器系统也相同。

又，作为用以求出基板载具40(也即基板P。参照图3)的Z倾斜方向的位置信息的一对Z传感器读头78z，能使用例如激光位移仪。此处，固定在对应－Y侧的读头单元72的X框架42x上的多个标尺板46，在该X框架42x的上面中配置于+Y侧的区域(参照图1)。藉此，在X框架42x上面的－Y侧区域，形成有未安装有标尺板46的延伸于X轴方向的带状区域。

接着，在X框架42x上面的上述带状区域，藉由例如镜面加工而作成反射面。一对Z读头78z均对上述反射面(朝下)照射测量光束，并接收来自该反射面的反射光束，藉此求出在该测量光束的照射点的基板载具40在Z轴方向的位移量信息并供给至主控制装置50(参照图6)。主控制装置50(参照图6)，根据一对读头单元72分别所具有的一对Z读头78z、也即合计为例如四个Z读头78z的输出，求出基板载具40在Z倾斜方向的位置信息。此外，Z读头78z的种类，只要能以所欲精度(分析能力)且以非接触方式测量以装置本体18(参照图1)作为基准的基板载具40(更详细而言为X框架42x)在Z轴方向的位移，则无特别限定。

此处，如上所述，本实施方式的基板载具40，由于也能在Y轴方向以既定长行程移动，因此主控制装置50(参照图6)，以维持X读头78x、Y读头78y的各个与对应的标尺48x,48y的对置状态的方式，与基板载具40在Y轴方向的位置相应地将一对读头单元72各自的Y滑件76(参照图4)以追随基板载具40的方式经由Y线性致动器74(参照4)驱动于Y轴方向(参照图7)。主控制装置50将Y滑件76(也即各读头78x,78y)的位移量(位置信息)与来自各读头78x,78y的输出合并，综合地求出基板载具40的水平面内的位置信息。

Y滑件76(参照图4)在水平面内的位置(位移量)信息，藉由与使用了上述X读头78x、Y读头78y的编码器系统同等的测量精度的编码器系统96来求出。Y滑件76，如从图4及图5可知，具有一对X编码器读头80x(以下称为“X读头80x”)及一对Y编码器读头80y(以下称为“Y读头80y”)。一对X读头80x及一对Y读头80y，分别在Y轴方向相隔既定距离分离配置。

主控制装置50(参照图6)，使用固定于装置本体18的上架台部18a(分别参照图1)下面的多个标尺板82，求出Y滑件76在水平面内的位置信息。标尺板82，由延伸于Y轴方向的俯视带状的构件所构成。本实施方式中，在一对读头单元72各自的上方，在Y轴方向相隔既定间隔(彼此分离地)配置有例如两片标尺板82。

如图5所示，在标尺板82下面中的+X侧区域，与上述一对X读头80x对置地形成有X标尺84x，在标尺板82下面中的－X侧区域，与上述一对Y读头80y对置地形成有Y标尺84y。X标尺84x、Y标尺84y，是与形成于上述标尺板46的X标尺48x、Y标尺48y实质上相同构成的光反射型绕射格子。又，X读头80x、Y读头80y也为与上述X读头78x、Y读头78y(朝下读头)相同构成的绕射干涉方式的编码器读头。

一对X读头80x及一对Y读头80y，对对应的标尺(X标尺84x、Y标尺84y)朝上方(+Z方向)照射测量光束，并接收来自该标尺的光束，藉此将Y滑件76(参照图4)在水平面内的位移量信息供给至主控制装置50(参照图6)。一对X读头80x及一对Y读头80y各自在Y轴方向的间隔设定为较相邻的标尺板82间的间隔宽。藉此，不论Y滑件76的Y轴方向的位置为何，一对X读头80x中始终有至少一方与X标尺84x对置且一对Y读头80y中有至少一方始终与Y标尺84y对置。是以，能将Y滑件76的位置信息不中断地供给至主控制装置50(参照图6)。

此处，如图4所示，读头单元72中，Y滑件76由于是藉由线性导件装置而被向Y轴方向直进导引的构成，因此固定于该Y滑件76的多个测量读头(X读头78x,80x、Y读头78y,80y、Z读头78z,80z)有可能产生倾斜。是以，主控制装置50(参照图6)使用安装于Y滑件76的例如四个Z传感器读头80z(以下称为“Z读头80z”)，求出与Y滑件76的倾斜(倾倒)量相关的信息(也包含与光轴方向的位移量相关的信息)，且以抵消该Y滑件76倾斜(测量光的光轴的偏移)的方式，根据例如四个传感器读头80z的输出修正各测量读头(X读头78x,80x、Y读头78y,80y、Z读头78z)。此外，本实施方式中，例如四个传感器读头80z(朝上读头)虽配置于不在同一直在线的四处，但并不限于此，也可将例如三个传感器读头80z配置于不在同一直在线的三处。

本实施方式中，作为传感器读头80z(朝上传感器)，例如使用与传感器读头78z相同的激光位移仪，使用固定于上架台部18a(参照图9、图11)下面的未图标的目标(延伸于Y轴方向的反射面)(也即以上架台部18a作为基准)求出与Y滑件76的倾斜量相关的信息。此外，只要能以所欲的精度求出与Y滑件76倾斜量相关的信息，则传感器读头80z的种类并不特别限定。又，本实施方式中，由于例如两片标尺板82在Y轴方向分离配置，因此虽使用与标尺板82不同的其他目标，但在使用较本实施方式的标尺板82长条的一片标尺板时，也可将该长条标尺板的格子面作为目标(反射面)使用。

图6表示以液晶曝光装置10(参照图1)的控制系为中心构成、统筹控制构成各部的主控制装置50的输出入关系的框图。主控制装置50包含工作站(或微电脑)等，统筹控制液晶曝光装置10的构成各部。

以如上述方式构成的液晶曝光装置10(参照图1)，在主控制装置50(参照图6)的管理下，藉由未图示的光罩装载器进行光罩M对光罩载台14上的装载，且藉由未图示的基板装载器进行基板P对基板载台装置20(基板载具40，及非接触保持具32)上的装载。其后，藉由主控制装置50，使用未图标的对准检测系执行对准测量、以及使用未图示的自动聚焦传感器(基板P的面位置测量系)的聚焦匹配，在该对准测量及聚焦匹配结束后，对设定于基板P上的多个照射区域依序进行步进扫描(step and scan)方式的曝光动作。此外，虽说明液晶曝光装置10在事前进行用以定位基板P的Z方向位置的聚焦匹配，但也可不事前进行，而是一边进行扫描曝光动作、一边在进行扫描曝光前一刻随时进行聚焦匹配。

其次，使用图8(a)～图10(b)说明曝光动作时的基板载台装置20的动作一例。此外，以下说明中，虽说明在1片基板P上设定有四个照射区域的情况(所谓撷取4面的情况)，但设定于1片基板P上的照射区域的数目及配置能适当变更。又，本实施方式中，曝光处理，作为一例而说明从设定在基板P的－Y侧且+X侧的第1照射区域S1开始进行。又，为了避免图示过于复杂，图8(a)～图10(b)中省略了基板载台装置20所具有的要素的一部分。

图8(a)及图8(b)分别表示对准动作等完毕且对第1照射区域S1的曝光动作的准备结束的状态的基板载台装置20的俯视图及主视图。基板载台装置20，如图8(a)所示，以第1照射区域S1的+X侧的端部位于较藉由来自投影光学系16的照明光IL(分别参照图8(b))的照射而形成于基板P上的曝光区域IA(其中，在图8(a)所示的状态下，仍未对基板P照射照明光IL)略靠－X侧的方式，根据基板位置测量系70(参照图6)的输出将基板P定位。

又，由于在Y轴方向，曝光区域IA的中心与X导杆28(也即非接触保持具32)的中心大致一致，因此保持于基板载具40的基板P的+Y侧端部近旁从非接触保持具32突出。基板P的该突出部分被配置于非接触保持具32的+Y侧的辅助平台34从下方予以支承。此时，基板P的+Y侧端部近旁虽不进行非接触保持具32的平面矫正，但由于包含曝光对象的第1照射区域S1的区域，维持已进行平面矫正的状态，因此不会影响曝光精度。

其次，从图8(a)及图8(b)所示的状态，与光罩M(参照图1)同步地，如图9(a)及图9(b)所示，基板载具40与非接触保持具32根据基板位置测量系70(参照图6)的输出在X导杆28上向+X方向一体地(同步地)被驱动(加速、等速驱动及减速)(参照图9(a)的黑箭头)。在基板载具40与非接触保持具32被向X轴方向等速驱动的期间，通过光罩M(参照图1)及投影光学系16的照明光IL(分别参照图9(b))照射于基板P，藉此光罩M所具有的光罩图案转印于照射区域S1。此时，基板载具40，与上述对准测量的结果相应地，相对非接触保持具32被向水平面内3自由度方向适当微幅驱动，非接触保持具32，与上述聚焦匹配的结果相应地被向Z倾斜方向适当微幅驱动。

此处，基板位置测量系70(参照图6)中，在基板载具40与非接触保持具32被向X轴方向(图9(a)中为+X方向)驱动时，一对读头单元72各自所具有的Y滑件76为静止状态。

在对基板P上的第1照射区域S1的光罩图案的转印完毕后，基板载台装置20，如图10(a)及图10(b)所示，为了对设定在第1照射区域S1的+Y侧的第2照射区域S2进行曝光动作，而根据基板位置测量系70(参照图6)的输出将基板载具40相对非接触保持具32向－Y方向驱动(Y步进驱动)既定距离(基板P的宽度方向尺寸的大致一半距离)(参照图10(a)的白箭头)。藉由上述基板载具40的Y步进动作，保持于基板载具40的基板P的－Y侧端部近旁被配置于非接触保持具32的－Y侧的辅助平台34从下方予以支承。

又，主控制装置50(参照图6)，在将上述基板载具40向－Y方向驱动时，将一对读头单元72各自所具有的Y滑件76(分别参照图4)在Y轴方向与基板载具40同步地驱动于－Y方向(参照图10(a)的黑箭头)。也即，如图7所示，在基板载具40向－Y方向以既定行程移动后，一对Y滑件76与基板载具40同步地向－Y方向移动。此处，本说明书中所谓“同步地移动”，意指基板载具40与Y滑件76以大略维持相对位置关系的状态移动，并非限定于以位置(移动方向及速度)严谨地一致的状态移动的情况。

以下，虽未图示，但藉由与光罩M(参照图1)同步地，基板载具40与非接触保持具32被向－X方向驱动，来进行对第2照射区域S2的扫描曝光。又，藉由适当地反复与基板载具40的Y步进动作及光罩M同步的基板载具40与非接触保持具32向X轴方向的等速移动，来依序进行对设定在基板P上的全照射区域的扫描曝光动作。

根据以上说明的本第1实施方式的液晶曝光装置10所具有的基板载台装置20，用以求出基板P在XY平面内的位置信息的基板位置测量系70由于包含编码器系统，因此相较于例如以往的干涉仪系统，能减低空气波动的影响。是以，基板P的定位精度提升。又，由于空气波动的影响小，因此能省略使用以往干涉仪系统时所必须的部分空调设备，因此能降低成本。

再者，在使用干涉仪系统的情况下，虽必须将大且重的棒反射镜设于基板载台装置20，但本实施方式的编码器系统48，由于不需要上述棒反射镜，因此包含基板载具40的系统可小型轻量化，且重量平衡也变佳，藉此基板P的位置控制性提升。又，由于与使用干涉仪系统的情况相较，调整部位较少即可，因此基板载台装置20的成本降低，进而维护性也提升。又，组装时的调整也容易。

又，本实施方式的基板位置测量系70(编码器系统)，由于是藉由将一对读头单元72各自的Y滑件76与基板P同步地向Y轴方向(使追随)以求出基板P的Y位置信息的构成，因此不需将延伸于Y轴方向的标尺配置于基板载台装置20侧(或不需在装置本体18侧在Y轴方向排列多个读头)。是以，能简化基板位置测量系70的构成，而能降低成本。

又，本实施方式的基板位置测量系70(编码器系统)，由于是一边将相邻的一对编码器读头(X读头78x、Y读头78y)的输出依据基板载具40的X位置适当地切换、一边求出该基板载具40在XY平面内的位置信息的构成，因此即使将多个标尺46在X轴方向以既定间隔(彼此分离地)配置，也可不中断地求出基板载具40的位置信息。是以，不需准备与基板载具40的移动行程同等长度的标尺板，即能降低成本，特别是对于如本实施方式的使用大型基板P的液晶曝光装置10非常合适。

又，基板载台装置20，在进行基板P的XY平面内的高精度定位时，由于仅保持该基板P外周缘部的框状的基板载具40被驱动于水平面内3自由度方向，因此与例如将吸附保持基板P下面整体的基板保持具驱动于水平面内3自由度方向以进行基板P的高精度定位的情况相较，由于驱动对象物(本实施方式中为基板载具40)为轻量，因此位置控制性提升。又，能使驱动用的致动器(本实施方式中为Y音圈马达64、X音圈马达66)小型化。

《第2实施方式》

其次使用图11说明第2实施方式。本第2实施方式的液晶曝光装置，虽与上述第1实施方式同样地，使用编码器系统求出基板P在水平面内的位置信息，但在该编码器系统用(水平面内位置测量系)的读头单元与Z倾斜位置测量系用的读头单元彼此独立这点与上述第1实施方式不同。以下，针对与第1实施方式的不同点进行说明，针对具有与上述第1实施方式相同构成及功能的要素，赋予与上述第1实施方式相同符号而省略其说明。

本第2实施方式的基板位置测量系70A，在Y轴方向的投影光学系16(参照图1)的一侧及另一侧分别具有一个读头单元72A及两个读头单元72B(图11中仅图示一侧)。读头单元72A在X轴方向的位置与投影光学系16大致一致。两个读头单元72B，在X轴方向配置于读头单元72A的一侧及另一侧。

读头单元72A，是从上述第1实施方式的读头单元72(参照图5)去除Z读头78z、80z而成。也即，读头单元72A，藉由一对X读头78x及一对Y读头78y，使用安装于基板载具40的多个标尺板46求出该基板载具40在XY平面内的位置信息。一对X读头78x及一对Y读头78y与基板载具40同步移动于Y轴方向、以及其位置信息藉由一对X读头80x及一对Y读头80y并使用标尺板82来求出，这些部分由于与上述第1实施方式相同，因此省略说明。

读头单元72B，是从上述第1实施方式的读头单元72(参照图5)去除X读头78x,80x及Y读头78y,80y而成。也即，读头单元72B，藉由一对Z读头78z使用基板载具40的X框架42x的上面(反射面)来求出该基板载具40在Z倾斜方向的位置信息。一对Z读头78z与基板载具40同步地移动于Y轴方向、以及其姿势变化藉由例如四个Z读头80z并使用固定于装置本体18(参照图1)的目标82B来求出，这些部分由于与上述第1实施方式相同，因此省略说明。

根据本第2实施方式，基板P在水平面内的位置测量系用的读头单元72A与基板在Z倾斜方向的位置测量系用的读头单元72B彼此独立，因此相较于上述第1实施方式，读头单元的构成较为简易，各测量读头的配置容易。

《第3实施方式》

其次，使用图12(a)及图12(b)说明第3实施方式。第3实施方式的液晶曝光装置的构成中，用以将基板P相对投影光学系16(参照图1)高精度定位的基板载台装置120的构成与上述第1实施方式不同。用以求出基板P在6自由度方向的位置信息的测量系的构成与上述第1实施方式相同。以下，针对本第3实施方式，仅说明与上述第1实施方式的不同点，针对具有与上述第1实施方式相同构成及功能的要素，赋予与上述第1实施方式相同符号而省略其说明。

上述第1实施方式中，保持基板P的框状(画框状)的基板载具40能相对于非接触保持具32，在非扫描方向(Y轴方向)独立地以既定行程相对移动(参照图1等)，相较于此，图12(a)及图12(b)所示的本第3实施方式中的基板载台装置120中，基板载具140在扫描方向(X轴方向)及非扫描方向分别与非接触保持具32一体地以既定长行程移动，这点不同。基板载具140能相对于非接触保持具32在水平面内3自由度方向以微幅行程相对移动这点，则与上述第1实施方式的基板载台装置20相同。

更详细说明之，本第3实施方式中，粗动载台124构成为能在X轴及Y轴方向以既定长行程移动。用以使粗动载台124在Y轴方向以长行程移动的构成虽无特别限定，但能使用例如美国专利申请公开第2012/0057140号说明书等所揭示的公知的门型XY载台装置。又，重量消除装置26，以与粗动载台124一体地向X轴及Y轴方向以既定长行程移动的方式连接于粗动载台124。又，X导杆28(参照图1等)也能在Y轴方向以既定长行程移动。用以使X导杆28在Y轴方向以长行程移动的构成虽无特别限定，但例如可以机械方式连接于上述XY载台装置中的Y载台。粗动载台124与基板平台30经由多个连接装置30b(挠曲装置)以机械方式(不过是在能在Z倾斜方向微幅移动的状态)连接这点，与上述第1实施方式相同。藉此，基板平台30及非接触保持具32，与粗动载台124一体地在X轴及Y轴方向以既定长行程移动。

基板载具140具有形成为在俯视时为矩形的框状的本体部142、与固定于该本体部142上面的吸附部144。吸附部144也与本体部142同样地，形成为在俯视时为矩形的框状。基板P被吸附部144例如真空吸附保持。上述非接触保持具32，在相对吸附部144的内壁面形成有既定间隙的状态下，插入于该吸附部144所具有的开口内。非接触保持具32使荷重(预装载)作用于基板P而以非接触方式予以平面矫正这点，与上述第1实施方式相同。

又，从基板平台30下面，有多片(本实施方式中例如为四片)导板148沿着水平面呈放射状地延伸。基板载具140，与上述多个导板148对应地具有包含空气轴承的多个垫146，藉由从该空气轴承对导板148上面喷出的加压气体的静压，而以非接触状态载置于导板148上。在基板平台30被微幅驱动于Z倾斜方向时，上述多个导板148也与基板平台30一体地移动(姿势变化)于Z倾斜方向，在基板平台30的姿势变化后，该基板平台30、非接触保持具32、及基板载具140(也即基板P)的姿势一体地变化。

又，基板载具140，经由包含该基板载具140所具有的可动件与基板平台30所具有的固定件的多个线性马达152(X音圈马达及Y音圈马达)相对基板平台30被向水平面内的3自由度方向微幅驱动。又，在基板平台30沿着XY平面以长行程移动时，以基板平台30与基板载具140一体地沿着XY平面以长行程移动的方式，藉由上述多个线性马达152对基板载具140赋予推力。

在基板载具140的上面的+Y侧及－Y侧的端部近旁，与上述第1实施方式同样地，分别固定有多个标尺板46。使用标尺板46及基板载具140的上面(反射面)求出基板载具140(也即基板P)的6自由度方向的位置信息的手法，由于与上述第1实施方式相同，故省略说明。

此外，上述第1～第3实施方式分别说明的构成可适当变更。例如上述各实施方式中，虽在基板载具40上，在X轴方向以既定间隔排列有多个标尺板46，但也可使用X轴方向的长度与基板P相同程度的长度的长条标尺板。此情况下，只要针对一对读头单元72的各个读头单元，分别设有各一个X读头78x及Y读头78y。在设置多个标尺板46时，各标尺板46的长度也可彼此不同。例如，藉由将延伸于X轴方向的标尺板的长度，设定为较照射区域的X轴方向的长度长，即能避免扫描曝光动作时读头单元72跨不同标尺板46进行基板P的位置控制。又，在(例如撷取4面的情况与撷取6面的情况)，可在配置于投影光学系16的一侧的标尺与配置于另一侧的标尺使彼此长度不同。又，在Y轴方向配置有多个的标尺板，在将相隔既定间隔的间隙相连配置的标尺群(标尺列)，配置多列于彼此在X轴方向分离的不同位置(例如相对投影光学系16的一侧(+X侧)的位置与另一侧(－X侧)的位置)时，也可在多列间，以上述既定间隔的间隙的位置在Y轴方向不重复的方式配置。只要如此配置多个标尺列，与彼此的标尺列对应配置的读头即不会同时成为测量范围外(换言之，两读头同时与间隙对置)。

又，在基板载具40上多个标尺相隔既定间隔的间隙在X轴方向相连配置的标尺群(标尺列)中，在上述实施方式虽将各标尺长度相同者相连配置，但也可将长度彼此不同的标尺相连配置。例如，在基板载具40上的标尺列中，也可相较于分别配置于靠X轴方向的两端部处的标尺(标尺列中配置于各端部的标尺)在X轴方向的长度，使配置于中央部的标尺的物理长度更长。

又，在基板载具40上，在X轴方向多个标尺隔着既定间隔的间隙相连配置的标尺群(标尺列)中，也可将一个标尺(X轴测量用的图案)在X轴方向的长度，设定成能以一照射区域的长度(在一边使基板保持具上的基板移动于X轴方向、一边进行扫描曝光时，被照射元件图案而形成于基板上的长度)量连续测定的长度。如此，在一照射区域的扫描曝光中，由于可不进行对多标尺的读头的接续控制，因此能使扫描曝光中的基板P(基板保持具)的位置测量(位置控制)更加容易。

又，虽藉由X编码器读头78x,80x及Y编码器读头78y,80y，求出基板P及Y滑件76各自在XY平面内的位置信息，但也可使用能测量例如Z轴方向的位移量信息的二维编码器读头(XZ编码器读头或YZ编码器读头)，与基板P及Y滑件76各自在XY平面内的位置信息一并地求出基板P及Y滑件76各自的Z倾斜位移量信息。此情况下，能省略用以求出基板P的Z倾斜位置信息的传感器读头78z,80z。此外，此情况下，为了求出基板P的Z倾斜位置信息，两个朝下的Z读头必须始终与标尺板46对置，因此较佳为由与X框架42x相同程度的长度的一片长条标尺板构成标尺板46、或将上述二维编码器读头在X轴方向以既定间隔配置例如三个以上。

又，上述各实施方式的编码器系统中，虽是基板载具40,140具有标尺板46(绕射格子)、读头单元72具有测量读头的构成，但并不限于此，也可是基板载具40,140具有测量读头，与该测量读头同步移动的标尺板安装于装置本体18(与上述各实施方式相反的配置)。

又，上述各实施方式中，多个标尺板46虽在X轴方向以既定间隔配置，但并不限于此，例如也可使用以与基板载具40在X轴方向的长度相同程度的长度形成的长条的一片标尺板。此情况下，由于可随时维持标尺板与读头的对置状态，因此各读头单元72所具有的X读头78x、Y读头78y可分别为一个。关于标尺板82也相同。又，上述第1实施方式中，虽在X框架42x上面的大致整体安装有标尺板46，但安装标尺板46的范围，可视基板载具40在X轴方向的移动范围适当变更。也即，只要在基板载具40的移动范围内，多个读头能与最靠+X侧的标尺板46及最靠－X侧的标尺板46对置，则标尺板46的安装范围可更短。又，视情况不同，也可在较X框架42x在X轴方向的长度长的范围设置多片(或长条的一片)标尺板，此情况下，可于在X轴方向较X框架42x长的另一构件安装标尺板46。又，上述各实施方式中，虽组合由一维标尺与一维读头构成的一维编码器系统来进行二维测量，但并不限于此，可使用二维标尺(XY标尺)与二维读头(XY读头)所构成的二维编码器系统。

又，上述各实施方式中，基板载具40的位置信息及Y滑件76的位置信息虽分别藉由编码器系统来求出，但并不限于此，Y滑件76的位置信息，也可藉由例如光干涉仪系统等其他测量系统来求出。

又，上述第1实施方式的基板载台装置20，虽非接触保持具32与基板载具40能一体地向X轴(扫描)方向移动，且基板载具40能相对非接触保持具32向Y轴(非扫描)方向移动，但也可与此相反地，非接触保持具32与基板载具40可一体地向Y轴方向移动且基板载具40能相对非接触保持具32向X轴方向移动。此情况下，只要在扫描曝光动作时，仅使基板载具40向扫描方向以长行程移动即可，由于驱动对象物较轻，因此位置控制性提升。又，能将驱动用的致动器小型化。

又，上述各实施方式中，基板载具40等，虽沿着基板P外周缘部(四边)藉由例如四支框架构件(第1实施方式中为一对X框架42x及一对Y框架42y)形成为矩形框状，但只要能确实地进行基板P的吸附保持，则并不限于此，基板载具40等也可由沿着例如基板P的外周缘部中的一部分的框架构件来构成。具体而言，基板载具，也可由沿着基板P的三边的例如三支框架构件而形成为俯视U字形，或者，也可由沿着基板P的相邻两边的例如两支框架构件而形成为俯视L字形。又，基板载具，也可由沿着基板P的一边的例如仅一支框架构件来形成。又，基板载具，也可藉由保持基板P的彼此不同的部分且彼此独立地进行位置控制的多个构件来构成。

又，上述各实施方式中，非接触保持具32虽以非接触方式支承基板P，但只要不阻碍基板P与非接触保持具32在与水平面平行的方向的相对移动，则并不限于此，也可经由例如滚珠等滚动体来以接触状态支承。

又，照明系12所使用的光源及从该光源照射的照明光IL的波长并无特别限定，例如可为ArF准分子激光(波长193nm)、KrF准分子激光(波长248nm)等的紫外光、或F2激光(波长157nm)等的真空紫外光。

又，上述各实施方式中，作为投影光学系16虽使用等倍系，但并不限于此，也可使用缩小系或放大系。

又，曝光装置的用途不限于将液晶显示元件图案转印至方型玻璃板片的液晶用曝光装置，也能广泛地适用于有机EL(Electro-Luminescence)面板制造用的曝光装置、半导体制造用的曝光装置、用以制造薄膜磁头、微机器及DNA芯片等的曝光装置。此外，不仅仅是半导体元件等的微元件，为制造光曝光装置、EUV曝光装置、X线曝光装置及电子束曝光装置等所使用的光罩或标线片，而将电路图案转印至玻璃基板或硅晶圆等曝光装置，也能适用。

又，作为曝光对象的物体不限于玻璃板，也可以是晶圆、陶瓷基板、薄膜构件、或光罩母板(空白光罩)等其他物体。此外，曝光对象物为平面显示器用基板的情况下，该基板的厚度无特限定，也包含薄膜状(具有可挠性的片状构件)的基板。又，本实施方式的曝光装置，在一边长度、或对角长500mm以上的基板为曝光对象物时尤其有效。又，在曝光对象的基板为具有可挠性的片状时，该片体也可形成为滚轴状。

液晶显示元件(或半导体元件)等的电子元件，经由进行元件的功能性能设计的步骤、依据此设计步骤制作光罩(或标线片)的步骤、制作玻璃基板(或晶圆)的步骤、以上述各实施方式的曝光装置及其曝光方法将光罩(标线片)的图案转印至玻璃基板的微影步骤、对曝光后的玻璃基板进行显影的显影步骤、将残存抗蚀剂部分以外的部分的露出构件以蚀刻加以去除的蚀刻步骤、将蚀刻后不要的抗蚀剂去除的抗蚀剂除去步骤、以及元件组装步骤、检查步骤等而制造出。此情况下，由于在微影步骤使用上述实施方式的曝光装置实施前述曝光方法，在玻璃基板上形成元件图案，因此能以良好的生产性制造高积体度的元件。

此外，援用与上述实施方式引用的曝光装置等相关的所有美国专利申请公开说明书及美国专利说明书的揭示作为本说明书记载的一部分。

产业上可利用性

如以上所说明，本发明的移动体装置及物体的移动方法适于使物体移动。又，本发明的曝光装置适于将物体曝光。又，本发明的平面显示器的制造方法适于平面显示器的制造。又，本发明的元件制造方法，适于微型元件的制造。

符号说明

10 液晶曝光装置

20 基板载台装置

32 非接触保持具

40 基板载具

48 标尺板

70 基板位置测量系

76 Y滑件

78x,80x X编码器读头

78y,80y Y编码器读头

82 标尺板

P 基板。

Claims (23)

1.一种移动体装置，其特征在于，其具备：

支承部，其以非接触方式支承物体；

保持部，其保持被前述支承部以非接触方式支承的前述物体；

第1驱动部，其使前述保持部向彼此交叉的第1及第2方向移动；

基准构件，其作为前述保持部向前述第1及第2方向的移动的基准；

第1测量部，其具有：具有前述第1方向的测量成分的第1格子部、以及配置成与前述第1格子部对置且对前述第1格子部照射测量光束的第1读头，前述第1格子部与前述第1读头中的一方设于前述保持部，前述第1格子部与前述第1读头中的另一方设于前述基准构件与前述保持部之间，藉由前述第1读头及前述第1格子构件测量前述第1读头的位置信息；

第2测量部，其测量前述第1格子部与前述第1读头中的另一方的位置信息；以及

位置测量系，其根据由前述第1及第2测量部测量的位置信息，求出在前述第1及第2方向中保持前述物体的前述保持部的位置信息。

2.根据权利要求1所述的移动体装置，其特征在于，前述第1驱动部使保持于前述保持部的前述物体相对前述支承部向前述第2方向移动。

3.根据权利要求1或2所述的移动体装置，其特征在于，前述移动体装置进一步具备使前述支承部向前述第1方向移动的第2驱动部；

前述第1及第2驱动部使前述保持部及前述支承部向前述第1方向移动。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的移动体装置，其特征在于，前述移动体装置进一步具备设有前述第1格子部与前述第1读头中的另一方的移动体；

前述移动体以与前述第1驱动部使前述保持部向前述第2方向的驱动不同的时机被向前述第2方向驱动。

5.根据权利要求4所述的移动体装置，其特征在于，前述移动体在前述第2方向以既定间隔设有多个；

前述第1测量部，藉由设于多个前述移动体的各个移动体的前述第1格子部与前述第1读头中的另一方、与设于前述保持部的前述第1格子部与前述第1读头中的一方测量位置信息。

6.根据权利要求4或5所述的移动体装置，其特征在于，前述第2测量部具有：具有前述第2方向的测量成分的第2格子部、以及对前述第2格子部照射测量光束的第2读头，前述第2格子部与前述第2读头中的一方设于前述移动体，前述第2格子部与前述第2读头中的一方设于前述基准构件。

7.根据权利要求6所述的移动体装置，其特征在于，前述第1测量部包含在前述第1方向彼此分离配置的多个第1被测量系、以及在前述第1方向彼此分离配置的多个第1测量系；

前述第2测量部包含在前述第2方向彼此分离配置的多个第2被测量系、以及在前述第2方向彼此分离配置的多个第2测量系；

前述第1及第2测量部中，相邻的一对前述测量系间的间隔比相邻的一对前述被测量系间的间隔宽。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的移动体装置，其特征在于，前述支承部与前述保持部设成彼此为非接触。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的移动体装置，其特征在于，前述支承部以非接触方式支承前述物体的下面。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的移动体装置，其特征在于，前述保持部包含保持前述物体的外周缘部至少一部分的框状构件。

11.一种曝光装置，其特征在于，其具备：

权利要求1至10中任一项所述的移动体装置；以及

使用能量束在前述物体形成既定图案的图案形成装置。

12.根据权利要求11所述的曝光装置，其特征在于，前述支承部具有能支承前述物体中形成前述图案的对象的大致全区域的支承面。

13.根据权利要求12所述的曝光装置，其特征在于，前述第1驱动部以在前述第2方向中前述物体的至少一部分从前述支承部脱离的方式使前述保持部与前述支承部相对移动。

14.根据权利要求11至13中任一项所述的曝光装置，其特征在于，前述物体是用于平面显示器的基板。

15.根据权利要求14所述的曝光装置，其特征在于，前述基板，其至少一边的长度或对角长为500mm以上。

16.一种平面显示器制造方法，其特征在于，其包含：

使用权利要求11至14中任一项所述的曝光装置使前述物体曝光的动作；以及

使曝光后的前述物体显影的动作。

17.一种元件制造方法，其特征在于，其包含：

使用权利要求11至14中任一项所述的曝光装置使前述物体曝光的动作；以及

使曝光后的前述物体显影的动作。

18.一种物体移动方法，其特征在于，其包含：

藉由支承部以非接触方式支承物体的动作；

藉由保持部保持被前述支承部以非接触方式支承的前述物体的动作；

藉由第1驱动部使前述保持部向彼此交叉的第1及第2方向移动的动作；

藉由第1测量部，使用第1读头及第1格子构件测量前述第1读头的位置信息的动作；该第1测量部具有：具有前述第1方向的测量成分的前述第1格子部、以及配置成与前述第1格子部对置且对前述第1格子部照射测量光束的前述第1读头，前述第1格子部与前述第1读头中的一方设于前述保持部，前述第1格子部与前述第1读头中的另一方设于作为前述保持部向前述第1及第2方向移动的基准的基准构件与前述保持部之间；

藉由第2测量部测量前述第1格子部与前述第1读头中的另一方的位置信息的动作；以及

根据由前述第1及第2测量部测量的位置信息，求出在前述第1及第2方向中保持前述物体的前述保持部的位置信息的动作。

19.根据权利要求18所述的物体移动方法，其特征在于，藉由前述第1驱动部的移动，包含使保持于前述保持部的前述物体相对前述支承部向前述第2方向移动的动作。

20.根据权利要求18或19所述的物体移动方法，其特征在于，藉由前述第1驱动部的移动，包含使前述保持部向前述第1方向移动且藉由第2驱动部使前述支承部向前述第1方向移动的动作。

21.根据权利要求18至20中任一项所述的物体移动方法，其特征在于，在藉由前述第1驱动部的移动动作中，以与前述第1驱动部使前述保持部向前述第2方向的驱动不同的时机，将设置前述第1格子部与前述第1读头中的另一方的移动体向前述第2方向驱动。

22.根据权利要求21所述的物体移动方法，其特征在于，前述移动体在前述第2方向以既定间隔设有多个；

在测量前述第1读头的位置信息的动作中，藉由设于多个前述移动体的各个移动体的前述第1格子部与前述第1读头中的另一方、与设于前述保持部的前述第1格子部与前述第1读头中的一方测量位置信息。

23.根据权利要求21或22所述的物体移动方法，其特征在于，前述第2测量部具有：具有前述第2方向的测量成分的第2格子部、以及对前述第2格子部照射测量光束的第2读头，前述第2格子部与前述第2读头中的一方设于前述移动体，前述第2格子部与前述第2读头中的一方设于前述基准构件。

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