CN111843828A - 一种适用于不同尺寸硅片的流体抛光工件固定装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种适用于不同尺寸硅片的流体抛光工件固定装置，包括中心吸附圈、第一吸附环、第二吸附环、固定环、负压腔体、中心吸附圈密封圈、第一吸附环密封圈、第二吸附环密封圈、负压腔体密封圈、导向圆柱密封圈、内六角螺钉、定位螺钉、吸附孔、螺纹通孔和沉头通孔，中心吸附圈的外圆与第一吸附环的内圆配合，第一吸附环的外圆与第二吸附环内圆配合，第二吸附环的外圆与固定环的内圆配合。本发明可以在固定不同厚度的工件时，确保工件上表面与固定环上表面高度保持一致；可以吸附6英寸、8英寸、12英寸等常用直径的硅片，能够确保与工件底部接触的吸附区域高度保持一致，可以快速调整各个吸附区域的高度，无需每个环单独调整。

Description

一种适用于不同尺寸硅片的流体抛光工件固定装置

技术领域

本发明涉及一种工件固定装置，更具体的说，尤其涉及一种适用于不同尺寸硅片的流体抛光工件固定装置。

背景技术

对于软性磨粒流加工来说，工件的固定装置是必不可少的组成部分，其固定的可靠性直接影响了工件最终的加工效果。

对于硅片等直径较大，厚度较薄的工件，无法通过夹持的方法进行固定。现有的工件固定方法主要包括石蜡融化固定工件和真空吸盘固定。石蜡融化固定工件的缺点在于固定过程复杂，石蜡的厚度会影响到工件表面平整度，对操作熟练度要求较高，同时石蜡固定后无法方便地将工件取出，粘附在工件底部的石蜡无法完全清除等。真空吸盘固定操作简单，例如申请号为200420055406.1的中国实用新型专利提出了一种真空吸盘，该实用新型存在单一尺寸真空吸盘无法兼容不同直径的工件，工件在真空吸盘上处于凸起状态，抛光工具在对工件边缘进行加工时由于部分加工工具地面脱离了工件表面，所以会影响流速，从而影响工件边缘的加工质量。

基于以上现状，设计一种能够解决不同直径、不同厚度的硅片工件在软固结磨粒流抛光中的装置就显得尤为必要。

发明内容

本发明的目的在于解决上述现有直径较大，厚度较薄的工件固定装置的不足，提出了一种适用于不同尺寸硅片的流体抛光工件固定装置，能够在同一固定装置上实现不同直径和厚度的硅片的固定。

本发明通过以下技术方案来实现上述目的：一种适用于不同尺寸硅片的流体抛光工件固定装置，包括中心吸附圈、第一吸附环、第二吸附环、固定环、负压腔体、中心吸附圈密封圈、第一吸附环密封圈、第二吸附环密封圈、负压腔体密封圈、导向圆柱密封圈、内六角螺钉、定位螺钉、吸附孔、螺纹通孔和沉头通孔，所述中心吸附圈为扁平状圆柱体，中心吸附圈表面均布细小的吸附孔，中心吸附圈底部沿圆周方向均布8个第一导向圆柱，第一导向圆柱底部外圆周面上开有第二密封槽，其中4个均布的第一导向圆柱内打有沉头通孔，另外4个第一导向圆柱内打有螺纹通孔，中心吸附圈的外圆周面底部设有凸起的第一限位条，中心吸附圈的外圆周面上部开有第一密封槽。

所述第一吸附环为扁平状圆环，第一吸附环的表面均布细小的吸附孔，第一吸附环的内圆直径与中心吸附圈的外圆直径一致，第一吸附环底部圆周方向均布8个第二导向圆柱，第二导向圆柱底部圆周面开有第三密封槽，其中4个均布的第二导向圆柱内打有沉头通孔，其余4个第二导向圆柱内打有螺纹通孔，第一吸附环的内圆圆周底部设有内凹的第一限位槽，第一吸附环的外圆周面底部设有凸起的第二限位条，第一吸附环的外圆周面上部开有第四密封槽。

所述第二吸附环为扁平状圆环，第二吸附环的表面均布铣削的吸附孔，第二吸附环的内圆直径与第一吸附环的外圆直径一致，第二吸附环底部圆周方向均布8个第三导向圆柱，第三导向圆柱底部圆周面开有第五密封槽，其中4个均布的第三导向圆柱内打有沉头通孔，其余4个第三导向圆柱内打有螺纹通孔，第二吸附环的内圆圆周底部设有内凹的第二限位槽，第二吸附环的外圆周面底部设有凸起的第三限位条，第二吸附环的外圆周面上部开有第六密封槽。

所述固定环为扁平状圆环，固定环的内圆直径与第二吸附环的外圆直径一致，固定环的内圆圆周底部设有内凹的第三限位槽，固定环的上表面沿着圆周方向开有8个均匀分布固定环沉头通孔，固定环的底部外侧设置有台阶。

所述负压腔体为上表面开口的圆柱形空腔，所述负压腔体的腔体侧壁上表面上开有环形的第七密封槽，负压腔体的腔体侧壁的上表面外侧沿圆周方向均布8个螺纹孔，螺纹孔所在圆周直径与固定环上的沉头通孔所在圆周直径一致，所述负压腔体的内底面上设置有8个第一圆周导向套、8个第二圆周导向套和8个第三圆周导向套，8个第一圆周导向套均布在同一个圆周内，8个第一圆周导向套所在的圆周直径与8个第一导向圆柱所在圆周直径一致，8个第一圆周导向套的位置与8个第一导向圆柱的位置一一对应；8个第二圆周导向套均布在同一个圆周内，8个第二圆周导向套所在的圆周直径与8个第二导向圆柱所在圆周直径一致，8个第二圆周导向套的位置与8个第二导向圆柱的位置一一对应；8个第三圆周导向套均布在同一个圆周内，8个第三圆周导向套所在的圆周直径与8个第三导向圆柱所在圆周直径一致，8个第三圆周导向套的位置与8个第三导向圆柱的位置一一对应；8个第一圆周导向套以每间隔一个的方式在第一圆周导向套的内部开设有螺纹内孔；8个第二圆周导向套以每间隔一个的方式在第二圆周导向套的内部开设有螺纹内孔；8个第三圆周导向套以每间隔一个的方式在第三圆周导向套的内部开设有螺纹内孔；所述负压腔体的底面中心处设置有出气孔；所述负压腔体底部出气孔连接外置的负压发生装置。

所述中心吸附圈的8个第一导向圆柱套装在负压腔体的8个第一圆周导向套内，所述第一吸附环的8个第二导向圆柱套装在负压腔体的8个第二圆周导向套内，所述第二吸附环的8个第三导向圆柱套装在负压腔体的8个第三圆周导向套内。

打有沉头通孔的第一导向圆柱分别与打有螺纹内孔的第一圆周导向套相对应，第一导向圆柱的沉头通孔与第一圆周导向套的螺纹内孔通过内六角螺钉固定；打有螺纹通孔的第一导向圆柱内部安装定位螺钉，定位螺钉底部顶住第一圆周导向套的内底面。

打有沉头通孔的第二导向圆柱分别与打有螺纹内孔的第二圆周导向套相对应，第二导向圆柱的沉头通孔与第二圆周导向套的螺纹内孔通过内六角螺钉固定；打有螺纹通孔的第二导向圆柱内部安装定位螺钉，定位螺钉底部顶住第二圆周导向套的内底面。

打有沉头通孔的第三导向圆柱分别与打有螺纹内孔的第三圆周导向套相对应，第三导向圆柱的沉头通孔与第三圆周导向套的螺纹内孔通过内六角螺钉固定；打有螺纹通孔的第三导向圆柱内部安装定位螺钉，定位螺钉底部顶住第三圆周导向套的内底面。

所述固定环的台阶与负压腔体侧壁的上表面对齐，固定环上的8个沉头通孔与负压腔体侧壁上表面上的8个螺纹孔一一对应且通过内六角螺钉连接。

所述中心吸附圈的外圆与第一吸附环的内圆配合，所述中心吸附圈的第一限位条与第一吸附环的第一限位槽相匹配，所述第一吸附环的外圆与第二吸附环内圆配合，所述第一吸附环的第二限位条与第二吸附环的第二限位槽相匹配，所述第二吸附环的外圆与固定环的内圆配合，所述第二吸附环的第三限位条与固定环的第三限位槽相配合。

所述中心吸附圈密封圈安装于中心吸附圈的第一密封槽内，中心吸附圈密封圈紧贴第一吸附环的内圆面；所述第一吸附环密封圈安装于第一吸附环的第四密封槽内，第一吸附环密封圈紧贴第二吸附环的内圆面；所述第二吸附环密封圈安装于第二吸附环的第六密封槽内，第二吸附环密封圈紧贴固定环的内圆面；所述负压腔体密封圈安装于负压腔体的第七密封槽内，负压腔体密封圈紧贴固定环的下表面；所述导向圆柱密封圈分别安装于第一导向圆柱的第二密封槽、第二导向圆柱的第三密封槽和第三导向圆柱的第五密封槽中，导向圆柱密封圈紧贴在相应的第一圆周导向套、第二圆周导向套和第三圆周导向套的内壁上。

进一步的，所述第一吸附环上表面还覆盖有第一吸附环盖板，所述第一吸附环盖板与第一吸附环内外圆直径相同，所述第二吸附环上表面还覆盖有第二吸附环盖板，所述第二吸附环盖板与第二吸附环内外圆直径相同。

进一步的，所述第一吸附环盖板与第二吸附环盖板厚度范围为0.3-0.4mm，且两个第一吸附环盖板与第二吸附环盖板的厚度一致。

进一步的，所述中心吸附圈外径为6英寸，第一吸附环外径为8英寸，第二吸附环外径为英寸。

进一步的，所述中心吸附圈、第一吸附环、第二吸附环和固定环上表面平齐时，各个第一导向圆柱、第二导向圆柱、第三导向圆柱的下底面与相对应的第一圆周导向套、第二圆周导向套、第三圆周导向套的内底面之间的距离一致。

本发明的有益效果在于：

1、本发明通过调节中心吸附圈、第一吸附环、第二吸附环的高度，可以在固定不同厚度的工件时，确保工件上表面与固定环上表面高度保持一致。

2、本发明通过增加或减少第一吸附环盖板、第二吸附环盖板，可以吸附6英寸、8英寸、12英寸等常用直径的硅片。

3、本发明通过多组定位条和定位槽的设置确保与工件底部接触的吸附区域高度保持一致。

4、本发明通过多组导向圆柱和圆周导向套可以快速调整各个吸附区域的高度，无需每个环单独调整。

附图说明

图1是本发明一种基于空化效应的气液固三相磨粒流抛光工具的三维结构剖视图。

图2是本发明中心吸附圈的三维结构剖视图。

图3是本发明第一吸附环的三维结构剖视图。

图4是本发明第二吸附环的三维结构剖视图。

图5是本发明固定环的三维结构剖视图。

图6是本发明负压空腔的三维结构剖视图。

图7是本发明实施例1的三维结构剖视图。

图8是本发明实施例2的三维结构剖视图。

图9是本发明实施例3的三维结构剖视图。

图中，01-中心吸附圈、0101-第一导向圆柱、0102-第一限位条、0103-第一密封槽、0104-第二密封槽、02-第一吸附环、0201-第二导向圆柱、0202-第二限位条、0203-第一限位槽、0204-第四密封槽、0205-第三密封槽、03-第二吸附环、0301-第三导向圆柱、0302-第三限位条、0303-第二限位槽、0304-第六密封槽、0305-第五密封槽、04-固定环、0401-第三限位槽、0402-固定环沉头通孔、0403-台阶、05-负压腔体、0501-第六密封槽、0502-负压腔体螺纹孔、0503-第一圆周导向套、0504-第二圆周导向套、0505-第三圆周导向套、0506-螺纹内孔、0507-出气孔、06-中心吸附圈密封圈、07-第一吸附环密封圈、08-第二吸附环密封圈、09-负压腔体密封圈、10-导向圆柱密封圈、11-第一吸附圈盖板、12-第二吸附圈盖板、13-内六角螺钉、14-定位螺钉、15-吸附孔、16-螺纹通孔，17-沉头通孔18-6英寸硅片、19-8英寸硅片、20-12英寸硅片。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步说明：

如图1-6所示，一种适用于不同尺寸硅片的流体抛光工件固定装置，包括中心吸附圈01、第一吸附环02、第二吸附环03、固定环04、负压腔体05、中心吸附圈密封圈06、第一吸附环密封圈07、第二吸附环密封圈08、负压腔体密封圈09、导向圆柱密封圈10、内六角螺钉13、定位螺钉14、吸附孔15、螺纹通孔16和沉头通孔17，所述中心吸附圈01为扁平状圆柱体，中心吸附圈01表面均布细小的吸附孔15，中心吸附圈01底部沿圆周方向均布8个第一导向圆柱0101，第一导向圆柱0101底部外圆周面开有第二密封槽0104，其中4个均布的第一导向圆柱内打有沉头通孔17，另外4个第一导向圆柱内打有螺纹通孔16，中心吸附圈01的外圆周面底部设有凸起的第一限位条0102，中心吸附圈01的外圆周面上部开有第一密封槽0103。

所述第一吸附环02为扁平状圆环，第一吸附环02的表面均布细小的吸附孔15，第一吸附环02的内圆直径与中心吸附圈01的外圆直径一致，第一吸附环02底部圆周方向均布8个第二导向圆柱0201，第二导向圆柱0201底部圆周面上开有第三密封槽0205，其中4个均布的第二导向圆柱0201内打有沉头通孔17，其余4个第二导向圆柱0201内打有螺纹通孔16，第一吸附环02的内圆圆周底部设有内凹的第一限位槽0203，第一吸附环02的外圆周面底部设有凸起的第二限位条0202，第一吸附环02的外圆周面上部开有第四密封槽0204；

所述第二吸附环03为扁平状圆环，第二吸附环03的表面均布铣削的吸附孔15，第二吸附环03的内圆直径与第一吸附环02的外圆直径一致，第二吸附环03底部圆周方向均布8个第三导向圆柱0301，第三导向圆柱0301底部圆周面开有第五密封槽0305，其中4个均布的第三导向圆柱0301内打有沉头通孔17，其余4个第三导向圆柱0301内打有螺纹通孔16，第二吸附环03的内圆圆周底部设有内凹的第二限位槽0303，第二吸附环03的外圆周面底部设有凸起的第三限位条0302，第二吸附环03的外圆周面上部开有第六密封槽0304；

所述固定环04为扁平状圆环，固定环04的内圆直径与第二吸附环03的外圆直径一致，固定环04的内圆圆周底部设有内凹的第三限位槽0401，固定环04的上表面沿着圆周方向开有8个均匀分布固定环沉头通孔0402，固定环04的底部外侧设置有台阶0403；

所述负压腔体05为上表面开口的圆柱形空腔，所述负压腔体05的腔体侧壁上表面上开有环形的第七密封槽0501，负压腔体05的腔体侧壁的上表面外侧沿圆周方向均布8个螺纹孔0502，螺纹孔所在圆周直径与固定环04上的沉头通孔0402所在圆周直径一致，所述负压腔体的内底面上设置有8个第一圆周导向套0503、8个第二圆周导向套0504和8个第三圆周导向套0505，8个第一圆周导向套0503均布在同一个圆周内，8个第一圆周导向套0503所在的圆周直径与8个第一导向圆柱0101所在圆周直径一致，8个第一圆周导向套0503的位置与8个第一导向圆柱0101的位置一一对应；8个第二圆周导向套0504均布在同一个圆周内，8个第二圆周导向套0504所在的圆周直径与8个第二导向圆柱0201所在圆周直径一致，8个第二圆周导向套0504的位置与8个第二导向圆柱0201的位置一一对应；8个第三圆周导向套0505均布在同一个圆周内，8个第三圆周导向套0505所在的圆周直径与8个第三导向圆柱0301所在圆周直径一致，8个第三圆周导向套0505的位置与8个第三导向圆柱0301的位置一一对应；8个第一圆周导向套0503以每间隔一个的方式在第一圆周导向套0503的内部开设有螺纹内孔0506；8个第二圆周导向套0504以每间隔一个的方式在第二圆周导向套0504的内部开设有螺纹内孔0506；8个第三圆周导向套0505以每间隔一个的方式在第三圆周导向套0505的内部开设有螺纹内孔0506；所述负压腔体的底面中心处设置有出气孔0507；所述负压腔体05底部出气孔0507连接外置的负压发生装置；

所述中心吸附圈01的8个第一导向圆柱0101套装在负压腔体05的8个第一圆周导向套0503内，所述第一吸附环02的8个第二导向圆柱0201套装在负压腔体05的8个第二圆周导向套0504内，所述第二吸附环03的8个第三导向圆柱0301套装在负压腔体05的8个第三圆周导向套0505内；

打有沉头通孔17的第一导向圆柱0101分别与打有螺纹内孔0506的第一圆周导向套0503相对应，第一导向圆柱0101的沉头通孔17与第一圆周导向套0503的螺纹内孔0506通过内六角螺钉13固定；打有螺纹通孔16的第一导向圆柱0101内部安装定位螺钉14，定位螺钉14底部顶住第一圆周导向套0503的内底面；

打有沉头通孔17的第二导向圆柱0201分别与打有螺纹内孔0506的第二圆周导向套0504相对应，第二导向圆柱0201的沉头通孔17与第二圆周导向套0504的螺纹内孔0506通过内六角螺钉13固定；打有螺纹通孔16的第二导向圆柱0201内部安装定位螺钉14，定位螺钉14底部顶住第二圆周导向套0504的内底面；

打有沉头通孔17的第三导向圆柱0301分别与打有螺纹内孔0506的第三圆周导向套0505相对应，第三导向圆柱0301的沉头通孔17与第三圆周导向套0505的螺纹内孔0506通过内六角螺钉13固定；打有螺纹通孔16的第三导向圆柱0301内部安装定位螺钉14，定位螺钉14底部顶住第三圆周导向套0505的内底面；

所述固定环04的台阶0403与负压腔体05侧壁的上表面对齐，固定环04上的8个沉头通孔0402与负压腔体05侧壁上表面上的8个螺纹孔0502一一对应且通过内六角螺钉13连接；

所述中心吸附圈01的外圆与第一吸附环02的内圆配合，所述中心吸附圈01的第一限位条0102与第一吸附环02的第一限位槽0203相匹配，所述第一吸附环02的外圆与第二吸附环03内圆配合，所述第一吸附环02的第二限位条0202与第二吸附环03的第二限位槽0303相匹配，所述第二吸附环03的外圆与固定环04的内圆配合，所述第二吸附环03的第三限位条0302与固定环04的第三限位槽0401相配合。

所述中心吸附圈密封圈06安装于中心吸附圈01的第一密封槽0103内，中心吸附圈密封圈06紧贴第一吸附环02的内圆面；所述第一吸附环密封圈07安装于第一吸附环02的第四密封槽0204内，第一吸附环密封圈07紧贴第二吸附环03的内圆面；所述第二吸附环密封圈08安装于第二吸附环03的第六密封槽0304内，第二吸附环密封圈08紧贴固定环04的内圆面；所述负压腔体密封圈09安装于负压腔体05的第七密封槽0501内，负压腔体密封圈09紧贴固定环04的下表面；所述导向圆柱密封圈10分别安装于第一导向圆柱0101的第二密封槽0104、第二导向圆柱0201的第三密封槽0205和第三导向圆柱0301的第五密封槽0305中，导向圆柱密封圈10紧贴在相应的第一圆周导向套0503、第二圆周导向套0504和第三圆周导向套0505的内壁上。

所述第一吸附环02上表面还覆盖有第一吸附环盖板11，所述第一吸附环盖板11与第一吸附环02内外圆直径相同，所述第二吸附环03上表面还覆盖有第二吸附环盖板12，所述第二吸附环盖板12与第二吸附环03内外圆直径相同。

所述第一吸附环盖板11与第二吸附环盖板12厚度范围为0.3-0.4mm，且两个第一吸附环盖板11与第二吸附环盖板12的厚度一致。

所述中心吸附圈外径为6英寸，第一吸附环外径为8英寸，第二吸附环外径为12英寸；

所述中心吸附圈01、第一吸附环02、第二吸附环03和固定环04上表面平齐时，各个第一导向圆柱0101、第二导向圆柱0201、第三导向圆柱0301的下底面与相对应的第一圆周导向套0503、第二圆周导向套0504、第三圆周导向套0505的内底面之间的距离一致，该距离小于中心吸附圈密封圈06到中心吸附圈底部的距离。

实施例一：

如图7所示，调节第一吸附环02和第二吸附环03高度，将第一吸附环盖板11覆盖于第一吸附环02上表面，将第二吸附环12覆盖于第二吸附环03上表面，调节中心吸附圈01高度，将6英寸硅片18覆盖于中心吸附圈01上表面，将出气口连接负压发生装置使工件固定装置内部产生负压，此时工件固定装置可以将6英寸硅片18吸附于装置上方，且固定后6英寸硅片18上表面与第一吸附环盖板11、第二吸附环盖板12、固定环04上表面齐平，便于对6英寸硅片18进行软性磨粒流抛光。

实施例二：

如图8所示，第二吸附环03高度，将第二吸附环12覆盖于第二吸附环03上表面，调节中心吸附圈01和第一吸附环02高度，将8英寸硅片19覆盖于中心吸附圈01和第一吸附环02上表面，将出气口连接负压发生装置使工件固定装置内部产生负压，此时工件固定装置可以将8英寸硅片19吸附于装置上方，且固定后8英寸硅片19上表面与第二吸附环盖板12、固定环04上表面齐平，便于对8英寸硅片19进行软性磨粒流抛光。

实施例三：

如图9所示，调节中心吸附圈01、第一吸附环02和第二吸附环03的高度，将12英寸硅片20覆盖于中心吸附圈01、第一吸附环02和第二吸附环03上表面，将出气口连接负压发生装置使工件固定装置内部产生负压，此时工件固定装置可以将12英寸硅片20吸附于装置上方，且固定后12英寸硅片20上表面与固定环04上表面齐平，便于对12英寸硅片20进行软性磨粒流抛光。

上述实施例只是本发明的较佳实施例，针对常用硅片尺寸可修改本发明的尺寸，并不是对本发明技术方案的限制，只要是不经过创造性劳动即可在上述实施例的基础上实现的技术方案，均应视为落入本发明专利的权利保护范围内。

Claims (5)

1.一种适用于不同尺寸硅片的流体抛光工件固定装置，其特征在于：包括中心吸附圈(01)、第一吸附环(02)、第二吸附环(03)、固定环(04)、负压腔体(05)、中心吸附圈密封圈(06)、第一吸附环密封圈(07)、第二吸附环密封圈(08)、负压腔体密封圈(09)、导向圆柱密封圈(10)、内六角螺钉(13)、定位螺钉(14)、吸附孔(15)、螺纹通孔(16)和沉头通孔(17)，所述中心吸附圈(01)为扁平状圆柱体，中心吸附圈(01)表面均布细小的吸附孔(15)，中心吸附圈(01)底部沿圆周方向均布8个第一导向圆柱(0101)，第一导向圆柱(0101)底部外圆周面上开有第二密封槽(0104)，其中4个均布的第一导向圆柱(0101)内打有沉头通孔(17)，另外4个第一导向圆柱内打有螺纹通孔(16)，中心吸附圈(01)的外圆周面底部设有凸起的第一限位条(0102)，中心吸附圈(01)的外圆周面上部开有第一密封槽(0103)；

所述第一吸附环(02)为扁平状圆环，第一吸附环(02)的表面均布细小的吸附孔(15)，第一吸附环(02)的内圆直径与中心吸附圈(01)的外圆直径一致，第一吸附环(02)底部圆周方向均布8个第二导向圆柱(0201)，第二导向圆柱(0201)底部圆周面开有第三密封槽(0205)，其中4个均布的第二导向圆柱(0201)内打有沉头通孔(17)，其余4个第二导向圆柱(0201)内打有螺纹通孔(16)，第一吸附环(02)的内圆圆周底部设有内凹的第一限位槽(0203)，第一吸附环(02)的外圆周面底部设有凸起的第二限位条(0202)，第一吸附环(02)的外圆周面上部开有第四密封槽(0204)；

所述第二吸附环(03)为扁平状圆环，第二吸附环(03)的表面均布铣削的吸附孔(15)，第二吸附环(03)的内圆直径与第一吸附环(02)的外圆直径一致，第二吸附环(03)底部圆周方向均布8个第三导向圆柱(0301)，第三导向圆柱(0301)底部圆周面开有第五密封槽(0305)，其中4个均布的第三导向圆柱(0301)内打有沉头通孔(17)，其余4个第三导向圆柱(0301)内打有螺纹通孔(16)，第二吸附环(03)的内圆圆周底部设有内凹的第二限位槽(0303)，第二吸附环(03)的外圆周面底部设有凸起的第三限位条(0302)，第二吸附环(03)的外圆周面上部开有第六密封槽(0304)；

所述固定环(04)为扁平状圆环，固定环(04)的内圆直径与第二吸附环(03)的外圆直径一致，固定环(04)的内圆圆周底部设有内凹的第三限位槽(0401)，固定环(04)的上表面沿着圆周方向开有8个均匀分布固定环沉头通孔(0402)，固定环(04)的底部外侧设置有台阶(0403)；

所述负压腔体(05)为上表面开口的圆柱形空腔，所述负压腔体(05)的腔体侧壁上表面上开有环形的第七密封槽(0501)，负压腔体(05)的腔体侧壁的上表面外侧沿圆周方向均布8个螺纹孔(0502)，螺纹孔所在圆周直径与固定环(04)上的沉头通孔(0402)所在圆周直径一致，所述负压腔体的内底面上设置有8个第一圆周导向套(0503)、8个第二圆周导向套(0504)和8个第三圆周导向套(0505)，8个第一圆周导向套(0503)均布在同一个圆周内，8个第一圆周导向套(0503)所在的圆周直径与8个第一导向圆柱(0101)所在圆周直径一致，8个第一圆周导向套(0503)的位置与8个第一导向圆柱(0101)的位置一一对应；8个第二圆周导向套(0504)均布在同一个圆周内，8个第二圆周导向套(0504)所在的圆周直径与8个第二导向圆柱(0201)所在圆周直径一致，8个第二圆周导向套(0504)的位置与8个第二导向圆柱(0201)的位置一一对应；8个第三圆周导向套(0505)均布在同一个圆周内，8个第三圆周导向套(0505)所在的圆周直径与8个第三导向圆柱(0301)所在圆周直径一致，8个第三圆周导向套(0505)的位置与8个第三导向圆柱(0301)的位置一一对应；8个第一圆周导向套(0503)以每间隔一个的方式在第一圆周导向套(0503)的内部开设有螺纹内孔(0506)；8个第二圆周导向套(0504)以每间隔一个的方式在第二圆周导向套(0504)的内部开设有螺纹内孔(0506)；8个第三圆周导向套(0505)以每间隔一个的方式在第三圆周导向套(0505)的内部开设有螺纹内孔(0506)；所述负压腔体的底面中心处设置有出气孔(0507)；所述负压腔体(05)底部出气孔(0507)连接外置的负压发生装置；

所述中心吸附圈(01)的8个第一导向圆柱(0101)套装在负压腔体(05)的8个第一圆周导向套(0503)内，所述第一吸附环(02)的8个第二导向圆柱(0201)套装在负压腔体(05)的8个第二圆周导向套(0504)内，所述第二吸附环(03)的8个第三导向圆柱(0301)套装在负压腔体(05)的8个第三圆周导向套(0505)内；

打有沉头通孔(17)的第一导向圆柱(0101)分别与打有螺纹内孔(0506)的第一圆周导向套(0503)相对应，第一导向圆柱(0101)的沉头通孔(17)与第一圆周导向套(0503)的螺纹内孔(0506)通过内六角螺钉(13)固定；打有螺纹通孔(16)的第一导向圆柱(0101)内部安装定位螺钉(14)，定位螺钉(14)底部顶住第一圆周导向套(0503)的内底面；

打有沉头通孔(17)的第二导向圆柱(0201)分别与打有螺纹内孔(0506)的第二圆周导向套(0504)相对应，第二导向圆柱(0201)的沉头通孔(17)与第二圆周导向套(0504)的螺纹内孔(0506)通过内六角螺钉(13)固定；打有螺纹通孔(16)的第二导向圆柱(0201)内部安装定位螺钉(14)，定位螺钉(14)底部顶住第二圆周导向套(0504)的内底面；

打有沉头通孔(17)的第三导向圆柱(0301)分别与打有螺纹内孔(0506)的第三圆周导向套(0505)相对应，第三导向圆柱(0301)的沉头通孔(17)与第三圆周导向套(0505)的螺纹内孔(0506)通过内六角螺钉(13)固定；打有螺纹通孔(16)的第三导向圆柱(0301)内部安装定位螺钉(14)，定位螺钉(14)底部顶住第三圆周导向套(0505)的内底面；

所述固定环(04)的台阶(0403)与负压腔体(05)侧壁的上表面对齐，固定环(04)上的8个沉头通孔(0402)与负压腔体(05)侧壁上表面上的8个螺纹孔(0502)一一对应且通过内六角螺钉(13)连接；

所述中心吸附圈(01)的外圆与第一吸附环(02)的内圆配合，所述中心吸附圈(01)的第一限位条(0102)与第一吸附环(02)的第一限位槽(0203)相匹配，所述第一吸附环(02)的外圆与第二吸附环(03)内圆配合，所述第一吸附环(02)的第二限位条(0202)与第二吸附环(03)的第二限位槽(0303)相匹配，所述第二吸附环(03)的外圆与固定环(04)的内圆配合，所述第二吸附环(03)的第三限位条(0302)与固定环(04)的第三限位槽(0401)相配合；

所述中心吸附圈密封圈(06)安装于中心吸附圈(01)的第一密封槽(0103)内，中心吸附圈密封圈(06)紧贴第一吸附环(02)的内圆面；所述第一吸附环密封圈(07)安装于第一吸附环(02)的第四密封槽(0204)内，第一吸附环密封圈(07)紧贴第二吸附环(03)的内圆面；所述第二吸附环密封圈(08)安装于第二吸附环(03)的第六密封槽(0304)内，第二吸附环密封圈(08)紧贴固定环(04)的内圆面；所述负压腔体密封圈(09)安装于负压腔体(05)的第七密封槽(0501)内，负压腔体密封圈(09)紧贴固定环(04)的下表面；所述导向圆柱密封圈(10)分别安装于第一导向圆柱(0101)的第二密封槽(0104)、第二导向圆柱(0201)的第三密封槽(0205)和第三导向圆柱(0301)的第五密封槽(0305)中，导向圆柱密封圈(10)紧贴在相应的第一圆周导向套(0503)、第二圆周导向套(0504)和第三圆周导向套(0505)的内壁上。

2.根据权利要求1所述的一种适用于不同尺寸硅片的流体抛光工件固定装置，其特征在于：所述第一吸附环(02)上表面还覆盖有第一吸附环盖板(11)，所述第一吸附环盖板(11)与第一吸附环(02)内外圆直径相同，所述第二吸附环(03)上表面还覆盖有第二吸附环盖板(12)，所述第二吸附环盖板(12)与第二吸附环(03)内外圆直径相同。

3.根据权利要求1所述的一种适用于不同尺寸硅片的流体抛光工件固定装置，其特征在于：所述第一吸附环盖板(11)与第二吸附环盖板(12)厚度范围为0.3-0.4mm，且两个第一吸附环盖板(11)与第二吸附环盖板(12)的厚度一致。

4.根据权利要求1所述的一种适用于不同尺寸硅片的流体抛光工件固定装置，其特征在于：所述中心吸附圈外径为6英寸，第一吸附环外径为8英寸，第二吸附环外径为(12)英寸。

5.根据权利要求1所述的一种适用于不同尺寸硅片的流体抛光工件固定装置，其特征在于：所述中心吸附圈(01)、第一吸附环(02)、第二吸附环(03)和固定环(04)上表面平齐时，各个第一导向圆柱(0101)、第二导向圆柱(0201)、第三导向圆柱(0301)的下底面与相对应的第一圆周导向套(0503)、第二圆周导向套(0504)、第三圆周导向套(0505)的内底面之间的距离一致。

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