CN111534232A - 一种研磨抛光浆料及镜面板制备方法 - Google Patents
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- 238000000227 grinding Methods 0.000 title claims abstract description 62
- 239000002002 slurry Substances 0.000 title claims abstract description 43
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 57
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 27
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims abstract description 17
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 claims description 7
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 claims description 6
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 claims description 6
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 claims description 6
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000499 gel Substances 0.000 claims description 4
- 229920000136 polysorbate Polymers 0.000 claims description 4
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 3
- 150000004659 dithiocarbamates Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 3
- 239000012991 xanthate Substances 0.000 claims description 3
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 claims description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 claims description 2
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 claims description 2
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 claims description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 claims 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 claims 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 claims 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 claims 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 claims 1
- ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N ethoxymethanedithioic acid Chemical group CCOC(S)=S ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 claims 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 claims 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 239000002778 food additive Substances 0.000 description 4
- 235000013373 food additive Nutrition 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 2
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 210000004209 hair Anatomy 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 210000002345 respiratory system Anatomy 0.000 description 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B1/00—Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F3/00—Brightening metals by chemical means
- C23F3/04—Heavy metals
- C23F3/06—Heavy metals with acidic solutions
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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Abstract
本发明公开了一种研磨抛光浆料及镜面板制备方法,通过研磨抛光机对不锈钢面板进行镜面抛光,研磨抛光机采用如下浆料,浆料包括有机酸和二氧化硅,其中二氧化硅的质量比为2.2±0.2%;浆料的pH值为5.5‑6.3,浆料的细度为1500目以上。本发明能够避免强硝酸的腐蚀破坏,同时环保、成本低廉。
Description
技术领域
本发明涉及一种研磨抛光浆料及不锈钢镜面板加工生产方法,属于金属板加工技术领域。
背景技术
不锈钢镜面板加工生产传统工艺:材料选用粗糙度不高于Ra0.15μm和Ra0.07μm的优质不锈钢2B或BA表面的冷轧板,使用多磨头抛光研磨机,加入氧化铝微粉硝酸溶液研磨生产。这种加工工艺生产不锈钢镜面板,利用初磨、半精磨、精磨等多道工序进行抛光,使不锈钢表面粗糙度在0.01μm以下,反射率在64%以上,达到镜面技术指标要求。原抛光研磨机的精磨和半精磨段使用2%硝酸与3%氧化铝配成的传统的磨液工艺,因硝酸为强酸,生产过程中酸雾对研磨设备有较强的腐蚀,对人体呼吸道一定的伤害,不仅如此,生产废液中重金属铬、镍离子还需经污水处理站高成本处理后才能达标排放。
发明内容
发明目的:为了克服现有技术中存在的不足,本发明提供一种能够避免强硝酸的腐蚀破坏,同时环保的研磨抛光浆料及镜面板制备方法。
技术方案:为实现上述目的,本发明采用的技术方案为:
一种镜面板制备方法,对不锈钢面板进行镜面抛光,研磨抛光机采用如下研磨抛光浆料,浆料的细度为1500目以上;由有机酸(包括柠檬酸、醋酸、草酸、苯甲酸、苹果酸、抗坏血酸、酒石酸等中的一种或者两种以上的混合物)替代无机强酸硝酸,添加有机酸使浆料的pH值为5.5-6.3,浆料中含有质量比为2.2±0.2%二氧化硅。
因柠檬酸是一种重要的有机酸,用于食品添加剂,对金属表面也起清洁作用,可当金属清洗剂使用;二氧化硅是硅原子跟(四个)氧原子形成的球形结构的原子晶体,整个晶体又可以看作是一个巨大分子,是一种坚硬难溶的球形固体, 呈酸性氧化物,二氧化硅当中间载体,能磨削去除不锈钢表面凸处(也即磨削板表面不平处),再进行研磨抛光,完全能够使不锈钢表面达到镜面状态。精磨浆料的细度为2500目以上。
由有机酸、弱酸替代无机强酸硝酸,磨料PH值调整至6左右,偏向中性,尽量控制金属铬、镍离子产生量小,环境污染轻。
二氧化硅极难溶于水,本发明采用吐温0.05%加0.2%聚乙二醇配比,分散及微溶二氧化硅技术难题,配比成高细度的粗1500目、精3000目两种浆料。重金属捕捉剂凝胶及吸附重金属离子,从而可以。
调整磨液酸碱度,对金属铬、镍离子产生的影响,同时加入重金属捕捉剂,使磨液达到环保排放要求。加入重金属捕捉剂质量比0.5-2%。如黄原酸酯类和二硫代胺基甲酸盐类衍生物(DTC类) 或其凝胶。
二氧化硅微粉分散及微溶到水中,先配成20%二氧化硅浆料,加柠檬酸10%,能促进二氧化硅微粉分散及微溶,不沉淀。最后配制成所设定的浓度。再配制含有质量为2.2±0.2%二氧化硅浆料。
磨料中加入葡萄糖酸钠,其质量比为1.5-2.5%,因葡萄糖酸钠可以用作金属表面处理以及水处理等行业作高效螯合剂,钢铁表面清洗剂,具有优异的缓蚀阻垢作用,所以被广泛用于水质稳定剂,甚至在全PH范围内部有作用,可用于食品添加剂,能去除镜面板表面白点及增强亮度,达到完美的镜面状态。
磨料介质研磨抛光机(磨头)的中央加料(圆心位置流入研磨浆料)效果更好。
本发明基本不用酸,不采用氧化铝微粉磨料,氧化铝微粉研磨抛光机羊毛毡磨头快速旋转出现磨头结合面发焦发硬现象,导致不锈钢板面出现磨头印(呼啦圈)等不合格品行的缺陷。
本发明的羊毛毡磨头发焦的概率大大降低,研磨切削的效率得到很大的提高,不锈钢研磨抛光后的粗糙度达到镜面板的技术要求。
有了新方法新工艺,再经过数十次的配比研磨对比最后确定了3%柠檬酸与2.2%二氧化硅组成最佳配比制成研磨抛光浆料。因柠檬酸是一种重要的有机酸,用于食品添加剂,对金属表面也起清洁作用,可当金属清洗剂使用;二氧化硅是硅原子跟四个氧原子形成的球形结构的原子晶体,整个晶体又可以看作是一个巨大分子,是一种坚硬难溶的球形固体,呈酸性氧化物,二氧化硅当中间载体,能去除不锈钢表面高点(也即磨削力),再进行研磨抛光,完全能够使不锈钢表面达到镜面状态。
本发明相比现有技术,具有以下有益效果:
1.本发明的镜面加工产品色泽一致,没有肉眼可见之差异。产品表面应平整、无划痕、折痕、凹坑、油污等缺陷。表面的粗糙度在0.01μm以下。反射率在64%以上。克服了检测磨液中的铬、镍离子过高的不足。
2.本发明的生产工艺由二氧化硅有机酸柠檬酸浆料研磨液替代氧化铝硝酸磨液后,每吨镜面板加工可节约磨液成本65元,减少磨头羊毛毡损耗节约70元,节约辅料成本。
3. 本发明的生产工艺,完全消除了强硝酸对生产设备和厂房钢结构的腐蚀破坏,故障频率和维修费用大大下降。
3.本发明所采用的工艺符合国家产业政策和环保治理要求,本发明填补了不锈钢装饰行业环保型生产不锈钢镜面板的一项空白。不锈钢无酸镜面板生产工艺的是镜面板生产领域的一个颠覆性的革命,不仅生产成本和维修成本的节约,而且消除了工人吸入挥发硝酸对人体呼吸道的损害,社会效益巨大。
具体实施方式
下面结合具体实施例,进一步阐明本发明,应理解这些实例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围,在阅读了本发明之后,本领域技术人员对本发明的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。
实施例1、
一种镜面板制备方法,研磨抛光机采用如下研磨抛光浆料,浆料的细度为1500目以上;在本发明的另一实施例中,精磨的浆料的细度为3000目。采用1500目研磨后再进行精磨,精磨的浆料的细度为3000目。添加柠檬酸使浆料的pH值为6,磨料PH值调整至6左右,也具有良好的效果,金属铬、镍离子产生量小,环境污染轻。在本发明的另一实施例中,pH值为5.5,在本发明的又另一实施例中,pH值为6.3,浆料中质量比为2.2%二氧化硅,在本发明的另一实施例中,浆料中二氧化硅的质量比为2%。在本发明的又另一实施例中,浆料中二氧化硅的质量比为2.4%。 加入重金属捕捉剂质量比0.5-2%。如黄原酸酯类和二硫代胺基甲酸盐类衍生物(DTC类) 或其凝胶使浆液回收调整回用。
实施例2
本实施例与实施例1的区别在于,二氧化硅微粉分散及微溶到水中,先配成20%二氧化硅浆料,加柠檬酸10%,能促进二氧化硅微粉分散及微溶,不沉淀。最后配制成所设定的浓度。二氧化硅极难溶于水,采用表面活性剂吐温(多规格的吐温均可)0.05%加0.2%聚乙二醇配比,分散及微溶二氧化硅技术难题,配比成粗1500目、精3000目两种浆料。
磨料中加入质量比为2%葡萄糖酸钠,因葡萄糖酸钠可以用作金属表面处理以及水处理等行业作高效螯合剂,钢铁表面清洗剂,具有优异的缓蚀阻垢作用,所以被广泛用于水质稳定剂,甚至在全PH范围内部有作用,可用于食品添加剂,能去除镜面板表面白点及增强亮度,达到完美的镜面状态。
并将柠檬酸与二氧化硅配置成的浆料磨液,经过试磨具有意想不到的效果。
实施例3
上述磨料在磨料介质研磨抛光机(磨头)的中央加料效果更好。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出:对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种研磨抛光浆料,其特征在于:包括有机酸和二氧化硅,其中二氧化硅的质量比为2.2±0.2%;浆料的pH值为5.5-6.3,浆料的细度为1500目以上。
2.根据权利要求1所述研磨抛光浆料,其特征在于:还包括重金属捕捉剂,所述重金属捕捉剂的质量比为0.5-2%。
3.根据权利要求1所述研磨抛光浆料,其特征在于:还包括葡萄糖酸钠,所述葡萄糖酸钠的质量比为1.5-2.5%。
4.根据权利要求2所述研磨抛光浆料,其特征在于:有机酸包括柠檬酸、醋酸、草酸、苯甲酸、苹果酸、抗坏血酸、酒石酸中的一种或者两种以上的混合物。
5.根据权利要求1所述研磨抛光浆料,其特征在于:重金属捕捉剂为黄原酸酯类、二硫代胺基甲酸盐类衍生物或其凝胶。
6.根据权利要求1所述研磨抛光浆料,其特征在于:浆料的细度为2500目以上。
7.根据权利要求1所述研磨抛光浆料,其特征在于:采用吐温0.05%加0.2%聚乙二醇配比,加水分散及微溶二氧化硅成为浆料。
8.根据权利要求1所述研磨抛光浆料,其特征在于:先配制二氧化硅微粉分散及微溶到水中,配成质量比为20%二氧化硅的浆料;再配制含有质量为2.2±0.2%二氧化硅浆料。
9.一种镜面板制备方法,其特征在于:研磨抛光机采用权利要求1至8任一所述的研磨抛光浆料,通过研磨抛光机对不锈钢面板进行镜面抛光。
10.根据权利要求9所述镜面板制备方法,其特征在于:研磨抛光浆料从研磨抛光机的磨头的中央加料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010263410.0A CN111534232A (zh) | 2020-04-07 | 2020-04-07 | 一种研磨抛光浆料及镜面板制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010263410.0A CN111534232A (zh) | 2020-04-07 | 2020-04-07 | 一种研磨抛光浆料及镜面板制备方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN111534232A true CN111534232A (zh) | 2020-08-14 |
Family
ID=71972920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202010263410.0A Pending CN111534232A (zh) | 2020-04-07 | 2020-04-07 | 一种研磨抛光浆料及镜面板制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN111534232A (zh) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114350317A (zh) * | 2021-12-28 | 2022-04-15 | 广东红日星实业有限公司 | 一种研磨液及其制备方法和应用 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1865386A (zh) * | 2005-05-17 | 2006-11-22 | 安集微电子(上海)有限公司 | 抛光浆料 |
| CN101271869A (zh) * | 2007-03-22 | 2008-09-24 | 株式会社半导体能源研究所 | 发光器件的制造方法 |
| CN103422092A (zh) * | 2013-07-19 | 2013-12-04 | 吴江龙硕金属制品有限公司 | 一种抛光液及其抛光方法 |
| CN104471016A (zh) * | 2012-07-17 | 2015-03-25 | 福吉米株式会社 | 合金材料研磨用组合物及使用其的合金材料的制造方法 |
| CN109943237A (zh) * | 2019-04-16 | 2019-06-28 | 江苏艾佳达新材料有限公司 | 一种抛光液 |
-
2020
- 2020-04-07 CN CN202010263410.0A patent/CN111534232A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1865386A (zh) * | 2005-05-17 | 2006-11-22 | 安集微电子(上海)有限公司 | 抛光浆料 |
| CN101271869A (zh) * | 2007-03-22 | 2008-09-24 | 株式会社半导体能源研究所 | 发光器件的制造方法 |
| CN104471016A (zh) * | 2012-07-17 | 2015-03-25 | 福吉米株式会社 | 合金材料研磨用组合物及使用其的合金材料的制造方法 |
| CN103422092A (zh) * | 2013-07-19 | 2013-12-04 | 吴江龙硕金属制品有限公司 | 一种抛光液及其抛光方法 |
| CN109943237A (zh) * | 2019-04-16 | 2019-06-28 | 江苏艾佳达新材料有限公司 | 一种抛光液 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114350317A (zh) * | 2021-12-28 | 2022-04-15 | 广东红日星实业有限公司 | 一种研磨液及其制备方法和应用 |
| CN114350317B (zh) * | 2021-12-28 | 2023-08-15 | 广东红日星实业有限公司 | 一种研磨液及其制备方法和应用 |
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