CN111430568A - 显示基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，该显示基板包括发光单元以及设置于所述发光单元出光侧的压窄膜层，所述压窄膜层将所述发光单元发出的光线进行散射，以缩小所述发光单元发出光线的光谱线宽；以提升显示装置的色域，使得显示效果更佳丰富逼真，接近现实效果。

Description

显示基板及其制备方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

有机发光二极管显示装置(OrganicLightEmittingDiode，OLED)是未来显示产品的发展趋势，具有视角宽、响应速度快、亮度高、对比度高、色彩鲜艳、重量轻、厚度薄、功耗低等一系列优点。目前，有机发光二极管显示装置已经开始应用于手机屏幕。

OLED屏幕由于其广色域受到消费者的青睐，但是其红光和蓝光都不纯，故在色域表现上仍然不如微型有机发光二极管显示装置(MicroLED)等后起之秀。液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)的色域则取决于背光，如果用色域更广的背光，其色域表现水平也能与OLED相媲美。色域扩展的LCD在色彩方面完全不输OLED，尤其是LCD+量子点背光色域扩展，性能上完全盖过了OLED。

显示器的红绿蓝光谱线宽越窄，得到的颜色越纯净，显示器可表现出的颜色更丰富和真实，传统提升色域的方法为选择能辐射跃迁相应频率的光子的发光材料，对材料具有很严重的依赖性，传统收缩光谱线宽的方法(滤波器)，得到的通常是单一频率的光。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题是，提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，以提升显示装置的色域，使得显示效果更佳丰富逼真，接近现实效果。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种显示基板，包括发光单元以及设置于所述发光单元出光侧的压窄膜层，所述压窄膜层将所述发光单元发出的光线进行散射，以缩小所述发光单元发出光线的光谱线宽。

可选地，所述压窄膜层为环状结构，所述压窄膜层中部设置有通孔，所述通孔的内壁设置有散射面，所述散射面将所述发光单元发出的光线进行散射，以使所述发光单元发出的光线在所述压窄膜层中沿圆周方向循环传播，进而缩小所述发光单元发出光线的光谱线宽。

可选地，所述散射面呈锯齿状，且所述发光单元发出的光线在所述散射面处发生全反射。

可选地，还包括反射介质层，所述反射介质层为棱形结构，所述反射介质层与所述压窄膜层同层设置，所述反射介质层用于将所述发光单元发出的光线折射至所述压窄膜层中。

可选地，还包括钝化层，所述钝化层与所述压窄膜层同层设置，并通过同一制备过程制备而成。

可选地，还包括反射基底，所述反射基底上设置有所述发光单元以及所述压窄膜层，所述压窄膜层设置于所述反射基底与所述发光单元之间。

可选地，还包括发光驱动电路，所述发光驱动电路与所述发光单元连接，用于控制和驱动所述发光单元，所述发光驱动电路包括：

有源层；

覆盖所述有源层的第一绝缘层和设置在所述第一绝缘层上的栅电极；

覆盖所述栅电极的第二绝缘层以及设置在所述第二绝缘层上的源漏电极，所述源漏电极通过过孔与有源层内的掺杂区连接；

覆盖所述源漏电极的第三绝缘层；

在所述第三绝缘层上形成的公共电极；

形成覆盖所述公共电极的钝化层以及设置在所述钝化层上的连接电极，所述连接电极将所述公共电极与所述发光单元连接。

可选地，所述发光单元包括相对设置的第一电极、第二电极以及设置于所述第一电极和所述第二电极之间的发光层；

所述发光单元还包括设置于所述第一电极与所述发光层之间的空穴传输层；和/或设置于所述第二电极与所述发光层之间的电子传输层。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括前述的显示基板。

本发明实施例还提供一种显示基板的制备方法，包括：

在基底上形成发光单元以及压窄膜层，使所述压窄膜层位于所述发光单元的出光侧。

本发明提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置，通过压窄膜层使发光单元发出的光线在压窄膜层的介质中散射，并在散射过程中缩小发光单元发出光线的光谱线宽，使压窄膜层形成在光波导领域中所述的瑞利压窄模型，进而提升发光单元发出光线的色域，使得显示效果更佳丰富逼真，接近现实效果。

本发明显示基板中压窄膜层为环状结构，发光单元发出的光线通过在散射面处进行散射，使发光单元发出的光线在压窄膜层的环状结构中沿圆周方向循环传播，由于光线散射的光程越长，压窄效果越明显，该压窄膜层增加了发光单元发出光线的散射光程，进而进一步提升发光单元发出光线的色域。

本发明显示基板中的压窄膜层能够同时压窄三个线宽的光线，即红光、蓝光和绿光，进而实现提高显示器色域的需求。

当然，实施本发明的任一产品或方法并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。本发明的其它特征和优点将在随后的说明书实施例中阐述，并且，部分地从说明书实施例中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明实施例的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

附图说明

附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。附图中各部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。

图1为本发明显示基板第一实施例的剖视图；

图2为本发明显示基板第一实施例横截面的俯视图；

图3为本发明显示基板第一实施例的结构示意图；

图4为本发明显示基板第一实施例的电路图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。

本发明实施例提供一种显示基板，包括发光单元以及设置于发光单元出光侧的压窄膜层，压窄膜层包括压窄膜层，压窄膜层将发光单元发出的光线进行散射，以缩小发光单元发出光线的光谱线宽。本发明显示基板通过压窄膜层缩小发光单元的发出光线的光谱线宽，以提升发光单元发出光线的色域。

第一实施例

图1为本发明实施例显示基板的剖视图；图2为本发明实施例显示基板横截面的俯视图。如图1和图2所示，本发明实施例提供一种显示基板，包括发光单元10以及设置于发光单元10出光侧的压窄膜层20，压窄膜层20将发光单元10发出的光线进行散射，以缩小发光单元10发出光线的光谱线宽。

本发明实施例通过压窄膜层20使发光单元10发出的光线在压窄膜层20的介质中散射，并在散射过程中缩小发光单元10发出光线的光谱线宽，使压窄膜层20形成在光波导领域中所述的瑞利压窄模型，进而提升发光单元10发出光线的色域，使得显示效果更佳丰富逼真，接近现实效果。

本发明实施例中压窄膜层压窄光线的原理为：

任何物质都不是完全均匀存在的，宏观上我们认为均匀的物质在微观上可视为由一系列均匀颗粒散落在均匀的介质中，其数量级在纳米数量级，当光子碰撞到颗粒后会发生后向弹性散射，即我们所说的瑞利散射。当初始光经过瑞利散射后其后向散射光谱将相比于原始光谱极大的瑞利散射压窄(其压窄后的中心波长为能量集中的波段)，压窄的瑞利散射光作为种子光再次在压窄膜层20中循环，经历“不均匀的粒子”会再次压窄，如此循环往复，最后出射的光线的光谱较原始光线的光谱将会极大的压窄，使压窄后的光线色域面积覆盖更广，混色后的颜色更加丰富。

如图1和图2所示，压窄膜层20为环状结构，例如圆环状结构。压窄膜层20中部设置有通孔201，通孔201的内壁设置有散射面202，散射面202将发光单元10发出的光线进行散射，以使发光单元10发出的光线在压窄膜层20中沿圆周方向循环传播，也就是说，发光单元10发出的光线经过散射面202的散射，会围绕通孔201的四周、沿圆周方向循环传播。由于光线散射的光程越长，压窄效果越明显，该压窄膜层20的结构增加了发光单元10发出光线的散射光程，进一步提升发光单元10发出光线的色域。

如图2所示，通孔201中的介质折射率低于压窄膜层20中的介质折射率，比如通孔201中的介质为空气，压窄膜层中的介质为硅氮化物。从而使发光单元10发出的光线在散射面202处发生全反射，使发光单元10发出的光线大部分在压窄膜层20中围绕通孔201循环传播。

实施例中，散射面可以采用多种结构，只要能够将光线进行散射即可。比如散射面呈锯齿状等凹凸不平的膜层结构。

如图1所示，实施例显示基板还包括反射介质层40，反射介质层40与压窄膜层20同层设置，并可通过同一制备过程制备而成。反射介质层40与发光单元10对应，用于将发光单元10发出的光线折射至压窄膜层20中。

实施例中，反射介质层可以采用多种结构，只要能够将光线折射至压窄膜层中即可。比如反射介质层为棱形结构。

实施例中，显示基板还包括钝化层，钝化层采用绝缘材料，用于保护膜层。钝化层、压窄膜层和反射介质层可通过同一制备过程制备而成。也就是说，显示基板制备过程中，先制备形成一层绝缘材料薄膜，在将该绝缘材料薄膜通过同一构图工艺分别形成钝化层、压窄膜层和反射介质层，从而无需在原有膜层的基础上沉积其他的膜层，以形成压窄膜层和反射介质层。并使压窄膜层和反射介质层具有钝化层的作用。

实施例显示基板还包括反射基底，反射基底上设置有发光单元以及压窄膜层，压窄膜层设置于反射基底与发光单元之间。发光单元发出的光线经过压窄膜层后，发射至反射基底，再经过反射基底反射，形成显示光线。

在一些实施例中，本发明的显示基板也可以采用顶发射结构，即发光单元发射出的光线经过压窄膜层用以光谱的收窄后，再发出形成显示光线。

下面通过具体实施例，详细说明本发明的技术方案。

图3为本发明显示基板第一实施例的结构示意图。如图3所示，实施例显示基板包括发光驱动电路30，发光驱动电路30与发光单元10连接，用于控制和驱动发光单元10。其中，发光驱动电路30包括形成于衬底之上的有源层301、覆盖有源层301的第一绝缘层302和设置在第一绝缘层302上的栅电极303、以及覆盖所述栅电极的第二绝缘层304、以及设置在第二绝缘层304上的源漏电极305，第二绝缘层304中设置有连通有源层301内掺杂区的第一过孔，源漏电极305通过第一过孔与有源层301内的掺杂区连接。

如图3所示，所述发光驱动电路还包括覆盖源漏电极305的第三绝缘层306、在第三绝缘层306上形成的公共电极307以及形成覆盖公共电极307的钝化层308、以及设置在钝化层308上的连接电极309。其中，第三绝缘层306中设置有连通源漏电极305的第二过孔，公共电极307通过第二过孔与源漏电极305连接。钝化层308中设置有连通公共电极307的第三过孔，连接电极309的一端通过第三过孔与公共电极307连接，连接电极309的另一端与发光单元10连接，从而使公共电极307与发光单元10通过连接电极309实现电连接。

如图3所示，发光单元10包括相对设置的第一电极101、第二电极102以及设置于第一电极101和第二电极102之间的发光层103。其中，第一电极101位于反射介质层40之上。钝化层308、压窄膜层20和反射介质层40通过同一制备过程制备而成。即钝化层308、压窄膜层20和反射介质层40均为同一绝缘材料薄膜通过同一构图工艺形成。钝化层308、压窄膜层20和反射介质层40的材料相同，比如钝化层308、压窄膜层20和反射介质层40的材料为硅氮化物。

图4为本发明显示基板第一实施例的电路图。如图3和图4所示，当发光驱动电路30驱动发光单元10发射光线，发光单元10的发射光线形成进入反射介质层40的入射光线，其中，入射光线一部分在反射介质层40与第一电极101的交界处折射后进入压窄膜层20，入射光线的另一部分通过反射介质层40的棱形结构反射进入压窄膜层20；进入压窄膜层20的入射光线在压窄膜层20的散射面处发生散射，使该入射光线在压窄膜层20中沿圆周方向循环传播，从而缩小该入射光线的光谱线宽。

实施例中，发光单元10还包括设置于第一电极与发光层之间的空穴传输层；和/或设置于第二电极与发光层之间的电子传输层。

第二实施例

基于前述实施例的技术构思，本发明还提供了一种显示基板的制备方法，包括：

在基底上形成发光单元以及压窄膜层，使所述压窄膜层位于所述发光单元的出光侧。

本实施例的制备工艺利用现有成熟的制备设备即可实现，对现有工艺改进较小，能够很好地与现有制备工艺兼容，因此具有制作成本低、易于工艺实现、生产效率高和良品率高等优，具有良好的应用前景。

第三实施例

基于前述实施例的技术构思，本发明还提供了一种显示装置，包括前述实施例的显示基板。显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

在本发明实施例的描述中，需要理解的是，术语“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明实施例的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种显示基板，其特征在于，包括发光单元以及设置于所述发光单元出光侧的压窄膜层，所述压窄膜层将所述发光单元发出的光线进行散射，以缩小所述发光单元发出光线的光谱线宽。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述压窄膜层为环状结构，所述压窄膜层中部设置有通孔，所述通孔的内壁设置有散射面，所述散射面将所述发光单元发出的光线进行散射，以使所述发光单元发出的光线在所述压窄膜层中沿圆周方向循环传播，进而缩小所述发光单元发出光线的光谱线宽。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述散射面呈锯齿状，且所述发光单元发出的光线在所述散射面处发生全反射。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括反射介质层，所述反射介质层为棱形结构，所述反射介质层与所述压窄膜层同层设置，所述反射介质层用于将所述发光单元发出的光线折射至所述压窄膜层中。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括钝化层，所述钝化层与所述压窄膜层同层设置，并通过同一制备过程制备而成。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括反射基底，所述反射基底上设置有所述发光单元以及所述压窄膜层，所述压窄膜层设置于所述反射基底与所述发光单元之间。

7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括发光驱动电路，所述发光驱动电路与所述发光单元连接，用于控制和驱动所述发光单元，所述发光驱动电路包括：

有源层；

覆盖所述有源层的第一绝缘层和设置在所述第一绝缘层上的栅电极；

覆盖所述栅电极的第二绝缘层以及设置在所述第二绝缘层上的源漏电极，所述源漏电极通过过孔与有源层内的掺杂区连接；

覆盖所述源漏电极的第三绝缘层；

在所述第三绝缘层上形成的公共电极；

形成覆盖所述公共电极的钝化层以及设置在所述钝化层上的连接电极，所述连接电极将所述公共电极与所述发光单元连接。

8.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述发光单元包括相对设置的第一电极、第二电极以及设置于所述第一电极和所述第二电极之间的发光层；

所述发光单元还包括设置于所述第一电极与所述发光层之间的空穴传输层；和/或设置于所述第二电极与所述发光层之间的电子传输层。

9.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-8任一所述的显示基板。

10.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

在基底上形成发光单元以及压窄膜层，使所述压窄膜层位于所述发光单元的出光侧。

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