CN111426413A - 一种新型压力传感器及设计方法 - Google Patents
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Abstract
一种新型底装式搅拌机及其使用方法。一种新型压力传感器,惠斯通主桥上带有惠斯通主桥输入电源和斯通主桥输出端;惠斯通次级桥电阻R1’,惠斯通次级桥电阻R2’,惠斯通次级桥电阻R4’和惠斯通次级桥电阻R3’顺次串联形成惠斯通次级桥,惠斯通次级桥上带有惠斯通次级桥输入电源和惠斯通次级桥输出端。一种新型压力传感器的设计方法,采用压阻式压力传感器温度补偿方法,次级惠斯通电桥信号用来对压阻压力传感器进行温度补偿;次级电信号来源于位于敏感薄膜上的次级惠斯通电桥,主惠斯通电桥对于外界应力敏感,次级惠斯通电桥也能对外部压力敏感,利用次级惠斯通电桥的信号能增强压力传感器灵敏度。本发明的优点:原理结构简单,精度高,有效实现温度补偿,市场前景广泛。
Description
技术领域
本发明涉及传感器领域,特别涉及了一种新型压力传感器及设计方法。
背景技术
目前由于温度变化引发的热应力变化影响着压力传感器稳定性。本专利将设计一种新型压力传感器,补偿由于温度变化和其他原因引起的应力变化。
压力传感器或封装工艺的环境温度会引起的产品薄膜形变,这是我们不希望看到的应力源。如果压力传感器检测到由于温度变化等不明原因引起应力变化,而产生了错误的压力数值。所以一般情况下,需要对压力传感器进行补偿。常见的方法是在连接补偿ASIC(集成电路),通过ASIC内部温度传感器或者外部温度传感器的温度信号在ASIC内部进行补偿,补偿能是模拟信号也能是数字信号。另一种解决方案是温度传感器集成在压力传感器芯片中,通过为此功能增加电阻特性来实现补偿偏移。这两种方法都需要校准补偿的温度系数,但是成本高,产量小。
发明内容
本发明的目的是为了克服上述问题,特提供了一种新型压力传感器及设计方法。
目前由于温度变化引发的热应力变化影响着压力传感器稳定性,设计一种新型压力传感器,补偿由于温度变化和其他原因引起的应力变化。
本发明提供了一种新型压力传感器,其特征在于:所述的新型压力传感器,包括惠斯通主桥电阻R1,惠斯通主桥电阻R2,惠斯通主桥电阻R3,惠斯通主桥电阻R4,惠斯通次级桥电阻R1’,惠斯通次级桥电阻R2’,惠斯通次级桥电阻R3’,惠斯通次级桥电阻R4’,惠斯通主桥输入电源,惠斯通次级桥输入电源,惠斯通主桥输出,惠斯通次级桥输出,薄膜;
其中:惠斯通主桥电阻R1、惠斯通主桥电阻R2、惠斯通主桥电阻R4和惠斯通主桥电阻R3顺次串联形成惠斯通主桥,惠斯通主桥上带有惠斯通主桥输入电源和斯通主桥输出端;惠斯通次级桥电阻R1’,惠斯通次级桥电阻R2’,惠斯通次级桥电阻R4’和惠斯通次级桥电阻R3’顺次串联形成惠斯通次级桥,惠斯通次级桥上带有惠斯通次级桥输入电源和惠斯通次级桥输出端;薄膜设置在电阻上,用来感受外部压力。
所述的各电阻为掺杂的硅或多晶硅材料件。
所述的薄膜为硅薄膜件。
使用带有四个电阻的薄膜,连接在惠斯通电桥中。
主要用来感受外部压力。电阻材料能为掺杂的硅、多晶硅。
一种新型压力传感器的设计方法,其特征在于:采用压阻式压力传感器温度补偿方法,基于次级惠斯通电桥的设计,对由于温度变化引起的机械应力敏感,次级惠斯通电桥信号用来对压阻压力传感器进行温度补偿;次级电信号来源于位于敏感薄膜上的次级惠斯通电桥,主惠斯通电桥对于外界应力敏感,次级惠斯通电桥也能对外部压力敏感,利用次级惠斯通电桥的信号能增强压力传感器灵敏度。
设计一个次级惠斯通电阻桥,次级惠斯通电阻桥对热诱导的应力具有高灵敏度,同时对压力不敏感。ASIC能使用次级桥的信号来消除主信号的杂散信号,次级桥直接测量的是薄膜应力,而不是温度。因此绕开了不确定性来源,如装配/封装封装,使得补偿偏移更有效。二级桥也能对压力敏感,能通过设计使次桥信号具有与主桥信号相同的符号,而响应于热应力,次桥信号具有与主桥信号相反的符号。通过这种方式,利用适当的修正系数,能组合两个信号,使得对热应力的总灵敏度为零,而相对于主桥,对压力的总灵敏度增加。
设计一个次级惠斯通电桥,对压力不敏感,只对由温度变化引起的应力,或者其他不明原因应力变化敏感,实现了一种新的压力传感器温度补偿方法。
本发明的优点:
本发明所述的新型压力传感器及设计方法,原理结构简单,精度高,有效实现温度补偿,市场前景广泛。
附图说明
下面结合附图及实施方式对本发明作进一步详细的说明:
图1为新型压力传感器示意图;
图2为新型压力传感器安装示意图;
图3为设计方案示意图;
图中,1为惠斯通主桥电阻R1;2为惠斯通主桥电阻R2;3为惠斯通主桥电阻R3;4为惠斯通主桥电阻R4;5为惠斯通次级桥电阻R1’;6为惠斯通次级桥电阻R2’;7为惠斯通次级桥电阻R3’;8为惠斯通次级桥电阻R4’;9位惠斯通主桥输入电源;10为惠斯通次级桥输入电源;11为惠斯通主桥输出;12为惠斯通次级桥输出;13为硅薄膜,14为电阻,使用带有四个电阻的薄膜,连接在惠斯通电桥中。
具体实施方式
实施例1
本发明提供了一种新型压力传感器,其特征在于:所述的新型压力传感器,包括惠斯通主桥电阻R1,惠斯通主桥电阻R2,惠斯通主桥电阻R3,惠斯通主桥电阻R4,惠斯通次级桥电阻R1’,惠斯通次级桥电阻R2’,惠斯通次级桥电阻R3’,惠斯通次级桥电阻R4’,惠斯通主桥输入电源,惠斯通次级桥输入电源,惠斯通主桥输出,惠斯通次级桥输出,薄膜;
其中:惠斯通主桥电阻R1、惠斯通主桥电阻R2、惠斯通主桥电阻R4和惠斯通主桥电阻R3顺次串联形成惠斯通主桥,惠斯通主桥上带有惠斯通主桥输入电源和斯通主桥输出端;惠斯通次级桥电阻R1’,惠斯通次级桥电阻R2’,惠斯通次级桥电阻R4’和惠斯通次级桥电阻R3’顺次串联形成惠斯通次级桥,惠斯通次级桥上带有惠斯通次级桥输入电源和惠斯通次级桥输出端;薄膜设置在电阻上,用来感受外部压力。
所述的各电阻为掺杂的硅或多晶硅材料件。
所述的薄膜为硅薄膜件。
使用带有四个电阻的薄膜,连接在惠斯通电桥中。
主要用来感受外部压力。电阻材料能为掺杂的硅、多晶硅。
一种新型压力传感器的设计方法,其特征在于:采用压阻式压力传感器温度补偿方法,基于次级惠斯通电桥的设计,对由于温度变化引起的机械应力敏感,次级惠斯通电桥信号用来对压阻压力传感器进行温度补偿;次级电信号来源于位于敏感薄膜上的次级惠斯通电桥,主惠斯通电桥对于外界应力敏感,次级惠斯通电桥也能对外部压力敏感,利用次级惠斯通电桥的信号能增强压力传感器灵敏度。
设计一个次级惠斯通电阻桥,次级惠斯通电阻桥对热诱导的应力具有高灵敏度,同时对压力不敏感。ASIC能使用次级桥的信号来消除主信号的杂散信号,次级桥直接测量的是薄膜应力,而不是温度。因此绕开了不确定性来源,如装配/封装封装,使得补偿偏移更有效。二级桥也能对压力敏感,能通过设计使次桥信号具有与主桥信号相同的符号,而响应于热应力,次桥信号具有与主桥信号相反的符号。通过这种方式,利用适当的修正系数,能组合两个信号,使得对热应力的总灵敏度为零,而相对于主桥,对压力的总灵敏度增加。
设计一个次级惠斯通电桥,对压力不敏感,只对由温度变化引起的应力,或者其他不明原因应力变化敏感,实现了一种新的压力传感器温度补偿方法。
实施例2
本发明提供了一种新型压力传感器,其特征在于:所述的新型压力传感器,包括惠斯通主桥电阻R1,惠斯通主桥电阻R2,惠斯通主桥电阻R3,惠斯通主桥电阻R4,惠斯通次级桥电阻R1’,惠斯通次级桥电阻R2’,惠斯通次级桥电阻R3’,惠斯通次级桥电阻R4’,惠斯通主桥输入电源,惠斯通次级桥输入电源,惠斯通主桥输出,惠斯通次级桥输出,薄膜;
其中:惠斯通主桥电阻R1、惠斯通主桥电阻R2、惠斯通主桥电阻R4和惠斯通主桥电阻R3顺次串联形成惠斯通主桥,惠斯通主桥上带有惠斯通主桥输入电源和斯通主桥输出端;惠斯通次级桥电阻R1’,惠斯通次级桥电阻R2’,惠斯通次级桥电阻R4’和惠斯通次级桥电阻R3’顺次串联形成惠斯通次级桥,惠斯通次级桥上带有惠斯通次级桥输入电源和惠斯通次级桥输出端;薄膜设置在电阻上,用来感受外部压力。
所述的各电阻为掺杂的硅或多晶硅材料件。
主要用来感受外部压力。电阻材料能为掺杂的硅、多晶硅。
一种新型压力传感器的设计方法,其特征在于:采用压阻式压力传感器温度补偿方法,基于次级惠斯通电桥的设计,对由于温度变化引起的机械应力敏感,次级惠斯通电桥信号用来对压阻压力传感器进行温度补偿;次级电信号来源于位于敏感薄膜上的次级惠斯通电桥,主惠斯通电桥对于外界应力敏感,次级惠斯通电桥也能对外部压力敏感,利用次级惠斯通电桥的信号能增强压力传感器灵敏度。
设计一个次级惠斯通电阻桥,次级惠斯通电阻桥对热诱导的应力具有高灵敏度,同时对压力不敏感。ASIC能使用次级桥的信号来消除主信号的杂散信号,次级桥直接测量的是薄膜应力,而不是温度。因此绕开了不确定性来源,如装配/封装封装,使得补偿偏移更有效。二级桥也能对压力敏感,能通过设计使次桥信号具有与主桥信号相同的符号,而响应于热应力,次桥信号具有与主桥信号相反的符号。通过这种方式,利用适当的修正系数,能组合两个信号,使得对热应力的总灵敏度为零,而相对于主桥,对压力的总灵敏度增加。
设计一个次级惠斯通电桥,对压力不敏感,只对由温度变化引起的应力,或者其他不明原因应力变化敏感,实现了一种新的压力传感器温度补偿方法。
实施例3
本发明提供了一种新型压力传感器,其特征在于:所述的新型压力传感器,包括惠斯通主桥电阻R1,惠斯通主桥电阻R2,惠斯通主桥电阻R3,惠斯通主桥电阻R4,惠斯通次级桥电阻R1’,惠斯通次级桥电阻R2’,惠斯通次级桥电阻R3’,惠斯通次级桥电阻R4’,惠斯通主桥输入电源,惠斯通次级桥输入电源,惠斯通主桥输出,惠斯通次级桥输出,薄膜;
其中:惠斯通主桥电阻R1、惠斯通主桥电阻R2、惠斯通主桥电阻R4和惠斯通主桥电阻R3顺次串联形成惠斯通主桥,惠斯通主桥上带有惠斯通主桥输入电源和斯通主桥输出端;惠斯通次级桥电阻R1’,惠斯通次级桥电阻R2’,惠斯通次级桥电阻R4’和惠斯通次级桥电阻R3’顺次串联形成惠斯通次级桥,惠斯通次级桥上带有惠斯通次级桥输入电源和惠斯通次级桥输出端;薄膜设置在电阻上,用来感受外部压力。
一种新型压力传感器的设计方法,其特征在于:采用压阻式压力传感器温度补偿方法,基于次级惠斯通电桥的设计,对由于温度变化引起的机械应力敏感,次级惠斯通电桥信号用来对压阻压力传感器进行温度补偿;次级电信号来源于位于敏感薄膜上的次级惠斯通电桥,主惠斯通电桥对于外界应力敏感,次级惠斯通电桥也能对外部压力敏感,利用次级惠斯通电桥的信号能增强压力传感器灵敏度。
设计一个次级惠斯通电阻桥,次级惠斯通电阻桥对热诱导的应力具有高灵敏度,同时对压力不敏感。ASIC能使用次级桥的信号来消除主信号的杂散信号,次级桥直接测量的是薄膜应力,而不是温度。因此绕开了不确定性来源,如装配/封装封装,使得补偿偏移更有效。二级桥也能对压力敏感,能通过设计使次桥信号具有与主桥信号相同的符号,而响应于热应力,次桥信号具有与主桥信号相反的符号。通过这种方式,利用适当的修正系数,能组合两个信号,使得对热应力的总灵敏度为零,而相对于主桥,对压力的总灵敏度增加。
设计一个次级惠斯通电桥,对压力不敏感,只对由温度变化引起的应力,或者其他不明原因应力变化敏感,实现了一种新的压力传感器温度补偿方法。
Claims (5)
1.一种新型压力传感器,其特征在于:所述的新型压力传感器,包括惠斯通主桥电阻R1,惠斯通主桥电阻R2,惠斯通主桥电阻R3,惠斯通主桥电阻R4,惠斯通次级桥电阻R1’,惠斯通次级桥电阻R2’,惠斯通次级桥电阻R3’,惠斯通次级桥电阻R4’,惠斯通主桥输入电源,惠斯通次级桥输入电源,惠斯通主桥输出,惠斯通次级桥输出,薄膜;
其中:惠斯通主桥电阻R1、惠斯通主桥电阻R2、惠斯通主桥电阻R4和惠斯通主桥电阻R3顺次串联形成惠斯通主桥,惠斯通主桥上带有惠斯通主桥输入电源和斯通主桥输出端;惠斯通次级桥电阻R1’,惠斯通次级桥电阻R2’,惠斯通次级桥电阻R4’和惠斯通次级桥电阻R3’顺次串联形成惠斯通次级桥,惠斯通次级桥上带有惠斯通次级桥输入电源和惠斯通次级桥输出端;薄膜设置在电阻上,用来感受外部压力。
2.按照权利要求1所述的新型压力传感器,其特征在于:所述的各电阻为掺杂的硅或多晶硅材料件。
3.按照权利要求1所述的新型压力传感器,其特征在于:所述的薄膜为硅薄膜件。
4.一种如权利要求1所述的新型压力传感器的设计方法,其特征在于:采用压阻式压力传感器温度补偿方法,基于次级惠斯通电桥的设计,对由于温度变化引起的机械应力敏感,次级惠斯通电桥信号用来对压阻压力传感器进行温度补偿;次级电信号来源于位于敏感薄膜上的次级惠斯通电桥,主惠斯通电桥对于外界应力敏感,次级惠斯通电桥也能对外部压力敏感,利用次级惠斯通电桥的信号能增强压力传感器灵敏度。
5.按照权利要求4所述的新型压力传感器的设计方法,其特征在于:设计一个次级惠斯通电阻桥,次级惠斯通电阻桥对热诱导的应力具有高灵敏度,同时对压力不敏感。ASIC能使用次级桥的信号来消除主信号的杂散信号,次级桥直接测量的是薄膜应力,而不是温度。因此绕开了不确定性来源,如装配/封装封装,使得补偿偏移更有效。二级桥也能对压力敏感,能通过设计使次桥信号具有与主桥信号相同的符号,而响应于热应力,次桥信号具有与主桥信号相反的符号。通过这种方式,利用适当的修正系数,能组合两个信号,使得对热应力的总灵敏度为零,而相对于主桥,对压力的总灵敏度增加。
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|---|---|
| CN (1) | CN111426413A (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111998976A (zh) * | 2020-08-07 | 2020-11-27 | 维沃移动通信有限公司 | 压力传感器和电子设备 |
| CN114061823A (zh) * | 2021-11-16 | 2022-02-18 | 杭州电子科技大学温州研究院有限公司 | 一种温度自补偿的高灵敏度压力传感器阵列及其制备方法 |
Citations (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1203662A (zh) * | 1995-12-04 | 1998-12-30 | 航空发动机的结构和研究公司 | 带有电桥主电阻之间的温度梯度补偿的惠斯登电桥及其在具有应变片的压力传感器中的应用 |
| CN101706345A (zh) * | 2009-10-30 | 2010-05-12 | 江苏大学 | 一种用于微型压力传感器灵敏度热漂移的补偿方法 |
| CN102759326A (zh) * | 2011-04-27 | 2012-10-31 | 中国科学院电子学研究所 | Mems应变式结冰传感器及检测方法 |
| US20150233777A1 (en) * | 2012-09-27 | 2015-08-20 | Kistler Holding Ag | Strain transmitter |
| US20160109315A1 (en) * | 2014-10-16 | 2016-04-21 | Dunan Sensing Llc | Compensated Pressure Sensors |
| CN105784215A (zh) * | 2016-05-06 | 2016-07-20 | 武汉航空仪表有限责任公司 | 一种压力传感器温度补偿方法 |
| CN106461484A (zh) * | 2014-06-09 | 2017-02-22 | 日立汽车系统株式会社 | 力学量测量装置及使用其的压力传感器 |
| CN108151919A (zh) * | 2017-11-17 | 2018-06-12 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种压力传感器温漂补偿电路及补偿方法 |
| CN109374192A (zh) * | 2018-11-30 | 2019-02-22 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种用于微压测量的压力传感器 |
| CN109764998A (zh) * | 2018-12-27 | 2019-05-17 | 西安交通大学 | 一种膜片式石墨烯mems微压传感器芯片及其制备方法 |
| CN210071216U (zh) * | 2019-07-01 | 2020-02-14 | 苏州瞬通半导体科技有限公司 | 一种双桥补偿压力传感器 |
| CN110823446A (zh) * | 2019-10-18 | 2020-02-21 | 成都凯天电子股份有限公司 | 硅压阻式压力传感器二次温度补偿零点调试方法 |
| CN111060237A (zh) * | 2019-10-23 | 2020-04-24 | 宁波柯力传感科技股份有限公司 | 测力传感器的组桥电路 |
| CN212110410U (zh) * | 2020-05-15 | 2020-12-08 | 罕王微电子(辽宁)有限公司 | 一种新型压力传感器 |
-
2020
- 2020-05-15 CN CN202010410415.1A patent/CN111426413A/zh active Pending
Patent Citations (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1203662A (zh) * | 1995-12-04 | 1998-12-30 | 航空发动机的结构和研究公司 | 带有电桥主电阻之间的温度梯度补偿的惠斯登电桥及其在具有应变片的压力传感器中的应用 |
| CN101706345A (zh) * | 2009-10-30 | 2010-05-12 | 江苏大学 | 一种用于微型压力传感器灵敏度热漂移的补偿方法 |
| CN102759326A (zh) * | 2011-04-27 | 2012-10-31 | 中国科学院电子学研究所 | Mems应变式结冰传感器及检测方法 |
| US20150233777A1 (en) * | 2012-09-27 | 2015-08-20 | Kistler Holding Ag | Strain transmitter |
| CN106461484A (zh) * | 2014-06-09 | 2017-02-22 | 日立汽车系统株式会社 | 力学量测量装置及使用其的压力传感器 |
| US20160109315A1 (en) * | 2014-10-16 | 2016-04-21 | Dunan Sensing Llc | Compensated Pressure Sensors |
| CN105784215A (zh) * | 2016-05-06 | 2016-07-20 | 武汉航空仪表有限责任公司 | 一种压力传感器温度补偿方法 |
| CN108151919A (zh) * | 2017-11-17 | 2018-06-12 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种压力传感器温漂补偿电路及补偿方法 |
| CN109374192A (zh) * | 2018-11-30 | 2019-02-22 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种用于微压测量的压力传感器 |
| CN109764998A (zh) * | 2018-12-27 | 2019-05-17 | 西安交通大学 | 一种膜片式石墨烯mems微压传感器芯片及其制备方法 |
| CN210071216U (zh) * | 2019-07-01 | 2020-02-14 | 苏州瞬通半导体科技有限公司 | 一种双桥补偿压力传感器 |
| CN110823446A (zh) * | 2019-10-18 | 2020-02-21 | 成都凯天电子股份有限公司 | 硅压阻式压力传感器二次温度补偿零点调试方法 |
| CN111060237A (zh) * | 2019-10-23 | 2020-04-24 | 宁波柯力传感科技股份有限公司 | 测力传感器的组桥电路 |
| CN212110410U (zh) * | 2020-05-15 | 2020-12-08 | 罕王微电子(辽宁)有限公司 | 一种新型压力传感器 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 赵立波: "《用于恶劣环境的耐高温压力传感器》", 《光学精密工程》, 31 December 2009 (2009-12-31) * |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111998976A (zh) * | 2020-08-07 | 2020-11-27 | 维沃移动通信有限公司 | 压力传感器和电子设备 |
| US12326374B2 (en) | 2020-08-07 | 2025-06-10 | Vivo Mobile Communication Co., Ltd. | Pressure sensor and electronic device |
| CN114061823A (zh) * | 2021-11-16 | 2022-02-18 | 杭州电子科技大学温州研究院有限公司 | 一种温度自补偿的高灵敏度压力传感器阵列及其制备方法 |
| CN114061823B (zh) * | 2021-11-16 | 2024-04-02 | 杭州电子科技大学温州研究院有限公司 | 一种温度自补偿的高灵敏度压力传感器阵列及其制备方法 |
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