CN111370586A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种显示面板、显示面板的制备方法和显示装置，涉及显示技术领域。该显示面板包括：基板；像素限定层，设置在所述基板上，包括多个像素限定单元和多个像素单元，所述像素单元位于相邻的所述像素限定单元之间，所述像素单元中填充有功能膜层；所述像素限定单元靠近所述基板一侧的部分表面与所述基板表面之间形成间隙，所述像素单元中部分所述功能膜层材料填充在所述间隙内。本发明通过在像素限定单元靠近基板一侧的部分表面与基板表面形成间隙，在喷墨打印功能膜层时，功能膜层材料墨滴填充间隙并在间隙内产生平行于基板的毛细作用力，从而抑制功能材料在像素限定层侧壁的纵向攀爬，改善喷墨打印所形成的功能膜层厚度的均匀性。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板、显示面板的制备方法和显示装置。
背景技术
目前，喷墨打印技术在有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示器件膜层的制备过程中运用的越来越多。但是通过喷墨打印技术制备的功能膜层存在均匀度较差的问题。
因此，如何提高通过喷墨打印技术制备的膜层的均匀度成为亟待解决的问题。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例致力于提供一种显示面板、显示面板的制备方法和显示装置，以解决现有技术中通过喷墨打印技术制备的膜层的均匀度较差的问题。
本发明一方面提供了一种显示面板，包括：基板；像素限定层，设置在所述基板上，包括多个像素限定单元和多个像素单元，所述像素单元位于相邻的所述像素限定单元之间，所述像素单元中填充有功能膜层；所述像素限定单元靠近所述基板一侧的部分表面与所述基板表面之间形成间隙，所述像素单元中部分所述功能膜层材料填充在所述间隙内。
在本发明的一个实施例中，所述间隙远离所述基板的一侧到所述基板的最大距离小于所述功能膜层在垂直于所述基板方向上的厚度。
在本发明的一个实施例中，所述间隙远离所述基板的一侧到所述基板表面的距离沿靠近所述像素单元的方向上逐渐增大。
在本发明的一个实施例中，所述间隙远离所述基板的一侧到所述基板的最大距离为所述像素限定单元在垂直于所述基板方向上厚度的1/10～1/5。
在本发明的一个实施例中，所述像素限定单元与所述基板的连接面面积不小于所述像素限定单元靠近所述基板表面一侧在所述基板表面投影面积的1/4。
在本发明的一个实施例中，所述间隙在垂直于所述基板方向上的横截面形状为梯形、三角形、弓形中的一种。
在本发明的一个实施例中，单个所述像素单元内的所述间隙在所述基板上的投影为圆环、矩形环、三角环、菱形环中的一种。
本发明另一方面提供了一种显示面板的制备方法，包括:在所述基板上通过光刻工艺制备像素限定层，其中，所述像素限定层包括多个像素限定单元和位于相邻所述像素限定单元之间的多个像素单元；对所述像素限定单元进行高温处理回流形成间隙后进行固化处理，其中，所述间隙位于所述像素限定单元靠近所述基板一侧的部分表面与所述基板表面之间；在所述像素单元内喷墨打印功能膜层材料，形成功能膜层。
在本发明的一个实施例中，所述像素界定层材料为负性光刻胶。
本发明又一方面提供了一种显示装置，包括如第一方面中任一项所述的显示面板。
在本发明的实施例中，通过在像素限定单元靠近基板一侧的部分表面与基板表面形成间隙，在喷墨打印功能膜层时，功能膜层材料墨滴填充间隙和像素单元，使得间隙对功能材料产生平行于基板的毛细作用力，从而抑制功能材料墨滴在像素限定单元侧壁上的纵向攀爬，改善喷墨打印所形成的功能膜层厚度的均匀性。
附图说明
图1为本发明实施例提供的显示面板的剖面结构示意图。
图2为本发明实施例提供的显示面板的剖面俯视示意图。
图3为本发明实施例提供的显示面板的剖面结构示意图。
图4为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的制备过程图。
图5为本发明实施例提供的显示装置的示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。在可能的情况下，附图中相同或相似的部分将采用相同的附图标记。
本文中为部件所编序号本身，例如“第一”、“第二”等，仅用于区分所描述的对象，不具有任何顺序或技术含义。而本发明所说“连接”、“联接”，如无特别说明，均包括直接和间接连接(联接)。在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
所谓通过喷墨打印技术制备OLED显示器件的功能膜层，是将功能膜层材料与溶剂混合成墨水，然后将墨水喷涂在显示面板的像素单元内，进行真空干燥、烘烤制程后形成功能膜层。由于墨水中功能膜层材料固含量在1％左右，像素单元内的墨水经过真空和烘烤干燥后，形成的功能膜层厚度为干燥前像素单元内墨滴厚度的1/10～/1/15，但由于喷墨打印功能膜层时像素单元四周侧壁墨水的攀爬现象严重，导致墨水进行真空干燥、烘烤后所形成的功能膜层厚度均一性差，使得功能膜层边缘的厚度会大于中心的厚度，影响显示效果。例如，对于红色发光像素来说，在膜层偏厚处，发光的颜色呈深红色，膜层偏薄处，发光的颜色呈浅红色。
图1是根据本发明一个实施例的显示面板结构示意图。如图1所示，在一个可实现的实施例中，显示面板包括基板1，位于基板1上的多个像素限定单元3以及位于相邻两个像素限定单元3之间的像素单元2，像素单元2中填充有一功能膜层5，在像素限定单元3在靠近基板1一侧的部分表面与基板1的表面构成的间隙4，即图1中虚线框内像素限定单元3与基板1表面之间的空隙，部分功能膜层材料也填充在间隙4内。在本发明的实施例中，显示面板中的功能膜层可以为阳极层、发光层、空穴传输层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、阴极层的一种或多种，可以根据实际需要进行具体选择，且本发明图1及图3中仅示出填充间隙的部分功能膜层，未示出其他功能膜层。
本发明提供的显示面板，通过像素限定单元3靠近基板1的一侧与基板1之间设置间隙4，在喷墨打印制备功能膜层5的过程中，功能膜层材料墨滴打印至像素单元2的同时能够填充间隙4，使得功能膜层材料墨滴填充在间隙4的部分受到平行于基板1的毛细作用力，从而能够抑制功能材料墨滴在像素限定单元4侧壁上的攀爬，能够有效改善功能膜层5厚度的均匀性，提高显示面板的显示效果。
在具体实施时，间隙4远离基板1的一侧到基板1表面的距离沿靠近像素单元2的方向上逐渐增大，在喷墨打印功能膜层5的过程中，使得功能材料墨滴容易填充至间隙4中，促进功能材料墨滴在间隙4处产生毛细现象，增强功能材料墨滴在间隙4处所受到毛细作用力。
进一步地，在本发明的实施例中，间隙4远离基板1的一侧到基板1表面的最大距离，即间隙4的开口的高度，是像素限定单元3在垂直于基板1方向上厚度的1/10～1/5。当间隙4的开口高度小于像素限定单元厚度的1/10时，此时功能膜层材料墨滴难以填充至间隙4，其所受到的平行于基板1的毛细作用力减小，且容易在间隙4处形成气泡，影响功能膜层的形成；当间隙4的开口高度大于像素限定单元3厚度的1/5时，此时由于间隙4的开口高度较大功能膜层材料墨滴无法在间隙4处产生毛细现象，对墨滴在像素限定单元3侧壁上的纵向攀爬抑制作用较小，不利于功能膜层厚度的均一性。
更进一步地，在本发明的实施例中，像素限定层的厚度大于等于1.3μm且小于等于2.3μm，间隙4的开口高度为大于等于0.13μm且小于等于0.5μm，在保证功能膜层厚度均一的同时能够使得显示面板更加轻薄化，且间隙4的存在也不影响显示面板的强度。
在本发明的一个实施例中，间隙4远离基板1表面的一侧为亲液性表面，即间隙4远离基板1表面的一侧容易被功能膜层的墨滴材料润湿，此时墨滴材料更容易进入间隙4并填充满间隙4，同时墨滴与间隙4表面之间的接触更为紧密，使得墨滴在间隙4内受到的毛细作用力更加明显，更有效地抑制了墨滴材料在像素限定单元侧壁上的攀爬现象，有利于形成厚度均一的功能膜层。
在本发明的一个实施例中，间隙4开口的高度不超过功能膜层5的厚度。喷墨打印功能膜层5时，墨滴在烘烤干燥过程中随着溶剂的挥发墨滴体积逐渐减小，若形成的功能膜层5最终厚度小于间隙4的开口，则在墨滴烘干过程中喷墨打印的墨滴高度将低于间隙4的开口高度，此时间隙4的存在反而使得墨滴材料往间隙4的上表面攀爬，从而影响最终形成的功能膜层5的厚度均一性。
优选地，间隙4的开口高度为功能膜层5厚度的4/5-9/10，此时墨滴材料在间隙4处所形成的毛细作用力能够对墨滴在像素限定单元3侧壁上的纵向攀爬起到较好的抑制作用，从而有利于提升最终形成的功能膜层的厚度均一性。
在本发明的一个实施例中，像素限定单元与基板1表面的连接面面积不小于像素限定单元靠近基板表面一侧在基板表面投影的面积的1/4，使得像素限定单元2与基板1表面具有足够面积的连接面，使得像素限定层与基板之间具有足够的粘结力，从而在间隙与功能材料墨滴之间具有足够毛细作用力的前提下确保显示面板的强度。
进一步地，在如图2所示的本发明的一个实施例中，间隙4的宽度处处相同，间隙4的宽度指的是间隙4靠近像素单元的边缘与远离像素单元的边缘在基板上的投影之间的距离，即间隙4的第一外边缘7和第一内边缘8之间的距离L1与间隙4第二内边缘9和第二外边缘10之间的距离L2相同，此时墨滴在间隙4处受到的毛细作用力在间隙4不同的位置均相同，能够进一步保证功能膜层厚度的均一性。
更进一步地，间隙4在垂直于基板1方向上的横截面形状为梯形、三角形、弓形中的一种。具体地，如图1所示，间隙4的横截面形状为三角形。优选地，间隙4的横截面形状为弓形，当功能膜层材料墨滴填充于间隙4时，与间隙4有较大的接触面积，从而使得墨滴在间隙4内受到的毛细作用力较大，能够更好地抑制墨滴在像素限定单元侧壁上的纵向攀爬，提高功能膜层的厚度均一性。
在本发明的另一个实施例中，单个像素单元内的间隙4在基板1上的投影为圆环、矩形环、三角环、菱形环中的一种。具体地如图2所示，间隙4在基板1上的投影为矩形环，该矩形环由第一外边缘7、第二外边缘10、第一内边缘8和第二内边缘9构成。同样的在本发明的其他实施例中，间隙4的投影可以为圆环、矩形环、三角环、菱形环，投影的形状可根据实际需求进行确定。此时在一个像素单元内，间隙4是连续的空隙，围绕整个像素单元，未被阻断，因此墨滴在间隙像素单元内能够均匀填充，在间隙内受到的毛细作用力处处相同，喷墨打印形成的功能膜层具有均匀的厚度，从而使得显示面板具有较好的显示效果。
在本发明的另一个实施例中，如图3所示，在像素限定层靠近像素单元的侧壁、间隙4的上方存在凹槽6，凹槽6的大小形状与间隙4一致，功能材料也填充于凹槽6中，在喷墨打印功能膜层时，功能材料墨滴在凹槽6和间隙4中均受到毛细作用力，对墨滴在像素限定单元侧壁上纵向攀爬的抑制作用更加明显。
图4是根据本发明一个实施例提供的显示面板的制备方法过程的流程示意图。在如图4所示的本发明的一个实施例中，显示面板的制备方法可以包括如下步骤：
步骤110：提供基板，在基板上通过光刻工艺制备像素限定层，像素限定层包括多个像素限定单元和位于相邻像素限定单元之间的多个像素单元；
步骤120：在像素限定单元靠近基板表面一侧形成间隙；
步骤130：在像素单元内喷墨打印功能膜层材料，形成功能膜层。
本发明实施例提供的制备方法，在采用喷墨打印工艺制备显示面板的功能膜层的过程中，通过在像素限定单元靠近基板表面一侧与基板之间刻蚀形成间隙，喷墨打印的功能材料墨滴能够填充间隙，使得功能膜层材料墨滴填充在间隙的部分受到平行于基板的毛细作用力，从而能够抑制功能材料在像素限定单元侧壁上的攀爬，能够有效改善功能膜层厚度的均匀性，提高显示面板的显示效果。
在本发明实施例提供的制备方法中，步骤110提供基板，在基板上通过光刻工艺制备像素界定层，像素限定层包括多个像素限定单元和位于相邻像素限定单元之间的多个像素单元的过程包括：在基板表面涂布一层负性光刻胶，对所涂布的负性光刻胶经过曝光显影形成多个像素单元，未被光刻的负性光刻胶部分保留形成像素限定单元，像素限定单元和像素单元共同构成像素限定层，其中所形成的像素限定单元的厚度为1.3-2.2μm。
在本发明实施例提供的制备方法中，步骤120在像素限定单元靠近基板表面一侧形成间隙的过程包括：对像素限定单元的侧面进行加热处理使得像素限定层材料在高温下软化回流形成间隙，形成间隙后固化像素限定单元，其中在对像素限定单元在进行加热处理前像素限定单元的截面形状为倒梯形，即在远离基板方向上像素限定层平行于基板表面的宽度逐渐变大。
在本发明实施例提供的制备方法中，步骤120像素限定单元靠近基板表面一侧形成间隙的过程还可以为：在像素限定单元靠近基板表面的一侧通过光刻或液体腐蚀等方法刻蚀形成间隙。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，如图5所示，可以包括：如本发明实施例提供的上述显示面板。
具体地，该显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
基板；
像素限定层，设置在所述基板上，包括多个像素限定单元和多个像素单元，所述像素单元位于相邻的所述像素限定单元之间，所述像素单元中填充有功能膜层；
所述像素限定单元靠近所述基板一侧的部分表面与所述基板表面之间形成间隙，所述像素单元中部分所述功能膜层材料填充在所述间隙内。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述间隙远离所述基板的一侧到所述基板的最大距离小于所述功能膜层在垂直于所述基板方向上的厚度。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述间隙远离所述基板的一侧到所述基板表面的距离沿靠近所述像素单元的方向上逐渐增大。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述间隙远离所述基板的一侧到所述基板的最大距离为所述像素限定单元在垂直于所述基板方向上厚度的1/10～1/5。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述像素限定单元与所述基板的连接面面积不小于所述像素限定单元靠近所述基板表面一侧在所述基板表面投影面积的1/4。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述间隙在垂直于所述基板方向上的横截面形状为梯形、三角形、弓形中的一种。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，单个所述像素单元内的所述间隙在所述基板上的投影为圆环、矩形环、三角环、菱形环中的一种。
8.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括:
提供基板；
在所述基板上通过光刻工艺制备像素限定层，其中，所述像素限定层包括多个像素限定单元和位于相邻所述像素限定单元之间的多个像素单元；
对所述像素限定单元进行高温处理回流形成间隙后进行固化处理，其中，所述间隙位于所述像素限定单元靠近所述基板一侧的部分表面与所述基板表面之间；
在所述像素单元内喷墨打印功能膜层材料，形成功能膜层。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述像素限定层材料为负性光刻胶。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至7中任一项所述的显示面板。
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|---|---|
| CN (1) | CN111370586A (zh) |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104393192A (zh) * | 2014-12-04 | 2015-03-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种像素界定层及其制作方法、显示面板、显示装置 |
| WO2016063943A1 (ja) * | 2014-10-24 | 2016-04-28 | 旭硝子株式会社 | 隔壁用硬化性組成物、隔壁、隔壁の製造方法、隔壁の修復方法、修復された隔壁、および光学素子 |
| CN105826355A (zh) * | 2016-05-03 | 2016-08-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及其制作方法、显示装置 |
| CN107331788A (zh) * | 2017-06-26 | 2017-11-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | Oled器件、oled显示装置及oled器件的制备方法 |
| CN108231856A (zh) * | 2018-01-12 | 2018-06-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层、显示面板及显示装置 |
| CN108281467A (zh) * | 2018-01-22 | 2018-07-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置 |
| CN109509782A (zh) * | 2019-01-02 | 2019-03-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层及其制造方法、自发光显示面板、显示装置 |
| CN109830513A (zh) * | 2019-01-30 | 2019-05-31 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种阵列基板及其制备方法和显示面板 |
-
2020
- 2020-03-18 CN CN202010190682.2A patent/CN111370586A/zh active Pending
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016063943A1 (ja) * | 2014-10-24 | 2016-04-28 | 旭硝子株式会社 | 隔壁用硬化性組成物、隔壁、隔壁の製造方法、隔壁の修復方法、修復された隔壁、および光学素子 |
| CN104393192A (zh) * | 2014-12-04 | 2015-03-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种像素界定层及其制作方法、显示面板、显示装置 |
| CN105826355A (zh) * | 2016-05-03 | 2016-08-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及其制作方法、显示装置 |
| CN107331788A (zh) * | 2017-06-26 | 2017-11-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | Oled器件、oled显示装置及oled器件的制备方法 |
| CN108231856A (zh) * | 2018-01-12 | 2018-06-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层、显示面板及显示装置 |
| CN108281467A (zh) * | 2018-01-22 | 2018-07-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层、显示基板及其制作方法、显示装置 |
| CN109509782A (zh) * | 2019-01-02 | 2019-03-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素界定层及其制造方法、自发光显示面板、显示装置 |
| CN109830513A (zh) * | 2019-01-30 | 2019-05-31 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种阵列基板及其制备方法和显示面板 |
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