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CN111261803B - 一种改善frit胶凹陷的方法 - Google Patents

一种改善frit胶凹陷的方法 Download PDF

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CN111261803B CN202010059463.0A CN202010059463A CN111261803B CN 111261803 B CN111261803 B CN 111261803B CN 202010059463 A CN202010059463 A CN 202010059463A CN 111261803 B CN111261803 B CN 111261803B
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Abstract

本发明公开了一种改善frit胶凹陷的方法,包括如下步骤:在frit胶中加入磁流变体,形成具有磁流变体的frit胶;对具有磁流变体的frit胶施加磁场后,使frit胶受磁场作用后frit胶粘度变大,在待网印物上采用具有磁流变体的frit胶进行网印操作;网印操作结束,并撤掉磁场。上述技术方案具有磁流变体的frit胶的粘性与弹性比传统的frit胶大,具有磁流变体的frit胶对自身已造成的挤压可进行一定程度的恢复,可避免frit胶出现马鞍形的形状。

Description

一种改善frit胶凹陷的方法
技术领域
本发明涉及OLED封装技术领域,特别涉及一种改善frit胶凹陷的方法。
背景技术
刚性OLED屏幕一般采用laser frit进行封装,但由于盖板玻璃在网印和烧结时容易产生马鞍形,在与背板玻璃进行熔接时frit胶中会存在气泡,使得封接效果变差。在网印时发现,随着frit胶在网板上的静置时间的增加,网印后frit胶的凹陷减小,网印完frit胶的表面粗糙。缩短胶材在网板上的静置时间,frit胶的粘度减小,再次增加frit胶的静置时间,粘度增大,网印后的frit胶的凹陷又减小。出现这样的变化是由于frit胶的粘度的变化造成的,若是合理掌握粘度的变化,则frit胶的凹陷也就变得可控。
磁流变液(Magnetorheological Fluid,简称MR流体)是由高磁导率、低磁滞性的微小软磁性颗粒和非导磁性液体混合而成的悬浮体。这种悬浮体在零磁场条件下呈现出低粘度的牛顿流体特性;而在强磁场作用下,则呈现出高粘度、低流动性的Bingham体特性。
发明内容
为此,需要提供一种改善frit胶凹陷的方法,解决frit胶的凹陷,无法获得较好胶形的问题。
为实现上述目的,发明人提供了一种改善frit胶凹陷的方法,包括如下步骤:
在frit胶中加入磁流变体,形成具有磁流变体的frit胶;
对具有磁流变体的frit胶施加磁场后,使frit胶受磁场作用后frit胶粘度变大,在待网印物上采用具有磁流变体的frit胶进行网印操作;
网印操作结束,并撤掉磁场。
进一步地,所述网印操作为:
将具有磁流变体的frit胶涂在网版上,网版包括网纱和乳剂,网版的底部设置有乳剂,网纱用于供具有磁流变体的frit胶自上而下渗入,网版放置在待网印物上方;
用刮刀刮动网版上的具有磁流变体的frit胶,使具有磁流变体的frit胶穿透网纱印到待网印物上。
进一步地,在网印操作结束,并撤掉磁场时,还包括如下步骤;
静置具有磁流变体的frit胶,使具有磁流变体的frit胶流平。
进一步地,frit胶受磁场作用后,具有磁流变体的frit胶中的磁流变体呈线性排列后具有磁流变体的frit胶粘度变大。
进一步地,在网印操作结束,并撤掉磁场后,还包括如下步骤:
在待网印物置于强度逐渐减弱的交变电流产生的磁场中,交变电流产生的磁场用于去除frit胶的磁性。
进一步地,对具有磁流变体的frit胶施加磁场的方向为单一方向且垂直待网印物平面。
进一步地,所述待网印物为盖板玻璃。
区别于现有技术,上述技术方案具有磁流变体的frit胶的粘性与弹性比传统的frit胶大,具有磁流变体的frit胶对自身已造成的挤压可进行一定程度的恢复,可避免frit胶出现马鞍形的形状。
附图说明
图1为本实施例所述处于磁场中的具有磁流变体的frit胶的结构示意图;
图2为本实施例所述处于无磁场中的具有磁流变体的frit胶的结构示意图;
图3为本实施例网印操作的工艺步骤流程图;
图4为本实施例所述处于无磁场中的具有磁流变体的frit胶的结构示意图。
附图标记说明:
1、待网印物;
2、具有磁流变体的frit胶;
21、磁流变体;
3、网版;
31、网纱;
32、乳剂;
4、刮刀。
具体实施方式
为详细说明技术方案的技术内容、构造特征、所实现目的及效果,以下结合具体实施例并配合附图详予说明。
请参阅图1至图4,本实施例提供了一种改善frit胶凹陷的方法,包括如下步骤:磁流变液是由高磁导率、低磁滞性的微小软磁性颗粒和非导磁性液体混合而成的悬浮体。磁流变液在零磁场条件下呈现出低粘度的牛顿流体特性;而在强磁场作用下,则呈现出高粘度、低流动性的Bingham流体(宾汉流体)特性。在frit胶中加入磁流变体21(纳米磁性颗粒),形成具有磁流变体的frit胶2,具有磁流变体的frit胶2具备磁流变液的性质。可以使具有磁流变体的frit胶2在不影响自身frit胶的性能的情况下,还具备有磁流变液的特性。即具有磁流变体的frit胶2在零磁场条件下呈现出低粘度的牛顿流体特性,在强磁场作用下,则呈现出高粘度和低流动性的Bingham流体特性。具有磁流变体的frit胶2的粘性与弹性比传统的frit胶大,具有磁流变体的frit胶2对自身已造成的挤压可进行一定程度的恢复,可避免出现马鞍形的形状。
制备完成具有磁流变体的frit胶2后,将具有磁流变体的frit胶2涂在网版3的网纱31上,待网印物1可以是OLED领域中的盖板玻璃等。对具有磁流变体的frit胶2施加强磁场后,具有磁流变体的frit胶2的粘度变大。可以使用磁场发生器对工作环境施加各种磁场,磁场发生器可以是螺线管或者线圈制成的磁场发生器,磁场可以是直流磁场和交流磁场。在磁场中,当具有磁流变体的frit胶2中的磁流变体21呈线性排列(或者纤维状排列)时,表示具有磁流变体的frit胶2在强磁场中粘度较大,具有磁流变体的frit胶的表面张力变大,使具有磁流变体的frit胶与网版之间的润湿变差,此时在待网印物上进行网印操作的效果较好,即让具有磁流变体的frit胶2在离版时不易被frit胶截面两侧的乳剂带起拉丝,可防止具有磁流变体的frit胶2出现中部低两侧高(马鞍形)的情形。当然也可以在具有磁流变体的frit胶2中的磁流变体21不呈线性排列(或者纤维状排列)时,对待网印物1进行网印操作。
请参阅图3,在本实施例中,网印的操作可以是,先对具有磁流变体的frit胶2施加磁场的方向为单一方向且垂直待网印物平面。如将具有磁流变体的frit胶2与整个工艺环境置于垂直待网印物向下的强磁场中。图2中的箭头方向为磁场的方向,并且为直流电流产生的磁场,即磁场的方向保持不变。强磁场可以使具有磁流变体的frit胶2具有较大的粘度。优选为当具有磁流变体的frit胶2中的磁流变体21已经呈线性排列的状态时,将具有磁流变体的frit胶2放置在网版3的网纱31上,网纱31可供具有磁流变体的frit胶2自上而下渗入。网版的两侧底部或者其它外壁部分具有乳剂32,网版3放置在待网印物1上方,两者之间隔有一段间距,此段距离为可根据设备工艺参数的调整介于0.5~2.5mm,无固定值。而后使用刮刀4刮动处于网纱31上的具有磁流变体的frit胶2,让具有磁流变体的frit胶2从网纱31上进入到网纱32下的待网印物上,于是具有磁流变体的frit胶2便穿透网纱网印在待网印物1上。
网印操作包括具有磁流变体的frit胶印在待网印物1上后,需要进行的离版操作。离版操作为网版与待网印物相分离,分离后撤掉磁场,具有磁流变体的frit胶在零磁场中的粘度会下降。将待网印物静置一段时间,使具有磁流变体的frit胶恢复原来粘度较小的状况,即让具有磁流变体的frit胶的粘度和施加磁场前具有磁流变体的frit胶的粘度相同或相近。由于具有磁流变体的frit胶的表面张力和重力的作用,具有磁流变体的frit胶起初呈现不规则如马鞍形的形状,在静置一段时间后,会变成表面光滑弧形的胶型形状。
磁流变液的frit胶截面的中部相对于两侧而言,乳剂支撑的贡献较小,正常情况下刮刀对造成马鞍形部位的挤压可产生严重的凹陷,现有的frit胶的粘性与弹性小,对已形成的形变难以自我恢复。具有磁流变体的frit胶的粘性与弹性大,将其静置一段时间,依靠自身的恢复力便可对挤压产生的形变可进行一定程度的恢复,可改善frit出现马鞍形的形态。
网印结束后,磁流变体残留有磁性。为了消除磁性,可以采用将待网印物置于强度逐渐减弱的交变电流产生的磁场中。交变电流产生磁场的磁场方向会呈现周期性变化。如在上文网印中的磁场的方向为以垂直待网印物向下,于是此时交变磁场的方向可以分别为垂直于待网印物向上和垂直于待网印物向下,并呈现周期性的方向变化。当然交变磁场的方向也可以是分别沿着待网印物的中心线的方向水平向左和水平向右。强度逐渐减弱的交变电流产生的磁场再配合以周期性的磁场方向的变化,用于去除待网印物中frit胶的磁性,去除待网印物的磁性后关闭交变电流产生的磁场即可。
需要说明的是,本实施例可对原有机台进行改造获得此功能,如增加磁场发生器等产生磁场的部件,无需另外购入设备,也控制生产的成本,提高生产的效率。
需要说明的是,尽管在本文中已经对上述各实施例进行了描述,但并非因此限制本发明的专利保护范围。因此,基于本发明的创新理念,对本文所述实施例进行的变更和修改,或利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,直接或间接地将以上技术方案运用在其他相关的技术领域,均包括在本发明的专利保护范围之内。

Claims (7)

1.一种改善frit胶凹陷的方法,其特征在于,包括如下步骤:
在frit胶中加入磁流变体,形成具有磁流变体的frit胶;
对具有磁流变体的frit胶施加磁场后,使frit胶受磁场作用后frit胶粘度变大,在待网印物上采用具有磁流变体的frit胶进行网印操作;
网印操作结束,并撤掉磁场。
2.根据权利要求1所述的一种改善frit胶凹陷的方法,其特征在于,所述网印操作为:
将具有磁流变体的frit胶涂在网版上,网版包括网纱和乳剂,网版的底部设置有乳剂,网纱用于供具有磁流变体的frit胶自上而下渗入,网版放置在待网印物上方;
用刮刀刮动网版上的具有磁流变体的frit胶,使具有磁流变体的frit胶穿透网纱印到待网印物上。
3.根据权利要求1所述的一种改善frit胶凹陷的方法,其特征在于,在网印操作结束,并撤掉磁场时,还包括如下步骤;
静置具有磁流变体的frit胶,使具有磁流变体的frit胶流平。
4.根据权利要求1所述的一种改善frit胶凹陷的方法,其特征在于,frit胶受磁场作用后,具有磁流变体的frit胶中的磁流变体呈线性排列后具有磁流变体的frit胶粘度变大。
5.根据权利要求1所述的一种改善frit胶凹陷的方法,其特征在于,在网印操作结束,并撤掉磁场后,还包括如下步骤:
在待网印物置于强度逐渐减弱的交变电流产生的磁场中,交变电流产生的磁场用于去除frit胶的磁性。
6.根据权利要求1至5任意一项所述的一种改善frit胶凹陷的方法,其特征在于,对具有磁流变体的frit胶施加磁场的方向为单一方向且垂直待网印物平面。
7.根据权利要求1至5任意一项所述的一种改善frit胶凹陷的方法,其特征在于,所述待网印物为盖板玻璃。
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CN114464094A (zh) * 2022-02-23 2022-05-10 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 柔性显示装置及电子设备

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2765813B1 (fr) * 1997-07-11 1999-08-20 Novatec Racle d'application de produits presentant un degre de viscosite important et des caracteristiques de thixotropie sur un substrat pouvant presenter des variations de hauteur, a travers un pochoir, applique au dit substrat
US6221138B1 (en) * 1999-06-30 2001-04-24 Ncr Corporation Jet ink with a magneto-rheological fluid
ITMI20010807A1 (it) * 2000-04-14 2002-10-13 Saint Gobain Procedimento per la fabbricazione di piste elettroconduttorici sunun substrato trasparente e substrato ottenuto
JP4682691B2 (ja) * 2005-05-13 2011-05-11 凸版印刷株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
US8286705B2 (en) * 2009-11-30 2012-10-16 Schlumberger Technology Corporation Apparatus and method for treating a subterranean formation using diversion
CN207607214U (zh) * 2017-06-23 2018-07-13 上海和辉光电有限公司 frit网印制程中用刮刀机构
CN209683134U (zh) * 2019-02-14 2019-11-26 京东方科技集团股份有限公司 刮刀装置及网版印刷设备

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