CN111098218A - 用于硅片的中、精抛布的活化方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种活化方法，尤其涉及一种用于硅片的中、精抛布的活化方法。按以下步骤进行：先用界面活性剂手动刷洗抛光布，使抛光布充分浸润；再用抛光头对圆盘刷施加一定压力，然后使贴有抛光布的下定盘按一定转速旋转，边通入抛光配比液，边旋转刷洗抛光布，对抛光布进行活化。降低不良率，提升产品品质。
Description
技术领域
本发明涉及一种活化方法，尤其涉及一种用于硅片的中、精抛布的活化方法。
背景技术
硅片生产过程中，抛光工艺是十分重要的处理工艺。通常生产中，抛光工艺主要采用抛光布抛光。抛光布在抛光过程中扮演着多重角色，除了用以协助抛光液的有效均匀分布外，也要能够提供新补充进来的抛光液，并顺利将反应后的抛光液与反应产物排除。鉴于中、精抛布的特殊结构，其活化就显得尤为重要。现有技术中，如果中、精抛布活化不充分，抛光面会有抛光雾的风险，影响产品良率；现有技术中，通常用Dummy片进行活化，时间长，成本高，不利于降低生产成本。
发明内容
本发明主要是解决现有技术中存在的不足，提供一种缩短活化时间，降低生产成本的用于硅片的中、精抛布的活化方法。
本发明的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的：
一种用于硅片的中、精抛布的活化方法，按以下步骤进行：先用界面活性剂手动刷洗抛光布，使抛光布充分浸润；再用抛光头对圆盘刷施加一定压力，然后使贴有抛光布的下定盘按一定转速旋转，边通入抛光配比液，边旋转刷洗抛光布，对抛光布进行活化。
作为优选，步骤一：换好新的中、精抛布后，不能马上加工产品，先用高压水刀刷洗抛光布3min；
步骤二：然后抛光机定盘保持低速转动，边倒界面活性剂边用小刷子手动刷洗抛光布15min，界面活性剂体积与纯水体积比为1：10；
步骤三：活化中抛布时，将圆盘刷放置在其中一个抛光头下，选择刷洗程序，刷洗的液体改为中抛配比液，抛光头下降并对圆盘刷施加压力，下定盘按设定转速旋转，开始刷洗20min，原液与纯水的比例为1：20；
步骤四、活化精抛布时，将圆盘刷放置在其中一个抛光头下，选择刷洗程序，刷洗的液体改为精抛配比液，抛光头下降并对圆盘刷施加压力，下定盘按设定转速旋转，开始刷洗20min，原液与纯水的比例分别为1：15。
作为优选，使用圆盘刷加抛光配比液，将圆盘刷放置在其中一个抛光头下，选择刷洗程序，刷洗的液体改为抛光配比液，抛光头下降并对圆盘刷施加压力，下定盘按设定转速旋转，开始刷洗。
作为优选，步骤二中，在大烧杯中加入500mL的界面活性剂原液和5L的纯水，并搅拌均匀；
步骤三中，中抛配比液：每次抽取中抛液原液桶中3L的原液和纯水桶中60L的纯水，添加到配比液桶中，边搅拌边自循环使配比液溶合充分，然后提供给中抛机；
步骤四中，精抛配比液：每次抽取精抛液原液桶中4L的原液和纯水桶中60L的纯水，添加到配比液桶中，边搅拌边自循环使配比液溶合充分，然后提供给精抛机。
中抛液的型号为3900，精抛液的型号为3105。
此活化方法较传统的活化，进一步缩短了活化的时间，同时活化充分性高，同时提升产品品质，为后道工序的质量提供进一步的保障。
因此，本发明的用于硅片的中、精抛布的活化方法，降低不良率，提升产品品质。
具体实施方式
下面通过实施例，对本发明的技术方案作进一步具体的说明。
实施例1：一种用于硅片的中、精抛布的活化方法，按以下步骤进行：
步骤一：换好新的中、精抛布后，不能马上加工产品，先用高压水刀刷洗抛光布3min；
步骤二：然后抛光机定盘保持低速转动，边倒界面活性剂边用小刷子手动刷洗抛光布15min，界面活性剂体积与纯水体积比为1：10；
步骤三：活化中抛布时，将圆盘刷放置在其中一个抛光头下，选择刷洗程序，刷洗的液体改为中抛配比液，抛光头下降并对圆盘刷施加压力，下定盘按设定转速旋转，开始刷洗20min，原液与纯水的比例为1：20；
步骤四、活化精抛布时，将圆盘刷放置在其中一个抛光头下，选择刷洗程序，刷洗的液体改为精抛配比液，抛光头下降并对圆盘刷施加压力，下定盘按设定转速旋转，开始刷洗20min，原液与纯水的比例分别为1：15。
从本发明的试验结果看：换布后，不进行中、精抛布活化，首run的硅片出现面异常、HAZE的不良率为100%；进行活化后，首run的硅片良率为100%，无面异常、HAZE等不良。
Claims (4)
1.一种用于硅片的中、精抛布的活化方法，其特征在于按以下步骤进行：先用界面活性剂手动刷洗抛光布，使抛光布充分浸润；再用抛光头对圆盘刷施加一定压力，然后使贴有抛光布的下定盘按一定转速旋转，边通入抛光配比液，边旋转刷洗抛光布，对抛光布进行活化。
2.根据权利要求1所述的用于硅片的中、精抛布的活化方法，其特征在于：
步骤一：换好新的中、精抛布后，不能马上加工产品，先用高压水刀刷洗抛光布3min；
步骤二：然后抛光机定盘保持低速转动，边倒界面活性剂边用小刷子手动刷洗抛光布15min，界面活性剂体积与纯水体积比为1：10；
步骤三：活化中抛布时，将圆盘刷放置在其中一个抛光头下，选择刷洗程序，刷洗的液体改为中抛配比液，抛光头下降并对圆盘刷施加压力，下定盘按设定转速旋转，开始刷洗20min，原液与纯水的比例为1：20；
步骤四、活化精抛布时，将圆盘刷放置在其中一个抛光头下，选择刷洗程序，刷洗的液体改为精抛配比液，抛光头下降并对圆盘刷施加压力，下定盘按设定转速旋转，开始刷洗20min，原液与纯水的比例分别为1：15。
3.根据权利要求1所述的用于硅片的中、精抛布的活化方法，其特征在于：使用圆盘刷加抛光配比液，将圆盘刷放置在其中一个抛光头下，选择刷洗程序，刷洗的液体改为抛光配比液，抛光头下降并对圆盘刷施加压力，下定盘按设定转速旋转，开始刷洗。
4.根据权利要求1所述的用于硅片的中、精抛布的活化方法，其特征在于：步骤二中，在大烧杯中加入500mL的界面活性剂原液和5L的纯水，并搅拌均匀；
步骤三中，中抛配比液：每次抽取中抛液原液桶中3L的原液和纯水桶中60L的纯水，添加到配比液桶中，边搅拌边自循环使配比液溶合充分，然后提供给中抛机；
步骤四中，精抛配比液：每次抽取精抛液原液桶中4L的原液和纯水桶中60L的纯水，添加到配比液桶中，边搅拌边自循环使配比液溶合充分，然后提供给精抛机。
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