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CN111081524A - 一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统 - Google Patents

一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统，包括腔盖、电机、偏心轮、长花瓣组件、耦合窗、进气喷嘴、连杆、短花瓣组件、扇形导电件一以及扇形导电件二，反应腔主体上侧装配有腔盖，腔盖内侧安装有耦合窗，耦合窗中部开设有进气喷嘴，进气喷嘴外侧装配有扇形导电件一，进气喷嘴外侧装配有扇形导电件二，进气喷嘴外侧装配有长花瓣组件，进气喷嘴外侧装配有短花瓣组件，长花瓣组件左侧装配有连杆，连杆前侧装配有偏心轮，偏心轮上侧安装有电机，该设计解决了原有ICP反应腔不方便进行清洗的问题，本发明结构合理，便于有效清洗ICP反应腔，清洗全面。

Description

一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统
技术领域
本发明是一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统，属于ICP腔室清洗技术领域。
背景技术
在半导体集成电路制造工艺中，刻蚀是其中最为重要的一道工序，其中等离子体刻蚀是常用的刻蚀方式之一，通常刻蚀发生在真空反应腔室内，通常真空反应腔室内包括静电吸附卡盘，用于承载吸附晶圆、射频负载及冷却晶圆等作用。
以往的半导体集成电路刻蚀时经常会用到ICP反应腔，但在生产中经常会出现耦合窗内部无法清洗的情况，因为存在大量的死角，且传统的反应腔为固定式安装，不方便对内部进行全面清洗，现有的ICP反应腔不方便进行清洗，现在急需一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统来解决上述出现的问题。
发明内容
针对现有技术存在的不足，本发明目的是提供一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统，以解决上述背景技术中提出的问题，本发明结构合理，便于有效清洗ICP反应腔，清洗全面。
为了实现上述目的，本发明是通过如下的技术方案来实现：一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统，包括反应腔主体、偏置电极以及可旋转清洗机构，所述反应腔主体内部下侧安装有偏置电极，所述反应腔主体内部上侧设置有可旋转清洗机构，所述可旋转清洗机构包括腔盖、电机、偏心轮、长花瓣组件、耦合窗、进气喷嘴、连杆、短花瓣组件、扇形导电件一以及扇形导电件二，所述反应腔主体上侧装配有腔盖，所述腔盖内侧安装有耦合窗，所述耦合窗中部开设有进气喷嘴，所述进气喷嘴外侧装配有扇形导电件一，所述进气喷嘴外侧装配有扇形导电件二，所述进气喷嘴外侧装配有长花瓣组件，所述进气喷嘴外侧装配有短花瓣组件，所述长花瓣组件左侧装配有连杆，所述连杆前侧装配有偏心轮，所述偏心轮上侧安装有电机。
进一步地，所述进气喷嘴环形侧面装配有转轴，所述长花瓣组件和短花瓣组件内侧与转轴相连接。
进一步地，所述连杆前后两侧装配有铰链，所述连杆前侧通过铰链与偏心轮相连接，所述连杆后侧通过铰链与长花瓣组件相连接。
进一步地，所述偏置电极、扇形导电件一、扇形导电件二、电机均通过导线与外界电源相连接。
进一步地，所述长花瓣组件与短花瓣组件之间均匀分布，所述长花瓣组件设有四组，且四组长花瓣组件规格相同，所述短花瓣组件设有四组，且四组短花瓣组件规格相同。
进一步地，所述腔盖上侧装配有密封盖，且密封盖下侧装配有橡胶垫。
本发明的有益效果：本发明的一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统，因本发明添加了腔盖、电机、偏心轮、长花瓣组件、耦合窗、进气喷嘴、连杆、短花瓣组件、扇形导电件一以及扇形导电件二，该设计能有效旋转清洗ICP反应腔，解决了原有ICP反应腔不方便进行清洗的问题，提高了本发明的便捷清洗性。
因进气喷嘴环形侧面装配有转轴，长花瓣组件和短花瓣组件内侧与转轴相连接，该设计有效旋转长花瓣组件和短花瓣组件，从而使得耦合窗表面清洗更加均匀，因连杆前后两侧装配有铰链，连杆前侧通过铰链与偏心轮相连接，连杆后侧通过铰链与长花瓣组件相连接，该设计防止耦合窗体内部死角清理不全面，因偏置电极、扇形导电件一、扇形导电件二、电机均通过导线与外界电源相连接，该设计使反应腔主体有效工作，因腔盖上侧装配有密封盖，且密封盖下侧装配有橡胶垫，该设计有效密封防尘，本发明结构合理，便于有效清洗ICP反应腔，清洗全面。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为本发明一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统的结构示意图；
图2为本发明一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统中可旋转清洗机构的结构示意图；
图3为本发明一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统中耦合窗的俯视图；
图中：1-反应腔主体、2-偏置电极、3-可旋转清洗机构、31-腔盖、32-电机、33-偏心轮、34-长花瓣组件、35-耦合窗、36-进气喷嘴、331-连杆、341-短花瓣组件、361-扇形导电件一、362-扇形导电件二。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本发明。
请参阅图1-图3，本发明提供一种技术方案：一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统，包括反应腔主体1、偏置电极2以及可旋转清洗机构3，反应腔主体1内部下侧安装有偏置电极2，反应腔主体1内部上侧设置有可旋转清洗机构3。
可旋转清洗机构3包括腔盖31、电机32、偏心轮33、长花瓣组件34、耦合窗35、进气喷嘴36、连杆331、短花瓣组件341、扇形导电件一361以及扇形导电件二362，反应腔主体1上侧装配有腔盖31，腔盖31内侧安装有耦合窗35，耦合窗35中部开设有进气喷嘴36，进气喷嘴36外侧装配有扇形导电件一361，进气喷嘴36外侧装配有扇形导电件二362，进气喷嘴36外侧装配有长花瓣组件34，进气喷嘴36外侧装配有短花瓣组件341，长花瓣组件34左侧装配有连杆331，连杆331前侧装配有偏心轮33，偏心轮33上侧安装有电机32，该设计解决了原有ICP反应腔不方便进行清洗的问题。
进气喷嘴36环形侧面装配有转轴，长花瓣组件34和短花瓣组件341内侧与转轴相连接，该设计有效旋转长花瓣组件34和短花瓣组件341，从而使得耦合窗35表面清洗更加均匀，连杆331前后两侧装配有铰链，连杆331前侧通过铰链与偏心轮33相连接，连杆331后侧通过铰链与长花瓣组件34相连接，该设计防止耦合窗35体内部死角清理不全面。
偏置电极2、扇形导电件一361、扇形导电件二362、电机32均通过导线与外界电源相连接，该设计使反应腔主体1有效工作，长花瓣组件34与短花瓣组件341之间均匀分布，长花瓣组件34设有四组，且四组长花瓣组件34规格相同，短花瓣组件341设有四组，且四组短花瓣组件341规格相同，该设计使电机32运作时长花瓣组件34与短花瓣组件341围绕其中心轴往复旋转一定角度，方便全面清洗，腔盖31上侧装配有密封盖，且密封盖下侧装配有橡胶垫，该设计有效密封防尘。
作为本发明的一个实施例：工作人员首先将反应腔主体1内部的偏置电极2、电机32通过导线与外界电源相连接，电机32工作带动连杆331偏移，进而带动长花瓣组件34和短花瓣组件341旋转一定角度，方便清洗耦合窗35内部下侧，偏置电极2工作使反应腔主体1内部连通，经过扇形导电件一361和扇形导电件二362通电后使外界离子进入耦合窗35下侧，方便内部反应腔主体1灰尘沿进气喷嘴36进行导出，快速高效对耦合窗35、腔盖31、反应腔主体1内部进行清洗。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点，对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (6)

1.一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统，包括反应腔主体、偏置电极以及可旋转清洗机构，其特征在于：所述反应腔主体内部下侧安装有偏置电极，所述反应腔主体内部上侧设置有可旋转清洗机构；
所述可旋转清洗机构包括腔盖、电机、偏心轮、长花瓣组件、耦合窗、进气喷嘴、连杆、短花瓣组件、扇形导电件一以及扇形导电件二，所述反应腔主体上侧装配有腔盖，所述腔盖内侧安装有耦合窗，所述耦合窗中部开设有进气喷嘴，所述进气喷嘴外侧装配有扇形导电件一，所述进气喷嘴外侧装配有扇形导电件二，所述进气喷嘴外侧装配有长花瓣组件，所述进气喷嘴外侧装配有短花瓣组件，所述长花瓣组件左侧装配有连杆，所述连杆前侧装配有偏心轮，所述偏心轮上侧安装有电机。
2.根据权利要求1所述的一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统，其特征在于：所述进气喷嘴环形侧面装配有转轴，所述长花瓣组件和短花瓣组件内侧与转轴相连接。
3.根据权利要求1所述的一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统，其特征在于：所述连杆前后两侧装配有铰链，所述连杆前侧通过铰链与偏心轮相连接，所述连杆后侧通过铰链与长花瓣组件相连接。
4.根据权利要求1所述的一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统，其特征在于：所述偏置电极、扇形导电件一、扇形导电件二、电机均通过导线与外界电源相连接。
5.根据权利要求1所述的一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统，其特征在于：所述长花瓣组件与短花瓣组件之间均匀分布，所述长花瓣组件设有四组，且四组长花瓣组件规格相同，所述短花瓣组件设有四组，且四组短花瓣组件规格相同。
6.根据权利要求1所述的一种可旋转的法拉第清洗装置及等离子体处理系统，其特征在于：所述腔盖上侧装配有密封盖，且密封盖下侧装配有橡胶垫。
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