CN111058007A - 一种手机后盖的印刷镀膜方法及手机后盖 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种手机后盖的印刷镀膜方法,其包括如下步骤,步骤1、设置精雕装置将板材加工成料件;步骤2、设置图案印刷装置对料件进行图案印刷;步骤3、设置透明色印刷装置对料件印刷透明色层;步骤4、设置UV转印装置对料件印刷纹理图案层;步骤5、设置磁控溅射装置进行镀膜层的电镀;步骤6、设置底色印刷装置进行底色层的印刷。本发明通过采用磁控溅射方法镀膜使磁控溅射满足更多颜色的制作要求,提高电镀产能,降低电镀成本,通过采用多段式双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源使得电镀层基体以更高沉积速率制备高致密性、高结合力的镀膜层,提高电镀镀膜的附着力,防止镀膜层脱落的情况出现,更好的保证手机后盖的外观。
Description
技术领域
本发明涉及手机后盖印刷的技术领域,具体涉及一种手机后盖的印刷镀膜方法及手机后盖。
背景技术
随着手机市场的日益扩大,手机后盖加工的竞争也随之愈演愈烈,各大手机公司不断研发新的工艺,为保证手机后盖的亮度,需要进行电镀加工,现有的手机后盖的电镀工艺一般采用磁控溅射或电子枪真空电镀,磁控溅射产能高,但是对颜色有局限性,对一些颜色的效果不够好,电子枪真空电镀适用于各种颜色的产品,但是速度较慢,产能较低,而且成本相对磁控溅射要高,而现有的磁控溅射多采用的单极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源,从而使得镀膜层进行镀膜在机体上,但该单极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源放出的脉冲所产生的离子的推动加速作用具有一定的局限性,效率低,电镀效果差,镀膜的结合力低,容易出现电镀镀膜的脱落的情况出现,影响外观。
发明内容
本项发明是针对现在的技术不足,提供一种手机后盖的印刷镀膜方法;
本发明还提供一种手机后盖。
本发明为实现上述目的所采用的技术方案是:
一种手机后盖的印刷镀膜方法,其包括如下步骤:
步骤1、设置精雕装置将板材加工成手机后盖料件;
步骤2、设置图案印刷装置对手机后盖料件进行图案印刷层印刷;
步骤3、设置透明色印刷装置对手机后盖料件上印刷透明色层;
步骤4、设置UV转印装置对手机后盖料件进行印刷纹理图案层;
步骤5、设置磁控溅射装置进行镀膜层的电镀;
步骤6、设置底色印刷装置进行底色层的印刷。
作进一步改进,在步骤3中所述透明色印刷装置设有刮刀,所述刮刀通过连刮两次形成透明色层,所述透明色层的厚度为5~12μm,透明色层的透过率≥24%。
作进一步改进,所述步骤4的UV转印装置的UV转印工序包括下述步骤:
步骤4.1、对UV转印装置上的UV转印模设置纹理;
步骤4.2、在所述手机后盖料件表面涂上UV胶,将UV转印模带纹理的一面通过定位装置压在手机后盖料件的UV胶层上;
步骤4.3、将压好UV胶的手机后盖料件通过UV灯照射使所转印的UV纹理完全固化。
4.根据权利要求3所述的手机后盖的印刷镀膜方法,其特征在于,所述步骤4.3中的UV灯能量为800-900Mj/cm2,时间为10~15秒。
作进一步改进,所述图案印刷装置设有网版,所述步骤2中包括如下步骤:
步骤2.1、制作网版,在网版上选择两个区域,测量两个区域在网版上的间距;
步骤2.2、设计一个菲林两个印刷区域,并横向晒网;
步骤2.3、在网版设置隔板将两个区域隔离分开,使不同颜色油墨不混淆异色,达到油墨分层效果;
步骤2.4、制作两种不同颜色的光变油墨,并将两种不同颜色的光变油墨分别注入到两个区域上;
步骤2.5、将网版放置到承印物上方进行印刷处理,利用所述网版和光变油墨通过丝印得到具有丝印炫彩后盖的中间产品;
步骤2.6、将中间产品采用流动烘干方式进行处理完成图案印刷层印刷。
作进一步改进,所述步骤5中的磁控溅射装置设有多段式双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源,所述双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源的单负向脉冲拆分为两段,分别为负向1脉冲和负向2脉冲,在负向1脉冲后施加正向1脉冲,在负向2脉冲后施加正向2脉冲,在负向1脉冲和正向1脉冲之间施加负向1高脉冲,在负向2脉冲和正向2脉冲之间施加负向2高脉冲。
作进一步改进,所述镀膜层的总厚度为90±10nm,所述镀膜层包括第一层纯铟层和第二层五氧化二铌层,先电镀纯铟层,再在纯铟层上电镀五氧化二铌层。
作进一步改进,所述步骤6中的印刷底色层的步骤包括印一底色、印二底色、印三底色,印一底色后进入隧道炉烘烤15分钟,印二底色后进入隧道炉烘烤15分钟,印三底色后进入烤箱烘烤1.5小时。
作进一步改进,所述手机后盖包括手机后盖料件、图案印刷层、透明色层、纹理图案层、镀膜层及底色层。
本发明的有益效果:本发明通过采用磁控溅射方法镀膜的产品的亮度,使磁控溅射能够满足更多颜色的制作要求;相对于电子枪真空电镀,颜色色差更加容易管控和调整;提高了电镀产能,降低了电镀成本,通过采用多段式双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源进行磁控溅射电镀,通过多段负向脉冲和正向脉冲的组合,有效提高到达基体的离子数量,增强离子轰击强度,从而可在多种电镀层基体(如金属、半导体、聚合物等)上以更高沉积速率制备高致密性、高结合力的镀膜层,提高电镀镀膜的附着力,防止镀膜层脱落的情况出现,更好的保证手机后盖的外观,通过对多段式双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源参数的调控,可在多种放电模式,满足不同手机后盖电镀的多种工艺要求,且镀膜层制备方法简捷稳定,工序少,产量高。
下面结合附图与具体实施方式,对本发明进一步说明。
附图说明
图1为本实施例的手机后盖的印刷镀膜方法流程示意图;
图2为本实施例的手机后盖剖视结构示意图。
图中:1.手机后盖料件,2.图案印刷层,3.透明色层,4.纹理图案层,5.镀膜层,6.底色层。
具体实施方式
以下所述仅为本发明的较佳实施例,并不因此而限定本发明的保护范围。
实施例,参见附图1~图2,一种手机后盖的印刷镀膜方法,其包括如下步骤:
步骤1、设置精雕装置将板材加工成手机后盖料件1;
步骤2、设置图案印刷装置对手机后盖料件1进行图案印刷层2印刷;
步骤3、设置透明色印刷装置对手机后盖料件1上印刷透明色层3;
步骤4、设置UV转印装置对手机后盖料件1进行印刷纹理图案层4;
步骤5、设置磁控溅射装置进行镀膜层5的电镀;
步骤6、设置底色印刷装置进行底色层6的印刷。
在步骤3中所述透明色印刷装置设有刮刀,所述刮刀通过连刮两次形成透明色层3,所述透明色层3的厚度为5~12μm,透明色层3的透过率≥24%。
所述步骤4的UV转印装置的UV转印工序包括下述步骤:
步骤4.1、对UV转印装置上的UV转印模设置纹理;
步骤4.2、在所述手机后盖料件1表面涂上UV胶,将UV转印模带纹理的一面通过定位装置压在手机后盖料件1的UV胶层上;
步骤4.3、将压好UV胶的手机后盖料件1通过UV灯照射使所转印的UV纹理完全固化。
4.根据权利要求3所述的手机后盖的印刷镀膜方法,其特征在于,所述步骤4.3中的UV灯能量为800-900Mj/cm2,时间为10~15秒。
所述图案印刷装置设有网版,所述步骤2中包括如下步骤:
步骤2.1、制作网版,在网版上选择两个区域,测量两个区域在网版上的间距;
步骤2.2、设计一个菲林两个印刷区域,并横向晒网;
步骤2.3、在网版设置隔板将两个区域隔离分开,使不同颜色油墨不混淆异色,达到油墨分层效果;
步骤2.4、制作两种不同颜色的光变油墨,并将两种不同颜色的光变油墨分别注入到两个区域上;
步骤2.5、将网版放置到承印物上方进行印刷处理,利用所述网版和光变油墨通过丝印得到具有丝印炫彩后盖的中间产品;
步骤2.6、将中间产品采用流动烘干方式进行处理完成图案印刷层2的印刷,所述图案印刷层2的厚度为2-3μm。
所述步骤5中的磁控溅射装置设有多段式双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源,所述双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源的单负向脉冲拆分为两段,分别为负向1脉冲和负向2脉冲,在负向1脉冲后施加正向1脉冲,在负向2脉冲后施加正向2脉冲,在负向1脉冲和正向1脉冲之间施加负向1高脉冲,在负向2脉冲和正向2脉冲之间施加负向2高脉冲。
所述镀膜层5的总厚度为90±10nm,所述镀膜层5包括第一层纯铟层和第二层五氧化二铌层,先电镀纯铟层,再在纯铟层上电镀五氧化二铌层。
所述步骤6中的印刷底色层6的步骤包括印一底色、印二底色、印三底色,印一底色后进入隧道炉烘烤15分钟,印二底色后进入隧道炉烘烤15分钟,印三底色后进入烤箱烘烤1.5小时,所述印一底色、印二底色、印三底色的厚度均为8-12μm。
所述手机后盖包括手机后盖料件1、图案印刷层2、透明色层3、纹理图案层4、镀膜层5及底色层6。
本发明通过采用磁控溅射方法镀膜的产品的亮度,使磁控溅射能够满足更多颜色的制作要求;相对于电子枪真空电镀,颜色色差更加容易管控和调整;提高了电镀产能,降低了电镀成本,通过采用多段式双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源进行磁控溅射电镀,通过多段负向脉冲和正向脉冲的组合,有效提高到达基体的离子数量,增强离子轰击强度,从而可在多种电镀层基体(如金属、半导体、聚合物等)上以更高沉积速率制备高致密性、高结合力的镀膜层,提高电镀镀膜的附着力,防止镀膜层脱落的情况出现,更好的保证手机后盖的外观,通过对多段式双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源参数的调控,可在多种放电模式,满足不同手机后盖电镀的多种工艺要求,且镀膜层制备方法简捷稳定,工序少,产量高。
本发明并不限于上述实施方式,采用与本发明上述实施例相同或近似结构、装置、工艺或方法,而得到的其他用于手机后盖的印刷镀膜方法,均在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种手机后盖的印刷镀膜方法,其特征在于,其包括如下步骤:
步骤1、设置精雕装置将板材加工成手机后盖料件;
步骤2、设置图案印刷装置对手机后盖料件进行图案印刷层印刷;
步骤3、设置透明色印刷装置对印手机后盖料件上印刷透明色层;
步骤4、设置UV转印装置对手机后盖料件进行印刷纹理图案层;
步骤5、设置磁控溅射装置进行镀膜层的电镀;
步骤6、设置底色印刷装置进行底色层的印刷。
2.根据权利要求1所述的手机后盖的印刷镀膜方法,其特征在于,在步骤3中所述透明色印刷装置设有刮刀,所述刮刀通过连刮两次形成透明色层,所述透明色层的厚度为5~12μm,透明色层的透过率≥24%。
3.根据权利要求2所述的手机后盖的印刷镀膜方法,其特征在于,所述步骤4的UV转印装置的UV转印工序包括下述步骤:
步骤4.1、对UV转印装置上的UV转印模设置纹理;
步骤4.2、在所述手机后盖料件表面涂上UV胶,将UV转印模带纹理的一面通过定位装置压在手机后盖料件的UV胶层上;
步骤4.3、将压好UV胶的手机后盖料件通过UV灯照射使所转印的UV纹理完全固化。
4.根据权利要求3所述的手机后盖的印刷镀膜方法,其特征在于,所述步骤4.3中的UV灯能量为800-900Mj/cm2,时间为10~15秒。
5.根据权利要求1所述的手机后盖的印刷镀膜方法,其特征在于,所述图案印刷装置设有网版,所述步骤2中包括如下步骤:
步骤2.1、制作网版,在网版上选择两个区域,测量两个区域在网版上的间距;
步骤2.2、设计一个菲林两个印刷区域,并横向晒网;
步骤2.3、在网版设置隔板将两个区域隔离分开,使不同颜色油墨不混淆异色,达到油墨分层效果;
步骤2.4、制作两种不同颜色的光变油墨,并将两种不同颜色的光变油墨分别注入到两个区域上;
步骤2.5、将网版放置到承印物上方进行印刷处理,利用所述网版和光变油墨通过丝印得到具有丝印炫彩后盖的中间产品;
步骤2.6、将中间产品采用流动烘干方式进行处理完成图案印刷层的印刷。
6.根据权利要求1所述的手机后盖的印刷镀膜方法,其特征在于:所述步骤5中的磁控溅射装置设有多段式双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源,所述双极性脉冲高功率脉冲磁控溅射电源的单负向脉冲拆分为两段,分别为负向1脉冲和负向2脉冲,在负向1脉冲后施加正向1脉冲,在负向2脉冲后施加正向2脉冲,在负向1脉冲和正向1脉冲之间施加负向1高脉冲,在负向2脉冲和正向2脉冲之间施加负向2高脉冲。
7.根据权利要求6所述的手机后盖的印刷镀膜方法,其特征在于:所述镀膜层的总厚度为90±10nm,所述镀膜层包括第一层纯铟层和第二层五氧化二铌层,先电镀纯铟层,再在纯铟层上电镀五氧化二铌层。
8.根据权利要求1所述的手机后盖的印刷镀膜方法,其特征在于,所述步骤6中的印刷底色层的步骤包括印一底色、印二底色、印三底色,印一底色后进入隧道炉烘烤15分钟,印二底色后进入隧道炉烘烤15分钟,印三底色后进入烤箱烘烤1.5小时。
9.一种手机后盖,根据权利要求1~8所述的手机后盖的印刷镀膜方法制作而成,其特征在于,所述手机后盖包括手机后盖料件、图案印刷层、透明色层、纹理图案层、镀膜层及底色层。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN112590373A (zh) * | 2020-12-10 | 2021-04-02 | 广东特思佳光学科技有限公司 | 光学膜片制作设备及其制片方法 |
| CN112959835A (zh) * | 2021-02-02 | 2021-06-15 | 东莞正广精密科技有限公司 | 一种手机背壳的加工工艺 |
| CN113459691A (zh) * | 2021-06-30 | 2021-10-01 | 上海摩软通讯技术有限公司 | 一种复合板手机后盖着色的方法及系统 |
| CN113774345A (zh) * | 2021-09-01 | 2021-12-10 | 江苏星浪光学仪器有限公司 | 一种基于磁控溅射的复合板手机后盖印刷镀膜方法 |
| CN113879741A (zh) * | 2021-09-28 | 2022-01-04 | 广东阿特斯科技有限公司 | 一种着色板材手机背板生产线设备 |
| CN114509834A (zh) * | 2021-12-28 | 2022-05-17 | 河南镀邦光电股份有限公司 | 一种高亮度镀铟薄膜及其镀膜工艺 |
| CN116061588A (zh) * | 2023-02-16 | 2023-05-05 | 浙江兆奕科技有限公司 | 大角度纯色电池盖装饰工艺 |
-
2020
- 2020-01-10 CN CN202010026830.7A patent/CN111058007A/zh active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112590373A (zh) * | 2020-12-10 | 2021-04-02 | 广东特思佳光学科技有限公司 | 光学膜片制作设备及其制片方法 |
| CN112959835A (zh) * | 2021-02-02 | 2021-06-15 | 东莞正广精密科技有限公司 | 一种手机背壳的加工工艺 |
| CN113459691A (zh) * | 2021-06-30 | 2021-10-01 | 上海摩软通讯技术有限公司 | 一种复合板手机后盖着色的方法及系统 |
| CN113774345A (zh) * | 2021-09-01 | 2021-12-10 | 江苏星浪光学仪器有限公司 | 一种基于磁控溅射的复合板手机后盖印刷镀膜方法 |
| CN113879741A (zh) * | 2021-09-28 | 2022-01-04 | 广东阿特斯科技有限公司 | 一种着色板材手机背板生产线设备 |
| CN114509834A (zh) * | 2021-12-28 | 2022-05-17 | 河南镀邦光电股份有限公司 | 一种高亮度镀铟薄膜及其镀膜工艺 |
| CN116061588A (zh) * | 2023-02-16 | 2023-05-05 | 浙江兆奕科技有限公司 | 大角度纯色电池盖装饰工艺 |
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| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20200424 |
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| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |