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CN111026293A - 触控面板及其制备方法 - Google Patents

触控面板及其制备方法 Download PDF

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CN111026293A
CN111026293A CN201911365629.5A CN201911365629A CN111026293A CN 111026293 A CN111026293 A CN 111026293A CN 201911365629 A CN201911365629 A CN 201911365629A CN 111026293 A CN111026293 A CN 111026293A
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谢桦岳
李璟林
陈柏林
李炫运
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Interface Technology Chengdu Co Ltd
General Interface Solution Ltd
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Interface Optoelectronics Shenzhen Co Ltd
Interface Technology Chengdu Co Ltd
General Interface Solution Ltd
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Abstract

本发明提供了一种触控面板及该触控面板的制备方法，该触控面板包括：第一基膜；形成在所述第一基膜上的第一匹配层和第一电极层，所述第一匹配层位于所述第一基膜与所述第一电极层之间且为氧化锆层；位于所述第一基膜远离所述第一匹配层的一侧的第二基膜；以及形成在所述第二基膜上的靠近所述第一基膜一侧的第二匹配层和第二电极层，所述第二匹配层位于所述第二基膜与所述第二电极层之间，所述第二匹配层为二氧化硅层或氧化锆层，所述第一电极层和所述第二电极层分别形成该触控面板的触控感测电极和触控驱动电极。该控制面板具有较好的抗摔落性能。

Description

触控面板及其制备方法
技术领域
本发明属于触控领域，涉及一种触控面板及其制备方法。
背景技术
现有的触控面板包括感测电极和驱动电极，驱动电极和感测电极各包括一匹配(Index Matching，IM)层，当前驱动电极和感测电极中的匹配层均为二氧化硅，在对触控面板进行大量的落球测试后发现，往往是因为感测电极受损进而影响触控面板电性不良，极大的影响产品的良率和质量。
发明内容
本发明第一方面提供了一种触控面板，包括：
第一基膜；
形成在所述第一基膜上的第一匹配层和第一电极层，所述第一匹配层位于所述第一基膜与所述第一电极层之间且为氧化锆层；
位于所述第一基膜远离所述第一匹配层的一侧的第二基膜；以及
形成在所述第二基膜上的靠近所述第一基膜一侧的第二匹配层和第二电极层，所述第二匹配层位于所述第二基膜与所述第二电极层之间，所述第二匹配层为二氧化硅层或氧化锆层，所述第一电极层和所述第二电极层分别形成该触控面板的触控感测电极和触控驱动电极。
本发明第二方面提供了一种触控面板的制备方法，包括：
提供一第一基膜，在所述第一基膜上依次形成层叠的第一匹配层和第一电极层，所述第一匹配层为氧化锆层；
提供一第二基膜，在所述第二基膜上靠近所述第一基膜的一侧依次形成层叠的第二匹配层和第二电极层，所述第二匹配层为二氧化硅层或氧化锆层；
连接所述第二基膜和所述第一基膜，使所述第二基膜位于所述第一基膜远离所述第一匹配层的一侧；
第一电极层和第二电极层分别形成为触控感测电极和触控驱动电极。
上述触控面板通过在触控感测电极设置氧化锆材质的第一匹配层，以提高触控感测电极的韧性和硬度，极大的提高了控制面板通过落球测试的概率和控制面板的抗摔能力，具有显著的优势。
附图说明
图1为本发明实施例一触控面板的示意图。
图2为本发明实施例一触控面板的剖面示意图。
图3为图2中III部的剖面局部放大示意图。
图4为本发明实施例一落球测试的示意图。
图5为本发明实施例一第一电极层条状电极示意图。
图6为本发明实施例一第二电极层条状电极示意图。
主要元件符号说明
触控面板 100
电子装置 200
第一基膜 12
第一匹配层 14
第一电极层 16
第二基膜 22
第二匹配层 24
第二电极层 26
盖板 30
光学透明导电胶层 40
第一条状电极 50
第二条状电极 60
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
为了能够更清楚地理解本发明的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述。需要说明的是，在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。
实施例一
参阅图1，本实施例提供了一种应用于电子装置200上的触控面板100。如图2所示，所述触控面板100包括：第一基膜12、形成在所述第一基膜12上的第一匹配层14、图案化的第一电极层16、位于所述第一基膜12远离所述第一匹配层14一侧的第二基膜22、形成在所述第二基膜22上的第二匹配层24以及图案化的第二电极层26。第二匹配层24和第二电极层26位于第二基膜22的靠近第一基膜12的一侧。本实施例中，所述第一匹配层14为氧化锆层，所述第二匹配层24为二氧化硅层。所述第一电极层16和第二电极层26分别形成触控面板100的触控感测电极和触控驱动电极，该触控感测电极用于接收触控驱动信号，该触控感测电极用于产生并发出触控感测信号。
所述第一基膜12可为透明玻璃或透明塑料形成。所述第一匹配层14至少完全覆盖第一基膜12形成第一电极层16一侧的表面。所述第一电极层16为金属氧化物透明导电材料，本实施例中所述第一电极层16为氧化铟锡，在其他实施例中，所述第一电极层16不限于氧化铟锡。所述第一电极层16局部覆盖所述第一基膜12，由于第一基膜12未设置所述第一电极层16的区域和设置有所述第一电极层16的区域其光学性能容易存在差异，即设置有所述第一电极层16区域和未设置有所述第一电极层16区域的折射率不同，因此在视觉上有两种效果。所述第一匹配层14用于降低该差异，使所述第一基膜12、所述第一匹配层14、和所述第一电极层16三者结合的层叠体各处的光学性能趋近一致，即使得设置有所述第一电极层16区域和未设置有所述第一电极层16区域的折射率趋于一致。
所述第二基膜22可为透明玻璃或透明塑料形成。所述第二匹配层24至少完全覆盖第二基膜22形成第二电极层26一侧的表面。所述第二电极层26为金属氧化物透明导电材料，本实施例中所述第二电极层26为氧化铟锡，在其他实施例中，所述第二电极层26不限于氧化铟锡。所述第二电极层26局部覆盖所述第二基膜22，由于第二基膜22未设置所述第二电极层26的区域和设置有所述第二电极层26的区域其光学性能容易存在差异，即设置有所述第二电极层26区域和未设置有所述第二电极层26区域的折射率不同，因此在视觉上有两种效果。所述第二匹配层24用于降低该差异，使所述第二基膜22、所述第二匹配层24、和所述第二电极层26三者结合的层叠体各处的光学性能趋近一致，即使得设置有所述第二电极层26区域和未设置有所述第二电极层26区域的折射率趋于一致。
参阅图3，本实施例中所述触控面板100还包括一透明的盖板30及两个光学透明导电胶层40。所述盖板30设置在所述第一电极层16远离所述第一基膜12的一侧。其中一个所述光学透明胶层40位于所述第一电极层16和所述盖板30之间，用于粘结所述第一电极层16和所述盖板30；另一个所述光学透明胶层位于所述第二电极层26和所述第一基膜12之间，用于粘结所述第一基膜12和所述第二电极层26。
进一步参阅图3，本实施例中所述第一匹配层14的厚度至少是所述第二匹配层24厚度的三倍。例如当所述第二匹配层24的厚度为200埃，所述第一匹配层14的厚度不低于为600埃。所述第一匹配层14的密度至少为所述第二匹配层24密度的二倍。例如，当所述第二匹配层24的密度为2.2g/cm3，所述第一匹配层14的密度不低于4.4g/cm3。特别的，在其他实施例中，所述第一匹配层14不限于氧化锆。
一并参阅图5和图6，本实施例中，所述第一电极层16包括多个沿第一方向延伸的第一条状电极50,所述第二电极层26包括多个沿第二方向延伸的第二条状电极60，且所述第一条状电极50的线宽要比所述第二条状电极60的线宽要小。所述第一方向与第二方向交叉。当对所述第一电极层16和所述第二电极层26施加相同的力，所述第一电极层16的所述第一条状电极50结构更易被破坏。所述线宽是指触控感测电极161或触控驱动电极261沿垂直于其延伸方向上的宽度。又因为所述第一电极层16相对于第二电极26更靠近与所述盖板30，从盖板30一侧向触控面板100做落球测试(触控面板表面测试)时，所述第一电极层16相较于所述第二电极层26更先受到该落球的撞击，所述第一电极层16部分覆盖在所述第一基膜12上，所述第一基膜12直接承受所述落球的冲击力。若所述第一基膜12损坏则所述第一电极层16电性不良，所述触控面板100会损坏。因此，本发明实施例通过设置所述第一匹配层14特定的材质、厚度、密度起到保护所述第一基膜12的作用。
提供一对比例，所述对比例的结构与本实施例的结构一致，唯一的区别在于对比例中所述第一匹配层为二氧化硅，且该二氧化硅层的厚度为200埃，密度为2.2g/cm3，而本实施例中所述第一匹配层14为氧化锆层，且该氧化锆层的厚度为750埃，密度为5.9g/cm3。如图4所示，通过对本实施例和对比例做大量的落球测试，所述落球测试为100克的钢球做自由落体并撞击触控面板5秒，以测试该触控面板能够承受的落球测试的极限距离。分别对本实施例和对比例的每一个样品测试一次，各测试500次，然而为方便列表，随机的各选取10次对比例和本实施例的测试结果，其测试结果具有统计性，即不可将该测试结果视作特殊性，具体见下表，其中表1为本实施例的落球测试，表2为对比例的落球测试。
表1
Figure BDA0002338340240000041
Figure BDA0002338340240000051
通过表1的落球试验结果可以知道本实施例中触控面板最高可承受110cm的落球撞击，最低可承受110cm的落球撞击，通过计算，其一般情况下可承受109cm的落球撞击。即一般情况下，当落球测试的距离低于109cm时，本实施例的触控面板不会损坏。
表2
对比产品 高度(cm)
对比样品1 60
对比样品2 65
对比样品3 60
对比样品4 60
对比样品5 65
对比样品6 60
对比样品7 70
对比样品8 60
对比样品9 60
对比样品10 65
通过表2的落球试验结果可以知道对比例中触控面板最高可承受70cm的落球撞击，最低可承受60cm的落球撞击，通过计算，其一般情况下可承受62.5cm的落球撞击。即一般情况下，当落球测试的距离低于62.5cm时，对比例的触控面板不会损坏。
对比表1和表2，很明显的可以发现，表1中触控面板样品的落球试验的承受能力更加出色。意味着本实施例中的触控面板相较于对比例中的触控面板更不易损坏，若通过相同的落球测试来触控面板时，本实施例中的触控面板良品率更高，若用户使用该触控面板的产品不慎掉落时，本实施例中的触控面板更不易损坏，其品质更优。
上述触控面板100在原本的触控面板结构之上，通过使用适当且特定的匹配层，极大的提高了控制面板通过落球测试的概率，显著提高了触控面板的质量。
实施例二
本实施例触控面板与实施例一的触控面板100结构相同，唯一的区别在于本实施例所述触控面板中的第二匹配层24为氧化锆。由于所述第一匹配层14和所述第二匹配层24均为氧化锆，且氧化锆的密度超过二氧化硅密度的两倍，氧化锆的莫氏硬度为10，二氧化硅的莫氏硬度为7，因此氧化锆材料的匹配层耐冲击力超过二氧化硅材料的匹配层耐冲击力，即加强了对所述第一基膜12和所述第二基膜22的保护。
特别的，本实施例所述触控面板的第一匹配层14和所述第二匹配层24不限于氧化锆。
实施例三
本实施例提供了制备上述实施例一和实施例二的触控面板的制备方法，包括：
提供一第一基膜12，在所述第一基膜12上依次形成层叠的第一匹配层14和第一电极层16，所述第一匹配层14为氧化锆；
提供一第二基膜22，在所述第二基膜22上靠近所述第一基膜12的一侧依次形成层叠的第二匹配层24和第二电极层26，所述第二匹配层24由二氧化硅或氧化锆材料形成；
连接形成有第二匹配层24及第二电极层26的第二基膜22和形成有第一匹配层14及第一电极层16的第一基膜12，使所述第二基膜22位于所述第一基膜12远离所述第一匹配层14的一侧，第二匹配层24和第二电极层26位于第二基膜22的靠近第一基膜12的一侧。
所述第一电极层16和所述第二电极层26分别形成触控感测电极和触控驱动电极。
可以理解的，上述制备方法也可为先连接所述第二基膜22和形成有第一匹配层14及第一电极层16的第一基膜12，再在所述第二基膜22上依次形成层叠的第二匹配层24和第二电极层26。
所述制备方法还包括：提供两个光学透明导电胶层40及一透明的盖板30，其中一个所述光学透明胶层40形成于所述第一电极层16和所述盖板30之间，粘结所述第一电极层16和所述盖板30；另一个所述光学透明胶层40形成于所述第二电极层26和所述第一基膜12之间，粘结所述第一基膜12和所述第二电极层26。
其中，所述第二匹配层24为二氧化硅层。所述氧化锆层的厚度为750埃，所述二氧化硅层的厚度为200埃。特别的，在其他实施例中，所述第一匹配层14不限于氧化锆，所述第二匹配层24不限于二氧化硅，也可以是氧化锆或者其他涂层。
上述触控面板100在通过使用适当且特定的匹配层，具有针对性的对所述触控面板100在结构上的薄弱区域进行优化，即对该薄弱区域进行强化，极大的提高了控制面板通过落球测试的概率，极大的提高了所述控制面板100通过落球测试的概率及所述控制面板100的抗摔能力。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。最后应说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或等同替换，而不脱离本发明技术案的范围。

Claims (9)

1.一种触控面板，其特征在于，包括：
第一基膜；
形成在所述第一基膜上的第一匹配层和第一电极层，所述第一匹配层位于所述第一基膜与所述第一电极层之间且为氧化锆层；
位于所述第一基膜远离所述第一匹配层的一侧的第二基膜；以及
形成在所述第二基膜上的靠近所述第一基膜一侧的第二匹配层和第二电极层，所述第二匹配层位于所述第二基膜与所述第二电极层之间，所述第二匹配层为二氧化硅层或氧化锆层，所述第一电极层和所述第二电极层分别形成该触控面板的触控感测电极和触控驱动电极。
2.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，当所述第二匹配层为二氧化硅层时，所述第一匹配层的厚度至少是所述第二匹配层厚度的三倍，且所述第一匹配层的厚度不低于600埃。
3.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，当所述第二匹配层为二氧化硅层时，所述第一匹配层的密度至少为所述第二匹配层密度的二倍。
4.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述触控面板还包括一透明的盖板，所述盖板设置在所述第一电极层远离所述第一基膜的一侧。
5.如权利要求4所述的触控面板，其特征在于，所述触控面板还包括两个光学透明胶层，其中一个所述光学透明胶层位于所述第一电极层和所述盖板之间；另一个所述光学透明胶层位于所述第二电极层和所述第一基膜之间。
6.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述第一电极层的条状电极比所述第二电极层的条状电极细。
7.一种触控面板的制备方法，其特征在于，包括：
提供一第一基膜，在所述第一基膜上依次形成层叠的第一匹配层和第一电极层，所述第一匹配层为氧化锆层；
提供一第二基膜，在所述第二基膜上靠近所述第一基膜的一侧依次形成层叠的第二匹配层和第二电极层，所述第二匹配层为二氧化硅层或氧化锆层；
连接所述第二基膜和所述第一基膜，使所述第二基膜位于所述第一基膜远离所述第一匹配层的一侧；
第一电极层和第二电极层分别形成为触控感测电极和触控驱动电极。
8.如权利要求7所述的触控面板的制备方法，其特征在于，制备所述第二匹配层的步骤包括制备由二氧化硅材料形成的第二匹配；制备所述第一匹配层的步骤包括制备厚度至少是所述第二匹配层厚度的三倍且厚度不低于600埃的第一匹配层。
9.如权利要求7所述的触控面板的制备方法，其特征在于，制备所述第二匹配层的步骤包括制备由二氧化硅材料形成的第二匹配；制备所述第一匹配层的步骤包括制备密度至少是所述第二匹配层密度的两倍的第一匹配层。
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