CN110996874A - 用于多个处理构件的附接系统 - Google Patents

Abstract

一种用于往复式处理装置的适配器组件，其包括主体部分，所述主体部分具有处于其顶部上的至少第一顶部阳附接构件或第一顶部阴附接构件以及处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件。

Description

用于多个处理构件的附接系统

相关申请的交叉引用

本申请是2017年7月11日提交的美国专利申请15/647,050的一部分的延续并要求2018年3月27日提交的美国临时申请62/648,810的权益，上述美国申请的全部内容通过引用结合于本文中。

技术领域

本发明总体上涉及一种用于将处理元件附接至往复式处理装置的系统，更具体地，涉及用于将多个处理元件附接至往复式处理装置的适配器。

背景技术

治疗处理或按摩装置可包括可互换的处理装置。然而，用于更换部件的机构可能很复杂。此外，由于装置的振动，在使用期间部件可能会松动。因此，需要一种克服这些问题的系统。

发明内容

根据本发明的第一方面，提供了一种用于往复式处理(治疗)装置的适配器组件，该适配器组件包括主体部分，该主体部分包括处于其顶部上的至少第一顶部阳(凸形)附接构件或第一顶部阴(凹形)附接构件以及处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件。在优选实施例中，所述主体部分包括从其延伸的第一和第二臂，并且所述第一底部阳附接构件或第一底部阴附接构件被设置在所述第一臂的远端处，并且所述第二底部阳附接构件或第二底部阴附接构件被设置在所述第二臂的远端处。在优选实施例中，所述主体部分的底部包括从其延伸的第一和第二底部阳附接构件，并且所述主体部分的顶部包括顶部阴附接构件。

在优选实施例中，所述主体部分的底部包括从其延伸的第一和第二底部阳附接构件。所述第一阳附接构件包括具有至少第一平坦表面的外表面，并且所述外表面包括限定于其中的第一卡位或从其偏压的第一球之一。所述第二阳附接构件包括具有至少第一平坦表面的外表面，并且所述外表面包括限定于其中的第一卡位或从其偏压的第一球之一。优选地，所述第一阳附接构件的外表面包括限定于其中的第二卡位或从其偏压的第二球之一，并且所述第二阳附接构件的外表面包括限定于其中的第二卡位或从其偏压的第二球之一。

在优选实施例中，所述主体部分的顶部包括阴附接构件，所述阴附接构件具有限定于其中的轴凹部，所述轴凹部由包括第一平坦表面的内表面限定。所述内表面包括限定于其中的第一卡位或从其向内偏压的第一球之一。

在优选实施例中，所述适配器组件包括连接至其的第一和第二处理构件。优选地，所述第一处理构件包括处于其顶部上的阳附接构件或阴附接构件，该阳附接构件或阴附接构件被连接至所述第一底部阳附接构件或第一底部阴附接构件，并且所述第二处理构件包括处于其顶部上的阳附接构件或阴附接构件，该阳附接构件或阴附接构件被连接至所述第二底部阳附接构件或第二底部阴附接构件。优选地，所述主体部分的顶部包括具有限定于其中的轴凹部的阴附接构件。所述轴凹部由包括第一平坦表面的内表面限定。所述内表面包括限定于其中的第一卡位或从其向内偏压的第一球之一。

根据本发明的另一方面，提供了一种往复式处理装置，其包括壳体、从所述壳体延伸并且可操作以沿着轴轴线往复运动的轴以及连接至所述轴的远端的适配器组件。所述适配器组件包括主体部分，该主体部分具有处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件。在优选实施例中，所述适配器组件的主体部分包括从其延伸的第一和第二臂，所述第一和第二臂各自具有远端。所述第一底部阳附接构件或第一底部阴附接构件被设置在所述第一臂的远端处，并且所述第二底部阳附接构件或第二底部阴附接构件被设置在所述第二臂的远端处。在优选实施例中，所述适配器组件的主体部分包括处于其顶部上的至少第一顶部阳附接构件或第一顶部阴附接构件，以及处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件。

在优选实施例中，所述装置包括连接至所述第一底部阳附接构件或第一阴附接构件的第一处理构件、连接至所述第二底部阳附接构件或第二阴附接构件的第二处理构件。优选地，所述第一处理构件包括处于其顶部上的阳附接构件或阴附接构件。所述第一处理构件的阳附接构件或阴附接构件被连接至所述第一底部阳附接构件或第一底部阴附接构件。所述第二处理构件包括处于其顶部上的阳附接构件或阴附接构件，并且所述第二处理构件的阳附接构件或阴附接构件被连接至所述第二底部阳附接构件或第二底部阴附接构件。

根据本发明的另一个方面，提供了一种方法，该方法包括：获得往复式处理装置，该往复式处理装置包括壳体和从所述壳体延伸的轴，所述轴可操作以沿着轴轴线往复运动；从所述轴的远端上移除处理构件；获得适配器组件，所述适配器组件包括主体，所述主体具有连接至其的第一和第二处理构件；将所述适配器组件连接至所述轴的远端；以及使用所述往复式处理装置来同时利用所述第一和第二处理构件处理对象。在优选实施例中，所述适配器组件的主体部分具有处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件，并且所述方法包括：将所述第一处理构件连接至所述第一阳或阴附接构件；以及将所述第二处理构件连接至所述第二阳或阴附接构件。优选地，所述适配器组件的主体部分包括处于其顶部上的至少第一顶部阳附接构件或第一顶部阴附接构件。

根据本发明的另一方面，提供了一种用于将处理构件固定至轴的处理组件，其包括处理构件和阴附接构件。所述处理构件限定纵向轴线，并且具有远端和近端。所述近端包括限定于其中的附接凹部。所述阴附接构件具有远端、近端和限定于所述近端中的轴凹部。所述阴附接构件被固定在所述处理构件的附接凹部中。所述轴凹部由包括第一平坦表面的内表面限定。所述内表面包括限定于其中的第一卡位。当所述轴被接收在所述轴凹部中时，所述第一平坦表面与阳附接构件上的第一相对平坦表面可操作地接合，并且第一球被偏压到所述第一卡位中。优选地，所述第一卡位被限定于所述第一平坦表面中。

在优选实施例中，所述内表面包括第二平坦表面和限定于其中的第二卡位。当所述轴被接收在所述轴凹部中时，所述第二平坦表面与所述阳附接构件上的第二相对平坦表面可操作地接合，并且第二球被偏压到所述第二卡位中。优选地，所述第一卡位被限定于所述第一平坦表面中，并且所述第二卡位被限定于所述第二平坦表面中。在优选实施例中，所述阴附接构件的第一和第二平坦表面基本彼此平行。

根据本发明的另一方面，提供了一种用于将处理构件固定至轴的附接系统。所述附接系统包括所述处理构件、阴附接构件和阳附接构件。所述处理构件限定纵向轴线并且具有远端和近端。所述近端包括限定于其中的附接凹部。所述阴附接构件具有远端、近端和限定于所述近端中的轴凹部。所述阴附接构件被固定在所述处理构件的附接凹部中。所述轴凹部由包括第一平坦表面的内表面限定。所述内表面包括限定于其中的第一卡位或从其偏压的第一球之一。所述阳附接构件被设置在所述轴凹部中，并且包括具有至少第一相对平坦表面的外表面。所述外表面包括限定于其中的第一卡位或从其偏压的第一球中的另一个。所述第一平坦表面与所述第一相对平坦表面可操作地接合，并且所述第一球被偏压至所述第一卡位中。

在优选实施例中，所述第一卡位被限定于所述轴凹部的内表面中，并且所述第一球被从所述阳附接构件的外表面向外偏压。优选地，所述第一卡位被限定于所述第一平坦表面中。在优选实施例中，所述阴附接构件的内表面包括第二平坦表面和限定于其中的第二卡位。所述阳附接构件的外表面包括第二相对平坦表面和从其向外偏压的第二球，并且所述第二平坦表面与所述阳附接构件上的相对的第二平坦表面可操作地接合，并且所述第二球被偏压到所述第二卡位中。优选地，所述第一卡位被限定于所述第一平坦表面中，所述第二卡位被限定于所述第二平坦表面中，所述第一球被从所述第一相对平坦表面向外偏压，所述第二球被从所述第二相对平坦表面向外偏压。在优选实施例中，所述阴附接构件的第一和第二平坦表面基本上彼此平行，并且所述阳附接构件的第一和第二相对平坦表面基本上彼此平行。

根据本发明的另一方面，提供了一种用于将处理构件固定至轴的附接系统。所述附接系统包括所述处理构件、阴附接构件、盘和阳附接构件。所述处理构件限定纵向轴线并且具有远端和近端。所述近端包括限定于其中的附接凹部。所述阴附接构件具有远端、近端和限定于所述近端中的轴凹部。所述阴附接构件被固定在所述处理构件的附接凹部中。所述轴凹部由包括第一平坦表面的内表面限定。所述阴附接构件包括至少一个从其向上延伸的弹簧偏压球。所述阳附接构件被设置在所述轴凹部中并且包括至少一个从其向上延伸的固定突起。所述盘位于所述阳附接构件上方，并且包括至少一个限定于其中的固定开口。所述固定突起被接收在所述固定开口中。所述盘包括至少一个限定于其中的卡位，并且所述弹簧偏压球被接收在所述卡位中。

在优选实施例中，所述阳附接构件包括从其向上延伸的多个圆形排布的固定突起，并且所述盘包括限定于其中的多个圆形排布的固定开口，所述固定开口接收所述固定突起。优选地，所述阴附接构件包括至少两个从其向上延伸的弹簧偏压球。所述盘包括限定于其中的两个以上的卡位，并且所述卡位被圆形地排布。在优选的实施例中，所述阳附接构件包括外螺纹，所述阴附接构件包括内螺纹。优选地，所述轴延伸穿过所述阳附接构件和所述盘中的中心开口。

根据本发明的另一方面，提供了一种将所述处理组件附接至所述阳附接构件的方法。所述方法包括：将所述阳附接构件插入并旋拧至所述阴附接构件的轴开口中；利用所述盘的底部表面将所述弹簧偏压球向内或向下推动；旋转所述处理组件，直至所述弹簧偏压球被向上偏压至所述卡位中。

根据本发明的另一方面，提供了一种用于将处理构件固定至轴的处理组件。所述处理组件包括所述处理构件，所述处理构件限定纵向轴线并且具有远端和近端。所述近端包括限定于其中的附接凹部。一磁体被设置在所述附接凹部内，以使得当所述轴被接收在所述附接凹部中时，所述轴的远端被磁性地吸引至所述磁体。在优选的实施例中，所述附接系统还包括阴附接构件，所述阴附接构件具有远端、近端和限定于所述近端中的轴凹部，其中所述阴附接构件被固定在所述处理构件的附接凹部中，其中所述磁体被固定在所述阴附接构件内并与所述轴凹部连通，从而当所述轴被接收在所述轴凹部中时，所述轴的远端被磁性地吸引至所述磁体。在优选实施例中，所述磁体凹部被限定于所述阴附接构件的远端中，其中所述磁体被固定在所述磁体凹部中，并且其中在所述磁体凹部和所述轴凹部之间限定有开口以使所述轴凹部与所述磁体连通。优选地，所述阴附接构件是内螺纹的，并且其中所述轴包括用于与所述阴附接构件配合的外螺纹。

在优选实施例中，所述轴延伸穿过固定至其的阳附接构件，并且所述外螺纹位于所述阳附接构件上。优选地，所述阴附接构件包括从其外表面向外突出的环形凸缘，所述处理构件包括限定于其内表面中的环形凹槽，并且所述环形凸缘被接收在所述环形凹槽中。优选地，所述环形凸缘位于所述磁体的径向外侧。在优选的实施例中，所述处理构件包括从其内表面向内突出的环形脊，所述阴附接构件包括限定于其外表面中的环形凹槽，并且所述环形脊被接收在所述环形凹槽中。

在优选的实施例中，所述处理构件包括设置在所述远端和所述近端之间的可压缩部分，并且所述处理构件是中空的。

所述附接系统可以例如用于在美国专利公布2016/0367425和2017/0027798以及2017年3月14日提交的美国专利申请15/458,920中教导的往复式处理装置，上述文献的全部内容通过引用结合于本文中。

附图说明

图1是具有通过根据本发明的优选实施例的附接系统附接至其的处理构件的往复式处理装置的正视图；

图2是图1的附接系统的分解正视图；

图3是使用附接系统附接至往复式处理装置的轴的处理构件的截面正视图；

图4是未附接至往复式处理装置的轴的处理构件的截面正视图；

图5是包括根据本发明的另一个优选实施例的附接系统的处理构件的分解立体图；

图6是使用附接系统附接至往复式处理装置的轴的图5的处理构件的截面正视图；

图7是未附接至往复式处理装置的轴的图5的处理构件的截面正视图；

图8是包括根据本发明的另一优选实施例的附接系统的处理构件的分解立体图；

图9是使用附接系统附接至往复式处理装置的轴的图8的处理构件的截面正视图；

图10是未附接至往复式处理装置的轴的图8的处理构件的截面正视图；

图11是包括根据本发明的另一优选实施例的附接系统的处理构件的分解立体图；

图12是使用附接系统附接至往复式处理装置的轴的图11的处理构件的截面正视图；

图13是未附接至往复式处理装置的轴的图11的处理构件的截面正视图；和

图14是用于将两个处理构件固定至往复式处理装置的适配器组件的正视图；

图15是具有两个从其分解下来的处理元件的图14的适配器组件的俯视立体图；和

图16是具有附接至其的图14的适配器组件的往复式处理装置的立体图。

在这些附图的各个视图中，相同的附图标记指代相同的部件。

具体实施方式

以下描述和附图是说明性的，并且不应被解释为限制性的。描述了许多具体细节以提供对本公开的透彻理解。然而，在某些情况下，为了避免使描述模糊不清，没有描述众所周知的或常规的细节。在本公开中对一个或一种实施例的引用可以是但不必然地是对同一实施例的引用；并且，这些引用表示所述实施例中的至少一个。

在本说明书中对“一个实施例”或“一种实施例”的引用是指结合该实施例来描述的特定特征、结构或特性被包括在本公开的至少一个实施例中。说明书中各个地方出现的短语“在一个实施例中”不必然地全部指的是同一实施例，也不必然地全部指的是与其他实施例互斥的单独或替代的实施例。此外，描述了可以由一些实施例而不是其他实施例呈现的各种特征。类似地，描述了可能是某些实施例但非其他实施例的要求的各种要求。

在本公开的范畴中以及在使用每个术语的特定范畴中，本说明书中使用的术语通常具有其在本领域中的普通含义。在下文或说明书的其他地方讨论了用于描述本公开的某些术语，以向实践者提供关于本公开的描述的附加指导。为方便起见，可以例如使用斜体和/或引号将某些术语突出显示：突出显示的使用对术语的范围和含义没有影响；无论是否突出显示，在相同范畴中，术语的范围和含义都是相同的。

应当理解，可以以一种以上的方式述说同一件事。因此，替代语言和同义词可以用于本文所讨论的任何一个或多个术语。不论是否在本文中阐述或讨论术语都没有赋予特殊意义。提供了某些术语的同义词。一个或多个同义词的记载不排除使用其他同义词。包括本文所讨论的任何术语的示例在内的本说明书中任何地方的示例的使用仅是说明性的，并不旨在进一步限制本公开或任何示例性术语的范围和含义。同样，本公开不限于本说明书中给出的各种实施例。

在无意进一步限制本公开的范围的情况下，以下给出了根据本公开的实施例的仪器、设备、方法及其相关结果的示例。需要注意的是，为了方便读者，可以在示例中使用标题或副标题，但这绝不应该限制本公开的范围。除非另有定义，否则本文中所使用的所有技术和科学术语具有与本公开所属领域的普通技术人员通常所理解的含义相同的含义。在发生矛盾的情况下，以包括定义的本文件为准。

应当理解，本文中所使用的诸如“前”、“后”、“顶部”、“底部”、“侧面”、“短”、“长”、“上”、“下”、“后”、“向前”、“内侧”、“外侧”和“下方”之类的术语仅是为了便于描述并且指代各部件如图中所示的方位。应当理解，本文描述的各部件的任何方位都在本发明的范围内。

现在参考附图，其中所显示的内容是为了说明本发明，而不是为了限制本发明，图1-4示出了根据本发明的优选实施例的附接系统10。在优选的实施例中，附接系统10用于将处理(治疗)元件或构件固定到用于按摩或治疗处理的往复式处理装置的轴上。然而，这不是对本发明的限制，并且本领域普通技术人员将理解，所述附接系统可用于将任何可移除或可替换的部件附接至所述轴的远端。因此，如本文所用，术语处理装置、处理元件或处理组件是指可在所述轴的端部上可移除地替换的任何部件，并且不限于按摩处理元件。

图1示出了示例性的往复式处理装置100，其具有以线性运动作往复运动的轴102。所述轴包括通过附接系统10附接到其远端104的处理组件12。附接系统10的细节在图2-4中示出。如图2所示，在优选的实施例中，附接系统10大体包括处理组件12和被配置成附接至轴102的阳(凸形)附接构件14。

如图2-4所示，处理组件12大体包括限定纵向轴线A1(见图1)的处理构件16、磁体18和阴(凹形)附接构件20。处理构件16包括远端16a和近端16b，所述近端16b具有限定于其中的附接凹部22。阴附接构件20包括远端20a和近端20b，并且被固定在附接凹部22中。阴附接构件20优选地包括在近端20b附近限定的轴凹部24和在远端20a附近限定的磁体凹部26。在优选的实施例中，阴附接构件20由塑料制成，并且处理构件16由弹性体或顺应性材料(例如，橡胶，泡沫，硅树脂，塑料，PVC)制成。在另一个实施例中，处理构件16和/或所述阴附接构件可以由金属、织物或任何其他材料制成。所述处理构件也可以是中空的(例如网球式的)。

在优选的实施例中，磁体18被设置在磁体凹部26内，并且通过磁体开口28与轴凹部24连通。如下文进一步描述的，当轴102被接收在轴凹部24中时，轴102的远端104被磁性地吸引到磁体18。在示例性实施例中，磁体18具有约15mm的直径和约3mm的厚度，并且具有约3.24kg的拉力等级。然而，这仅是示例性的。所述磁体可以具有任何期望的尺寸。在另一个实施例中，也可以在轴102的远端104中包括一磁体，并且该磁体可以与处理构件16中的磁体18相互作用。在又一个实施例中，处理构件16可以在其中包括被吸引到所述轴的远端中的该磁体的含铁金属。

在优选实施例中，阴附接构件20包括内螺纹30，并且阳附接构件14包括用于与阴附接构件20配合的外螺纹32。阳附接构件14包括中心开口，轴102穿过该中心开口延伸。在优选实施例中，轴102的远端104从阳附接构件14突出(例如，大约1mm)并且具有斜切端部。这允许轴102的突出部分延伸穿过磁体开口28，并提供与磁体18金属接触的金属。在优选的实施例中，所述阳附接构件由塑料制成。然而，这不是限制性的，并且所述阳附接构件可以由诸如金属、木材等的其他材料制成。在另一个实施例中，所述阳附接构件可以由金属制成或者所述轴本身可以包括用于与所述阴附接构件和/或所述处理构件配合的外螺纹。

本领域普通技术人员将理解，所述阴附接构件可以以许多不同方式固定在附接凹部内。在优选实施例中，处理构件16被模制在阴附接构件20周围。在其他实施例中，所述阴附接构件可以粘附、胶合、焊接、卡扣配合、摩擦配合或以任何其他已知方法固定在处理构件16内。如图3和图4所示，在优选实施例中，阴附接构件20和处理构件16包括互补的凹槽和环或凸缘，以帮助将阴附接构件20固定在附接凹部22中。在优选实施例中，阴附接构件20包括从其外表面向外突出的环形凸缘34，并且处理构件16包括限定在其内表面中的环形凹槽36。环形凸缘34被接收在环形凹槽36中。在优选实施例中，环形凸缘34位于磁体18的径向外侧。然而，这不是对本发明的限制，环形凸缘34或多个环形凸缘可以位于阴附接构件20上的任何位置。在优选实施例中，所述处理构件包括从其内表面向内突出的环形脊38，并且阴附接构件20包括在其外表面中限定的环形凹槽40。环形脊38被接收在环形凹槽40中，以帮助将阴附接构件20固定在附接凹部22中。阴附接构件20还可以包括与处理构件16的近端16b相接触的外部环形凸缘42。

在使用中，为了将处理组件12连接在轴102上，将阴附接构件20旋拧到阳附接构件14上，直到金属轴102的远端104接触或紧邻磁体18。然后，可以使用往复式处理装置100来按摩使用者的身体部位。为了更换处理组件，将第一处理组件从所述阳附接构件上拧下，并且将第二处理组件旋拧到所述阳附接构件上。

图5-7示出了处理组件50的另一实施例，该处理组件50可以使用附接系统10固定至往复式处理装置的轴102。如图中所示，在优选实施例中，处理组件50包括与上述处理组件类似的部件，但是包括不同形状的处理构件52和阴附接构件54。优选地，处理构件52由弹性体或顺应性材料(例如，橡胶，硅树脂)制成，而且大体是中空的，并且包括处于远端52a和近端52b之间的可压缩部分56。通过这种布置，在使用期间，该处理构件压缩或塌陷，从而提供比上述处理构件16更柔和的冲击。

如图5-7所示，处理构件52包括第一环形向外突出部分58、第二环形向外突出部分60和设置在它们之间的可压缩部分56。在优选实施例中，第二环形向外突出部分60的直径大于第一环形向外突出部分58的直径。可压缩部分56还包括环形向内突出部分62。可压缩部分56、第一环形向外突出部分58、第二环形向外突出部分60和环形向内突出部分62一起工作以在使用期间提供处理构件52的压缩和弹回。换句话说，它具有类似弹簧的作用，其吸收对身体或处理对象的一些冲击。

阴附接构件54优选地包括环形套环64，该环形套环64与处理构件52的内表面相互作用以将这两个部件固定在一起。环形套环64在其上包括脊66，该脊66被接收在由第一环形向外突出部分58形成的沟槽68中。应当理解，中空可压缩处理构件52可与本文所教导和任何附图所示出的任何附接系统一起使用。换句话说，中空可压缩处理构件52不限于磁附接系统，而是还可以与以下图8-13中示出的附接系统一起使用。

图8-10示出了可以用于往复式处理装置的附接系统70的另一实施例。如图8所示，在优选实施例中，附接系统70大体包括处理组件71、阳附接构件72和盘74。阳附接构件72和盘74均包括中心开口72a和74a，并且被配置成附接至轴102。优选地，阳附接构件72包括至少一个并且优选地多个从其向上延伸的圆形排布的固定突起73，其被接收在限定于盘74中的圆形排布的固定开口75中(参见图9-10)。将理解的是，可以是单个固定开口75和单个固定突起73。此外，“圆形排布”可以包括围绕阳附接构件72和盘74布置的两个或更多个固定突起73和固定开口75。如下所述，当将处理组件71固定在阳附接构件72和盘74上时，固定突起73和固定开口75的组合防止阳附接构件72和盘74相对于彼此旋转。在优选的实施例中，所述盘还包括至少一个且优选地多个限定于其中的相交的轴通道，每个轴通道在相对的固定开口75之间延伸并穿过所述盘的中心开口74a。当将盘74组装到轴102上时，所述轴通道允许轴82从中穿过。

在优选实施例中，处理组件71大体包括处理构件16和阴附接构件76。处理构件16包括远端16a和近端16b，所述近端16b具有限定于其中的附接凹部22。阴附接构件76包括远端76a和近端76b，并且被固定在附接凹部22中。阴附接构件76优选地包括在其近端附近限定的轴凹部24。

在优选实施例中，阴附接构件76包括至少一个且优选地多个(在附图中示出两个)弹簧偏压球78或柱塞，如下所述，该弹簧偏压球78或柱塞与限定于盘74中或阳附接构件72中的开口或卡位77配合。优选地，阴附接构件76包括从主体部分向外延伸的环形凸缘79，该环形凸缘79包括凹部80，球78被安置在凹部80中。凹部80可包括将球78向外或向上偏压的弹簧81或任何其他类型的偏压机构。

在优选实施例中，阴附接构件76包括内螺纹30，并且阳附接构件72包括用于与阴附接构件76配合的外螺纹32。在使用中，为了将处理组件71连接在轴102上，将阴附接构件76旋拧到阳附接构件72上，直到球78被接收并偏压到卡位77中，如图9所示。然后，可以使用往复式处理装置100来按摩使用者的身体部位。为了更换处理组件，将第一处理组件从所述阳附接构件上拧下，并且将第二处理组件旋拧在所述阳附接构件上。本领域普通技术人员将理解的是，弹簧81以适当的弹簧力来选择，以使得球78被足够的向外的力偏压，以在所述往复式处理装置的使用期间保持球78处于卡位77中(以防止处理组件71旋转和意外脱离所述轴)，但是，当处理组件71被拧下时，由于球78的弯曲表面，卡位77的边缘向内推动球78，以使得球78从卡位77中出去并且处理组件71可以从所述轴上移除。

在优选实施例中，阳附接构件72和轴102包括穿过其中限定的横向开口，该横向开口接收轴82，该轴82将阳附接构件72固定在轴102上。在另一个实施例中，阳附接构件72可以如以上在第一实施例中所述地或者通过任何其他方法(例如，胶合，焊接，粘合，螺纹连接等)固定至轴102。如果需要的话，磁体也可以包括在该实施例中。

图11-13示出了可以用于往复式处理装置的附接系统86的另一实施例。如图11所示，在优选实施例中，附接系统86大体包括处理组件87和阳附接构件88。阳附接构件88包括轴凹部或中心开口88a，并且被配置成附接至轴102。优选地，阳附接构件88大体上是圆形的，但是在其相对的侧面上包括第一和第二相对平坦表面89(单个平坦表面在本发明的范围内)。所述阳附接构件还包括从相对平坦表面89被向外弹簧偏压的球90。任何偏压机构都在本发明的范围内。在优选实施例中，一个或多个弹簧94向外偏压球90。

在优选实施例中，处理组件87大体包括处理构件16和阴附接构件91。处理构件16包括远端16a和近端16b，所述近端16b具有限定于其中的附接凹部22。阴附接构件91包括远端91a和近端91b，并且被固定在附接凹部22中。阴附接构件91优选地包括在其近端附近限定的轴凹部24。该阴轴凹部包括第一和第二平坦表面92，所述第一和第二平坦表面92具有限定于其中的卡位93。阳附接构件88上的球90被配置成接收在阴附接构件91中的卡位中并与之配合。此外，阳附接构件88的第一和第二相对平坦表面89被配置成与阴附接构件91的第一和第二平坦表面92配合以防止两者相对于彼此旋转。在另一实施例中，所述阴附接构件的内表面和所述阳附接构件的外表面可以是正方形或矩形的，或具有允许所述阴附接构件和所述阳附接构件相配合但防止二者相对于彼此旋转的其他形状。本领域普通技术人员将理解，每个侧面上的单个平坦表面即可防止旋转。

为了更换处理组件，将第一处理组件从阳附接构件上轴向拉出，并且将第二处理组件放置在阳附接构件上。本领域普通技术人员将理解，(一个或多个)弹簧94被以适当的弹簧力选择，以使得在往复式处理装置的使用期间，球90被足够的向外的力偏压以将球90保持在卡位93中，但是，当将处理组件87向外拉(沿着轴向方向远离所述轴)时，由于球90的弯曲表面，卡位93的边缘向内推动球90，从而使球90从卡位93中出去并且处理组件87可从所述轴上移除。

图14-16示出了本发明的另一优选实施例，其包括适配器组件110，该适配器组件110允许将两个处理构件16附接至单个轴102。附图中所示的适配器组件110与图11-13所示的实施例兼容。然而，该适配器组件可以被修改为包括图1-10中的任何一个所示的实施例或者用于将多个处理构件连接至往复式处理装置的任何其他系统。适配器组件110为使用者提供了按摩或处理更大表面积的能力。

如图14-16所示，在优选实施例中，适配器组件110包括主体部分112，该主体部分112在其顶部具有阴附接构件或轴凹部24，并且在其底部具有两个阳附接构件88。在优选的实施例中，主体部分112包括第一和第二臂114，并且阳附接构件88从臂114向下延伸。任何类型的处理构件都可以与该适配器组件一起使用。例如，可以使用球形、锥形或其他形状的处理构件。参见可以在适配器组件110上使用的处理构件的示例的美国专利申请29/637,050；29/637,052；29/637,053；29/637,056；29/637,057；和29/637,060，上述美国专利申请中的每一个通过引用整体并入本文。在另一个实施例中，适配器组件110可以包括两个以上的阳附接构件88(例如三个至十个)。此外，所述处理构件和阳/阴附接构件可以是一体的。所述阴附接构件可以简单地是一凹部。

通常，提供适配器组件以将多个处理构件或按摩构件连接至单个往复式处理装置或其往复轴。适配器组件的顶部和轴之间的任何类型的连接都在本发明的范围内。例如，适配器组件可在其顶部上包括阳连接或附接构件，所述阳连接或附接构件与所述轴上的阴连接或附接构件配合。此外，底部上的用于连接至处理构件的连接措施可以是与处理构件上的阳部件配合的阴连接措施。例如，美国公布2017/0027798(该美国公布的全部内容通过引用并入本文)中教导的连接措施可用于与所述轴的连接以及与所述处理构件的连接。其他类型的阳对阴附接构件或连接措施可以包括螺纹连接、摩擦配合、抽吸配合、键合、卡扣配合等。在优选的实施例中，所述处理构件可以与所述适配器组件成一体和/或永久地附接至所述适配器组件。

除非上下文清楚地另外要求，否则在整个说明书和权利要求书中，词语“包括”、“包括(进行时)”等应理解为包括性含义，而不是排他性或穷举性含义；也就是说，“包括但不限于”的含义。如本文所用，术语“连接”、“耦合”或其任何变形是指两个或更多个元件之间的直接或间接的任何连接或耦合。元件之间的连接的耦合可以是物理的、逻辑的或其组合。另外，当在本申请中使用时，词语“本文”、“以上”、“以下”和类似含义的词语应整体上指本申请，而不是本申请的任何特定部分。在上下文允许的情况下，在上面的优选实施例的详细描述中使用单数或复数的词语也可以分别包括复数或单数。涉及两个或更多个项目的列表的词语“或”涵盖该词语的以下所有解释：列表中的任何项目，列表中的所有项目以及列表中项目的任何组合。

本公开的实施例的以上详细描述不旨在是穷举的或将教导限于以上公开的精确形式。尽管以上出于说明性目的描述了本公开的特定实施例和示例，但是如相关领域的技术人员将认识到的是，在本公开的范围内可以进行各种等效修改。此外，本文所指出的任何特定数字或尺寸仅是示例：替代实施方式可以采用不同的值、测量值、尺寸或范围。

本文提供的本公开的教导可以应用于其他系统，而非必然地应用于上述系统。可以将上述各种实施例的元素和作用组合以提供其他实施例。本文描述或使用的任何测量值仅是示例性的，而不是对本发明的限制。可以使用其他测量值。此外，本文所述的任何特定材料仅是示例：替代实施方式可采用不同的材料。

以上提及的任何专利和申请以及其他参考文献(其中包括可能在随附的申请文件中列出的任何文献)均通过引用整体并入本文。如果需要，可以修改本公开的各个方面以采用上述各种参考文献中的系统、功能和概念，以提供本公开的又一些实施例。

鉴于以上优选实施例的详细描述，可以对本公开做出这些和其他改变。尽管以上描述描述了本公开的某些实施例，并且描述了预期的最佳模式，但是无论以上在文本中出现的描述多么详细，都可以以许多方式来实践教导。该系统的细节在其实施细节上可以有很大变化，同时仍然被本文所公开的主题所涵盖。如以上所指出，在描述本公开的某些特征或方面时使用的特定术语不应被认为暗示该术语在本文中被重新定义为限于与该术语相关联的本公开的任何特定的特性、特征或方面。通常，不应将以下权利要求书中使用的术语解释为将本公开限制于说明书中公开的特定实施例，除非以上优选实施例的详细描述部分明确定义了这样的术语。因此，本公开的实际范围不仅涵盖所公开的实施例，而且还涵盖根据权利要求实践或实施本公开的所有等效方式。

因此，尽管已经示出和描述了本发明的示例性实施例，但是应当理解，本文所使用的所有术语都是描述性的而不是限制性的，并且在不脱离本发明的精神和范围的情况下，本领域的普通技术人员可以进行许多改变、修改和替换。

Claims (18)

1.一种用于往复式处理装置的适配器组件，所述适配器组件包括：

主体部分，所述主体部分包括处于其顶部上的至少第一顶部阳附接构件或第一顶部阴附接构件以及处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件。

2.根据权利要求1所述的适配器组件，其中，所述主体部分包括从其延伸的第一和第二臂，其中，所述第一和第二臂各自具有远端，其中所述第一底部阳附接构件或第一底部阴附接构件被设置在所述第一臂的远端处，并且其中所述第二底部阳附接构件或第二底部阴附接构件被设置在所述第二臂的远端处。

3.根据权利要求2所述的适配器组件，其中，所述主体部分的底部包括从其延伸的第一和第二底部阳附接构件。

4.根据权利要求3所述的适配器组件，其中，所述主体部分的顶部包括顶部阴附接构件。

5.根据权利要求1所述的适配器组件，其中，所述主体部分的底部包括从其延伸的第一和第二底部阳附接构件，其中所述第一阳附接构件包括具有至少第一平坦表面的外表面，并且其中所述外表面包括限定于其中的第一卡位或从其偏压的第一球之一，其中所述第二阳附接构件包括具有至少第一平坦表面的外表面，并且其中所述外表面包括限定于其中的第一卡位或从其偏压的第一球之一。

6.根据权利要求5所述的适配器组件，其中，所述第一阳附接构件的外表面包括限定于其中的第二卡位或从其偏压的第二球之一，并且其中所述第二阳附接构件的外表面包括限定于其中的第二卡位或从其偏压的第二球之一。

7.根据权利要求1所述的适配器组件，其中，所述主体部分的顶部包括阴附接构件，所述阴附接构件具有限定于其中的轴凹部，其中所述轴凹部由包括第一平坦表面的内表面限定，其中所述内表面包括限定于其中的第一卡位或从其向内偏压的第一球之一。

8.根据权利要求1所述的适配器组件，其至少还包括连接至其的第一和第二处理构件。

9.根据权利要求8所述的适配器组件，其中，所述第一处理构件包括处于其顶部上的阳附接构件或阴附接构件，其中所述第一处理构件的阳附接构件或阴附接构件被连接至所述第一底部阳附接构件或第一底部阴附接构件，其中所述第二处理构件包括处于其顶部上的阳附接构件或阴附接构件，并且其中所述第二处理构件的阳附接构件或阴附接构件被连接至所述第二底部阳附接构件或第二底部阴附接构件。

10.根据权利要求8所述的适配器组件，其中，所述主体部分的顶部包括阴附接构件，所述阴附接构件具有限定于其中的轴凹部，其中所述轴凹部由包括第一平坦表面的内表面限定，其中所述内表面包括限定于其中的第一卡位或从其向内偏压的第一球之一。

11.一种往复式处理装置，其包括：

壳体；

从所述壳体延伸并且可操作以沿着轴轴线往复运动的轴；以及

适配器组件，所述适配器组件被连接至所述轴的远端，其中所述适配器组件包括主体部分，所述主体部分具有处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件。

12.根据权利要求11所述的往复式处理装置，其中，所述适配器组件的主体部分包括从其延伸的第一和第二臂，其中所述第一和第二臂各自具有远端，其中所述第一底部阳附接构件或第一底部阴附接构件被设置在所述第一臂的远端处，并且其中所述第二底部阳附接构件或第二底部阴附接构件被设置在所述第二臂的远端处。

13.根据权利要求12所述的往复式处理装置，其中，所述适配器组件的主体部分包括处于其顶部上的至少第一顶部阳附接构件或第一顶部阴附接构件以及处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件。

14.根据权利要求11所述的往复式处理装置，其还包括：第一处理构件，所述第一处理构件被连接至所述第一底部阳附接构件或第一阴附接构件；以及第二处理构件，所述第二处理构件被连接至所述第二底部阳附接构件或第二阴附接构件。

15.根据权利要求14所述的往复式处理装置，其中，所述第一处理构件包括处于其顶部上的阳附接构件或阴附接构件，其中所述第一处理构件的阳附接构件或阴附接构件被连接至所述第一底部阳附接构件或第一底部阴附接构件，其中所述第二处理构件包括处于其顶部上的阳附接构件或阴附接构件，并且其中所述第二处理构件的阳附接构件或阴附接构件被连接至所述第二底部阳附接构件或第二底部阴附接构件。

16.一种方法，其包括以下步骤：

a)获得往复式处理装置，所述往复式处理装置包括壳体和从所述壳体延伸的轴，所述轴可操作以沿着轴轴线往复运动，

b)从所述轴的远端移除处理构件，

c)获得适配器组件，所述适配器组件包括主体，所述主体具有连接至其的第一和第二处理构件，

d)将所述适配器组件连接至所述轴的远端，以及

e)使用所述往复式处理装置来利用所述第一和第二处理构件同时处理对象。

17.根据权利要求16所述的方法，其中，所述适配器组件的主体部分具有处于其底部上的至少第一和第二底部阳附接构件或第一和第二底部阴附接构件，并且其中所述方法包括以下步骤：将所述第一处理构件连接至所述第一阳或阴附接构件，以及将所述第二处理构件连接至所述第二阳或阴附接构件。

18.根据权利要求16所述的方法，其中，所述适配器组件的主体部分包括处于其顶部上的至少第一顶部阳附接构件或第一顶部阴附接构件。

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