CN110034035A - 一种晶圆生产集质检与修复一体的光刻胶涂敷检测装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种晶圆生产集质检与修复一体的光刻胶涂敷检测装置，其结构包括检测机、显示屏、一体质检仓、检修仓，所述检测机嵌装有显示屏，所述检测机安装有一体质检仓，所述检测机装设有检修仓，所述一体质检仓由透明玻璃、仓口、涂敷结构、质检结构组成，所述透明玻璃与仓口胶连接，所述涂敷结构锁定在仓口上，所述仓口安装有质检结构，本发明晶圆胶膜通过质检结构实现上端180度的半旋转扫描、扫描旋架实现底端的扫描、边缘扫描架通过扫描旋架的旋转对晶圆胶膜进行对边缘扫描，若扫描出产品缺陷后直接通过仓口进行加胶或减胶(旋转涂敷)，既省去了人工成本又提高了检测效率和产品质量。

Description

一种晶圆生产集质检与修复一体的光刻胶涂敷检测装置

技术领域

本发明涉及半导体领域，具体地说是一种晶圆生产集质检与修复一体的光刻胶涂敷检测装置。

背景技术

自然界的物质按导电能力可分为导体、绝缘体和半导体三类；半导体材料是指室温下导电性介于导电材料和绝缘材料之间的一类功能材料，广泛用于电子工业等方面；晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，而成为有特定电性功能的集成电路产品；晶圆生产过程中需使用到光刻胶涂敷，涂胶工艺的目的就是在晶圆表面建立薄的、均匀的、并且没有缺陷的光刻胶膜。

现有技术现有技术通过工作人员肉眼对其进行观察检测，不仅人工成本高、检测速度慢，且无法准确的检测出胶膜的整体尺寸、边缘尺寸、表面是否洁净、胶内有无针孔，同时无法针对缺陷立即进行修补。

发明内容

本发明的主要目的在于克服现有技术的不足，提供一种晶圆生产集质检与修复一体的光刻胶涂敷检测装置，以解决现有技术通过工作人员肉眼对其进行观察检测，不仅人工成本高、检测速度慢，且无法准确的检测出胶膜的整体尺寸、边缘尺寸、表面是否洁净、胶内有无针孔，同时无法针对缺陷立即进行修补的问题。

本发明采用如下技术方案来实现：一种晶圆生产集质检与修复一体的光刻胶涂敷检测装置，其结构包括检测机、显示屏、一体质检仓、检修仓，所述检测机前侧嵌装有显示屏，所述检测机中部安装有一体质检仓，所述检测机前侧装设有检修仓，所述一体质检仓由透明玻璃、仓口、涂敷结构、质检结构组成，所述透明玻璃上下端与仓口胶连接，所述涂敷结构底部锁定在仓口上，所述仓口安装有质检结构左右两端。

进一步优选的，所述涂敷结构包括仓框、平铺旋板、储料筒、挤料筒，所述仓框左右两内侧与平铺旋板轨道连接，所述平铺旋板与挤料筒环面焊接，所述储料筒底部与挤料筒上端扣接并且二者相通。

进一步优选的，所述质检结构包括结构弧架、传动齿轮、扫描板，所述传动齿轮安装在结构弧架上并且二者处于同一轴心，所述结构弧架设有3个并且呈弧状排列，所述传动齿轮底部与扫描板啮合，所述结构弧架安装有定块，所述传动齿轮与定块前侧贴合。

进一步优选的，所述检修仓包括轨架、升降架、扫描旋架、边缘扫描架，所述轨架与升降架左右两端轨道连接，所述升降架与扫描旋架底部锁定，所述升降架与边缘扫描架左端焊接。

进一步优选的，所述升降架包括固定底架、升降轴板、升降滑杆、活动顶板，所述固定底架与升降轴板底部轴连接，所述固定底架与升降滑杆底端滑动连接，所述升降滑杆上端与活动顶板轴连接，所述升降轴板与升降滑杆贴合并且二者处于同一轴心。

进一步优选的，所述扫描旋架包括底盘、中轴、顶盘，所述底盘与中轴固定连接，所述中轴与顶盘轴连接。

进一步优选的，所述边缘扫描架包括安装加固块、扫描器，所述扫描器通过安装加固块安装在检修仓上，所述底盘、中轴、顶盘由上至下排列。

有益效果

本发明检测装置与生产设备连接安装，当晶圆输送至一体质检仓处时进入涂敷结构内后质检结构进行运行，传动齿轮带动扫描板顺时针、逆时针左右循环转动，对晶圆胶膜进行扫描，若扫描异常，则根据异常数据对晶圆胶膜进行再次加工，若晶圆胶膜过厚则通过平铺旋板进行高旋转涂敷、若晶圆胶膜过薄则储料筒内的胶水经过挤料筒挤入晶圆胶膜上；接着晶圆继续输送，(到达一体质检仓中间处时)升降架将扫描旋架上升，便于扫描旋架对晶圆底部的扫描，同时顶盘进行旋转配合扫描器实现检测胶内有无针孔(同样通过挤料筒进行填补)；接着通过检测的晶圆往一体质检仓左端继续输送，进入下一道工序。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：晶圆胶膜通过质检结构实现上端180度的半旋转扫描、扫描旋架实现底端的扫描、边缘扫描架通过扫描旋架的旋转对晶圆胶膜进行对边缘扫描，若扫描出产品缺陷后直接通过仓口进行加胶或减胶(挤胶或旋转涂敷)，既省去了人工成本又提高了检测效率和产品质量。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1示出了本发明一种晶圆生产集质检与修复一体的光刻胶涂敷检测装置的结构示意图。

图2示出了本发明的检测装置侧视剖切的结构示意图。

图3示出了本发明涂敷结构前视剖切的结构示意图。

图4示出了本发明质检结构的结构示意图。

图5示出了本发明一体质检仓、检修仓前视剖切的结构示意图。

图6示出了本发明一体质检仓、检修仓前视剖切的结构示意图，也是晶圆胶膜移动至设备中部、边缘扫描架上升的结构示意图。

图中：检测机1、显示屏2、一体质检仓3、检修仓4、透明玻璃30、仓口31、涂敷结构32、质检结构33、仓框320、平铺旋板321、储料筒322、挤料筒323、结构弧架330、传动齿轮331、扫描板332、定块3330、轨架40、升降架41、扫描旋架42、边缘扫描架43、固定底架410、升降轴板411、升降滑杆412、活动顶板413、底盘420、中轴421、顶盘422、安装加固块431、扫描器432。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-6，本发明提供一种晶圆生产集质检与修复一体的光刻胶涂敷检测装置技术方案：其结构包括检测机1、显示屏2、一体质检仓3、检修仓4，所述检测机1嵌装有显示屏2，所述检测机1安装有一体质检仓3，所述检测机1装设有检修仓4，所述一体质检仓3由透明玻璃30、仓口31、涂敷结构32、质检结构33组成，所述透明玻璃30与仓口31胶连接，所述涂敷结构32锁定在仓口31上，所述仓口31安装有质检结构33，所述涂敷结构32包括仓框320、平铺旋板321、储料筒322、挤料筒323，所述仓框320与平铺旋板321轨道连接，所述平铺旋板321与挤料筒323焊接，所述储料筒322与挤料筒323扣接并且二者相通，所述挤料筒323用于对过薄的晶圆胶膜进行挤胶，所述质检结构33包括结构弧架330、传动齿轮331、扫描板332，所述传动齿轮331安装在结构弧架330上，所述传动齿轮331与扫描板332啮合，所述结构弧架330安装有定块3330，所述传动齿轮331与定块3330贴合，所述传动齿轮331用于带动扫描板332的移动，实现对晶圆胶膜的扫描，所述检修仓4包括轨架40、升降架41、扫描旋架42、边缘扫描架43，所述轨架40与升降架41轨道连接，提高了升降架41升降的稳定性，所述升降架41与扫描旋架42锁定，所述升降架41与边缘扫描架43焊接，所述升降架41包括固定底架410、升降轴板411、升降滑杆412、活动顶板413，所述固定底架410与升降轴板411轴连接，所述固定底架410与升降滑杆412滑动连接，所述升降滑杆412与活动顶板413轴连接，所述升降轴板411与升降滑杆412贴合并且二者处于同一轴心，所述固定底架410底部在固定底架410上滑动，提高了对扫描旋架42上移的稳定性，使用扫描旋架42对晶圆胶膜的扫描更加准确，所述扫描旋架42包括底盘420、中轴421、顶盘422，所述底盘420与中轴421固定连接，所述中轴421与顶盘422轴连接，所述挤料筒323可实现升降带动平铺旋板321对过厚的晶圆胶膜在顶盘422的作用下进行旋涂，所述边缘扫描架43包括安装加固块431、扫描器432，所述扫描器432通过安装加固块431安装在检修仓4上，所述顶盘422上升后与晶圆贴合，不仅对晶圆胶膜进行扫描还带动了晶圆的转动，便于配合边缘扫描架43对晶圆胶膜边缘的扫描。

检测装置与生产设备连接安装，当晶圆输送至一体质检仓3处时进入涂敷结构32内后质检结构33进行运行，传动齿轮331带动扫描板332顺时针、逆时针左右循环转动，对晶圆胶膜进行扫描，若扫描异常，则根据异常数据对晶圆胶膜进行再次加工，若晶圆胶膜过厚则通过平铺旋板321进行高旋转涂敷、若晶圆胶膜过薄则储料筒322内的胶水经过挤料筒323挤入晶圆胶膜上；接着晶圆继续输送，(到达一体质检仓3中间处时)升降架41将扫描旋架42上升，便于扫描旋架42对晶圆底部的扫描，同时顶盘422进行旋转配合扫描器432实现检测胶内有无针孔(同样通过挤料筒323进行填补)；接着通过检测的晶圆往一体质检仓3左端继续输送，进入下一道工序。

本发明相对现有技术获得的技术进步是：晶圆胶膜通过质检结构33实现上端180度的半旋转扫描、扫描旋架42实现底端的扫描、边缘扫描架43通过扫描旋架42的旋转对晶圆胶膜进行对边缘扫描，若扫描出产品缺陷后直接通过仓口31进行加胶或减胶(旋转涂敷)，既省去了人工成本又提高了检测效率和产品质量。

尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种晶圆生产集质检与修复一体的光刻胶涂敷检测装置，其结构包括检测机(1)、显示屏(2)、一体质检仓(3)、检修仓(4)，所述检测机(1)嵌装有显示屏(2)，所述检测机(1)安装有一体质检仓(3)，所述检测机(1)装设有检修仓(4)，其特征在于：

所述一体质检仓(3)由透明玻璃(30)、仓口(31)、涂敷结构(32)、质检结构(33)组成，所述透明玻璃(30)与仓口(31)胶连接，所述涂敷结构(32)锁定在仓口(31)上，所述仓口(31)安装有质检结构(33)。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆生产集质检与修复一体的光刻胶涂敷检测装置，其特征在于：所述涂敷结构(32)包括仓框(320)、平铺旋板(321)、储料筒(322)、挤料筒(323)，所述仓框(320)与平铺旋板(321)轨道连接，所述平铺旋板(321)与挤料筒(323)焊接，所述储料筒(322)与挤料筒(323)扣接并且二者相通。

3.根据权利要求1所述的一种晶圆生产集质检与修复一体的光刻胶涂敷检测装置，其特征在于：所述质检结构(33)包括结构弧架(330)、传动齿轮(331)、扫描板(332)，所述传动齿轮(331)安装在结构弧架(330)上，所述传动齿轮(331)与扫描板(332)啮合，所述结构弧架(330)安装有定块(3330)，所述传动齿轮(331)与定块(3330)贴合。

4.根据权利要求1所述的一种晶圆生产集质检与修复一体的光刻胶涂敷检测装置，其特征在于：所述检修仓(4)包括轨架(40)、升降架(41)、扫描旋架(42)、边缘扫描架(43)，所述轨架(40)与升降架(41)轨道连接，所述升降架(41)与扫描旋架(42)锁定，所述升降架(41)与边缘扫描架(43)焊接。

5.根据权利要求4所述的一种晶圆生产集质检与修复一体的光刻胶涂敷检测装置，其特征在于：所述升降架(41)包括固定底架(410)、升降轴板(411)、升降滑杆(412)、活动顶板(413)，所述固定底架(410)与升降轴板(411)轴连接，所述固定底架(410)与升降滑杆(412)滑动连接，所述升降滑杆(412)与活动顶板(413)轴连接，所述升降轴板(411)与升降滑杆(412)贴合并且二者处于同一轴心。

6.根据权利要求4所述的一种晶圆生产集质检与修复一体的光刻胶涂敷检测装置，其特征在于：所述扫描旋架(42)包括底盘(420)、中轴(421)、顶盘(422)，所述底盘(420)与中轴(421)固定连接，所述中轴(421)与顶盘(422)轴连接。

7.根据权利要求4所述的一种晶圆生产集质检与修复一体的光刻胶涂敷检测装置，其特征在于：所述边缘扫描架(43)包括安装加固块(431)、扫描器(432)，所述扫描器(432)通过安装加固块(431)安装在检修仓(4)上。