CN119002137A - 液晶显示面板和液晶显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开实施例提供了一种液晶显示面板和液晶显示装置，属于显示技术领域。该液晶显示面板包括液晶层和相对连接的阵列基板和彩膜基板，液晶层位于阵列基板和彩膜基板之间。彩膜基板包括彩膜层和位于彩膜层靠近阵列基板的一侧的黑矩阵，彩膜层包括阵列布置的多个色阻块，黑矩阵包括在彩膜层上的正投影位于多个色阻块的交界处的多个遮光部。阵列基板包括具有阵列布置的多个狭缝的公共电极层，公共电极层包括位于相邻两个狭缝之间的第一电极部，第一电极部与第一遮光部在彩膜层上的正投影至少部分重合。本公开实施例可以改善黑矩阵较宽、像素开口率较低的问题。

Description

液晶显示面板和液晶显示装置

技术领域

本公开实施例涉及显示技术领域，特别涉及一种液晶显示面板和液晶显示装置。

背景技术

液晶显示面板是一种常见的显示面板，其具有制造成本较低且制造工艺较为简单的优势，在显示技术领域中占据了较多的市场份额。

相关技术中，液晶显示面板包括阵列基板、彩膜基板和液晶层，阵列基板和彩膜基板相对连接，液晶层位于阵列基板和彩膜基板之间。彩膜基板包括彩膜层和黑矩阵，彩膜层包括阵列分布的多个色阻块，黑矩阵位于任意两个相邻的色阻块之间。

然而，液晶显示面板存在黑矩阵的宽度较大、像素开口率较低的问题。

发明内容

本公开实施例提供了一种液晶显示面板和液晶显示装置，可以减小黑矩阵的宽度，提高像素开口率。所述技术方案如下：

一方面，提供了一种液晶显示面板，所述液晶显示面板包括阵列基板、彩膜基板和液晶层，所述阵列基板和所述彩膜基板相对连接，所述液晶层位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间；所述彩膜基板包括彩膜层和黑矩阵，所述彩膜层包括阵列布置的多个色阻块，所述黑矩阵位于所述彩膜层靠近所述阵列基板的一侧，且所述黑矩阵包括多个遮光部，所述多个遮光部在所述彩膜层上的正投影位于所述多个色阻块的交界处；所述阵列基板包括公共电极层，所述公共电极层中具有阵列布置的多个狭缝，所述公共电极层包括多个电极部，所述多个电极部包括位于第一狭缝和第二狭缝之间的第一电极部，所述第一电极部在所述彩膜层上的正投影与第一遮光部在所述彩膜层上的正投影至少部分重合，所述第一狭缝和所述第二狭缝为所述多个狭缝中相邻的两个狭缝，所述第一遮光部为所述多个遮光部中的一个。

可选地，所述第一遮光部的宽度及所述第一电极部的宽度之和与两倍的目标距离的比值，等于目标角的正切值，所述目标角基于所述液晶显示面板的最大视角确定；所述目标距离为所述第一遮光部与所述第一电极部之间的距离；所述目标角为所述第一电极部的第一侧边与所述第一遮光部的第二侧边在参考面中投影的连线与所述液晶显示面板的厚度方向的夹角，所述参考面分别与所述第一侧边和所述第二侧边垂直；其中，在所述第一狭缝和所述第二狭缝的排列方向上，所述第一侧边为靠近所述第一狭缝的侧边，所述第二侧边为靠近所述第二狭缝的侧边。

可选地，所述公共电极层采用金属材料制成。

可选地，所述阵列基板还包括衬底基板、驱动电路层、平坦化层、转接电极层、像素电极层和绝缘层，所述衬底基板、所述驱动电路层、所述平坦化层、所述像素电极层、所述绝缘层和所述公共电极层依次层叠；所述平坦化层包括具有多个通孔的主体部和位于所述多个通孔中的填充结构，所述像素电极层包括阵列分布的多个像素电极；所述转接电极层包括多个转接电极，所述多个转接电极中的第一转接电极的一部分位于所述多个通孔中的第一通孔内，且与所述驱动电路层电连接，所述第一转接电极的另一部分位于所述平坦化层远离所述衬底基板的一侧，且与所述多个像素电极中的第一像素电极连接，所述第一像素电极覆盖所述第一转接电极和所述第一通孔中的填充结构。

可选地，所述多个填充结构在所述衬底基板的承载面上的正投影与所述黑矩阵在所述衬底基板的承载面上的正投影至少部分不重合。

可选地，所述第一狭缝在所述衬底基板的承载面上的正投影位于所述第一像素电极在所述衬底基板的承载面上的正投影内；或者，所述第一狭缝在所述衬底基板的承载面上的正投影与在第一方向上排列的连续多个像素电极在所述衬底基板的承载面上的正投影至少部分重合，所述第一方向为所述第一狭缝的长度方向。

可选地，所述转接电极层和所述像素电极层均采用透明导电材料制成。

可选地，所述阵列基板包括衬底基板、驱动电路层和调光组件，所述调光组件位于所述衬底基板和所述驱动电路层之间；所述驱动电路层包括多根走线，所述多根走线在所述衬底基板的承载面上的正投影与所述多个电极部在所述衬底基板的承载面上的正投影至少部分重合；所述调光组件用于将从所述阵列基板一侧入射至所述液晶显示面板的光线中照射至所述多根走线、所述多个电极部或者所述黑矩阵的光线偏折至所述彩膜层。

可选地，所述调光组件包括多个透镜，所述多个透镜与所述多个色阻块一一对应，相对应的所述透镜和所述色阻块在所述衬底基板的承载面上的正投影至少部分重合。

可选地，所述透镜包括顶面和底面，所述顶面为向远离所述衬底基板的方向凸出的弧面，所述底面与所述衬底基板的承载面相连。

可选地，所述透镜的焦距小于h*(b+c)/b，且大于(H+h)*(e+d)/(2e+d)；其中，b为所述走线在所述第一狭缝和所述第二狭缝的排列方向上的宽度，c为在所述排列方向上相邻两根走线之间的距离，d为所述遮光部在所述排列方向上的宽度，e为所述黑矩阵的开口区在所述排列方向上的宽度，H为目标走线靠近所述衬底基板的一侧和目标遮光部远离所述衬底基板的一侧的距离，h为所述目标走线靠近所述衬底基板的一侧和所述透镜的底面之间的距离；所述目标透镜为所述多个透镜中任意一个透镜，所述目标走线为所述驱动电路层中的多根走线中与所述目标透镜距离最近的走线，所述目标遮光部为所述多个遮光部中与所述目标透镜距离最近的遮光部。

可选地，所述驱动电路层和所述透镜的所述底面之间的距离满足：偏折夹角大于或者等于第一夹角，且小于或者等于第二夹角；其中，所述偏折夹角为入射光线经过所述透镜后的出射方向与垂直于所述衬底基板的承载面的方向之间的夹角，所述第一夹角为目标透镜的所述底面的边缘和目标走线靠近所述衬底基板的一侧的边缘之间的连线，与垂直于所述衬底基板的承载面的方向之间的夹角；所述第二夹角为所述目标透镜的底面的边缘和目标遮光部远离所述衬底基板的一侧的边缘之间的连线，与垂直于所述衬底基板的承载面的方向之间的夹角。

可选地，第一夹角满足：tanθ1＝b/(2h)；第二夹角满足：tanθ2＝(2e+d)/(2H+2h)；其中，θ1为所述第一夹角，θ2为所述第二夹角。

另一方面，提供了一种液晶显示装置，所述液晶显示装置包括背光组件和如前所述的任一种液晶显示面板，所述背光组件用于为所述液晶显示面板提供光源。

又一方面，提供了一种液晶显示面板的制作方法，所述制作方法包括：提供阵列基板和彩膜基板，其中，所述彩膜基板包括彩膜层和黑矩阵，所述彩膜层包括阵列布置的多个色阻块，所述黑矩阵位于所述彩膜层靠近所述阵列基板的一侧，且所述黑矩阵包括多个遮光部，所述多个遮光部在所述彩膜层上的正投影位于所述多个色阻块的交界处，所述阵列基板包括公共电极层，所述公共电极层中具有阵列布置的多个狭缝，所述公共电极层包括多个电极部，所述多个电极部包括位于第一狭缝和第二狭缝之间的第一电极部，所述第一狭缝和所述第二狭缝为所述多个狭缝中相邻的两个狭缝；将所述阵列基板和所述彩膜基板相对连接，使得所述第一电极部在所述彩膜层上的正投影与第一遮光部在所述彩膜层上的正投影至少部分重合，所述第一遮光部为所述多个遮光部中的一个；在所述阵列基板和所述彩膜基板之间形成液晶层，得到液晶显示面板。

本公开提供的技术方案带来的有益效果至少包括：

当光线从阵列基板侧入射并依次穿过阵列基板、液晶层、彩膜基板时，为防止串色，需要使减少经过两个相邻的色阻块后出射的光线。黑矩阵与公共电极层之间的距离越大，则需要相邻的两个色阻块的交界处的黑矩阵的宽度越大，才能避免光线经过两个相邻的色阻块后出射。本公开实施例通过减小黑矩阵与公共电极层之间的距离，使得相邻两个色阻块的交界处黑矩阵的宽度能够减小，从而使得黑矩阵的开口区域的面积更大，提高像素开口率。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本公开实施例提供的一种液晶显示面板的截面结构示意图；

图2是本公开实施例提供的一种黑矩阵和彩膜层的俯视关系示意图；

图3是本公开实施例提供的一种公共电极层和黑矩阵的俯视关系示意图；

图4是本公开实施提供的一种目标角、目标距离、第一遮光部和第一电极部之间的关系示意图；

图5是本公开实施例提供的另一种液晶显示面板的截面结构示意图；

图6是相关技术中的一种液晶显示面板的平面结构示意图；

图7是本公开实施例提供的一种液晶显示面板的平面结构示意图，且图5为图7中沿AA线的截面结构示意图；

图8是本公开实施例提供的另一种液晶显示面板的截面结构示意图；

图9是本公开实施例提供的一种透镜的结构示意图；

图10是本公开实施例提供的一种包含透镜的液晶显示面板的光路示意图；

图11是本公开实施例提供的另一种包含透镜的液晶显示面板的光路示意图；

图12是本公开实施例提供的一种液晶显示面板的制作方法的流程图。

图例说明：

1、阵列基板2、彩膜基板3、液晶层

20、透明基板21、彩膜层210、色阻块

22、黑矩阵220、遮光部2201、第一遮光部

23、覆盖层

11、公共电极层110、电极部1101、第一电极部

111、狭缝1111、第一狭缝1112、第二狭缝

x、第一方向y、第二方向

D、第一电极部的宽度d、第一遮光部的宽度

12、衬底基板13、驱动电路层130、走线(数据线)

131、栅线132、过孔133、有源区

14、平坦化层15、转接电极层16、像素电极层17、绝缘层

141、主体部142、填充结构143、平坦化层内的第一通孔

151、第一转接电极161、像素电极1611、第一像素电极

18、调光组件180、透镜181、顶面182、底面

41、目标透镜的底面的边缘和目标走线靠近衬底基板的一侧的边缘之间的连线

42、目标透镜的底面的边缘和目标遮光部靠近衬底基板的一侧的边缘之间的连线

具体实施方式

为使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。

本公开的实施方式部分使用的术语仅用于对本公开的实施例进行解释，而非旨在限定本公开。除非另作定义，本公开的实施方式使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”、“第三”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同，并不排除其他元件或者物件。

图1是本公开实施例提供的一种液晶显示面板的截面结构示意图。如图1所示，液晶显示面板包括阵列基板1、彩膜基板2和液晶层3。阵列基板1和彩膜基板2相对连接，液晶层3位于阵列基板1和彩膜基板2之间。

图2是本公开实施例提供的一种黑矩阵和彩膜层的俯视关系示意图。如图1和图2所示，彩膜基板2包括透明基板20，以及位于透明基板20上的彩膜层21和黑矩阵22。

彩膜层21包括多个色阻块210，多个色阻块210阵列布置。多个色阻块210被分为多个色阻块组，每个色阻块组属于液晶显示面板的一个像素单元，每个色阻块组包括多种颜色的色阻块。每个色阻块允许对应颜色的光通过。例如，图2所示实施例中，每个色阻块组包括三个色阻块，分别为红色色阻块、蓝色色阻块和绿色色阻块。

本公开实施例对每个色阻块组中包含的色阻块的数量、颜色和排列方式不做限制。在另一些示例中，一个色阻块组可以包括四个色阻块，四个色阻块对应的颜色分别可以是红色、蓝色、绿色和白色或者红色、蓝色、绿色和黄色等。

黑矩阵22位于彩膜层21靠近阵列基板1的一侧，黑矩阵22包括多个遮光部220，多个遮光部220在彩膜层21上的正投影位于多个色阻块210的交界处。这种将黑矩阵22设置在彩膜层21上的方式也可以称为BM On CF(Black Matrix On Color Filter，将黑矩阵集成于彩膜或彩色滤光片上)结构。

在图2所示实施例中，在第一方向x方向上位于相邻两个色阻块210之间的部分黑矩阵22为一个遮光部220，类似的，在第二方向y方向上位于相邻两个色阻块210之间的部分黑矩阵22也为一个遮光部220。其中，x方向为多个色阻块210的行方向，y方向为多个色阻块210的列方向；或者，x方向为多个色阻块210的列方向，y方向为多个色阻块210的行方向。

在一些示例中，如图2所示，各个色阻块210紧邻设置，即相邻的色阻块210之间没有间隙，黑矩阵22位于各个色阻块210的交界处。

在另一些示例中，多个色阻块210之间存在间隙，黑矩阵22的一部分位于该间隙内。

其中，各个色阻块210的厚度可以相同，也可以不同。

示例性地，液晶显示面板还包括OC(Over Coat，覆盖)层23，OC层23在黑矩阵22靠近阵列基板1的一侧。可选地，OC层23可以为树脂层，用于对黑矩阵22和彩膜层21进行保护并起到平坦化的作用。

图3是本公开实施例提供的一种公共电极层和黑矩阵的俯视关系示意图。结合图1和图3，阵列基板1包括公共电极层11，公共电极层11具有多个狭缝111和多个电极部110，多个狭缝111阵列布置，任意相邻的两个狭缝111之间存在一个电极部110。

如图1所示，多个狭缝111包括相邻的第一狭缝1111和第二狭缝1112，第一狭缝1111和第二狭缝1112之间为第一电极部1101。第一电极部1101在彩膜层21上的正投影与第一遮光部2201在彩膜层21上的正投影至少部分重叠。这里，第一狭缝1111和第二狭缝1112可以是多个狭缝111中任意两个相邻的狭缝。

示例性地，在第一狭缝1111和第二狭缝1112的排列方向上，第一电极部1101的宽度大于第一遮光部2201的宽度，这种设计有利于提升开口率随工艺波动的稳定性。或者，在第一狭缝1111和第二狭缝1112的排列方向上，第一电极部1101的宽度小于或者等于第一遮光部2201的宽度，这种设计有利于降低液晶显示面板的整体反射率。第一狭缝1111和第二狭缝1112的排列方向可以为前述x方向或者y方向。

可选地，公共电极层11采用金属材料制成。由于金属材料通常不透光，所以电极部110可以遮挡光线，减小串色的可能性。示例性地，金属材料包括但不限于银、金、铜和钼等等。

相关技术中，彩膜基板包括黑矩阵和彩膜层，黑矩阵与彩膜层同层布置，即均黑矩阵和彩膜层中的各个色阻块均与彩膜基板的透明基板的同一表面接触。而在本公开实施例中，黑矩阵位于彩膜层靠近阵列基板的一侧。因此，本公开实施例中黑矩阵22与公共电极层11之间的距离小于相关技术中黑矩阵与公共电极层之间的距离。

当光线从阵列基板1侧入射并依次穿过阵列基板1、液晶层3、彩膜基板2时，为防止串色，需要减少经过两个相邻的色阻块后出射的光线。黑矩阵22与公共电极层11之间的距离越大，则需要相邻的两个色阻块220的交界处的黑矩阵的宽度越大，才能避免光线经过两个相邻的色阻块后出射。本公开实施例通过减小黑矩阵22与公共电极层11之间的距离，使得相邻两个色阻块220的交界处黑矩阵22的宽度能够减小，从而使得黑矩阵22的开口区域的面积更大，达到更高的像素开口率。

在本公开实施例中，第一遮光部2201的宽度由第一电极部1101的宽度以及黑矩阵22与公共电极层11之间的距离(即第一遮光部2011与第一电极部1101之间的距离)决定。

图4是本公开实施提供的一种目标角、目标距离、第一遮光部和第一电极部之间的关系示意图。如图4所示，目标距离L为第一遮光部2011与第一电极部1101之间的距离。在一些示例中，目标距离L为第一遮光部2201靠近第一电极部1101的一面到第一电极部1101靠近第一遮光部2201的一面的距离。这里，由于第一遮光部2201的厚度和第一电极部1101的厚度相对目标距离L非常小，因此第一遮光部2201的厚度和第一电极部1101的厚度可忽略。

目标角θ为第一电极部1101的第一侧边与第一遮光部2201的第二侧边在参考面中投影的连线与液晶显示面板的厚度方向z的夹角，参考面分别与第一侧边和第二侧边垂直，因此，第一侧边和第二侧边在参考面中的投影均为一个点。在本公开实施例中，参考面是一个虚拟平面，可以是与第一侧边和第二侧边垂直的任一平面。其中，在第一狭缝1111和第二狭缝1112的排列方向上，第一侧边为靠近第一狭缝1111的侧边，第二侧边为靠近第二狭缝1112的侧边。

目标角θ、目标距离L、第一遮光部2201的宽度d和第一电极部1101的宽度D之间的关系满足公式(1)：

整理公式(1)后得到公式(2)：

D+d＝2L*tanθ (2)

即：第一遮光部2201的宽度d及第一电极部1101的宽度D之和与两倍的目标距离L的比值，等于目标角θ的正切值。该目标角θ基于液晶显示面板的最大视角确定。这里，液晶显示面板的视角是指：从彩膜基板2出射的光线与垂直于彩膜层21的方向的夹角α。实现时，可根据产品需求先确定液晶显示面板的最大视角(即不串色的情况下对应的最大视角，例如30°等)，再根据液晶显示面板的各层的折射率，确定目标角θ。当满足该条件时，即可避免光线依次经过相邻的两个色阻块后入射人眼，防止串色。

从公式(2)可以看出，第一遮光部2201的宽度d及第一电极部1101的宽度D之和与目标距离L呈正比。当第一电极部1101的宽度D和目标角θ一定时，第一遮光部2201的宽度d与目标距离L呈正比，即目标距离L越大，第一遮光部2201的宽度d越大。因此，通过减小目标距离L，可以减小第一遮光部2201的宽度d，从而能够增大像素开口率。

以像素间距为6μm的液晶显示面板为例，如果需要保证30°视角不串色，相关技术中，第一遮光部2201的宽度d及第一电极部1101的宽度D之和等于3.7μm，而本公开实施例中第一遮光部2201的宽度d及第一电极部1101的宽度D之和为2.7μm。可见，本公开实施例能够有效增大像素开口率。

图5是本公开实施例提供的另一种液晶显示面板的截面结构示意图。如图5所示，阵列基板1还包括衬底基板12、驱动电路层13、平坦化层14、转接电极层15、像素电极层16和绝缘层17。衬底基板12、驱动电路层13、平坦化层14、像素电极层16、绝缘层17和公共电极层11依次层叠。

像素电极层16包括阵列分布的多个像素电极161，用于与公共电极层11形成电场，该电场用于控制液晶层内液晶分子的偏转。

驱动电路层13包括阵列布置的多个像素驱动电路(图未示)，每个像素驱动电路与一个像素电极161电连接。每个像素驱动电路包括至少一个TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)。本公开实施例对驱动电路层13的层结构不做限制，例如可以包括依次层叠在衬底基板12上的有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间介质层和源漏极层。各层的材料可以根据需要选择，本公开实施例对此不做限制。

如图5所示，驱动电路层13包括多根走线130，多根走线130对光线穿过驱动电路层的影响需尽可能小，因此多根走线130尽可能布置在多个电极部110下方，即，多根走线130在衬底基板12的承载面上的正投影与多个电极部110在衬底基板12的承载面上的正投影至少部分重合。这里，走线130指的是驱动电路层13中具有遮挡光线效果的走线，例如位于源漏极层的数据线。

图6是相关技术中的一种液晶显示面板的平面结构示意图。如图6所示，相关技术中，平坦化层14内存在多个通孔143，像素电极161包括位于平化层14中除通孔143以外的面上的部分、位于通孔143的侧壁的部分、以及位于驱动电路层13中对应的像素驱动电路上的部分，实现每个像素电极161通过一个通孔143与对应的像素驱动电路连接。然而通孔143处的像素电极层16较不平坦，从而导致过孔处液晶层3的厚度与通孔143之外位置的液晶层3的厚度不同，液晶层3的厚度不均，通孔143处的液晶紊乱可能存在暗态漏光现象。因此，通孔143需布置在黑矩阵22下方。

由于相邻的两个像素电极161之间须确保具有最小间距s，在像素电极161的尺寸一定的情况下，这会导致例如在图6所示的x方向上，像素电极161不能覆盖完全狭缝111，狭缝111的一端与像素电极161不重叠。像素电极161与电极部110的交叠区域较小，会导致液晶效率较低，影响光效。

图7是本公开实施例提供的一种液晶显示面板的平面结构示意图，且图5为图7中沿AA线的截面结构示意图。如图5和图7所示，平坦化层14包括具有多个通孔(如第一通孔143)的主体部141和位于多个通孔中的填充结构142。平坦化层14内的多个填充结构142可以将通孔处填平，改善通孔处的液晶层3厚度不均造成漏光的问题。在这种情况下，通孔不局限于布置在黑矩阵下方。即填充结构142在衬底基板12的承载面上的正投影与黑矩阵22在衬底基板12的承载面上的正投影至少部分不重合。

示例性地，如图7所示，填充结构142在衬底基板12的承载面上的正投影与黑矩阵22在衬底基板12的承载面上的正投影不重合。即填充结构142在衬底基板12的承载面上的正投影在一个色阻块在衬底基板12的承载面上的正投影的内部。

本公开实施例中，再次参见图5，转接电极层15包括多个转接电极，转接电极与像素电极161一一对应。以多个转接电极中的任一转接电极为第一转接电极151，第一转接电极151的一部分位于多个通孔中的第一通孔143内，且与驱动电路层13电连接。第一转接电极151的另一部分位于平坦化层14远离衬底基板12的一侧，且与多个像素电极161中的第一像素电极1611连接，第一像素电极1611覆盖第一转接电极151的位于平坦化层14远离衬底基板12的一侧的部分以及第一通孔143中的填充结构142。

由于平坦化层14内的多个填充结构142将通孔处填平，本公开实施例中的转接电极层15替代了相关技术里像素电极161位于通孔143的侧壁的部分的功能、以及像素电极161位于驱动电路层13中对应的像素驱动电路上的部分的功能，实现像素电极161与驱动电路层13之间的连接。即，转接电极层15的设置，可以防止加入填充结构142后出现像素电极161和驱动电路层13之间缺失连接的问题。如图5所示，第一转接电极151从平坦化层14靠近衬底基板12的一侧延伸到远离衬底基板12的一侧，可以依次实现第一像素电极1611、第一转接电极151、驱动电路层13之间的电连接。即驱动电路层13可以通过转接电极层15与像素电极层16电连接，进而使像素电极层16和公共电极层11共同形成作用于液晶层3的电场，从而实现显示功能。

示例性地，结合图5和图7，驱动电路层13包括依次层叠在衬底基板12上的栅极层、有源层和源漏极层，其中，栅极层和有源层之间具有绝缘层(也称栅极绝缘层)，有源层和源漏极层之间具有绝缘层(也称层间介质层)。栅极层包括多根栅线131，多根栅线131沿第一方向x排列，栅线131的延伸方向为第二方向y。源漏极层包括多根数据线(走线130)，多根数据线130沿第二方向y排列，数据线130的延伸方向为第一方向x。多根栅线131与多根数据线130交叉。

有源层包括多个有源区133，多个有源区阵列布置。在一种可能的实施方式中，有源区133从平坦化层14的填充结构142的下方延伸到数据线130处，并通过层间介质层上的过孔132与数据线130电连接；有源区133经过栅线131的上方。这里，上方是指远离衬底基板的方向，下方是指靠近衬底基板的方向。

示例性地，如图7所示，有源区133的形状呈长条形。

示例性地，如图7所示，有源区133采用半导体材料制成，当位于有源区133下方的栅线有电流通过时有源区133导通。

栅极层、栅极绝缘层、有源层、层间介电层和源漏极层依次层叠并形成的多个TFT，多个TFT位于多根栅线131与多根数据线130形成的多个交叉处。在一种可能的实施方式中，多个TFT通过有源区133与多个像素电极161一一对应并且电连接，TFT可以控制相连的像素电极。

在一种可能的实施方式中，再次参见图5，平坦化层14中的多个通孔(如第一通孔143)不仅贯穿平坦化层14，还贯穿驱动电路层13中位于走线130所在的源漏极层靠近衬底基板12一侧的绝缘层，直至有源区133。填充结构142不仅贯穿平坦化层14，还贯穿至驱动电路层13中位于走线130所在的源漏极层靠近衬底基板12一侧的绝缘层。从而使得第一转接电极151的一部分位于多个通孔中的第一通孔143内，且与驱动电路层13电连接。这里，第一转接电极151与驱动电路层13电连接，是指第一转接电极151与驱动电路层13中的有源区133电连接。

示例性地，衬底基板12采用玻璃或石英制成。

其中，有源层133采用金属氧化物、低温多晶硅(也称p-Si)等材料中的一种制成。栅极层可以是钼、铜、钛等单层金属薄膜，也可以是依次层叠的钼层、铝层和钼层，或者是依次层叠的钛层、铝层和钛层等多层金属薄膜。栅极绝缘层或者绝缘层采用硅氧化物、硅氮化物或者硅氮氧化物等材料制成。源漏极层可以是铝、钼、铜、钛等单层金属薄膜，也可以是依次层叠的钼层、铝层和钼层，或者是依次层叠的钛层、铝层和钛层等多层金属薄膜。

示例性地，平坦化层14采用氮化硅、氮氧化硅或环氧树脂等材料制成。示例性地，转接电极层15采用透明导电材料制成，例如氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)或者氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)等。采用透明导电材料制成的转接电极层有利于光线的穿透。

示例性地，像素电极层16采用透明导电材料制成，例如氧化铟锡(Indium TinOxide，ITO)或者氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)等。采用透明导电材料制成的像素电极层有利于光线的穿透。

示例性地，绝缘层17采用硅氧化物、硅氮化物或者硅氮氧化物等材料制成。

在一种可能的实施方式中，如图7所示，公共电极层11包括沿x方向和y方向阵列分布的多个狭缝111。沿x方向排列的多个狭缝111称为同一行狭缝，沿y方向排列的多个狭缝111称为同一列狭缝。多个狭缝111与多个像素电极161一一对应。每个狭缝111在衬底基板12的承载面上的正投影位于对应的像素电极161在该承载面上的正投影内，例如，第一狭缝1111在衬底基板12的承载面上的正投影位于第一像素电极1611在该承载面上的正投影内。

在另一种可能的实施方式中，公共电极层11内，沿y方向分布的同一列狭缝相互连通，形成在y方向上尺寸更大的狭缝，该y方向为狭缝的长度方向。一个狭缝111与多个像素电极161对应，即每个狭缝111在衬底基板12的承载面上的正投影与在y方向上排列的连续多个像素电极161在衬底基板12的承载面上的正投影存在重合。

图8是本公开实施例提供的另一种液晶显示面板的截面结构示意图。如图8所示，阵列基板11还包括调光组件18，调光组件18位于衬底基板12和驱动电路层13之间。

调光组件18用于将背光组件发出的光线中照射至多根走线130、多个电极部110或者黑矩阵22的光线偏折至彩膜层21。

通过设置调光组件18，可以将背光组件发出的光线中照射至驱动电路层13中走线、公共电极层11中电极部和黑矩阵22这些不透光区域的光线偏折至彩膜层21，使得穿过彩膜层21的光线更多，从而提高液晶显示面板的光线利用率，提高显示效果。

示例性地，该多根走线130可以位于驱动电路层13中最靠近像素电极层16的导电层，例如源漏极层。走线130可以沿着前述y方向延伸。

图9是本公开实施例提供的一种透镜的结构示意图，如图8和图9所示，调光组件18包括多个透镜180，多个透镜180与多个色阻块210一一对应。每个透镜180在衬底基板12的承载面上的正投影与对应的色阻块210在该承载面上的正投影至少部分重合。

示例性地，透镜180包括顶面181和底面182，顶面181为向远离衬底基板12的方向凸出的弧面，底面182与衬底基板12的承载面平行。

透镜180可以将射向对应的色阻块210的边缘附近的光线(包括射向黑矩阵22的光线)向色阻块210的中部靠拢，因此可以提高液晶显示面板的光线利用率，提高显示效果。

图10是本公开实施例提供的一种包含透镜的液晶显示面板的光路示意图。图11是本公开实施例提供的另一种包含透镜的液晶显示面板的光路示意图。如图10和图11所示，透镜的焦距f小于h*(b+c)/b，且大于(H+h)*(e+d)/(2e+d)。

其中，图10中，b为驱动电路层13的走线在第一狭缝1111和第二狭缝1112的排列方向上的宽度，c为在第一狭缝1111和第二狭缝1112的排列方向上相邻两根走线之间的距离，h为目标走线靠近衬底基板12的一侧和透镜180的底面之间的距离；图11中，d为遮光部220在第一狭缝1111和第二狭缝1112的排列方向上的宽度，e为开口区在第一狭缝1111和第二狭缝1112的排列方向的宽度，H为目标走线靠近衬底基板12的一侧和目标遮光部220远离衬底基板的一侧的距离，h为目标走线靠近衬底基板12的一侧和透镜180的底面之间的距离。

当透镜180的焦距满足该关系时，可将射向黑矩阵22、或者驱动电路层13的走线、或者公共电极层11的光线，尽可能的偏转并使这些光线穿过彩膜层21，从而进一步提高液晶显示面板的光效。

本公开实施例中，驱动电路层13中的走线靠近衬底基板12的一侧和透镜180的底面的边缘之间的距离满足：偏折夹角大于或者等于第一夹角θ1，且小于或者等于第二夹角θ2；其中，偏折夹角为背光组件发出的光线经过透镜后偏折的光线的方向，与垂直于衬底基板的承载面的方向之间的夹角。

图10所示实施例中，第一夹角θ1为目标透镜的底面的边缘和目标走线靠近衬底基板12的一侧的边缘之间的连线41，与垂直于衬底基板12的承载面的方向之间的夹角。目标透镜为多个透镜180中任意一个透镜，目标走线130为驱动电路层13中的多根走线中与目标透镜距离最近的走线。

图11所示实施例中，第二夹角θ2为目标透镜的底面的边缘和目标遮光部远离衬底基板12的一侧的边缘之间的连线42，与垂直于衬底基板12的承载面的方向之间的夹角，目标遮光部为多个遮光部220中与目标透镜距离最近的遮光部，且目标遮光部的延伸方向和目标走线的延伸方向相同，即目标遮光部能够遮挡目标走线的一段。

图10和图11分别是光效最大化(光线不被遮挡)的两种边界状态，如图10和图11所示，第一夹角θ1为光线未被驱动电路层13内的多根走线130遮挡的临界状态，需满足：tanθ1＝b/(2h)；第二夹角θ2为光线未被遮光部220遮挡的临界状态，需满足：tanθ2＝(2e+d)/(2H+2h)。可见，当第一夹角θ1、第二夹角θ2与黑矩阵22、驱动电路层13中的走线130、和透镜180满足该关系时，光线才能够从彩膜基板2出射。其中，b为驱动电路层13的走线在第一狭缝1111和第二狭缝1112的排列方向上的宽度，e为开口区在第一狭缝1111和第二狭缝1112的排列方向的宽度，d为遮光部220在第一狭缝1111和第二狭缝1112的排列方向上的宽度，H为目标走线靠近衬底基板12的一侧和目标遮光部远离衬底基板的一侧的距离，h为目标走线靠近衬底基板12的一侧和透镜180的底面之间的距离。

图12是本公开实施例提供的一种液晶显示面板的制作方法的流程图。该方法用于制备如图5所示的液晶显示面板。如图12所示，该方法包括：

在步骤S1中，提供彩膜基板和阵列基板。其中，彩膜基板包括彩膜层和黑矩阵，彩膜层包括阵列布置的多个色阻块，黑矩阵位于彩膜层的一侧，黑矩阵包括多个遮光部，多个遮光部在彩膜层上的正投影位于多个色阻块的交界处；阵列基板包括公共电极层，公共电极层有阵列布置的多个狭缝，公共电极层包括多个电极部，多个电极部包括位于第一狭缝和第二狭缝之间的第一电极部。

在步骤S2中，将彩膜基板和阵列基板相对连接。通过该步骤S2，使得第一电极部在彩膜层上的正投影与第一遮光部在彩膜层上的正投影至少部分重合，第一狭缝和第二狭缝为多个狭缝中相邻的两个狭缝。

在步骤S3中，在彩膜基板和阵列基板之间注入液晶层材料，形成液晶层，得到液晶显示面板。

可选地，该步骤S1中，提供彩膜基板包括：在透明基板的一侧形成彩膜层；在形成有彩膜层的透明基板上形成黑矩阵。其中，

可选地，该步骤S1中，提供阵列基板包括：

第一步、在衬底基板上形成初始栅极金属层，通过光刻胶涂覆、曝光、显影得到光刻胶结构，并以该光刻胶结构为掩膜对初始栅极金属层进行刻蚀，得到栅极层。其中，栅极层包括多根栅线。在栅极层上形成栅极绝缘层。

第二步、在栅极绝缘层上形成半导体材料层，通过光刻胶涂覆、曝光、显影等工艺得到光刻胶结构，并以该光刻胶结构为掩膜对半导体材料层进行刻蚀，得到有源层。其中，有源层包括多个条状有源区。

第三步、在有源层上形成初始层间介电层，通过光刻胶涂覆、曝光、刻蚀、剥离等一系列工序，形成多个暴露出有源区的过孔，得到层间介电层。在层间介电层上形成源漏极金属层，通过光刻胶涂覆、曝光、刻蚀、剥离等一系列工序，得到源漏极层。其中，源漏极层包括多根数据线。源漏极层中的数据线通过层间介电层中的过孔与有源区连接。得到驱动电路层。

第四步、在驱动电路层上通过光刻胶涂覆、曝光、显影等一系列工序，形成具有多个通孔的平坦化层的主体部，多个通孔不仅贯穿平坦化层，还贯穿至有源层，多个通孔暴露出有源区。

第五步、在多个通孔内通过光刻胶的涂覆、曝光等一系列工序，分别形成多个第一部分转接电极、多个第二部分转接电极和多个第三部分转接电极，每个第一部分转接电极均位于通孔底部且通过有源区与源漏极层中的数据线电连接。多个第二部分转接电极均位于通孔侧壁且和多个第一部分转接电极分别连接，多个第三部分转接电极位于平坦化层的主体部上且和多个第二部分转接电极分别连接。得到转接电极层。

第六步、在多个通孔中分别形成多个填充结构，填充结构的表面与平坦化层的主体部的表面平齐。得到平坦化层。

第七步、在平坦化层和多个第三部分转接电极的表面上通过光刻胶的涂覆、曝光、刻蚀、剥离等一系列工序形成多个像素电极，多个像素电极覆盖多个第三部分转接电极和多个填充结构，多个像素电极和多个第三部分转接电极分别电连接。得到像素电极层。

第八步、在像素电极层上形成绝缘层，并在绝缘层上通过光刻胶的涂覆、曝光、刻蚀、剥离等一系列工序，形成具有多个狭缝的公共电极层。得到阵列基板。

可选地，步骤S2中，可通过涂布、加热固化或紫外线固化等工艺，使用封框胶将彩膜基板和阵列基板进行相对连接。封框胶不仅可以将阵列基板和彩膜基板粘合固定，也可以防止液晶层材料外流。

示例性地，封框胶的主要成分包括树脂，树脂种类包括热固化型和光固化型。实际多采用热固化型材料和光固化型材料混合而成的封框胶，主要成分包括UV(Ultraviolet，紫外线)硬化树脂、UV硬化开始剂、热硬化树脂、热硬化剂、耦合剂等。

可选地，步骤S2中，可通过ODF(One Drop Filling，滴下式注入法)的方式将液晶层材料注入由彩膜基板和阵列基板限定的空间内。

本公开实施例提供的液晶显示面板尤其适用于高像素密度(Pixels Per Inch，PPI)的显示设备，包括但不限于虚拟现实(Virtual Reality，VR)显示设备等，

本公开实施例还提供了一种液晶显示装置，该液晶显示装置包括前述任一种液晶显示面板和背光组件，该背光组件用于为所述液晶显示面板提供光源。

可选地，该液晶显示装置还可以包括供电电路，供电电路用于为液晶显示面板和背光组件供电。

示例性地，本公开实施例提供的显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

该液晶显示装置具有前述液晶显示面板相同的效果，在此不再赘述。

以上仅为本公开的可选实施例，并不用以限制本公开，凡在本公开的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本公开的保护范围之内。

Claims (15)

1.一种液晶显示面板，其特征在于，所述液晶显示面板包括阵列基板、彩膜基板和液晶层，所述阵列基板和所述彩膜基板相对连接，所述液晶层位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间；

所述彩膜基板包括彩膜层和黑矩阵，所述彩膜层包括阵列布置的多个色阻块，所述黑矩阵位于所述彩膜层靠近所述阵列基板的一侧，且所述黑矩阵包括多个遮光部，所述多个遮光部在所述彩膜层上的正投影位于所述多个色阻块的交界处；

所述阵列基板包括公共电极层，所述公共电极层中具有阵列布置的多个狭缝，所述公共电极层包括多个电极部，所述多个电极部包括位于第一狭缝和第二狭缝之间的第一电极部，所述第一电极部在所述彩膜层上的正投影与第一遮光部在所述彩膜层上的正投影至少部分重合，所述第一狭缝和所述第二狭缝为所述多个狭缝中相邻的两个狭缝，所述第一遮光部为所述多个遮光部中的一个。

2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一遮光部的宽度及所述第一电极部的宽度之和与两倍的目标距离的比值，等于目标角的正切值，所述目标角基于所述液晶显示面板的最大视角确定；

所述目标距离为所述第一遮光部与所述第一电极部之间的距离；

所述目标角为所述第一电极部的第一侧边与所述第一遮光部的第二侧边在参考面中投影的连线与所述液晶显示面板的厚度方向的夹角，所述参考面分别与所述第一侧边和所述第二侧边垂直；

其中，在所述第一狭缝和所述第二狭缝的排列方向上，所述第一侧边为靠近所述第一狭缝的侧边，所述第二侧边为靠近所述第二狭缝的侧边。

3.根据权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述公共电极层采用金属材料制成。

4.根据权利要求1至3任一项所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括衬底基板、驱动电路层、平坦化层、转接电极层、像素电极层和绝缘层，所述衬底基板、所述驱动电路层、所述平坦化层、所述像素电极层、所述绝缘层和所述公共电极层依次层叠；

所述平坦化层包括具有多个通孔的主体部和位于所述多个通孔中的填充结构，所述像素电极层包括阵列分布的多个像素电极；

所述转接电极层包括多个转接电极，所述多个转接电极中的第一转接电极的一部分位于所述多个通孔中的第一通孔内，且与所述驱动电路层电连接，所述第一转接电极的另一部分位于所述平坦化层远离所述衬底基板的一侧，且与所述多个像素电极中的第一像素电极连接，所述第一像素电极覆盖所述第一转接电极和所述第一通孔中的填充结构。

5.根据权利要求4所述的液晶显示面板，其特征在于，所述填充结构在所述衬底基板的承载面上的正投影与所述黑矩阵在所述衬底基板的承载面上的正投影至少部分不重合。

6.根据权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一狭缝在所述衬底基板的承载面上的正投影位于所述第一像素电极在所述衬底基板的承载面上的正投影内；或者，

所述第一狭缝在所述衬底基板的承载面上的正投影与在第一方向上排列的连续多个像素电极在所述衬底基板的承载面上的正投影至少部分重合，所述第一方向为所述第一狭缝的长度方向。

7.根据权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述转接电极层和所述像素电极层均采用透明导电材料制成。

8.根据权利要求1至3和权利要求5至7中任一项所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括衬底基板、驱动电路层和调光组件，所述调光组件位于所述衬底基板和所述驱动电路层之间；

所述驱动电路层包括多根走线，所述多根走线在所述衬底基板的承载面上的正投影与所述多个电极部在所述衬底基板的承载面上的正投影至少部分重合；

所述调光组件用于将从所述阵列基板一侧入射至所述液晶显示面板的光线中照射至所述多根走线、所述多个电极部或者所述黑矩阵的光线偏折至所述彩膜层。

9.根据权利要求8所述的液晶显示面板，其特征在于，所述调光组件包括多个透镜，所述多个透镜与所述多个色阻块一一对应，相对应的所述透镜和所述色阻块在所述衬底基板的承载面上的正投影至少部分重合。

10.根据权利要求9所述的液晶显示面板，其特征在于，所述透镜包括顶面和底面，所述顶面为向远离所述衬底基板的方向凸出的弧面，所述底面与所述衬底基板的承载面相连。

11.根据权利要求9所述的液晶显示面板，其特征在于，所述透镜的焦距小于h*(b+c)/b，且大于(H+h)*(e+d)/(2e+d)；

其中，b为所述走线在所述第一狭缝和所述第二狭缝的排列方向上的宽度，c为在所述排列方向上相邻两根走线之间的距离，d为所述遮光部在所述排列方向上的宽度，e为所述黑矩阵的开口区在所述排列方向上的宽度，H为目标走线靠近所述衬底基板的一侧和目标遮光部远离所述衬底基板的一侧的距离，h为所述目标走线靠近所述衬底基板的一侧和目标透镜的底面之间的距离；

所述目标透镜为所述多个透镜中任意一个透镜，所述目标走线为所述驱动电路层中的多根走线中与所述目标透镜距离最近的走线，所述目标遮光部为所述多个遮光部中与所述目标透镜距离最近的遮光部。

12.根据权利要求11所述的液晶显示面板，其特征在于，所述驱动电路层和所述透镜的所述底面之间的距离满足：偏折夹角大于或者等于第一夹角，且小于或者等于第二夹角；

其中，所述偏折夹角为入射光线经过所述透镜后的出射方向与垂直于所述衬底基板的承载面的方向之间的夹角，所述第一夹角为目标透镜的所述底面的边缘和目标走线靠近所述衬底基板的一侧的边缘之间的连线，与垂直于所述衬底基板的承载面的方向之间的夹角；

所述第二夹角为所述目标透镜的底面的边缘和目标遮光部远离所述衬底基板的一侧的边缘之间的连线，与垂直于所述衬底基板的承载面的方向之间的夹角。

13.根据权利要求12所述的液晶显示面板，其特征在于，

第一夹角满足：tanθ1＝b/(2h)；

第二夹角满足：tanθ2＝(2e+d)/(2H+2h)；

其中，θ1为所述第一夹角，θ2为所述第二夹角。

14.一种液晶显示装置，其特征在于，所述显示装置包括背光组件和如权利要求1至13中任一项所述的液晶显示面板，所述背光组件用于为所述液晶显示面板提供光源。

15.一种液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：

提供阵列基板和彩膜基板，其中，所述彩膜基板包括彩膜层和黑矩阵，所述彩膜层包括阵列布置的多个色阻块，所述黑矩阵位于所述彩膜层靠近所述阵列基板的一侧，且所述黑矩阵包括多个遮光部，所述多个遮光部在所述彩膜层上的正投影位于所述多个色阻块的交界处，所述阵列基板包括公共电极层，所述公共电极层中具有阵列布置的多个狭缝，所述公共电极层包括多个电极部，所述多个电极部包括位于第一狭缝和第二狭缝之间的第一电极部，所述第一狭缝和所述第二狭缝为所述多个狭缝中相邻的两个狭缝；

将所述阵列基板和所述彩膜基板相对连接，使得所述第一电极部在所述彩膜层上的正投影与所述第一遮光部在所述彩膜层上的正投影至少部分重合，所述第一遮光部为所述多个遮光部中的一个；

在所述阵列基板和所述彩膜基板之间形成液晶层，得到液晶显示面板。