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CN118160081A - 清洗端口过滤器支撑件 - Google Patents

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CN118160081A
CN118160081A CN202280071662.0A CN202280071662A CN118160081A CN 118160081 A CN118160081 A CN 118160081A CN 202280071662 A CN202280071662 A CN 202280071662A CN 118160081 A CN118160081 A CN 118160081A
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CN
China
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support surface
upper support
outer ring
Prior art date
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Application number
CN202280071662.0A
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English (en)
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S·D·埃格刚
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Entegris Inc
Original Assignee
Entegris Inc
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Publication date
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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

一种前开式晶片传送盒包含外壳及所述外壳中的清洗端口。所述清洗端口包含滤膜及清洗过滤器支撑件。所述清洗过滤器支撑件包含外环结构及支撑框架工作。所述支撑框架从所述外环结构延伸。所述外环结构包含为所述滤膜提供支撑表面的多个支撑件。所述支撑件中的一或多者的厚度分别从上支撑表面的厚度增加。清洗过滤器支撑件包含外环结构及一或多个开口、从所述外环结构延伸的支撑框架。所述支撑框架包含提供支撑表面的支撑件，所述支撑表面经配置以接触及支撑滤膜。一或多个支撑件各自的厚度从所述上支撑表面的第一厚度增加。

Description

清洗端口过滤器支撑件
优先权
本公开主张2021年9月28日申请第63/249,416号美国临时专利案的优先权。所述美国临时专利案以引用方式并入本文中。
技术领域
本公开涉及FOUP中的清洗端口。更具体来说，本公开涉及FOUP的清洗端口中使用的过滤器支撑件。
背景技术
半导体装置可由晶片衬底制造。晶片衬底，或简称晶片，经过一系列制造步骤。例如，制造步骤可包含(但不限于)材料层沉积、掺杂、蚀刻或衬底的化学或物理反应材料。一或多个晶片可在制造之前、期间或之后在前开式晶片传送盒(“FOUP”)中存储及运输。在一些制造步骤中，晶片可仍在FOUP内的情况下处理。FOUP可包含一或多个清洗端口用于向FOUP内部供应清洗气体。例如，清洗气体可为在FOUP打开时保持FOUP内部正压(例如，高于外部环境压力，高于大气压力)的气体。
发明内容
在实施例中，一种清洗过滤器支撑件包含外环结构、支撑框架及一或多个开口。所述支撑框架从所述外环结构向内延伸。所述支撑框架包含提供上支撑表面的多个支撑件。所述上支撑表面经配置以在FOUP的清洗端口中接触及支撑滤膜。所述支撑件包含一或多个支撑件，每一支撑件的厚度从所述上支撑表面的第一厚度增加。所述一或多个开口延伸穿过所述支撑件之间的所述支撑框架。
在实施例中，一种FOUP包含外壳及延伸穿过所述外壳的清洗端口。所述清洗端口包含滤膜及清洗过滤器支撑件。所述清洗过滤器支撑件包含外环结构、支撑框架及一或多个延伸穿过所述支撑框架的开口。所述外环结构接触所述滤膜的外围。所述支撑框架从所述外环结构向内延伸，且包含多个支撑件。所述支撑件提供上支撑表面。一或多个支撑件各自的厚度从所述上支撑表面的第一厚度增加。清洗气体流过所述清洗端口将所述滤膜推抵于所述上支撑表面。
附图说明
图1是前开式晶片传送盒(FOUP)的实施例的仰视透视图。
图2是根据实施例的图1中沿II-II的FOUP的局部横截面图。
图3是根据实施例的图2中FOUP中清洗过滤器的横截面图。
图4是FOUP中用于清洗过滤器的过滤器支撑件的实施例的俯视透视图。
图5是根据实施例的图4中沿V-V线的过滤器支撑件的横截面图。
图6是FOUP中用于清洗过滤器的过滤器支撑件的另一实施例的俯视透视图。
相同数字代表相同特征。
具体实施方式
本公开涉及FOUP中的清洗端口。更具体来说，本公开关于FOUP的清洗端口中使用的过滤器支撑件。
图1是前开式晶片传送盒1(“FOUP”)的实施例的仰视透视图。FOUP 1包含外壳2。外壳1包含前开口3及前门4。门4覆盖前开口3且FOUP 1可通过移动(例如打开、移除)门4可进入FOUP 1。外壳2包含带有清洗端口10的底部6。清洗端口10延伸穿过外壳2。FOUP 1可包含一或多个清洗端口10。例如，图1中的FOUP 1包含两个清洗端口10。在实施例中，FOUP 1可包含不同数目个清洗端口10(例如，一个、三个等)。
图2展示根据实施例的FOUP 1沿图1中II-II的部分横截面图。图2展示FOUP 1的清洗端口10。清洗端口10布置于FOUP 1的底部6中。清洗端口10安置于外壳2的底部6中的开口14中。清洗端口10安置于开口14中，以阻挡开口14(例如，流体只能凭借通过清洗端口10来通过开口14)。清洗端口10穿过FOUP 1的外壳2延伸到FOUP 1的内部空间12。
FOUP 1经配置以在其内部空间12内容纳一或多个半导体衬底(未展示)。在实施例中，FOUP经配置以容纳多个半导体衬底。清洗端口10用于向FOUP 1的内部12供应清洗气体。例如，穿过清洗端口10供应的清洗气体可包含(但不限于)一般惰性气体(例如氮气)、过滤空气(例如清洁干燥空气)等。图2包含虚线箭头，以指示穿过清洗端口10的清洗气体的一般流动方向。
如图2所展示，清洗端口10包含上固定部件20A、下固定部件20B、止回阀24及清洗过滤器30。固定部件20A、20B与外壳2接触(例如，接触开口14的侧壁)，且将清洗端口10保持在开口14内。止回阀24及清洗过滤器30经配置以由固定部件20A、20B固定到位。在实施例中，清洗端口10可包含单个固定部件20A、20B，或固定部件20A、20B可为单件。当清洗气体流过清洗端口10时，其会通过清洗过滤器30。清洗过滤器30经配置以从清洗气体过滤固体颗粒。下文将更详细地讨论清洗过滤器30。
止回阀24可包含绝缘环26，所述绝缘环经配置与向FOUP 1及清洗端口10供应清洗气体的清洗喷嘴(未展示)匹配。止回阀24经配置以在大气压力下保持密封。当加压清洗气体(例如，具有大于大气压的压力)供应到清洗端口10时，压力打开止回阀24，容许清洗气体穿过清洗端口10流入FOUP 1的内部容积12。在实施例中，清洗气体以高达1000升/分钟(LPM)的速度流过清洗端口10。在实施例中，清洗气体以30到1000LPM的速度流过清洗端口10。在实施例中，清洗气体以高达500LPM的速度流过清洗端口10。在实施例中，清洗气体以高达300LPM的速度流过清洗端口10。在实施例中，清洗气体以200LPM或以上的速度流过清洗端口10。在实施例中，清洗气体以100LPM或以上的速度流过清洗端口10。
图3展示图2中清洗过滤器30的放大视图。清洗过滤器30包含滤膜32及一对过滤器支撑件34。滤膜32在流动方向D1上夹在一对过滤器支撑件34之间。每一过滤器支撑件34包含外环结构36及从外环结构36向内延伸的支撑框架38。每一外环结构36接触滤膜32。滤膜32的外围33固定在过滤器支撑件34的两个外环结构36之间。例如，滤膜32的外围33可夹在过滤器支撑件34的两个外环结构36之间，如图3所展示。在实施例中，过滤器支撑件34中的一者(例如，图2中的下过滤器支撑件34)可并入保持部分20B或外壳2中。应了解，“环结构”不仅限于圆形及椭圆形，且包含其它环形形状，例如方形、矩形、三角形等。
支撑框架38包含多个支撑件40。例如，支撑件40形成支撑框架38。每一过滤器支撑件34包含接触且支撑滤膜32的上支撑表面42。特定来说，上支撑表面42经配置以向清洗气体流过的滤膜32的中心部分(例如，滤膜32不夹在外环结构36之间的非外围内部部分)提供支撑。穿过清洗端口10的清洗气体流将滤膜32推抵于过滤器支撑件34的上支撑表面42。支撑框架38还具有由多个支撑件40形成的下表面43。下表面43在多个支撑件上与上支撑表面43A相对安置。
图4展示根据实施例的过滤器支撑件34的俯视图。例如，图4中的过滤器支撑件34可为图3中的上过滤器支撑件。如以上所讨论，过滤器支撑件34包含外环结构36及形成支撑框架38的多个支撑件40，支撑框架38从外环结构36径向向内延伸。支撑件40提供过滤器支撑件34的上支撑表面42。例如，每一支撑件40提供上支撑表面42的部分。每一支撑件40经配置以与清洗过滤器30中的滤膜32接触。
如所说明的实施例中所展示，支撑件40可包含内环结构44及肋46。内环结构44及肋46可形成支撑框架38，如图4所展示。内环结构44安置于外环结构36内。内环结构44通过肋46连接到外环结构36。每一肋36从外环结构36延伸到内环结构44。外环结构36还包含一或多个侧壁62，侧壁62界定过滤器支撑件34的入口开口64。滤膜32横跨入口开口64安置。
过滤器支撑件34包含一或多个开口48，所述开口延伸穿过支撑件40之间的支撑框架38。例如，开口48通过在至少两个支撑件40之间延伸而延伸穿过支撑框架38。开口48容许清洗气体通过过滤器支撑件34。如图4所展示，开口48可包含延伸穿过内环结构44的中央开口48A。开口48还可包含开口48B，每一开口48B延伸穿过外环结构36与内环结构44之间的过滤器支撑件34。
如图4所展示，在垂直于上支撑表面42的方向(如流动方向D1)上，支撑框架38与入口开口64之间的重叠大于20％。在实施例中，支撑框架38与入口开口64之间的所述重叠可大于25％。在另一实施例中，支撑框架38与入口开口64之间的所述重叠可大于30％。
图5展示图4中过滤器支撑件34沿V-V的横截面。多个支撑件40包含第一支撑件40-1。第一支撑件40-1包含上支撑表面42及下表面43(例如，上支撑表面42的部分及下表面43的部分)。下表面43在第一支撑件40-1上与上支撑表面42相对安置。例如，下表面43及上支撑表面42安置在清洗流动方向D1的相对侧上。应了解，与支撑表面相关的“上”及“下”仅与过滤器支撑件34有关。因此，当用于清洗端口10时，上支撑表面42不可与其它相对方向/表面对应。例如，在图2的清洗过滤器20中的上过滤器支撑件34中，上支撑表面42面朝向下方向(例如，方向D2，与底部6的方向相同或类似)，且下表面43面朝向上方向(例如，在方向D1与外壳2的顶部方向相同或类似)。
如图4所展示，第一支撑件40-1的厚度变化。第一支撑件40-1的厚度随着你从上支撑表面42离开进入第一支撑件40-1而变化(例如，随着你沿着垂直于上支撑表面42的方向D2前进，随着你沿清洗流动方向D1离开上支撑表面42)。第一支撑件40-1的厚度延伸到或平行于第一支撑件40-1上的上支撑表面42(例如，厚度为沿着第一支撑件40-1上的上支撑表面42所界定的平面测量)。例如，在实施例中，第一支撑件40的厚度平行于组装的清洗过滤器10中的滤膜32测量。
对于支撑件40-1上的上支撑表面42，第一支撑件40-1具有第一厚度T1。第一厚度T1是上支撑表面42处第一支撑件40-1的厚度。如图5所展示，第一支撑件40-1的厚度从第一厚度T1增加。第一厚度T1可为0.5mm或更小。在实施例中，第一厚度T1可为0.25mm或更小。在实施例中，第一厚度T1可为0.2mm或更小。在实施例中，第一厚度T1可为0.15mm或更小。
第一支撑件40-1还具有比第一厚度T1长的第二厚度。第二厚度不是用于上支撑表面42的厚度。如图4所展示，第二厚度可为用于第一支撑件40-1的下表面43的厚度T3。第二厚度T2为下表面43的厚度。在实施例中，第二厚度可为在上支撑表面42与下表面43之间的部分距离处的第一支撑件40-1的厚度(例如，厚度T3)。第二厚度可至少为1.0mm。在实施例中，第二厚度可至少为1.2mm。此第二厚度T2足够大，以容许过滤器支撑件34注射成型。例如，已发现，正确注射成型最大厚度T2小于1.2mm的过滤器支撑件所需的较高注射压力会导致注射模内注射聚合物过早硬化。特定来说，当最大厚度T2小于1.0mm时，此过早硬化会大量发生。因此，过滤器支撑件34有利地被构造成可聚合物注射成型的。
下表面43的面积大于第一支撑件40-1上的上支撑表面42的面积。支撑件40上的上支撑表面42大于支撑件40上的下表面43的面积(例如，大于相同支撑件上的下表面的面积)。在实施例中，上支撑表面42的面积为下表面43的面积的85％或更少(例如，相同支撑件上的下表面的面积的85％或更少)。在实施例中，上支撑表面42的面积为下表面43的面积的65％或更少(例如，相同支撑件上的下表面43的面积的65％或更少)。在实施例中，上支撑表面42的面积为下表面43的面积的45％或更少(例如，相同支撑件上的下表面的面积的45％或更少)。
第一支撑件40-1包含第一侧壁52及第二侧壁54。第一侧壁52及第二侧壁54在第一支撑件40-1上彼此相对安置(例如，安置于第一支撑件40-1的相对侧)。例如，在图5所展示的第一支撑件40-1的横截面中，侧壁52、54位于第一支撑件40-1的相对侧。侧壁52及54中的每一者为从上支撑表面42延伸的侧壁。例如，每一侧壁52、54为在上支撑表面42与下表面43之间延伸的侧壁。在实施例中，上支撑表面42与第一侧壁52之间的内角α1大于90°且小于180°。在实施例中，上支撑表面42与第二侧壁54之间的内角α2大于90°且小于180。例如，90°的内角对应于90°角，其中相应侧壁将垂直于上支撑表面延伸。
应了解，一或多个其它支撑件40可具有与以上描述第一支撑件40-1的那些特征类似的特征。在实施例中，一或多个支撑件40具有如以上描述的第一支撑件40-1的增加厚度。例如，在实施例中，过滤器支撑件34可具有如上文对第一支撑件40-1所描述的厚度增加的多个其支撑件40。在此实施例中，对于上支撑表面42的第一厚度可在不同支撑件40之间不同。在实施例中，过滤器支撑件34中的至少50％的支撑件40可分别具有如上文描述的第一支撑件40-1的特征。
一或多个支撑件40的相应厚度增加，使得上支撑表面42与入口开口64之间在垂直于上支撑表面42的方向(例如流动方向D1)上的重叠小于20％。在实施例中，上支撑表面42与入口开口64之间在垂直于上支撑表面42的方向上的重叠小于15％。在实施例中，上支撑表面42与入口开口64之间在垂直于上支撑表面42的方向上的重叠小于10％。
过滤器支撑件10可有利地容许上支撑表面42向安置于入口开口64上方的滤膜32的内部提供支撑(例如，滤膜的部分未被外环结构36夹住)，同时只阻塞对应最小数量的滤膜32(例如，低于20％、低于15％、低于10％)。支撑件40的厚度(例如，具有较长的第二厚度)还可有利地容许对过滤器支撑件34进行注射成型。
当清洗气体流过清洗端口10时，清洗气体流过滤膜32时会产生背压。穿过滤膜32的清洗气体流速的增加还导致背压量的增加。背压向清洗端口10及FOUP 1施加向上力。如果背压足够高，其可将FOUP 10分别向清洗端口10中的每一者供应清洗气体的清洗喷嘴(未显示)上提起。过滤器支撑件34有利地产生较小背压，因为其阻挡最小数量的滤膜32，从而产生较小背压。当与较高清洗气体流速一起使用时，过滤器支撑件34可在清洗端口10中实现有利地较低背压。例如，此容许FOUP 10利用更高清洗气体流速，而不会达到更高背压，此可将FOUP 10从清洗喷嘴上提起。
图6是过滤器支撑件134的另一实施例的俯视图。过滤器支撑件134经配置以在FOUP 1的清洗端口10中使用，其方式与图2中的过滤器支撑件34类似。过滤器支撑件134包含外环结构136及从外环结构136向内延伸的支撑框架138。支撑框架138包含多个支撑件140及在支撑件140之间延伸穿过支撑框架138的开口148。过滤器支撑件134可具有上文图2-5中所讨论的过滤器支撑件34的类似配置，但开口148及支撑件140在支撑框架138中的布置除外。
如图6所展示，支撑件140从外环结构136向内延伸到中间位置180。例如，中间位置180可位于外环结构136的中心。每一支撑件140为从外环结构136延伸到中间位置180的肋。因此，过滤器支撑件134没有中央开口(例如，中央开口48A)。支撑件140可分别具有如以上讨论的过滤器支撑件34的第一支撑件40-1的特征。例如，一或多个支撑件140具有如上文为过滤器支撑件34中的第一支撑件40-1类似讨论的厚度增加。
方面：
方面1至13中的任一者可与方面14至19中的任一者结合。
方面1.一种清洗过滤器支撑件，其包括：外环结构；从所述外环结构向内延伸的支撑框架，所述支撑框架包含多个支撑件，所述多个支撑件提供上支撑表面，所述上支撑表面经配置以接触且支撑前开式晶片传送盒的清洗端口中的滤膜，所述多个支撑件包含一或多个支撑，每一支撑件的厚度从所述上支撑表面的第一厚度增加；及一或多个开口，所述开口延伸穿过所述多个支撑件之间的所述支撑框架。
方面2.根据方面1所述的清洗过滤器，其中对于所述一或多个支撑件中的每一者，所述厚度在所述上支撑表面处或大约平行于所述上支撑表面延伸。
方面3.根据方面1及2中任一方面所述的清洗过滤器，其中所述多个支撑件包含：安置于所述外环结构内的内环结构，及将所述外环结构连接到所述内环结构的肋。
方面4.根据方面3所述的清洗过滤器，其中所述一或多个开口包含延伸穿过所述内环结构的中央开口。
方面5.根据方面1至4中任一方面所述的清洗过滤器，其中所述一或多个支撑件中的每一者具有第二厚度，所述第二厚度不在所述上支撑表面且比所述第一厚度长。
方面6.根据方面1至5中任一方面所述的清洗过滤器，其中所述多个支撑件包含第一支撑件，所述第一支撑件具有从所述上支撑表面延伸的第一侧壁，所述上支撑表面与所述第一侧壁之间的内角大于90°且小于180°。
方面7.根据方面6所述的清洗过滤器，其中所述第一支撑件包含从所述上支撑表面延伸的第二侧壁，所述上支撑表面与所述第二侧壁之间的内角大于90°且小于180°，且在所述第一支撑件的横截面中，所述第一侧壁及所述第二侧壁安置于所述第一支撑件的相对侧上。
方面8.根据方面1至7中任一方面所述的清洗过滤器，其中所述外环结构包含界定入口开口的一或多个侧壁，且所述上支撑表面与所述入口开口之间在垂直于所述上支撑表面的方向上的重叠小于20％。
方面9.根据方面1至8中任一方面所述的清洗过滤器，其中所述外环结构包含界定入口开口的一或多个侧壁，且所述上支撑表面与所述入口开口之间在垂直于所述上支撑表面的所述方向上的重叠小于10％。
方面10.根据方面8所述的清洗过滤器，其中所述支撑框架与所述入口开口之间在垂直于所述上支撑表面的所述方向上的重叠大于20％。
方面11.根据方面1至10中任一方面所述的清洗过滤器，其中所述支撑框架具有由所述多个支撑件形成的下表面，所述下表面与所述多个支撑件上的所述上支撑表面相对安置，且所述下表面的面积大于所述上支撑表面的面积。
方面12.根据方面10所述的清洗过滤器，其中所述上支撑表面的所述面积为所述下表面的所述面积的85％或更小。
方面13.根据方面11及12中任一方面所述的清洗过滤器，其中所述上支撑表面的所述面积为所述下表面的所述面积的45％或更小。
方面14.一种前开式晶片传送盒，其包括：外壳；清洗端口，其延伸穿过所述外壳，所述清洗端口包含：滤膜，第一清洗过滤器支撑件，其包含：外环结构，其接触所述滤膜的外围；支撑框架，其从所述外环结构向内延伸，所述支撑框架包含提供上支撑表面的多个支撑件，所述多个支撑件包含一或多个支撑件，每一支撑件的厚度从所述上支撑表面的相应第一厚度增加，及一或多个开口，其延伸穿过所述多个支撑件之间的所述支撑框架，其中流过所述清洗端口的所述清洗气体流经配置以将所述滤膜推抵于所述支撑框架的所述上支撑表面。
方面15.根据方面14所述的前开式晶片传送盒，其中所述清洗端口包含第二清洗过滤器支撑件，所述第二清洗过滤器支撑件包含第二外环结构及从所述第二外环结构向内延伸的第二支撑框架，所述第二支撑框架包含多个第二支撑件，所述多个第二支撑件提供用于接触且支撑所述滤膜的第二支撑表面，且所述滤膜安置于所述第一清洗过滤器的上支撑表面与所述第二清洗过滤器支撑件的所述第二支撑表面之间。
方面16.根据方面15所述的前开式晶片传送盒，其中所述滤膜的所述外围夹在所述第一清洗过滤器支撑件的所述外环结构与所述第二清洗过滤器支撑件的所述第二外环结构之间。
方面17.根据方面14至16中任一方面所述的前开式晶片传送盒，其中所述清洗端口包含止回阀。
方面18.根据方面14至17中任一方面所述的前开式晶片传送盒，其中所述外环结构包含界定入口开口的一或多个侧壁，所述清洗气体经配置以沿第一方向流过所述清洗过滤器支撑件，且所述上支撑表面与所述入口开口之间在所述第一方向上的重叠小于10％。
方面19.根据方面18所述的前开式晶片传送盒，其中所述支撑框架与所述入口开口之间在所述第一方向上的重叠大于20％。
本申请案中公开的实例在所有方面都应视为说明性的而非限制性的。本发明的范围由所附权利要求书而非前述说明书所指示；且在权利要求书的含义及等效范围内的所有变更都将包含在其中。

Claims (19)

1.一种清洗过滤器支撑件，其包括：
外环结构；
支撑框架，其从所述外环结构向内延伸，所述支撑框架包含多个支撑件，所述多个支撑件提供上支撑表面，所述上支撑表面经配置以接触且支撑前开式晶片传送盒的清洗端口中的滤膜，所述多个支撑件包含一或多个支撑件，每一支撑件的厚度从所述上支撑表面的相应第一厚度增加；及
一或多个开口，其延伸穿过所述多个支撑件之间的所述支撑框架。
2.根据权利要求1所述的清洗过滤器，其中对于所述一或多个支撑件中的每一者，所述厚度在所述上支撑表面处或约平行于所述上支撑表面延伸。
3.根据权利要求1或2所述的清洗过滤器，其中所述多个支撑件包含：
内环结构，其安置于所述外环结构内，及
肋，其将所述外环结构连接到所述内环结构。
4.根据权利要求3所述的清洗过滤器，其中所述一或多个开口包含延伸穿过所述内环结构的中央开口。
5.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的清洗过滤器，其中所述一或多个支撑件中的每一者具有第二厚度，所述第二厚度不在所述上支撑表面且比所述第一厚度长。
6.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的清洗过滤器，其中所述多个支撑件包含第一支撑件，所述第一支撑件具有从所述上支撑表面延伸的第一侧壁，所述上支撑表面与所述第一侧壁之间的内角大于90°且小于180°。
7.根据权利要求6所述的清洗过滤器，其中
所述第一支撑件包含从所述上支撑表面延伸的第二侧壁，所述上支撑表面与所述第二侧壁之间的内角大于90°且小于180°，且
在所述第一支撑件的横截面中，所述第一侧壁及所述第二侧壁安置于所述第一支撑件的相对侧上。
8.根据权利要求1至7中任一权利要求所述的清洗过滤器，其中
所述外环结构包含界定入口开口的一或多个侧壁，且
所述上支撑表面与所述入口开口之间在垂直于所述上支撑表面的方向上的重叠小于20％。
9.根据权利要求1至8中任一权利要求所述的清洗过滤器，其中
所述外环结构包含界定入口开口的一或多个侧壁，且
所述上支撑表面与所述入口开口之间在垂直于所述上支撑表面的所述方向上的重叠小于10％。
10.根据权利要求8所述的清洗过滤器，其中
所述支撑框架与所述入口开口之间在垂直于所述上支撑表面的所述方向上的重叠大于20％。
11.根据权利要求1至10中任一权利要求所述的清洗过滤器，其中所述支撑框架具有由所述多个支撑件形成的下表面，所述下表面与所述多个支撑件上的所述上支撑表面相对安置，且所述下表面的面积大于所述上支撑表面的面积。
12.根据权利要求11所述的清洗过滤器，其中所述上支撑表面的所述面积为所述下表面的所述面积的85％或更小。
13.根据权利要求11所述的清洗过滤器，其中所述上支撑表面的所述面积为所述下表面的所述面积的45％或更小。
14.一种前开式晶片传送盒，其包括：
外壳；
清洗端口，其延伸穿过所述外壳，所述清洗端口包含：
滤膜，
第一清洗过滤器支撑件，其包含：
外环结构，其接触所述滤膜的外围；
支撑框架，其从所述外环结构向内延伸，所述支撑框架包含提供上支撑表面的多个支撑件，所述多个支撑件包含一或多个支撑件，每一支撑件的厚度从所述上支撑表面的相应第一厚度增加，及
一或多个开口，其延伸穿过所述多个支撑件之间的所述支撑框架，
其中流过所述清洗端口的清洗气体流经配置以将所述滤膜推抵于所述支撑框架的所述上支撑表面。
15.根据权利要求14所述的前开式晶片传送盒，其中
所述清洗端口包含第二清洗过滤器支撑件，所述第二清洗过滤器支撑件包含第二外环结构及从所述第二外环结构向内延伸的第二支撑框架，所述第二支撑框架包含多个第二支撑件，所述多个第二支撑件提供用于接触且支撑所述滤膜的第二支撑表面，且
所述滤膜安置于所述第一清洗过滤器的上支撑表面与所述第二清洗过滤器支撑件的所述第二支撑表面之间。
16.根据权利要求15所述的前开式晶片传送盒，其中所述滤膜的所述外围夹在所述第一清洗过滤器支撑件的所述外环结构与所述第二清洗过滤器支撑件的所述第二外环结构之间。
17.根据权利要求14或15所述的前开式晶片传送盒，其中所述清洗端口包含止回阀。
18.根据权利要求14至17中任一权利要求所述的前开式晶片传送盒，其中
所述外环结构包含界定入口开口的一或多个侧壁，
所述清洗气体经配置以沿第一方向流过所述清洗过滤器支撑件，且
所述上支撑表面与所述入口开口之间在所述第一方向上的重叠小于10％。
19.根据权利要求18所述的前开式晶片传送盒，其中
所述支撑框架与所述入口开口之间在所述第一方向上的重叠大于20％。
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