CN116892506A - 泵、用于供应化学液体的设备及用于处理基板的设备 - Google Patents

Abstract

本公开提供了泵、用于供应化学液体的设备及用于处理基板的设备。所述泵包括：管，具有弹性，并且具有化学液体通过其流动的流动路径；以及壳体，具有内部空间，内部空间分隔成气体被供应或排出的至少两个腔室，其中，至少两个腔室覆盖管的外周。利用泵、用于供应化学液体的设备及用于处理基板的设备，通过向壳体中的分隔腔室中供应气体或从壳体中的分隔腔室排出气体的操作，通过在腔室之间的内部压力之间不产生干扰的情况下独立地向管的每个相应外周施加或释放压力，可以确保泵的有效泵送操作，并且可以实现对液体的排出压力的精确控制。

Description

泵、用于供应化学液体的设备及用于处理基板的设备

相关申请的交叉引用

本申请要求于2022年4月5日向韩国知识产权局提交的第10-2022-0041968号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的公开通过引用以其整体并入本文中。

技术领域

本公开的示例性实施方式涉及泵、用于供应化学液体的设备及用于处理基板的设备。

背景技术

通常，在制造半导体的工艺中，可以通过沉积工艺、蚀刻工艺、光刻工艺和清洁工艺来制造基板。例如，在光刻工艺中，可以通过利用用于供应化学液体的设备将各种化学液体喷射到基板上来执行光刻处理工艺。这种用于供应化学液体的设备可以包括设置在用于供应化学液体的化学液体供应单元与用于喷射化学液体的喷嘴部之间并且向喷嘴部提供排出压力的泵。

在用于供应化学液体以将化学液体排出到基板的设备中，对于泵而言，可能需要对排出压力的精确控制和效率性。

发明内容

本公开的示例性实施方式旨在提供可以实现对化学液体的排出压力的精确控制的泵、用于供应化学液体的设备及用于处理基板的设备。

根据本公开的示例性实施方式，泵包括：管，具有弹性，并且具有化学液体通过其流动的流动路径；以及壳体，具有内部空间，内部空间分隔成气体被供应或排出的至少两个腔室，其中，至少两个腔室覆盖管的外周。

壳体的内部空间可以通过将管连接到壳体的内侧表面的分隔壁分隔成第一腔室和第二腔室，且第一腔室和第二腔室可以被配置成选择性地形成其中气体被排出的真空状态和其中气体被供应的加压状态中的一个状态。

在壳体中可以设置有气体排出单元和气体供应单元，气体排出单元连接到第一腔室并且排出气体以形成真空状态，气体供应单元连接到第二腔室并且供应气体以形成加压状态。

管可以具有其中两个侧表面的中央部分朝向流动路径向内凹陷的环形形状。

泵还可以包括：保护单元，在管与壳体之间覆盖管的外周并且具有弹性。

保护单元可以包括保护壁和保护层，保护壁围绕管的外周表面并且在保护壁与管的外周表面之间存在空间，保护层填充管与保护壁之间的空间。保护层由化学液体或气体形成。

根据本公开的另一示例性实施方式，用于供应化学液体的设备包括：液体供应单元，用于供应化学液体；过滤单元，连接到化学液体供应单元并且过滤化学液体；泵装置，连接到过滤单元并且泵送化学液体；以及喷嘴部，连接到泵装置的下游侧并且排出化学液体，其中，泵装置包括：管，具有液体通过其流动的流动路径，并且具有弹性；以及壳体，具有内部空间，内部空间分隔成气体被供应或排出的至少两个腔室，其中，至少两个腔室覆盖管的外周。

泵装置可以包括：第一泵和第二泵，第一泵连接在液体供应单元的下游侧与过滤单元的上游侧之间，第二泵连接在过滤单元的下游侧与喷嘴部的上游侧之间，以及用于供应化学液体的设备还包括阀部，阀部包括入口阀、第一阀、第二阀出口阀，入口阀设置在第一泵的上游侧上，第一阀设置在第一泵的下游侧与过滤单元的上游侧之间，第二阀设置在第二泵的上游侧与过滤单元的下游侧之间，出口阀设置在第二泵的下游侧上。

根据本公开的另一示例性实施方式，用于处理基板的设备包括：处理容器，其中具有用于处理基板的空间；基板支承构件，设置在处理容器中并且支承基板；液体供应单元，用于供应液体；过滤单元，连接到液体供应单元并且过滤液体；泵，连接到过滤单元并且泵送液体；以及喷嘴部，连接到泵的下游侧并且向基板排出液体，其中，泵包括：管，具有液体通过其流动的流动路径，具有弹性，并且具有其中两个侧表面的中央部分朝向流动路径向内凹陷的环形形状；以及壳体，具有内部空间，内部空间通过将管连接到壳体的内侧表面的分隔壁分隔成第一腔室和第二腔室，在第一腔室中气体被排出以形成真空状态，在第二腔室中气体被供应以形成加压状态，其中，第一腔室和第二腔室覆盖管的外周。

附图说明

将从以下结合附图的详细描述中更清楚地理解本公开的以上和其他方面、特征及优点，在附图中：

图1是示出根据本公开的示例性实施方式的用于处理基板的设备中的用于供应化学液体的设备的流动路径的图；

图2是示出根据本公开的示例性实施方式的用于处理基板的设备的用于供应化学液体的设备中所应用的泵的结构的图；

图3是示出根据本公开的示例性实施方式的用于处理基板的设备的用于供应化学液体的设备中所应用的泵的一部分的截面透视图；

图4是在长度方向上观察的、示出根据本公开的示例性实施方式的用于处理基板的设备的用于供应化学液体的设备中所应用的泵的剖视图；

图5是在长度方向上观察的、示出根据本公开的另一示例性实施方式的用于处理基板的设备的用于供应化学液体的设备中所应用的泵的剖视图；

图6是示出根据本公开的另一示例性实施方式的用于处理基板的设备的用于供应化学液体的设备中所应用的泵的剖视图；

图7是示出根据本公开的另一示例性实施方式的用于处理基板的设备中的用于供应化学液体的设备的流动路径的图；

图8是示出根据本公开的另一示例性实施方式的用于处理基板的设备中的用于供应化学液体的设备的流动路径的图；以及

图9是示出根据本公开的示例性实施方式的阀箱的布置结构的图，阀箱包括图8中的用于供应化学液体的设备中所应用的泵装置、过滤单元和多个阀。

具体实施方式

在下文中，将参考附图描述本公开的示例性实施方式如下。

在附图中，相同的元件将由相同的附图标记表示。此外，将不提供可能不必要地模糊本公开的主旨的对已知功能和元件的冗余描述和详细描述。在附图中，可能夸大、省略或简要示出了一些元件，并且元件的尺寸不一定反映这些元件的实际尺寸。此外，术语“上”、“上部分”、“上表面”、“下”、“下部分”、“下表面”、“侧表面”是基于附图的，并且可以在组件所设置的方向上变化。

在示例性实施方式中，术语“连接”不仅可以指代“直接连接”，而且可以包括通过粘合层等手段的“间接连接”。此外，术语“电连接”可以包括元件“物理连接”的情况和元件“非物理连接”的情况。本说明书中的术语“包括(include)”、“包括(comprise)”、“被配置成”等用来指示特征、数字、步骤、操作、元件、部分或其组合的存在，并且不排除一个或更多个特征、数字、步骤、操作、元件、部分或其组合结合或添加的可能性。

示例性实施方式中的用于处理基板的设备可以用于诸如蚀刻工艺、光刻工艺和清洁工艺的各种工艺。例如，示例性实施方式中的用于处理基板的设备可以用于蚀刻工艺，并且具体地，用于处理基板的设备可以通过利用化学液体供应单元向基板供应蚀刻剂来处理基板，并且还可以用于诸如光刻工艺和清洁工艺的其他基板处理工艺。

例如，示例性实施方式中的用于处理基板的设备可以应用于光刻工艺，可以通过用于供应化学液体的设备实时地精确调节光刻工艺所需的化学液体(例如，抗蚀剂化学液体)的排出压力，并且可以以适当的排出压力向基板喷射抗蚀剂化学液体，从而执行光刻工艺。然而，其示例性实施方式不限于此，且用于处理基板的设备可以应用于诸如沉积工艺、蚀刻工艺和清洁工艺的提供化学液体的各种工艺。

第一实施方式

示例性实施方式1

图1是示出根据示例性实施方式的用于处理基板的设备中的用于供应化学液体的设备的流动路径的图。

参考图1，根据示例性实施方式1的用于处理基板的设备可以包括：设置在密封的处理腔室中并且在其中包括用于处理基板W的空间的处理容器C、设置在处理容器C中并且支承基板W的基板支承构件S以及用于向基板W供应液体的液体供应装置1000，即用于供应化学液体的设备。

当液体从液体供应装置1000排出时，处理容器C可以接收从基板W散开的液体，并且可以将液体排出到处理容器C的外部。

基板支承构件S可以支承基板W在处理容器C中旋转和竖直移动，使得在处理基板W期间，可以在基板W旋转和被支承的状态下通过液体供应装置1000向基板W供应液体来处理基板W。

示例性实施方式中的液体供应装置1000可以包括液体供应单元2000、过滤单元3000、泵装置4000和喷嘴部5000。

液体供应单元2000可以向基板W供应待处理的液体，并且可以是罐或瓶，且从液体供应单元2000供应的液体可以穿过过滤单元3000并且可以由泵装置4000以预定压力泵送，并且可以由喷嘴部5000排出到基板W

过滤单元3000可以是用于过滤液体的组件，并且可以过滤和去除液体中存在的杂质、电荷或要去除的物质。此外，过滤单元3000还可以执行过滤液体中存在的气泡并向外排出气泡的功能。

这里，如果需要，可以在液体供应单元2000与过滤单元3000之间的连接线中设置各种组件。例如，在液体供应单元2000与过滤单元3000之间的连接线中，可以设置用于暂时储存从液体供应单元2000供应的液体并向外排出液体的捕集罐和用于分离液体中的气泡的气泡分离单元。在附图中，过滤单元3000可以设置在泵装置4000的上游侧上，但是其示例性实施方式不限于此，且过滤单元3000可以设置在泵装置4000的下游侧上，即设置在泵装置4000与喷嘴部5000之间的连接线中。

泵装置4000可以连接到过滤单元3000，可以以预定压力泵送液体并且可以将液体供应到喷嘴部5000。

在示例性实施方式中，泵装置4000可以包括单个泵100，但是如果需要则可以包括多个泵100，并且将稍后在示例性实施方式2中给出其具体描述。

喷嘴部5000可以连接到泵装置4000的下游侧，可以朝向基板W排出液体并且可以对基板W执行各种处理。

此外，液体供应装置1000还可以包括调节器6000，调节器6000连接到泵装置4000的泵100与用于向泵100供应气体的气体供应源S0之间的管道，且液体供应装置1000可以通过调节器6000控制气体向泵装置4000中的供应或从泵装置4000的排出。

这里，流入泵100中的气体可以是例如空气或具有低化学反应性的惰性气体。

此外，液体供应装置1000可以包括第一压力传感器7100，第一压力传感器7100设置在泵装置4000中的泵100与调节器6000之间的管道中并且测量泵100与调节器6000之间的管道中的气体压力。此外，液体供应装置1000可以包括第二压力传感器7200，第二压力传感器7200设置在液体相对于其在泵装置4000中的流动方向所流出的泵100的下游侧(泵100与喷嘴部5000之间的管道)上，并且测量液体所排出的泵100的下游侧上的液体的压力。

液体供应装置1000还可以包括电连接到调节器6000、第一压力传感器7100和第二压力传感器7200的控制单元8000。

控制单元8000可以接收由第一压力传感器7100和第二压力传感器7200测量的压力值，并且可以控制供应到泵100或从泵100排出的气体，从而可以更有效地确保对通过泵100向喷嘴部5000排出的液体的排出压力的精确控制和效率性。

此外，液体供应装置1000可以包括阀部9000。阀部9000可以包括入口阀9100和出口阀9200。入口阀9100可以设置在泵100的入口侧上。出口阀9200可以设置在泵100的出口侧上。

阀部9000还可以包括设置在连接到过滤单元3000的排气线V上以执行排气的排气阀9300。

下面将描述应用于液体供应装置1000的泵100的具体配置。

图2是示出根据示例性实施方式的用于处理基板的设备的用于供应化学液体的设备中所应用的泵的结构的图。图3是示出根据示例性实施方式的用于处理基板的设备的用于供应化学液体的设备中所应用的泵的一部分的截面透视图。图4是示出在长度方向上观察的、根据示例性实施方式的用于处理基板的设备的用于供应化学液体的设备中所应用的泵的剖视图。

参考图1至图4，示例性实施方式中的应用于液体供应装置1000的泵100可以包括管200和壳体300。

管200可以具有液体通过其流动的流动路径210，并且可以具有弹性，使得流动路径210的截面面积可以改变。也就是说，管200可以由具有预定弹性度的材料形成，使得当施加外部压力时流动路径210的截面面积可以改变，或者当释放外部压力时流动路径210的截面面积可以回到其原始状态。

管200可以具有其中两侧的中央部分朝向流动路径210凹陷的环形形状，其有利于从外部施加压力时产生变形。这里，环形形状可以包括中央部分被穿透的中空环形(环)形状，还可以包括中央部分可以在未被穿透的情况下向内凹陷以使液体流动的配置，而管的整个外部形状可以是几乎环形的形状。

壳体300可以形成泵100的外部形状，并且内部空间可以分隔成其中气体被供应或排出的两个腔室310。壳体300的两个腔室310可以覆盖管200的外周。因此，通过向壳体300内的每个腔室310供应气体或从壳体300内的每个腔室310排出气体的操作，通过在腔室310之间的内部压力之间不产生干扰的情况下独立地向管200的每个相应的外周表面施加压力或释放压力，可以确保泵100的有效泵送操作，并且可以实现对液体排出压力的精确控制。

这里，当壳体300分隔成两个腔室310时，例如，壳体300的内部空间可以通过连接管200和壳体300的内侧表面的分隔壁340分隔成第一腔室320和第二腔室330。

此外，在壳体300中，可以设置有连接到管200的流动路径210的入口和出口并且设置在与所述入口和出口相同的直线上的液体入口370和液体出口380。在这种情况下，壳体300的液体入口370和液体出口380可以设置在分隔壁340上，并且可以连接到管200的流动路径210的入口和出口。

因此，通过将设置在泵100的壳体300中的液体入口370和液体出口380连接在液体供应装置1000的流动路径上的适当位置，可以实现容易的组装和维护。

此外，在壳体300中可以设置有气体排出单元350和气体供应单元360。气体排出单元350可以连接到第一腔室320，并且可以排出气体以形成真空状态。气体供应单元360可以连接到第二腔室330，并且可以供应气体以形成加压状态。

这里，作为具体示例，如图1中所示，气体排出单元350可以连接到真空泵P，可以排出第一腔室320中的气体，并且可以形成真空状态。气体供应单元360可以连接到气体供应源S0，可以向第二腔室330中供应气体，并且可以形成加压状态。因此，第一腔室320可以形成真空状态，第二腔室330可以在连接管200和壳体300的内侧表面的分隔壁340周围形成加压状态，从而可以改变管200的形状，并且因此，可以泵送管200的流动路径210中的液体，并且进一步地，可以精细地调节液体的排出压力，从而可以实现精确的控制。此外，上述调节器6000可以设置在气体供应单元360与气体供应源S0之间的连接线中，通过调节器6000可以控制气体向第二腔室330中的供应或从第二腔室330的排出，并且可以控制第二腔室330的内部压力。

在管200形成环形形状的结构中，气体排出单元350可以设置在与管200的、面向壳体300中的第一腔室320的一个侧表面相对的第一侧壁301上，可以连接到第一腔室320，并且可以排出气体以形成真空状态，且气体供应单元360可以设置在与管200的、朝向壳体300中的第二腔室330的另一个侧表面相对的第二侧壁302上，可以连接到第二腔室330，并且可以供应气体以形成加压状态。

这里，如果需要，可以以各种形式实现泵100的操作。例如，可以通过真空泵P排出第一腔室320中的气体并且可以保持真空状态，可以通过控制气体向第二腔室330中的供应而调节施加到管200的外周表面上的压力来执行抽吸，并且进一步地，可以实现对管200的流动路径210中的液体的排出压力的精确控制。也就是说，泵100可以通过在第一腔室320中形成真空并且向第二腔室330供应气体来精细地调节泵100的排出压力，并且还可以实时地实现对液体的排出压力的精确控制。

作为另一示例，在通过从气体供应源S0向第二腔室330中供应气体来施加恒定压力的加压状态下，通过经由真空泵P调节第一腔室320中的气体的排出来调节施加到管200的外周表面上的压力，可以泵送管200的流动路径210中的液体，并且进一步地，可以实现对管200的流动路径210中的液体的排出压力的精确控制。

作为另一示例，可以同时调节第一腔室320和第二腔室330中的压力。

如上所述，根据示例性实施方式1的液体供应装置1000通过经由具有以上配置的泵100向第二腔室330供应气体或从第一腔室320排出气体的操作，通过在第一腔室320和第二腔室330的内部压力之间不产生干扰的情况下独立地向管200的每个相应的外周表面施加压力或释放压力，可以确保泵100的有效泵送操作，并且进一步地，可以通过精细地调节液体的排出压力来实现精确的控制。

在上述示例性实施方式中，控制单元8000可以包括在液体供应装置1000中，但是其示例性实施方式不限于此，且控制单元可以不包括在液体供应装置1000中而可以安装在包括液体供应装置1000的用于处理基板的设备的适当位置，可以接收由液体供应装置1000获取的相关数据，并且可以控制相关组件。

示例性实施方式2

图5是在长度方向上观察的、示出根据另一示例性实施方式的用于处理基板的设备的用于供应化学液体的设备中所应用的泵的剖视图。

将参考图5描述根据示例性实施方式2的泵100A。

参考图5，根据示例性实施方式2的泵100A可以包括管200A、壳体300A和保护单元400A。在示例性实施方式2中，除了保护单元400A之外的组件可以以与示例性实施方式1相同的方式应用，并且将不提供对相同组件的详细描述。

保护单元400A可以在泵100A中的管200A与壳体300A之间覆盖管200A的外周，并且可以具有弹性，使得保护单元400A可以通过壳体300A中的第一腔室320A和第二腔室330A的内部压力而变形，并且可以向管200A的外周表面施加压力或从管200A的外周表面释放压力。

保护单元400A可以以各种形式实现，并且作为具体示例，保护单元400A可以包括保护壁410A和填充在保护壁410A中的保护层420A。

保护单元400A的保护壁410A可以设置在壳体300A中，并且可以围绕管200A的外周表面设置，且在保护壁410A与管200A的外周表面之间存在空间。

保护单元400A的保护层420A可以由填充在管200A的外周表面与保护壁410A之间的空间中的液体或气体形成。

因此，通过包括包含保护壁410A和由液体或气体形成的保护层420A的保护单元400A，可以防止由于喷射到壳体300A的腔室310A(第二腔室330A)中的气体而引起的快速的压力变化，可以防止湿气渗透到壳体中，并且可以保持管200A的流动路径210A中的液体的温度。

在示例性实施方式2中，作为示例已经描述了包括保护壁410A和保护层420A的保护单元400A的配置，但是其示例性实施方式不限于此，且保护单元可以以各种形式实现，只要保护单元可以实现防止快速的压力变化、防止水渗透和维持液体温度的效果中的至少一种即可。作为修改的示例，保护单元可以实现为具有单层结构的硅构件。

另一方面，在以上示例性实施方式1和示例性实施方式2中，可以在第一腔室中形成真空状态，并且可以在第二腔室中形成加压状态，但是其示例性实施方式不限于此，且第一腔室和第二腔室可以被配置成选择性地形成其中气体被排出的真空状态和其中气体被供应的加压状态中的一个状态。例如，通过切换第一腔室和第二腔室的功能，可以在第一腔室中形成加压状态，并且可以在第二腔室中形成真空状态，此外，第一腔室和第二腔室都可以实现为用于供应和排出气体的结构，从而可以获得选择性地供应或排出气体的效果。

此外，在示例性实施方式1和示例性实施方式2中，已经描述了壳体的内部空间可以分隔成两个腔室的示例，但是其示例性实施方式不限于此，且如果需要，可以设置两个或更多个腔室。

作为示例，将在下面描述内部空间分隔成三个腔室的示例。

示例性实施方式3

图6是示出根据示例性实施方式3的用于处理基板的设备的用于供应化学液体的设备中所应用的泵的剖视图。

将参考图6描述根据示例性实施方式3的泵100B。

参考图6，根据示例性实施方式3的泵100B可以包括管200B和壳体300B。在示例性实施方式3中，除了包括管200B和壳体300B的泵100B之外的组件可以与示例性实施方式1中的组件相同，并且将不提供对相同组件的详细描述。

如图6中所示，根据示例性实施方式3的泵100B可以包括包含三个腔室310B的壳体300B。

具体地，壳体300B的内部空间可以通过将管200B连接到壳体300B的内侧表面的分隔壁340B分隔成三个腔室310B。

在这种情况下，在管200B的与每个腔室310B对应的外周表面中可以形成有形成朝向管200B的流动路径210B的凹陷形状的凹槽220B，使得管200B可以容易地通过每个腔室310B的内部压力而变形。

此外，管200B可以具有相对于中心对称的形状，并且在这种情况下，壳体300B的每个腔室310B可以通过分隔壁340B分隔成相同的尺寸。

因此，当通过向腔室310B供应气体或从腔室310B排出气体来向形成在管200B的外周表面上的凹槽220B施加压力或释放压力时，随着压力被施加到形成在管200B的外周表面上的凹槽220B或从凹槽220B释放，管200B可以容易地变形，从而可以确保泵100B的有效泵送操作，并且进一步地，由于可以根据需要以各种方式调节三个腔室310B中的每个中的气体的供应或排出，所以可以有效地实现对液体的排出压力的精确控制。

图7是示出根据另一示例性实施方式的用于处理基板的设备中的用于供应化学液体的设备的流动路径的图。

将参考图7描述根据示例性实施方式4的液体供应装置1000C。

参考图7，在根据示例性实施方式4的液体供应装置1000C中，气体供应源(图中未示出)可以连接到泵100C中的壳体300C的第一腔室320C和第二腔室330C中的每个，且气体可以独立地被供应到第一腔室320C和第二腔室330C或从第一腔室320C和第二腔室330C排出。

此外，上述调节器6000C可以设置在壳体300C的第一腔室320C与气体供应源之间的连接线和第二腔室330C与气体供应源之间的连接线中，通过调节器6000C可以调节气体向第一腔室320C和第二腔室330C中的供应或从第一腔室320C和第二腔室330C的排出，从而控制第一腔室320C和第二腔室330C的内部压力。

因此，通过独立地控制针对经由连接管200C和壳体300C的内侧表面的分隔壁而彼此分隔的第一腔室320C和第二腔室330C的气体的供应或排出来控制施加到管200C的外周表面的第一腔室320C和第二腔室330C的内部压力，管200C的形状可以变形，从而可以泵送管200C的流动路径210C中的液体，并且进一步地，可以精细地调节液体的排出压力，从而可以实现精确的控制。

在根据示例性实施方式4的液体供应装置1000C中，泵100C可以以与应用于以上示例性实施方式1至3的泵100、100A和100B相同的方式应用，将不提供对相同组件的详细描述。

在示例性实施方式1至4中，已经描述了多个腔室通过设置在壳体中的分隔壁而分隔的示例，但是其示例性实施方式不限于此，且壳体的内部空间可以通过其他组件分隔成多个腔室。此外，壳体的内部空间可以通过管直接分隔成多个腔室，并且具体地，壳体的内部空间可以通过与管的突出部分接触的结构以及与壳体的内侧壁接触的结构而分隔成多个腔室。

第二实施方式

示例性实施方式5

图8是示出根据示例性实施方式5的用于处理基板的设备中的用于供应化学液体的设备的流动路径的图。图9是示出根据示例性实施方式的阀箱的布置结构的图，阀箱包括应用于图8中的用于供应化学液体的设备的泵装置、过滤单元和多个阀。

将参考图8和图9描述根据示例性实施方式5的液体供应装置D。

参考图8和图9，根据示例性实施方式5的液体供应装置1000D可以包括：用于供应液体的液体供应单元2000、连接到液体供应单元2000并且过滤液体的过滤单元3000D、连接到过滤单元3000D并且泵送液体的泵装置4000D以及连接到泵装置4000D的下游侧并且排出液体的喷嘴部5000。

在示例性实施方式5中，除了泵装置4000D之外的组件可以同样地应用于示例性实施方式1至4的组件，并且将不提供对相同组件的描述。

根据示例性实施方式5的泵装置4000D可以包括包含第一泵110D和第二泵120D的两个泵100D。第一泵110D和第二泵120D中的每个可以包括：管200D，具有弹性，并且形成液体通过其流动的流动路径210D；以及壳体300D，其内部空间分隔成气体被供应或排出的至少两个腔室310D，其中至少两个腔室310D可以覆盖管200D的外周。

在示例性实施方式5中，作为具体示例，将描述分隔成两个腔室310D的壳体的配置。

第一泵110D和第二泵120D的管200D可以形成为其中两侧的中央部分可以朝向流动路径210D凹陷的环形形状，其有利于从外部施加压力时产生变形。这里，环形形状可以包括其中中央部分可以在未被穿透的情况下向内凹陷以使液体流动的配置，而管的整个外部形状可以是几乎环形的形状。

壳体300D可以形成第一泵110D和第二泵120D的外部形状，并且壳体300D的内部空间可以分隔成其中气体被供应或排出的两个腔室310D。壳体300D的两个腔室310D可以覆盖管200D的外周。因此，通过向腔室310D供应气体或从腔室310D排出气体的操作，通过在腔室310D的内部压力之间不产生干扰的情况下独立地向管200D的每个相应的外周表面施加压力或释放压力，可以确保第一泵110D和第二泵120D的有效泵送操作，并且进一步地，可以实现对液体排出压力的精确控制。

这里，当壳体300D分隔成两个腔室310D时，例如，壳体300D的内部空间可以通过连接管200D和壳体300D的内侧表面的分隔壁340D分隔成第一腔室320D和第二腔室330D。

此外，壳体300D可以包括连接到管200D的流动路径210D的入口和出口并且设置在与所述入口和出口相同的直线上的液体入口370D和液体出口380D。在这种情况下，壳体300D的液体入口370D和液体出口380D可以设置在分隔壁340D上，并且可以连接到管200D的流动路径210D的入口和出口。

因此，通过将设置在第一泵110D和第二泵120D的壳体300D中的液体入口370D和液体出口380D连接在液体供应装置1000D的流动路径上的适当位置，可以实现容易的组装和维护。

此外，在壳体300D中可以设置有气体排出单元350D和气体供应单元360D。气体排出单元350D可以连接到第一腔室320D，并且可以排出气体以形成真空状态。气体供应单元360D可以连接到第二腔室330D，并且可以供应气体以形成加压状态。

这里，作为具体示例，如图8中所示，气体排出单元350D可以连接到真空泵P，可以排出第一腔室320D中的气体，并且可以形成真空状态。气体供应单元360D可以连接到气体供应源S0，可以向第二腔室330D中供应气体，并且可以形成加压状态。因此，第一腔室320D可以形成真空状态，并且第二腔室330D可以在连接管200D和壳体300D的内侧表面的分隔壁340D周围形成加压状态，使得管200D的形状可以变形，从而可以泵送管200D的流动路径210D中的液体，并且进一步地，可以精细地调节液体的排出压力，从而可以实现精确的控制。此外，上述调节器6000D可以设置在气体供应单元360D与气体供应源S0之间的连接线中，并且通过调节器6000D可以控制气体向第二腔室330D中的供应或从第二腔室330D的排出，从而可以控制第二腔室330D的内部压力。

这里，如果需要，可以以各种形式实现第一泵110D和第二泵120D的操作，并且例如，可以通过经由真空泵P排出第一腔室320D中的气体而保持真空状态并且通过控制气体向第二腔室330D中的供应来调节施加到管200D的外周表面上的压力来执行泵送，并且进一步地，可以实现对流动路径210D中的液体的排出压力的精确控制。也就是说，泵100D可以在第一腔室320D中形成真空并且可以向第二腔室330D供应气体，从而精细地调节第一泵110D和第二泵120D的排出压力，并且可以实时地实现对液体的排出压力的精确控制。

作为另一示例，可以在通过从气体供应源S0向第二腔室330D中供应气体来施加预定压力的加压状态下，通过经由真空泵P调节第一腔室320D中的气体的排出而调节施加到管200D的外周表面上的压力，来泵送管200D的流动路径210D中的液体，并且进一步地，可以实现对管200D的流动路径210D中的液体的排出压力的精确控制。

作为另一示例，可以同时调节第一腔室320D和第二腔室330D中的压力。

如上所述，在根据示例性实施方式5的液体供应装置1000D中，通过经由具有以上配置的第一泵110D和第二泵120D向壳体300D内的第一腔室320D和第二腔室330D供应气体或从壳体300D内的第一腔室320D和第二腔室330D排出气体的操作，通过在第一腔室320D与第二腔室330D之间的内部压力之间不产生干扰的情况下独立地向管200D的相应外周表面施加压力或释放压力，可以确保泵100D的有效泵送操作，并且进一步地，可以通过精细地调节液体的排出压力来实现精确控制。

这里，第一实施方式的示例性实施方式1至4的泵100、100A、100B和100C中的一个的配置可以应用于第一泵110D和第二泵120D。这里，将不提供其详细描述。

第一泵110D可以连接在液体供应单元2000的下游侧与过滤单元3000D的上游侧之间，并且可以用作用于临时储存从液体供应单元2000供应的液体的供应泵。第二泵120D可以用作可以连接在过滤单元3000D的下游侧与喷嘴部5000的上游侧之间的分配泵，可以接收储存在第一泵110D中的液体，并且可以通过经由第二泵120D泵送液体来通过喷嘴部5000向基板W排出液体。

此外，液体供应装置1000D可以包括阀部9000D。阀部9000D可以包括入口阀9100D、第一阀9400D、第二阀9500D和出口阀9200D。阀部9000D还可以包括设置在连接到过滤单元3000D的排气线V中以执行排气的排气阀9300D。入口阀9100D、第一阀9400D、第二阀9500D、出口阀9200D和排气阀9300D可以集成到阀部9000D的阀箱9001D中。入口阀9100D可以设置在第一泵110D的上游侧上。第一阀9400D可以设置在第一泵110D的下游侧与过滤单元3000D的上游侧之间。第二阀9500D可以设置在第二泵120D的上游侧与过滤单元3000D的下游侧之间。出口阀9200D可以设置在第二泵120D的下游侧上。

此外，第一泵110D和第二泵120D可以并排设置在过滤单元3000D与阀部9000D的阀箱9001D之间，从而可以实现泵装置4000D、过滤单元3000D和阀部9000D之间的紧凑布置结构，可以在有限的布置空间中提高使用性。

下面将描述第一泵110D和第二泵120D的操作。

当向第一泵110D供应液体时，可以打开入口阀9100D，并且液体可以从液体供应单元2000供应到第一泵110D的管200D的流动路径210D中。当足够量的液体被供应到第一泵110D的管200D的流动路径210D中时，可以关闭入口阀9100D。可以打开第一阀9400D和第二阀9500D，可以向第一泵110D的第二腔室330D供应气体，可以形成加压状态(这里，选择性地操作真空泵P以允许第一腔室320D形成真空状态)，并且压力可以被施加到管200D的外周表面，使得管200D的流动路径210D中的液体可以穿过过滤单元3000D并且可以流入第二泵120D的管200D的流动路径210D中。这里，当打开第一阀9400D和第二阀9500D时，可以首先打开第一阀9400D以增加过滤单元3000D中的压力，然后可以打开第二阀9500D以允许液体流入第二泵120D的管200D的流动路径210D中。此外，可以通过同时打开第一阀9400D和第二阀9500D而调节第一泵110D的第一腔室320D或第二腔室330D的内部压力，来增加过滤单元3000D侧的压力并且使液体流过过滤单元3000D并流入第二泵120D的管200D的流动路径210D中。

此外，当通过过滤单元3000D排气时，通过打开第一阀9400D和排气阀9300D来向第一泵110D的管200D的外周表面施加压力，可以使液体中的气泡通过排气线V排出。这里，在排气过程中，可以选择性地打开或关闭第二阀9500D。

当要通过喷嘴部5000排出第二泵120D的管200D的流动路径210D中的液体时，可以通过关闭入口阀9100D、打开出口阀9200D以及向第二泵120D的第二腔室330D供应气体而形成加压状态，来向管200D的外周表面施加压力，从而可以通过喷嘴部5000向基板W排出第二泵120D的管200D的流动路径210D中的液体。

因此，通过包括包含第一泵110D和第二泵120D的泵装置4000D，与在喷嘴部中的液体施加时间相比，可以将供应到第一泵110D的管200D的流动路径中的液体迅速地供应到第二泵120D的管200D的通道，并且可以连续地向基板W供应液体，从而可以有效地提高工作效率。

在第二实施方式的示例性实施方式5中，已经描述了应用了示例性实施方式1的泵100的配置，但是其示例性实施方式不限于此，且可以应用第一实施方式的示例性实施方式2至4中所描述的泵100A、100B或100C的配置。

此外，在示例性实施方式中，第一泵和第二泵可以具有相同的配置，第一泵和第二泵也可以具有不同的配置，并且可以是参考示例性实施方式1至4所描述的泵100、100A、100B和100C中的一个。此外，现有的泵可以用作第一泵中的一个。

根据示例性实施方式，利用泵，用于供应化学液体的设备和用于处理基板的设备，通过向壳体中的分隔腔室中供应气体或从壳体中的分隔腔室中排出气体的操作，通过在腔室之间的内部压力之间不产生干扰的情况下独立地向管的每个相应外周施加压力或释放压力，可以确保泵的有效泵送操作，并且可以实现对液体的排出压力的精确控制。

虽然上面已经示出和描述了示例性实施方式，但是将对于本领域技术人员显而易见的是，可以在不背离由所附权利要求限定的本公开的范围的情况下进行修改和变型。

Claims (20)

1.一种泵，包括：

管，具有弹性，并且具有化学液体通过其流动的流动路径；以及

壳体，具有内部空间，所述内部空间分隔成气体被供应或排出的至少两个腔室，

其中，所述至少两个腔室覆盖所述管的外周。

2.根据权利要求1所述的泵，其中，

所述壳体的所述内部空间通过将所述管连接到所述壳体的内侧表面的分隔壁分隔成第一腔室和第二腔室，以及

其中，所述第一腔室和所述第二腔室被配置成选择性地形成其中气体被排出的真空状态和其中气体被供应的加压状态中的一个状态。

3.根据权利要求2所述的泵，其中，在所述壳体中设置有气体排出单元和气体供应单元，所述气体排出单元连接到所述第一腔室并且排出气体以形成所述真空状态，所述气体供应单元连接到所述第二腔室并且供应气体以形成所述加压状态。

4.根据权利要求2所述的泵，其中，所述管具有其中两个侧表面的中央部分朝向所述流动路径向内凹陷的环形形状。

5.根据权利要求4所述的泵，其中，

与所述管的、面向所述壳体中的所述第一腔室的一个侧表面相对的第一侧壁上设置有连接到所述第一腔室并且排出气体以形成所述真空状态的气体排出单元，以及

其中，与所述管的、面向所述壳体中的所述第二腔室的另一个侧表面相对的第二侧壁上设置有连接到所述第二腔室并且供应气体以形成所述加压状态的气体供应单元。

6.根据权利要求4所述的泵，其中，在所述壳体中设置有化学液体入口和化学液体出口，所述化学液体入口和所述化学液体出口连接到所述管的所述流动路径的入口和出口并且设置在与所述流动路径的所述入口和所述流动路径的所述出口相同的直线上。

7.根据权利要求1所述的泵，其中，

所述壳体的所述内部空间通过将所述管连接到所述壳体的内侧表面的分隔壁分隔成三个腔室，以及

其中，所述管的与所述腔室中的每个对应的外周表面包括朝向所述流动路径凹陷的凹槽。

8.根据权利要求7所述的泵，其中，所述管具有关于中心对称的形状，并且每个所述腔室具有相同的尺寸。

9.根据权利要求1所述的泵，还包括：

保护单元，在所述管与所述壳体之间覆盖所述管的外周并且具有弹性。

10.根据权利要求9所述的泵，其中，所述保护单元包括保护壁和保护层，所述保护壁围绕所述管的外周表面并且在所述保护壁与所述管的外周表面之间存在空间，所述保护层填充所述管与所述保护壁之间的所述空间。

11.根据权利要求10所述的泵，其中，所述保护层由化学液体或气体形成。

12.一种用于供应化学液体的设备，所述设备包括：

液体供应单元，用于供应化学液体；

过滤单元，连接到所述化学液体供应单元并且过滤所述化学液体；

泵装置，连接到所述过滤单元并且泵送所述化学液体；以及

喷嘴部，连接到所述泵装置的下游侧并且排出所述化学液体，

其中，所述泵装置包括：

管，具有所述化学液体通过其流动的流动路径，并且具有弹性；以及

壳体，具有内部空间，所述内部空间分隔成气体被供应或排出的至少两个腔室，

其中，所述至少两个腔室覆盖所述管的外周。

13.根据权利要求12所述的设备，其中，

所述泵装置包括：第一泵和第二泵，所述第一泵连接在所述液体供应单元的下游侧与所述过滤单元的上游侧之间，所述第二泵连接在所述过滤单元的下游侧与所述喷嘴部的上游侧之间，以及

所述设备还包括阀部，所述阀部包括入口阀、第一阀、第二阀和出口阀，所述入口阀设置在所述第一泵的上游侧上，所述第一阀设置在所述第一泵的下游侧与所述过滤单元的上游侧之间，所述第二阀设置在所述第二泵的上游侧与所述过滤单元的下游侧之间，所述出口阀设置在所述第二泵的下游侧上。

14.根据权利要求13所述的设备，其中，所述第一泵和所述第二泵并排设置在所述过滤单元与所述阀部的阀箱之间。

15.根据权利要求12所述的设备，其中，

所述壳体的内部空间通过将所述管连接到所述壳体的内侧表面的分隔壁分隔成第一腔室和第二腔室，以及

其中，所述第一腔室和所述第二腔室被配置成选择性地形成其中气体被排出的真空状态和其中气体被供应的加压状态中的一个状态。

16.根据权利要求15所述的设备，其中，在所述壳体中设置有气体排出单元和气体供应单元，所述气体排出单元连接到所述第一腔室并且排出气体以形成所述真空状态，所述气体供应单元连接到所述第二腔室并且供应气体以形成所述加压状态。

17.根据权利要求15所述的设备，其中，所述管具有其中两个侧表面的中央部分朝向所述流动路径向内凹陷的环形形状。

18.根据权利要求12所述的设备，其中，所述泵装置还包括：保护单元，在所述管与所述壳体之间覆盖所述管的外周并且具有弹性。

19.根据权利要求18所述的设备，其中，所述保护单元包括保护壁和保护层，所述保护壁围绕所述管的外周表面并且在所述保护壁与所述管的外周表面之间存在空间，所述保护层填充所述管与所述保护壁之间的所述空间。

20.一种用于处理基板的设备，所述设备包括：

处理容器，其中具有用于处理所述基板的空间；

基板支承构件，设置在所述处理容器中并且支承所述基板；

液体供应单元，用于供应液体；

过滤单元，连接到所述液体供应单元并且过滤所述液体；

泵，连接到所述过滤单元并且泵送所述液体；以及

喷嘴部，连接到所述泵的下游侧并且向所述基板排出所述液体，

其中，所述泵包括：

管，具有所述液体通过其流动的流动路径，具有弹性，并且具有其中两个侧表面的中央部分朝向所述流动路径向内凹陷的环形形状；以及

壳体，具有内部空间，所述内部空间通过将所述管连接到所述壳体的内侧表面的分隔壁分隔成第一腔室和第二腔室，在所述第一腔室中气体被排出以形成真空状态，在所述第二腔室中气体被供应以形成加压状态，

其中，所述第一腔室和所述第二腔室覆盖所述管的外周。