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CN116817047A - 一种进气法兰、尾气处理装置 - Google Patents

一种进气法兰、尾气处理装置 Download PDF

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CN116817047A
CN116817047A CN202310722536.3A CN202310722536A CN116817047A CN 116817047 A CN116817047 A CN 116817047A CN 202310722536 A CN202310722536 A CN 202310722536A CN 116817047 A CN116817047 A CN 116817047A
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CN
China
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flange
reaction chamber
cavity
air
wall
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Pending
Application number
CN202310722536.3A
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English (en)
Inventor
杨国庆
叶威
郭潞阳
王福清
刘磊
陈佳明
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Shanghai Xie Micro Environment Technology Co ltd
Original Assignee
Shanghai Xie Micro Environment Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Shanghai Xie Micro Environment Technology Co ltd filed Critical Shanghai Xie Micro Environment Technology Co ltd
Priority to CN202310722536.3A priority Critical patent/CN116817047A/zh
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    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/76Gas phase processes, e.g. by using aerosols
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    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46Removing components of defined structure
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    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/10Mixing gases with gases
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16LPIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
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Abstract

本发明提供了一种进气法兰、尾气处理装置,属于尾气处理技术领域,以解决废气反应腔混气不匀且易积尘的技术问题。该进气法兰包括内具有环形的腔体,沿着法兰的外圆周面,法兰具有至少一个通孔;腔体通过至少一个通孔与供气设备连通,腔体通过气流通道连通至反应腔;气流通道为环形的通道,沿着反应腔中尾气气流的方向,气流通道向靠近法兰中心轴的方向倾斜。本发明进气法兰用于为尾气处理的反应腔导入空气。本发明进气法兰通过进气通道的设计,可以使得空气与尾气在反应腔的中部区域充分混合均匀,同时不易使得空气反流到反应腔顶部区域形成积尘,防止反应腔堵塞,提高尾气处理效率。

Description

一种进气法兰、尾气处理装置
技术领域
本发明涉及尾气处理技术领域,尤其涉及一种进气法兰、尾气处理装置。
背景技术
由于社会经济快速发展,泛半导体产业例如半导体、太阳能光伏、平板显示和LED为代表的产品在生产过程中会产生大量的尾气。这些尾气普遍具有易燃、有毒、高温室效应等性质,处理不当会产生严重的安全事故,造成重大经济损失,也会对人和环境造成严重威胁,必须将这些有害气体无害化处理后才能排放到环境中去。
无害化处理方法通常是将废气在反应腔中与氧气进行反应,部分生成固体颗粒被喷淋塔捕获,部分生成可溶于水的气体被喷淋塔吸收,其余的生成无害产物排放。
相关技术中,废气在反应腔氧化时与空气混合不匀,且容易在反应腔内壁积尘。
发明内容
本发明的目的在于提供一种进气法兰、尾气处理装置,以解决废气反应腔混气不匀且易积尘的技术问题。
为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
第一方面,本发明实施例提供一种进气法兰,用于为尾气处理的反应腔导入空气,所述法兰内具有环形的腔体,沿着所述法兰的外圆周面,所述法兰具有至少一个通孔;
所述腔体通过所述至少一个通孔与供气设备连通,所述腔体通过所述法兰的气流通道连通至所述反应腔;
所述气流通道为环形的通道,沿着所述反应腔中尾气气流的方向,所述气流通道向靠近所述法兰中心轴的方向倾斜。
根据本发明的至少一个实施方式,所述腔体具有与所述至少一个通孔相对的第一壁面,沿着所述反应腔中尾气气流的方向,所述第一壁面向靠近所述法兰中心轴的方向倾斜;
所述气流通道形成在所述腔体靠近所述第一壁面的部位。
根据本发明的至少一个实施方式,所述法兰靠近所述法兰的内圆周面的部位具有第一凸缘,所述气流通道形成在所述第一凸缘内。
根据本发明的至少一个实施方式,所述气流通道的中心轴线与所述法兰的中心轴线之间的夹角为10°~60°;和/或,
所述气流通道的宽度为3mm~10mm。
根据本发明的至少一个实施方式,所述腔体具有与所述第一壁面相邻的第二壁面,所述腔体的第二壁面具有环形的凸台,沿着所述至少一个通孔到第一壁面的方向,所述凸台位于所述腔体靠近中间的部位;
所述腔体还具有与所述第二壁面相对的第三壁面,所述凸台背离所述第二壁面的端面与所述第三壁面之间形成供所述空气通过的狭缝。
根据本发明的至少一个实施方式,所述狭缝的高度小于所述腔体高度的一半,所述狭缝的高度与所述腔体的高度之比为(1~2):5,所述狭缝的高度方向、所述腔体的高度方向均为:所述法兰的中心轴线方向。
根据本发明的至少一个实施方式,每个所述通孔与所述凸台的外圆周面相对。
根据本发明的至少一个实施方式,每个所述通孔靠近所述法兰外圆周面的部位还具有沉孔,所述沉孔用于与所述供气设备连接。
根据本发明的至少一个实施方式,所述通孔的数量为四个,各个所述通孔沿着所述法兰的外圆周面均匀分布。
本发明示例性实施例中提供的一个或多个技术方案中,至少可实现如下有益效果之一。
(1)进气法兰用于为反应腔导入空气,使得反应腔的尾气与空气充分均匀混合以发生氧化反应进行无害化处理。法兰的内部具有环形的腔体,腔体通过一个或多个通孔与法兰的外圆周面连通,从而可以将外部供气设备的空气导入至腔体中。法兰还具有与反应腔连通的环形的气流通道,气流通道领一端与腔体相连通,基于此,外部供气设备的空气依次通过通孔、腔体和气流通道被导入至反应腔中。由于气流通道沿着反应腔中尾气气流的流向向法兰中心轴倾斜,可以使得空气与尾气在反应腔的中部区域充分混合均匀,同时由于空气向反应腔的中间区域流动,相对于旋流而言,也不易在反应腔的内壁上积尘。
(2)本发明示例性实施例杆体的气流通道沿着反应腔中尾气气流的流向向法兰中心轴倾斜,也就是空气的流向与尾气的流向大致相同,其不易产生反流在上一道腔体,例如热分解腔中与废气反应形成积尘。
第二方面,本发明实施例还提供一种尾气处理装置,包括反应腔、导向环以及第一方面所述的法兰,所述导向环包括筒体以及位于所述筒体一端的第二凸缘,所述第二凸缘与所述反应腔的进气端连接,所述筒体的另一端延伸至所述反应腔的内部,所述筒体用于阻挡所述气流通道的空气反流至所述反应腔的进气端。
所述尾气处理装置相对于现有技术所具有的优势与第一方面提供的法兰相对于现有技术所具有的优势相同,在此不再赘述。
附图说明
附图示出了本发明的示例性实施方式,并与其说明一起用于解释本发明的原理,其中包括了这些附图以提供对本发明的进一步理解,并且附图包括在本说明书中并构成本说明书的一部分。
图1是根据本发明的实施方式的进气法兰立体结构示意图。
图2是根据本发明的实施方式的进气法兰和导向环侧视结构示意图。
图3是图2的A-A剖面结构示意图。
图4是图3的B部放大结构标注图。
图5是图3的B部局部放大示意图。
图6是根据本发明的实施方式的导向环的立体示意图。
图7是根据本发明的实施方式的尾气处理装置的结构示意图。
图8是图7的纵向剖面图。
附图标记:10、法兰;11、腔体;111、第一壁面;112、第二壁面;113、第三壁面;11a、第一腔段;11b、狭缝;11c、第二腔段;12、通孔;121、沉孔;13、气流通道;14、凸台;15、第一凸缘;20、导向环;21、筒体;22、第二凸缘;50、反应腔。
具体实施方式
下面结合附图和实施方式对本发明作进一步的详细说明。
泛半导体产业的生产过程中会产生大量的尾气,这些尾气普遍具有易燃、有毒、高温室效应等性质,这些有害气体必须无害化处理后才能排放到环境中。无害化处理方法是将气体通入高温反应腔,有害气体在高温下与氧气进行反应,部分生成固体颗粒被喷淋塔捕获,部分生成可溶于水的气体被喷淋塔吸收,其余的生成无害产物排放。
对于大流量含硅元素的气体,例如:甲硅烷、二氯二氢硅烷和TEOS等,在高温下与氧气反应会生成固态二氧化硅颗粒。当工艺废气通入进气腔时,会造成进气腔局部区域压力升高,迫使一部分已产生的二氧化硅颗粒返流至进气腔顶端。进气腔顶端区域气体速度很低,二氧化硅颗粒极易在壁面附着并逐渐累积,最终造成进气腔堵塞。进气腔的堵塞,一方面极大地缩短了设备的维护周期,需要相关维护人员频繁地打开腔体进行清理粉尘颗粒的操作;另一方面,堵塞的粉尘颗粒在高温进气腔内会进一步反应,逐渐生成含硅元素的玻璃状结晶物质,这些物质会附着在加热单元和腔体内壁等位置,造成散热性能下降,当腔体内温度较高时不能很好散热,存在安全隐患。
针对上述问题,本发明示例性实施例提供的进气法兰通过直流进气,将空气均匀地导入反应腔的中间区域,达到与反应腔内的待处理的尾气进行充分混合的目的。同时,空气采用直流而不采用旋流不会导致粉尘吹到反应腔内壁形成累积。
图1示出了本发明示例性实施例的进气法兰立体结构示意图。图2是根据本发明的实施方式的进气法兰和导向环侧视结构示意图。图3是图2的A-A剖面结构示意图。图4是图3的B部放大结构标注图。结合图1-图4所示,法兰10内具有环形的腔体11,沿着法兰10的外圆周面,法兰10具有至少一个通孔12;腔体11通过至少一个通孔12与供气设备连通,腔体11通过气流通道13连通至反应腔50;气流通道13为环形的通道,沿着反应腔50中尾气气流的方向,气流通道13向靠近法兰10中心轴的方向倾斜。示例性地,反应腔50中尾气气流的方向为竖直向下的方向。
实际应用中,在法兰10的内部形成有腔体11,腔体11为环形的结构,法兰10的外圆周面具有一个或多个通孔12,每个通孔12与腔体11连通,通孔12用于连接供气设备,供气设备可以为法兰10提供压缩干燥空气(Compress Dry Air,CDA)。示例性地,通孔12的轴线方向为法兰10的径向。法兰10上还形成有环形的气流通道13,气流通道13的环形开口朝向反应腔50内,气流通道13与腔体11相连通。气流通道13沿着反应腔50中尾气气流的方向,气流通道13向靠近法兰10中心轴的方向倾斜,如图3所示,尾气气流的方向为从上到下的方向,则气流通道13的倾斜方向为沿着从上到下向,朝向法兰10的中心轴线。示例性地,气流通道13的环形开口朝向反应腔50的中间区域。
当供气设备提供CDA气时,CDA气先通过通孔12进入腔体11中,由于腔体11的容积远大于通孔12的容积,CDA气在腔体11中可以在整个周向上进行分散、均匀化,然后通过环形的气流通道13均匀地进入反应腔50中,大部分CDA气体与反应腔50中尾气的主气流在反应腔50的中间区域发生反应,从而达到均匀化混气的效果,使得无害化尾气处理的效率更高。示例性地,CDA气体中的氧气与尾气中的SiF4生成SiO2粉末从而进行无害化处理。由于气流通道13的倾斜方向为从上向下的方向,则CDA气体的流向也倾斜向下,与反应腔50尾气的主气流的方向形成协同,CDA气体不易反流至反应腔50的上方,从而可以尽量避免在反应腔50上方部件(例如热分解腔)或者反应腔50的进气端位置生成粉尘堆积,从而堵塞相应的部位。
图5是图3的B部局部放大示意图。如图5所示,为了使得CDA气从气流通道13中流出的方向尽量沿着预设的倾斜角度流动,进而与反应腔50中的尾气充分混合。在腔体11中具有与至少一个通孔12相对的第一壁面111,沿着反应腔50中尾气气流的方向,第一壁面111向靠近法兰10中心轴的方向倾斜;气流通道13形成在腔体11靠近第一壁面111的部位。
实际应用中,第一壁面111的倾斜方向与气流通道13的倾斜方向一致,第一壁面111与气流通道13相应的壁面处在同一平面上。当腔体11中CDA气流从通孔12中进入腔体11并与第一壁面111相遇时,第一壁面111的倾斜面会将CDA气流导向至气流通道13,从气流通道13进入反应腔50中乱流会减少,从而CDA与反应腔50中的尾气可以充分混合,有利于均匀反应。第一壁面111与气流通道13的倾斜方向一致,可以使得CDA气流尽量避免吹到反应腔50内壁,从而避免在反应腔50内壁积尘。
在一些实施方式中,法兰10靠近内圆周面的部位具有第一凸缘15,气流通道13形成在第一凸缘15内。
如图3所示,第一凸缘15形成在法兰10的下方,也就是其位于反应腔50内,示例性地,第一凸缘15的内圆周面与法兰10的内圆周面共面。气流通道13形成在第一凸缘15内,示例性地,气流通道13的一个壁面与第一壁面111处在同一壁面。相对于不设置凸缘的法兰10,第一凸缘15的设置可以增加气流通道13的轴向长度,也就是气流通道13与第一壁面111共同作用,可以使得CDA气的导向性更强,即可以将CDA气尽量导向至反应腔50的中间区域,CDA气体的分布更均匀以使得与尾气充分反应。
如图3所示,气流通道13的中心轴线与法兰10的中心轴线之间的夹角α为10°~60°,可选地α为20°~40°,还可选地α为30°。当α为10°~60°范围内时,可以将CDA气导向至反应腔50的中间区域,当α大于60°,CDA气从气流通道13流出时容易反流至反应腔50上方的腔体或反应腔50的进气端,当α小于10°时,CDA气从气流通道13流出时容易流至反应腔50的底部而非反应腔50的中间区域,会造成CDA气与尾气混合不匀,从而反应不完全。
需要说明是,气流通道13的中心轴线是指:如图3所示当气流通道13被剖面时,形成气流通道13的两个相对的壁面之间的中心轴线,其平行于上述两个壁面。实质上,由于气流通道13为环形的通道,因此气流通道13的中心轴线为一个锥形体的旋转母线,α为这个锥形体锥角的一半。
如图4所示,气流通道13的宽度W1为3mm~10mm,气流通道13的宽度是指形成环形气流通道13的两个相对的内壁之间的距离。当W1为3mm~10mm时,一方面气流通道13的宽度小于腔体11的高度。示例性地,腔体11的高H2为5mm~20mm。也就是,当CDA气流从腔体11经过气流通道13流进反应腔50中,会形成加速。也就是CDA气流加速向下流动,使得CDA气流不容易向上反流至反应腔50的进口端或者反应腔50上方的热分解强等部件,以形成粉尘堵塞。可选地,上述气流通道13的宽度W1与腔体11的宽度H2之间的比为(2~4):5,还可选地为3:5。具体地,上述气流通道13的宽度W1为3mm~10mm,还可选地W1为5mm~8mm,还可选地W1为6mm~7mm。
图4结合图5所示,本发明示例性实施例的法兰所具有的腔体11的第二壁面112具有环形的凸台14,沿着至少一个通孔12到第一壁面111的方向,凸台14位于第二壁面112靠近中间的部位;腔体11还具有与第二壁面112相对的第三壁面113,凸台14背离第二壁面112的端面与第三壁面113之间形成供空气通过的狭缝11b。
实际应用中,腔体11由四个壁面围设而成,依次包括通孔12所在的壁面、第二壁面112、第一壁面111以及第三壁面113,其中第二壁面112与第三壁面113相对;第一壁面111与通孔12所在的壁面相对。环形的凸台14设在第二壁面112,且沿着通孔12到第一壁面111的方向凸台14大致设置在腔体11的中间部位。凸台14与第三壁面113之间形成狭缝11b,如图4所示,在腔体11中设置凸台14,实质上将腔体11分隔成三个部分,沿着第一壁面111到通孔12的方向依次包括第一腔段11a、狭缝11b和第二腔段11c。CDA气从通孔12进入腔体11具有的第二腔段11c,进而从狭缝11b进入第一腔段11a,然后从气流通道13中流出至反应腔50的中间区域。
在一可选的实施方式中,凸台14可以设在第三壁面113上,凸台14与第二壁面112之间形成狭缝11b,根据实际情况进行选择。
示例性地,狭缝11b的宽度H1小于腔体11宽度H2的一半,狭缝11b的宽度H1与腔体11的宽度H2之比为(1~2):5,可选地H1:H2=1:5。具体地,H2为5mm~20mm,H1为1mm~5mm,可选地H1为1.5mm~4.5mm,还可选地H1为2mm~4mm,还可选地H1为2.5mm~3.5mm。需要说明的是,上述狭缝11b的高度方向、腔体11高度方向均为法兰10的轴向方向。
实际应用中,CDA气从通孔12中进入第二腔段11c中,由于凸台14会阻挡CDA气流,可以改变气流的方向,从而CDA气在环形的第二腔段11c中进行预扩散,气体缓冲后更为均匀,使得气体弥漫在整个环形的第二腔段11c中,进而CDA气通过狭缝11b进入第一腔段11a,由于狭缝11b的宽度W1较小会形成加速作用,当CDA气进入第一腔段11a中,由于容积的变大,CDA气在第一腔段11a中再次进行扩散,以使得从环形的气流通道13中流出的CDA气更为均匀,便于与反应腔50中的尾气充分混合发生氧化反应。
由上可知,通过第二腔段11c、狭缝11b、第一腔段11a、气流通道13之间的尺寸以及气流通道13的倾斜角度之间的配合,可以使得CDA气进入反应腔50中均匀化。示例性地第一腔段11a的宽度H2、狭缝11b的宽度H1、气流通道13的宽度W1之间的比H2:H1:W1=5:(1~2):3,可选地H2:H1:W1=5:1:3。当H2:H1:W1=5:(1~2):3、以及气流通道13的倾斜角度α为10°~60°时,反应腔50中尾气与CDA气流可以充分混匀并进行反应,而CDA气流反流至反应腔50进气端可以尽量避免,CDA气流也不易吹到反应腔50内壁以与尾气反应形成积尘。
为了发挥凸台14阻挡CDA气流以形成预扩散的效果,示例性地,每个通孔12与凸台14的外圆周面相对。如图5所示,环形的凸台14具有朝向第一壁面111的内圆周面以及朝向通孔12所在壁面的外圆周面。通孔12的轴线方向为法兰10的径向,由此,通孔12可以与凸台14的外圆周面相对,或者通孔12可以与凸台14的外圆周面的一部分相对。例如,当凸台14位于第二壁面112时,通孔12的上壁面位于凸台14外圆周面顶端的下方,使得通孔12的CDA气流直接与凸台14外圆周面撞击;还可选地,通孔12的上壁面与下壁面分别位于凸台14的外圆周面顶端的上方和下方,以使得通孔12的CDA气流的一部分与凸台14外圆周面撞击。上述通孔12与凸台14的外圆周面的相对位置关系,可以使得CDA气流在第二腔段11c中进行预均匀化,从而保证其通过气流通道13进入反应腔50中均匀化,以便更好与反应腔50中的尾气进行混合。
考虑到供气设备与法兰10的易连接性,如图3所示,每个通孔12靠近法兰10外圆周面的部位还具有沉孔121,每个沉孔121用于与供气设备连接。沉孔121可以具有内螺纹,沉孔121用于与供气设备的管路进行螺纹连接,示例性地,供气设备管路的内径可以等于通孔12的内径或略大于通孔12的内径。示例性地,沉孔121与供气设备的管路之间的连接还可以采用卡接连接。基于此,法兰10的进气通孔12与供气设备的管路之间形成可拆卸连接。
如图1所示,通孔12的数量可以为1个,当腔体11中设置有环形凸台14时,一个通孔12即可满足进气均匀性的要求。示例性地,通孔12的数量可以为多个,例如2个、3个、4个、6个……等数量,根据实际需要而定。示例性地,当通孔12的数量为多个时,为了进一步提高进入第二腔段11c的进气量,以及通过法兰10进入反应腔50的CDA气体的均匀性,各个通孔12沿着法兰10的外圆周面均匀分布。
由上可知,本发明示例性实施例提供的进气法兰通过第二腔段、狭缝、第一腔段、第一壁面、气流通道的相对位置关系以及相应的尺寸配合气流通道的向法兰中心轴倾斜的角度,可以达到均匀布气的目的,使得进入反应腔50的空气与尾气充分混合,而不至于向反应腔上方反流形成堵塞,同时也不易将空气吹向反应腔的内壁与尾气反应形成粉尘堆积。基于此,本发明示例性实施例提供的进气法兰可以使得反应腔以及反应腔上方的腔体处于通畅状态,减缓堵塞,从而延长清理保养周期。
本发明示例性实施例还提供一种进气组件,进气组件包括导向环20以及上述的法兰10,其中,导向环20包括筒体21以及位于筒体21一端的第二凸缘22,第二凸缘22与反应腔50的进气端连接,筒体21的另一端延伸至反应腔50的内部,筒体21用于阻挡气流通道13的空气反流至反应腔50的进气端。
实际应用中,法兰10位于导向环20所具有的筒体21的外侧,也就是法兰10、导向环20的第二凸缘22与反应腔50的进气端连接,法兰10的环形气流通道位于筒体21的外侧。如图3所述,筒体21将进入反应腔50的尾气导向至反应腔50的中间区域,筒体21从反应腔50的进气端向反应腔50的内部进行延伸。相应地,来自气流通道13的CDA气流会由于导向环20的筒体21的阻挡,不会反流至反应腔50的上方,或者筒体具有凸缘的一端形成粉尘堵塞。在筒体21的导向作用下,来自气流通道13的CDA气流会沿着反应腔50尾气气流的方向进行流动,尾气与CDA气混合均匀进行反应,从而保证了反应均匀性。需要说明的是,如图6所示,筒体21可以为圆形的筒体,也即筒体21的轴线垂直于第二凸缘22,导向环20、反应腔50以及法兰10均是共轴的。
在一种可选的实施方式中,筒体21为圆锥台状的筒体,沿着反应腔50尾气的来流方向,筒体21的横截面逐渐减小。也即筒体21为漏斗状的筒体。示例性地,圆锥台状的筒体的锥角小于或等于120°。当圆锥台状的筒体21的锥角大于120°时,来自气流通道13的CDA气流会扩散至筒体的上端,无法防止CDA气流反流至反应腔50的进气端或者位于反应腔50上方的热分解腔。当圆锥台状的筒体21的锥角大于120°时,也无法达到调节反应区域的目的,还可选地,圆锥台状的筒体的锥角小于或等于100°。
当筒体21的锥角小于或等于120°时,并且气流通道13沿着尾气气流的方向,向靠近筒体21的方向倾斜。筒体21的壁面不仅可以阻止气流通道13的空气形成反流,还使得空气进入反应腔50后还是沿着气流通道13的倾斜方向进行流动,因此可以有效地将空气和尾气均导向至反应腔50的中间区域,形成均匀混合并反应。
为了使得导向环20达到调节反应腔50中尾气反应区域的目的,导向环的轴向长度不应太小或者太大。示例性地,导向环的轴向长度设置为30mm~200mm,在此轴向长度范围内,可以尽量把待处理的尾气导向至反应腔50的中部区域,在此区域中,配合气流通道13的倾斜角度,也就是CDA的来流方向,尾气在中部区域与CDA可以充分混合并反应,进而避免在反应腔50内壁面或者反应腔50上方形成粉尘积累,保持尾气畅通。
示例性地,气流通道13的中心轴线与筒体21背离第二凸缘22的端部不相交。该种实施方式,使得来自气流通道13的CDA不直接冲击筒体21的外壁面,这样可以减少CDA直接冲击筒体21的外壁面带来的乱流,乱流容易使得在靠近法兰的地方形成与尾气反应形成粉尘堆积。气流通道13的中心轴线与筒体21背离第二凸缘22的端部不相交,使得CDA气流可以与反应腔50的尾气气流直接进行混合均匀,促进尾气与CDA气在反应腔50的中部区域进行混合反应,以达到最佳的无害化处理目的。
由上可知,通过法兰与导向环之间的配合,可以最大程度地将从法兰进入反应腔50的CDA气体导向至反应腔的中间区域,避免CDA气体反流至反应腔50的进气端或者位于反应腔50上方的热分解腔,进而避免在上述两个位置处与尾气反应形成粉尘堵塞反应腔50进气端或热分解腔。
图7是根据本发明的实施方式的尾气处理装置的结构示意图。图8是图7的剖面图。结合图7-图8所示,本发明示例性实施例还提供一种尾气处理装置包括反应腔50、导向环20以及上述的进气法兰10,导向环20包括筒体21以及位于筒体21一端的第二凸缘22,第二凸缘22与反应腔50的进气端连接,筒体21的另一端延伸至反应腔50的内部,筒体21用于阻挡气流通道13的空气反流至反应腔50的进气端。
尾气处理装置相对于现有技术所具有的优势与上述的进气法兰相对于现有技术所具有的优势相同,在此不再赘述。
本领域的技术人员应当理解,上述实施方式仅仅是为了清楚地说明本发明,而并非是对本发明的范围进行限定。对于所属领域的技术人员而言,在上述公开的基础上还可以做出其它变化或变型,并且这些变化或变型仍处于本发明的范围内。

Claims (10)

1.一种进气法兰,其特征在于,用于为尾气处理的反应腔导入空气,所述法兰内具有环形的腔体,沿着所述法兰的外圆周面,所述法兰具有至少一个通孔;
所述腔体通过所述至少一个通孔与供气设备连通,所述腔体通过所述法兰的气流通道连通至所述反应腔;
所述气流通道为环形的通道,沿着所述反应腔中尾气气流的方向,所述气流通道向靠近所述法兰中心轴的方向倾斜。
2.根据权利要求1所述的法兰,其特征在于,所述腔体具有与所述至少一个通孔相对的第一壁面,沿着所述反应腔中尾气气流的方向,所述第一壁面向靠近所述法兰中心轴的方向倾斜;
所述气流通道形成在所述腔体靠近所述第一壁面的部位。
3.根据权利要求2所述的法兰,其特征在于,所述法兰靠近所述法兰的内圆周面的部位具有第一凸缘,所述气流通道形成在所述第一凸缘内。
4.根据权利要求2所述的法兰,其特征在于,所述腔体具有与所述第一壁面相邻的第二壁面,所述第二壁面具有环形的凸台,沿着所述至少一个通孔到第一壁面的方向,所述凸台位于所述第二壁面靠近中间的部位;
所述腔体还具有与所述第二壁面相对的第三壁面,所述凸台背离所述第二壁面的端面与所述第三壁面之间形成供所述空气通过的狭缝。
5.根据权利要求4所述的法兰,其特征在于,所述狭缝的高度小于所述腔体高度的一半,所述狭缝的高度方向、所述腔体的高度方向均为所述法兰的中心轴线方向。
6.根据权利要求4所述的法兰,其特征在于,每个所述通孔与所述凸台的外圆周面相对。
7.根据权利要求4所述的法兰,其特征在于,每个所述通孔靠近所述法兰的外圆周面的部位还具有沉孔,每个所述沉孔用于与所述供气设备连接。
8.根据权利要求4所述的法兰,其特征在于,所述通孔的数量为多个,各个所述通孔沿着所述法兰的外圆周面均匀分布。
9.根据权利要求8所述的法兰,其特征在于,所述通孔的数量为四个。
10.一种尾气处理装置,其特征在于,包括反应腔、导向环以及权利要求1-9任一项所述的法兰,所述导向环包括筒体以及位于所述筒体一端的第二凸缘,所述第二凸缘与所述反应腔的进气端连接,所述筒体的另一端延伸至所述反应腔的内部,所述筒体用于阻挡所述气流通道的空气反流至所述反应腔的进气端。
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