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CN116609979A - 柔性干涉调节型显示装置及其制作方法 - Google Patents

柔性干涉调节型显示装置及其制作方法 Download PDF

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CN116609979A
CN116609979A CN202310646436.7A CN202310646436A CN116609979A CN 116609979 A CN116609979 A CN 116609979A CN 202310646436 A CN202310646436 A CN 202310646436A CN 116609979 A CN116609979 A CN 116609979A
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CN
China
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conductive layer
layer
flexible
support structure
deformable reflective
Prior art date
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Pending
Application number
CN202310646436.7A
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English (en)
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张国辉
朱映光
胡永岚
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Huaibei Yeolight Technology Co Ltd
Original Assignee
Huaibei Yeolight Technology Co Ltd
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Publication date
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Abstract

本发明公开了一种柔性干涉调节型显示装置及其制作方法,显示装置包括:可变形反射导电层设置于半透导电层远离柔性基板的一侧,可变形反射导电层和半透导电层之间设置有第一支撑结构,第一支撑结构用于支撑可变形反射导电层,使可变形反射导电层和半透导电层之间具有间隙;柔性封装层贴附于第二支撑结构远离柔性基板的表面,柔性封装层用于封装半透导电层和可变形反射导电层,第二支撑结构用于支撑柔性封装层,使柔性封装层与可变形反射导电层之间具有间隙。本发明提供了一种柔性可弯曲的干涉调节型显示装置,满足用户多样化使用要求。

Description

柔性干涉调节型显示装置及其制作方法
技术领域
本发明涉及干涉调节型显示技术领域,尤其涉及一种柔性干涉调节型显示装置及其制作方法。
背景技术
反射型显示器包含电子纸、反射型液晶显示器、干涉调制型显示器等。其中,基于干涉测量调节(interferometric modulator display,IMOD)模式的反射型显示器,利用微腔控制特定波段光线的吸收与反射,实现对环境光的反射控制而实现显示效果。
干涉调节型显示器具有以下优点:1)具有驱动电压低的特点,而且可以实现稳态,只有切换显示时才耗电,所以该类显示屏功耗极低;2)刷新速度很快,甚至可以用来播放视频;通常电子纸类反射显示器,因为像素动作慢,所以画面刷新速度慢。无法播放动态画面。而干涉调节型显示屏,像素响应速度极快,因此播放视频画面无残影;3)干涉调节型显示器不需要背光灯,同现在常见的电子书和纸质杂志一样依靠反射外部光源,更能与环境光线匹配以保护视力。另外,其像素颜色丰富、分辨率效果接近华丽的平面杂志,且该类显示器即使在太阳光下阅读可见度也很好。
虽然干涉调节型显示器有上述优点,但现有的干涉调节型显示器无法弯曲,无法满足用户的多样化使用要求。
发明内容
本发明提供了一种柔性干涉调节型显示装置及其制作方法,以提供一种柔性可弯曲的干涉调节型显示装置,满足用户多样化使用要求。
根据本发明的一方面,提供了一种柔性干涉调节型显示装置,包括:
柔性基板以及设置于所述柔性基板上的半透导电层和可变形反射导电层;
所述可变形反射导电层设置于所述半透导电层远离所述柔性基板的一侧,所述可变形反射导电层和所述半透导电层之间设置有第一支撑结构,所述第一支撑结构用于支撑所述可变形反射导电层,使所述可变形反射导电层和所述半透导电层之间具有间隙;
所述可变形反射导电层远离所述柔性基板的一侧还设置有第二支撑结构和柔性封装层;
所述柔性封装层贴附于所述第二支撑结构远离所述柔性基板的表面,所述柔性封装层用于封装所述半透导电层和可变形反射导电层,所述第二支撑结构用于支撑所述柔性封装层,使所述柔性封装层与所述可变形反射导电层之间具有间隙。
可选的,所述第二支撑结构在所述可变形反射导电层的垂直投影位于所述第一支撑结构在所述可变形反射导电层的垂直投影内。
可选的,所述第二支撑结构的高度大于或等于5微米。
可选的,所述第二支撑结构在所述可变形反射导电层的垂直投影与所述第一支撑结构在所述可变形反射导电层的垂直投影重合;
或者,所述第二支撑结构包括多个支撑柱,多个支撑柱环绕可变形反射导电层和所述半透导电层之间的间隙设置。
可选的,所述柔性封装层邻近所述柔性基板的表面包括凸起结构,所述凸起结构与所述第二支撑结构粘结于一起。
可选的,所述柔性封装层邻近所述第二支撑结构的表面设置有胶层,所述柔性封装层通过所述胶层贴附于所述第二支撑结构表面;
所述胶层的厚度小于所述第二支撑结构的高度。
可选的,所述胶层内掺杂有干燥剂。
可选的,所述柔性干涉调节型显示装置包括多个条形的可变形反射导电层和多个条形的半透导电层;每一所述可变形反射导电层沿第一方向延伸,多个所述可变形反射导电层沿第二方向依次排列,每一所述半透导电层沿所述第二方向延伸,多个所述半透导电层沿所述第一方向依次排列,其中,所述第一方向和所述第二方向相互交叉;
所述可变形反射导电层与每一半透导电层交叠的位置对应形成一个发光单元。
可选的,所述柔性封装层包括金属层和/或无机层。
可选的,所述柔性基板包括超薄玻璃或聚酰亚胺基板;
所述柔性基板包括聚酰亚胺基板时,所述显示装置还包括阻隔层;
所述阻隔层设置于所述柔性基板邻近所述半透导电层的表面,且所述阻隔层覆盖所述柔性基板,所述阻隔层用于阻挡水氧。
可选的,柔性干涉调节型显示装置还包括:
吸光结构、第一透明绝缘层、第二透明绝缘层和刻蚀阻挡层;
所述吸光结构设置于柔性基板邻近所述半透导电层的一侧,所述吸光结构为网格状;所述第一支撑结构在所述柔性基板的垂直投影位于所述吸光结构在所述柔性基板的垂直投影内;
所述第一透明绝缘层设置于所述吸光结构和所述半透导电层之间,且所述第一透明绝缘层覆盖所述吸光结构和所述柔性基板;
所述第二透明绝缘层和所述刻蚀阻挡层设置于所述半透导电层和所述第一支撑结构之间,所述刻蚀阻挡层设置于所述第二透明绝缘层邻近所述第一支撑结构的一侧,所述第二透明绝缘层覆盖所述半透导电层,所述刻蚀阻挡层覆盖所述第二透明绝缘层。
根据本发明的另一方面,提供了一种柔性干涉调节型显示装置的制作方法,包括:
在柔性基板表面依次设置半透导电层、第一支撑结构和可变形反射导电层;其中,所述可变形反射导电层设置于所述半透导电层远离所述柔性基板的一侧,所述第一支撑结构设置于可变形反射导电层和所述半透导电层之间,所述第一支撑结构用于支撑所述可变形反射导电层,使所述可变形反射导电层和所述半透导电层之间具有间隙;
在所述可变形反射导电层远离所述柔性基板的一侧设置有第二支撑结构;
在所述第二支撑结构远离所述柔性基板的表面贴附柔性封装层,其中,所述柔性封装层用于封装所述半透导电层和可变形反射导电层,所述第二支撑结构用于支撑所述柔性封装层,使所述柔性封装层与所述可变形反射导电层之间具有间隙。
可选的,其中,所述第二支撑结构在所述可变形反射导电层的垂直投影位于所述第一支撑结构在所述可变形反射导电层的垂直投影内。
本发明实施例提供的柔性干涉调节型显示装置包括柔性基板以及设置于柔性基板上的半透导电层和可变形反射导电层,并且可变形反射导电层远离柔性基板的一侧还设置有第二支撑结构和柔性封装层,柔性封装层贴附于第二支撑结构远离柔性基板的表面第二支撑结构用于支撑柔性封装层,使柔性封装层与可变形反射导电层之间具有间隙。即本发明实施例的柔性干涉调节型显示装置采用柔性基板和柔性封装层,实现了柔性干涉调节型显示装置的柔性可弯折,并且通过第二支撑结构支撑柔性封装层,使柔性封装层与可变形反射导电层之间具有间隙,使得柔性封装结构不会刮伤可变形反射导电层,且对可变形反射导电层与半透导电层之间的吸合和分离影响较小。
应当理解,本部分所描述的内容并非旨在标识本发明的实施例的关键或重要特征,也不用于限制本发明的范围。本发明的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种柔性干涉调节型显示装置的示意图;
图2是本发明实施例提供的一种可变形反射导电层和半透导电层的俯视图;
图3是本发明实施例提供的一种柔性干涉调节型显示装置的整体图;
图4是本发明实施例提供的一种柔性干涉调节型显示装置的部分俯视图;
图5是本发明实施例提供的又一种柔性干涉调节型显示装置的示意图;
图6是本发明实施例提供的又一种柔性干涉调节型显示装置的示意图;
图7是本发明实施例提供的一种柔性干涉调节型显示装置的制作方法的流程图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本发明保护的范围。
需要说明的是,本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本发明的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
本发明实施例提供了一种柔性干涉调节型显示装置,图1是本发明实施例提供的一种柔性干涉调节型显示装置的示意图,参考图1,柔性干涉调节型显示装置包括:
柔性基板10以及设置于柔性基板10上的半透导电层20和可变形反射导电层30;
可变形反射导电层30设置于半透导电层20远离柔性基板10的一侧,可变形反射导电层30和半透导电层20之间设置有第一支撑结构40,第一支撑结构40用于支撑可变形反射导电层40,使可变形反射导电层30和半透导电层20之间具有间隙;
可变形反射导电层40远离柔性基板10的一侧还设置有第二支撑结构50和柔性封装层60;
柔性封装层60贴附于第二支撑结构50远离柔性基板10的表面,柔性封装层60用于封装半透导电层20和可变形反射导电层30,第二支撑结构50用于支撑柔性封装层60,使柔性封装层60与可变形反射导电层30之间具有间隙。
其中,柔性基板10可以采为用有机材料制备的基板,也可以为超薄玻璃等。半透导电层20可以选用Mo/Al或者NiAL材料,可变形反射导电层30可以选择Al和/或Ni等材料,示例性的,可变形反射导电层30可以包括一层Al层,一层Ni层。
可变形反射导电层30和半透导电层20两者之间的间隙形成光学微腔,光学微腔对由柔性基板10入射的环境光进行选择,仅使特定波段的光由柔性基板10处出射。第一支撑结构40在可变形反射导电层30和半透导电层20之间间隔出多个间隙,每一间隙处的可变形反射导电层30、半透导电层20以及该间隙对应形成一个发光单元11,可以通过设置第一支撑结构40的高度,改变间隙的高度,从而改变该发光单元的微腔腔长,从而改变该发光单元处出射的光的波长。本实施的显示装置可以包括一种出光颜色的发光单元,也可以包括两种或多种不同出光颜色的发光单元,即本实施中第一支撑结构40的高度可以不变,均采用同一高度,此时显示装置包括一种出光颜色的发光单元,第一支撑结构40也可以采用两种或多种不同的高度,对应形成两种或多种不同出光颜色的发光单元。图1中仅示例性的示出了一个发光单元11,并非对本发明的限定。
此外,图2是本发明实施例提供的一种可变形反射导电层和半透导电层20的俯视图,参考图2,可选的,显示装置可以包括多个条形的可变形反射导电层30和多个条形的半透导电层20,每一可变形反射导电层30沿第一方向Y延伸,多个可变形反射导电层30沿第二方向X依次排列,每一半透导电层20沿第二方向X延伸,多个半透导电层20沿所述第一方向Y依次排列,其中,第一方向Y和第二方向X相互交叉;可变形反射导电层30与每一半透导电层20交叠的位置对应形成一个发光单元11。示例性的,第二方向X可以为行方向,第一方向Y可以为列方向。
参考图1和图2,可以通过对可变形反射导电层30和半透导电层20通电或断电实现对发光单元11的开关控制。例如:可以在对可变形反射导电层30和半透导电层20施加电信号时,使可变形反射导电层30发生形变,可变形反射导电层30吸合到半透导电层20处,可变形反射导电层30和半透导电层20之间的间隙消失,从而使对应的发光单元11处不再出光,实现发光单元11的关闭,在需要发光单元11发光时不再向可变形反射导电层30和半透导电层20施加电信号,使可变形反射导电层30与半透导电层20存在间隙,使发光单元11出光。此外,也可以在通电时使发光单元11出光,在不通电时使可变形反射导电层30吸合到半透导电层20处,实现发光单元11的关闭。
第二支撑结构50和第一支撑结构40可以采用相同的材料或不同的材料制备。第二支撑结构50在可变形反射导电层30的垂直投影可以与第一支撑结构40在可变形反射导电层30的垂直投影部分交叠,示例性的,第二支撑结构50在可变形反射导电层30的垂直投影位于第一支撑结构40在可变形反射导电层20的垂直投影内,可以避免第二支撑结构50对可变形反射导电层30与半透导电层20的吸合和分离产生较大的影响。
柔性封装层60用于阻隔水氧,避免水汽和氧气影响可变形反射导电层30和半透导电层20。柔性封装层60可以从第二支撑结构50表面向显示装置的侧面延伸,一直延伸到显示装置的侧面,在显示装置的侧面处覆盖显示装置内部的各膜层。图3是本发明实施例提供的一种柔性干涉调节型显示装置的整体图,示例性的,参考图3,柔性封装层60可以与柔性基板10将可变形反射导电层30以及半透导电层20等显示装置内部膜层包裹起来。
第二支撑结构50用于支撑柔性封装层60,使柔性封装层60与可变形反射导电层30之间具有间隙,避免柔性封装层60影响可变形反射导电层30与半透导电层20的吸合和分离,并且避免柔性封装层60蹭伤可变形反射导电层30。
本发明实施例提供的柔性干涉调节型显示装置包括柔性基板10以及设置于柔性基板10上的半透导电层20和可变形反射导电层30,并且可变形反射导电层30远离柔性基板10的一侧还设置有第二支撑结构50和柔性封装层60,柔性封装层60贴附于第二支撑结构50远离柔性基板10的表面,第二支撑结构50用于支撑柔性封装层60,使柔性封装层60与可变形反射导电层30之间具有间隙。即本发明实施例的柔性干涉调节型显示装置采用柔性基板10和柔性封装层60,实现了柔性干涉调节型显示装置的柔性可弯折,并且通过第二支撑结构50支撑柔性封装层60,使柔性封装层60与可变形反射导电层30之间具有间隙,使得柔性封装层60不会刮伤可变形反射导电层20,且对可变形反射导电层20与半透导电层20之间的吸合和分离影响较小。
可选的,第二支撑结构50在可变形反射导电层30的垂直投影位于第一支撑结构40在可变形反射导电层30的垂直投影内,可以避免第二支撑结构50对可变形反射导电层30与半透导电层20的吸合和分离产生较大的影响。
可选的,第二支撑结构50的高度大于或等于5微米。
具体的,第二支撑结构50的高度太小时,贴附柔性封装层60过程中以及贴附之后,柔性封装层60可能会碰到可变形反射导电层20,可能会刮伤可变形反射导电层20,影响可变形反射导电层20的性能,设置第二支撑结构50的高度大于或等于5微米,可以避免贴附柔性封装层60过程中以及贴附之后影响可变形反射导电层20。
示例性的,第二支撑结构50的高度可以根据需要设置为几微米,几十微米或几百微米。如,第二支撑结构50的高度可以为10微米、30微米、50微米、100微米、200微米、300微米或500微米等。
可选的,第二支撑结构50在可变形反射导电层30的垂直投影与第一支撑结构40在可变形反射导电层30的垂直投影重合;或者,第二支撑结构50包括多个支撑柱51,多个支撑柱51环绕可变形反射导电层30和半透导电层20之间的间隙设置。
具体的,第二支撑结构50在可变形反射导电层30的垂直投影与第一支撑结构40在可变形反射导电层30的垂直投影重合时,第二支撑结构50可以对柔性封装层60起到更好的支撑作用,并且第二支撑结构50和第一支撑结构40可以采用相同的掩膜版制备,降低工艺成本。
此外,图4是本发明实施例提供的一种柔性干涉调节型显示装置的部分俯视图,参考图4,第二支撑结构50可以包括多个支撑柱51,多个支撑柱51环绕可变形反射导电层30和半透导电层20之间的间隙设置,这样多个支撑柱51亦可以对柔性封装层60起到较好的支撑作用,并且支撑柱51与可变形反射导电层30的接触面积较小,可以更好的避免支撑柱51影响可变形反射导电层30与半透导电层20的吸合和分离。
示例性的,每一发光单元11的四个边角分别设置一个支撑柱51,以更好的支撑柔性封装层60。
图5是本发明实施例提供的又一种柔性干涉调节型显示装置的示意图,可选的,参考图5,柔性封装层60邻近柔性基板10的表面包括凸起结构61,凸起结构61与第二支撑结构50粘结于一起。
具体的,凸起结构61相对于柔性封装层60的其他区域向柔性基板10方向外凸,通过设置凸起结构61与第二支撑结构50粘结于一起,使得柔性封装层60除凸起结构61之外的区域与可变形反射导电层30的距离等于第二支撑结构50的高度与凸起结构61的高度和,使得柔性封装层60除凸起结构61之外的区域与可变形反射导电层30的距离更大,更好的避免柔性封装层60刮伤可变形反射导电层30。
可选的,参考图5,柔性封装层60邻近第二支撑结构50的表面设置有胶层70,柔性封装层60通过胶层70贴附于第二支撑结构50表面,胶层70的厚度小于第二支撑结构50的高度。
具体的,通过胶层70将柔性封装层60贴附于第二支撑结构50表面,工艺简单,且不易损伤可变形反射导电层30。
胶层70贴附在第二支撑结构50表面后会存在一定的形变,胶层70太厚时,在与第二支撑结构50贴合后,胶层70可能会黏连可变形反射导电层30,从而刮伤可变形反射导电层30,设置胶层70的厚度小于第二支撑结构50的高度,可以避免胶层70刮伤可变形反射导电层30。
第二支撑结构50的高度越高,胶层70可以设置的越厚,示例性的,第二支撑结构50的高度为5微米时,胶层70的厚度可以设置为小于3微米,第二支撑结构50的高度为几十微米时,胶层70的厚度可以设置为十几微米,第二支撑结构50的高度大于50或等于50微米时,胶层70的厚度可以设置为20-30微米。
可选的,胶层70内掺杂有干燥剂。干燥剂可以吸收进入可变形反射导电层30与半透导电层20之间的间隙内的水汽,避免水汽影响可变形反射导电层30与半透导电层20之间的吸合与分离。
可选的,柔性封装层60包括金属层和/或无机层。
具体的,金属和无机材料均具有较好的阻水氧性能,柔性封装层60采用金属层或无机层等水氧阻隔层,可以较好的满足阻水阻氧性能要求。
需要说明的是,本实施例仅示例性的示出了柔性封装层60包括金属层和/或无机层,并非对本实施例的限制,在其他实施方式中,柔性封装层60也可以包括有机层。
可选的,柔性基板10包括超薄玻璃或聚酰亚胺基板;
图6是本发明实施例提供的又一种柔性干涉调节型显示装置的示意图,可选的,参考图6,柔性基板10包括聚酰亚胺基板时,显示装置还包括阻隔层80;阻隔层80设置于柔性基板10邻近半透导电层20的表面,且阻隔层80覆盖柔性基板10,阻隔层80用于阻挡水氧。
具体的,超薄玻璃和聚酰亚胺基板均具有较好的柔性,且工艺成熟,柔性基板10采用超薄玻璃或聚酰亚胺基板,可以降低显示装置成本,且使显示装置具有较好的柔性。
另外,通过设置阻隔层80,可以避免水氧从柔性基板10方向进入显示装置内部,更好避免水氧影响可变形反射导电层30与半透导电层20。阻隔层80可以包括交替设置的SiOx层及SiNx层,SiOx层及SiNx层可以采用化学气象沉积CVD工艺制备。
可选的,参考图6,显示装置还包括:
吸光结构90、第一透明绝缘层100、第二透明绝缘层110和刻蚀阻挡层120;
吸光结构90设置于柔性基板10邻近半透导电层20的一侧,吸光结构90为网格状;第一支撑结构40在柔性基板10的垂直投影位于吸光结构90在柔性基板10的垂直投影内;
第一透明绝缘层100设置于吸光结构90和半透导电层20之间,且第一透明绝缘层100覆盖吸光结构90和柔性基板10;
第二透明绝缘层110和刻蚀阻挡层120设置于半透导电层20和第一支撑结构40之间,刻蚀阻挡层120设置于第二透明绝缘层110邻近第一支撑结构40的一侧,第二透明绝缘层110覆盖半透导电层20,刻蚀阻挡层120覆盖第二透明绝缘层110。
其中,吸光结构90用于吸收环境光,使入射到其内的环境光无法出射,吸光结构90环绕每一发光单元设置,吸光结构90用于限定发光单元,将相邻的发光单元分隔开。吸光结构90可以采用Mo/Al制备。
第一透明绝缘层100和第二透明绝缘层110均可采用氧化硅和/或氮化硅等绝缘材料制备,第一透明绝缘层100用于使吸光结构90和半透导电层20之间绝缘,并用于包括吸光结构90。
刻蚀阻挡层120可以采用AlOx等材料制备,刻蚀阻挡层120用于包括第二透明绝缘层110等膜层,避免制备第一支撑结构40过程中采用刻蚀工艺时破坏第二透明绝缘层110。示例性的,在制备第一支撑结构40时,首先在第二透明绝缘层110表面形成一层牺牲层,对牺牲层进行图像化,然后制备一层透明绝缘层,对透明绝缘层进行图像化,最后去除牺牲层,保留下的透明绝缘层即为第一支撑结构40。刻蚀阻挡层120用于避免牺牲层制备以及去除过程中破坏第二透明绝缘层110。
此外,需要说明的是,为增加半透导电层20的导电性,还可以在半透导电层20制备一层导电层130。示例性的,可以设置导电层130在柔性基板10的垂直投影可以位于第一支撑结构40在柔性基板10的垂直投影内。
本发明实施例还提供了一种柔性干涉调节型显示装置的制作方法,图7是本发明实施例提供的一种柔性干涉调节型显示装置的制作方法的流程图,参考图7,该方法包括:
S110、在柔性基板表面依次设置半透导电层、第一支撑结构和可变形反射导电层;其中,可变形反射导电层设置于半透导电层远离柔性基板的一侧,第一支撑结构设置于可变形反射导电层和半透导电层之间,第一支撑结构用于支撑可变形反射导电层,使可变形反射导电层和半透导电层之间具有间隙。
S120、在可变形反射导电层远离柔性基板的一侧设置有第二支撑结构。
S130、在第二支撑结构远离柔性基板的表面贴附柔性封装层,其中,柔性封装层用于封装半透导电层和可变形反射导电层,第二支撑结构用于支撑柔性封装层,使柔性封装层与可变形反射导电层之间具有间隙。
可选的,第二支撑结构在可变形反射导电层的垂直投影位于第一支撑结构在可变形反射导电层的垂直投影内。
具体的,参考图5,显示装置的具体制备过程可以包括:
在采用超薄玻璃的柔性基板10上沉积Mo/Al层,并将该层制备成网格层作为吸光结构90;在上述图形基础上沉积第一透明绝缘层100(可以采用氧化硅、氮化硅等绝缘材料),并在第一透明绝缘层100基础上沉积半透明金属层,形成半透导电层20,该层可以选用Mo/Al或者NiAL材料,并将上述金属层制备成沿行方向延伸的条形。
在上述图形基础上,沉积第二透明绝缘层110(可以采用氧化硅、氮化硅等绝缘材料),并在上述层上沉积AlOx作为刻蚀阻止层120,并对刻蚀阻挡层120做局部开口,该局部开口用于设置焊盘或连接线等连接结构,用于绑定外部电路板。
在上述层的基础上,沉积刻蚀牺牲层(例如Mo、Si等);并对该层做刻蚀图形化,针对彩色或多色屏体(显示装置包括至少两种颜色的发光单元),该层要做多次沉积与刻蚀。在上述牺牲层上,沉积透明绝缘层,并做图形化。在该层基础上,沉积可变形反射导电层(可变形反射导电层可以选择Al、Ni等)。
最后做牺牲层刻蚀,形成第一支撑结构40。在发光单元四角的第一支撑结构对应位置处,进一步采用涂胶、曝光、刻蚀的方式,制备高度>5um的第二支撑结构50。该支撑柱负责与后面的薄膜封装层进行贴敷。防止后面的封装层薄膜蹭伤可变形反射导电层。
最后在第二支撑结构50的支撑面贴敷柔性封装层,该柔性封装层带有胶膜,胶膜内部含有干燥剂成分。胶膜厚度低于3um。防止薄膜对第二支撑结构50的损伤。最后将上述屏体,对玻璃基板面进行减薄、抛光处理,并进行分切,得到独立的显示装置。
此外,参考图6,柔性基板10采用PI基板制备显示装置时,首先以玻璃或塑料为衬底,在衬底上涂布PI层,将PI层固化后,采用CVD交替沉积SiOx层及SiNx层,形成阻隔层80。然后再制备吸光结构90等其他结构。并在柔性封装层60贴附完毕后,通过激光剥膜或者机械剥离的方式将PI层从衬底上剥离下来,获得柔性干涉调节式显示屏。最后对大板进行分切,获得独立的显示装置。
应该理解,可以使用上面所示的各种形式的流程,重新排序、增加或删除步骤。例如,本发明中记载的各步骤可以并行地执行也可以顺序地执行也可以不同的次序执行,只要能够实现本发明的技术方案所期望的结果,本文在此不进行限制。
上述具体实施方式,并不构成对本发明保护范围的限制。本领域技术人员应该明白的是,根据设计要求和其他因素,可以进行各种修改、组合、子组合和替代。任何在本发明的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明保护范围之内。

Claims (10)

1.一种柔性干涉调节型显示装置,其特征在于,包括:
柔性基板以及设置于所述柔性基板上的半透导电层和可变形反射导电层;
所述可变形反射导电层设置于所述半透导电层远离所述柔性基板的一侧,所述可变形反射导电层和所述半透导电层之间设置有第一支撑结构,所述第一支撑结构用于支撑所述可变形反射导电层,使所述可变形反射导电层和所述半透导电层之间具有间隙;
所述可变形反射导电层远离所述柔性基板的一侧还设置有第二支撑结构和柔性封装层;
所述柔性封装层贴附于所述第二支撑结构远离所述柔性基板的表面,所述柔性封装层用于封装所述半透导电层和可变形反射导电层,所述第二支撑结构用于支撑所述柔性封装层,使所述柔性封装层与所述可变形反射导电层之间具有间隙。
2.根据权利要求1所述的柔性干涉调节型显示装置,其特征在于:
所述第二支撑结构在所述可变形反射导电层的垂直投影位于所述第一支撑结构在所述可变形反射导电层的垂直投影内;
所述第二支撑结构的高度大于或等于5微米。
3.根据权利要求2所述的柔性干涉调节型显示装置,其特征在于:
所述第二支撑结构在所述可变形反射导电层的垂直投影与所述第一支撑结构在所述可变形反射导电层的垂直投影重合;
或者,所述第二支撑结构包括多个支撑柱,多个支撑柱环绕可变形反射导电层和所述半透导电层之间的间隙设置。
4.根据权利要求1所述的柔性干涉调节型显示装置,其特征在于:
所述柔性封装层邻近所述柔性基板的表面包括凸起结构,所述凸起结构与所述第二支撑结构粘结于一起。
5.根据权利要求1所述的柔性干涉调节型显示装置,其特征在于:
所述柔性封装层邻近所述第二支撑结构的表面设置有胶层,所述柔性封装层通过所述胶层贴附于所述第二支撑结构表面;
所述胶层的厚度小于所述第二支撑结构的高度;
所述胶层内掺杂有干燥剂。
6.根据权利要求1所述的柔性干涉调节型显示装置,其特征在于:
所述柔性干涉调节型显示装置包括多个条形的可变形反射导电层和多个条形的半透导电层;每一所述可变形反射导电层沿第一方向延伸,多个所述可变形反射导电层沿第二方向依次排列,每一所述半透导电层沿所述第二方向延伸,多个所述半透导电层沿所述第一方向依次排列,其中,所述第一方向和所述第二方向相互交叉;
所述可变形反射导电层与每一半透导电层交叠的位置对应形成一个发光单元。
7.根据权利要求1所述的柔性干涉调节型显示装置,其特征在于:
所述柔性封装层包括金属层和/或无机层;
所述柔性基板包括超薄玻璃或聚酰亚胺基板;
所述柔性基板包括聚酰亚胺基板时,所述显示装置还包括阻隔层;
所述阻隔层设置于所述柔性基板邻近所述半透导电层的表面,且所述阻隔层覆盖所述柔性基板,所述阻隔层用于阻挡水氧。
8.根据权利要求1所述的柔性干涉调节型显示装置,其特征在于,还包括:
吸光结构、第一透明绝缘层、第二透明绝缘层和刻蚀阻挡层;
所述吸光结构设置于柔性基板邻近所述半透导电层的一侧,所述吸光结构为网格状;所述第一支撑结构在所述柔性基板的垂直投影位于所述吸光结构在所述柔性基板的垂直投影内;
所述第一透明绝缘层设置于所述吸光结构和所述半透导电层之间,且所述第一透明绝缘层覆盖所述吸光结构和所述柔性基板;
所述第二透明绝缘层和所述刻蚀阻挡层设置于所述半透导电层和所述第一支撑结构之间,所述刻蚀阻挡层设置于所述第二透明绝缘层邻近所述第一支撑结构的一侧,所述第二透明绝缘层覆盖所述半透导电层,所述刻蚀阻挡层覆盖所述第二透明绝缘层。
9.一种柔性干涉调节型显示装置的制作方法,其特征在于,包括:
在柔性基板表面依次设置半透导电层、第一支撑结构和可变形反射导电层;其中,所述可变形反射导电层设置于所述半透导电层远离所述柔性基板的一侧,所述第一支撑结构设置于可变形反射导电层和所述半透导电层之间,所述第一支撑结构用于支撑所述可变形反射导电层,使所述可变形反射导电层和所述半透导电层之间具有间隙;
在所述可变形反射导电层远离所述柔性基板的一侧设置有第二支撑结构;
在所述第二支撑结构远离所述柔性基板的表面贴附柔性封装层,其中,所述柔性封装层用于封装所述半透导电层和可变形反射导电层,所述第二支撑结构用于支撑所述柔性封装层,使所述柔性封装层与所述可变形反射导电层之间具有间隙。
10.根据权利要求9所述的柔性干涉调节型显示装置的制作方法,其特征在于,所述第二支撑结构在所述可变形反射导电层的垂直投影位于所述第一支撑结构在所述可变形反射导电层的垂直投影内。
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