CN116426874A - 掩膜版组件、显示面板的制造方法及显示面板 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种掩膜版组件、显示面板的制造方法及显示面板，通过使用掩膜开口区位置错开的两个掩膜版进行两次蒸镀或者使用掩膜开口区位置错开的一个掩膜版平移前后进行两次蒸镀，可以在不增加其他工艺的情况下依靠蒸镀形成图案化的共用电极层，降低了图案化共用电极层的制造难度和制造成本。

Description

掩膜版组件、显示面板的制造方法及显示面板

技术领域

本申请涉及显示面板制造领域，具体而言，涉及一种掩膜版组件、显示面板的制造方法及显示面板。

背景技术

在一些具有显示功能的电子设备中，为了尽可能提高屏占比，减少其他光学器件(如，摄像头、光线传感器等)对显示效果的影响，将显示面板的至少一部分设置为具有一定透明度，并将光学器件设置在显示面板下方，使得外界光线可以穿过显示面板到达位下方的光学器件。为了保证光学器件的信号采集效果，需要尽可能地提高显示面板的光线透过率，在一些此类电子设备中，考虑将原本覆盖整个显示面的阴极层图案化，从而减少与发光像素之间的间隙对应的阴极层对透过率的影响。但是，现有技术中图案化阴极层的方案均不成熟，实现难度大。

发明内容

为了克服现有技术中的上述不足，本申请的目的在于提供一种掩膜版组件，所述掩膜版组件包括：

第一掩膜版，所述第一掩膜版包括第一掩膜遮挡区和多个第一掩膜开口区，所述多个第一掩膜开口区相互间隔；

第二掩膜版，所述第二掩膜版包括第二掩膜遮挡区和多个第二掩膜开口区，所述多个第二掩膜开口区相互间隔；

其中，所述第一掩膜开口区形成的图案与所述第二掩膜开口区形成的图案可拼合形成阵列状网格图案。

在一种可能的实现方式中，所述第一掩膜遮挡区的图案和所述第二掩膜遮挡区的图案可重叠形成像素间隙遮挡区。

本申请的另一目的在于提供一种掩膜版组件，所述掩膜版组件包括：

第三掩膜版，所述第三掩膜版包括第三掩膜遮挡区和多个第三掩膜开口区，所述多个第三掩膜开口区相互间隔；

所述第三掩膜版包括第一定位标识和第二定位标识；所述第三掩膜开口区以第一定位标识为基准形成的图案和所述第三掩膜开口区以所述第二定位标识为基准形成的图案可拼合形成阵列状网格图案。

在一种可能的实现方式中，所述第三掩膜遮挡区以第一定位标识为基准形成的图案和所述第三掩膜遮挡区以所述第二定位标识为基准形成的图案可重叠形成像素间隙遮挡区。

在一种可能的实现方式中，所述第一掩膜开口区形成的图案与所述第二掩膜开口区形成的图案拼合形成的阵列状网格包括具有圆角的三角形的开口；

或，所述第三掩膜开口区以所述第一定位标识为基准形成的图案和所述第三掩膜开口区以所述第二定位标识为基准形成的图案拼合形成的阵列状网格包括具有圆角的三角形的开口。

在一种可能的实现方式中，所述第一掩膜开口区形成的图案与所述第二掩膜开口区形成的图案包括至少部分重合区域，所述重叠区域位于所述第一掩膜开口区形成的图案与所述第二掩膜开口区形成的图案拼合的交界位置；

或，所述第三掩膜开口区以所述第一定位标识为基准形成的图案和所述第三掩膜开口区以所述第二定位标识为基准形成的图案包括至少部分重合区域，所述重叠区域位于所述第三掩膜开口区以所述第一定位标识为基准形成的图案和所述第三掩膜开口区以所述第二定位标识为基准形成的图案拼合的交界位置。

本申请的另一目的在于提供一种显示面板的制造方法，所述方法使用本申请提供的所述掩膜版组件进行蒸镀，所述方法包括：

通过所述第一掩膜版在待蒸镀面板上蒸镀形成多个第一图案；

通过所述第二掩膜版在待蒸镀面板上蒸镀形成多个第二图案，使所述第二图案位于相邻的第一图案之间，并使所述第一图案和所述第二图案拼合形成阵列状网格。

本申请的另一目的在于提供一种显示面板的制造方法，所述方法使用本申请提供的所述掩膜版组件进行蒸镀，所述方法包括：

通过所述第三掩膜版在待蒸镀面板上蒸镀形成第一图案；

调整所述第三掩膜版与所述待蒸镀面板的相对位置，并通过所述第三掩膜版在待蒸镀面板上蒸镀形成第二图案，使所述第二图案位于相邻的第一图案之间，并使所述第一图案和所述第二图案拼合形成阵列状网格。

在一种可能的实现方式中，所述通过所述第三掩膜版在待蒸镀面板上蒸镀形成第一图案的步骤，包括：

根据所述第一定位标识将所述第三掩膜版设置于待蒸镀面板，使所述第三掩膜版位于第一位置，并在所述第一位置执行蒸镀；

所述调整所述第三掩膜版与所述待蒸镀面板的相对位置的步骤，包括：

根据所述第二定位标识将所述第三掩膜版设置于待蒸镀面板，使所述第三掩膜版位于第二位置。

本申请的另一目的在于提供一种显示面板，所述显示面板的制造过程采用本申请提供的所述显示面板的制造方法。

相对于现有技术而言，本申请具有以下有益效果：

本申请提供一种掩膜版组件、显示面板的制造方法及显示面板，通过使用掩膜开口区位置错开的两个掩膜版进行两次蒸镀或者使用掩膜开口区位置错开的一个掩膜版平移前后进行两次蒸镀，可以在不增加其他工艺的情况下依靠蒸镀形成图案化的共用电极层，降低了图案化共用电极层的制造难度和制造成本。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为现有技术中图案化阴极层的示意图之一；

图2为现有技术中图案化阴极层的示意图之二；

图3为现有技术中掩膜版示意图；

图4为本实施例提供的掩膜版组件之一；

图5为本实施例提供的掩膜版组件之二；

图6为本实施例提供的掩膜版组件蒸镀过程示意图；

图7为本实施例提供的显示面板的制造方法的步骤流程图之一；

图8为本实施例提供的掩膜版组件之三；

图9为本实施例提供的掩膜版组件之四；

图10为本实施例提供的掩膜版组件蒸镀结果示意图；

图11为本实施例提供的掩膜版组件之五；

图12为本实施例提供的掩膜版组件之六；

图13为本实施例提供的显示面板的制造方法的步骤流程图之二。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本申请的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例中的不同特征之间可以相互结合。

请参见图1，图1为OLED显示面板垂直于出光面的剖视图，通常的OLED显示面板通常包括阵列基板100、阳极层200、像素界定层300、发光材料层400和阴极层500。

其中，阳极层200位于阵列基板100上，阳极层200包括多个相互间隔的阳极电极，阳极电极与阵列基板100电性连接。像素界定层300位于阵列基板100设置有阳极层200的一侧，像素界定层300包括多个暴露出阳极电极的像素开口。发光材料层400位于像素界定层300的像素开口中。阴极层500位于发光材料层400和像素界定层300远离阵列基板100的一侧，阴极层500与发光材料层400接触，通常阴极层500会覆盖整个发光面，不同的发光像素会共用一个阴极层500。

请再次参照图1，在一些显示面板中，为了尽可能地减少阴极层500对显示面板透过率的影响，需要将阴极层500也图案化，在阴极层500上设置与发光像素之间的间隙位置对应的开口。

例如，请参照图2，图2为图案化以后阴极层500的示意图，图案化以后的阴极层500需要具有与发光像素位置对应的阴极有效区510和与发光像素之间间隙的位置对应的阴极开口区520，并且，不同发光像素对应的阴极有效区510需要相互连接实现不同的发光像素共用一个阴极层500。

为了形成图2所示的图案化的阴极层500，在一些现有技术中，采用了对阴极层500进行激光刻蚀的方案，但激光刻蚀难度大成本高。在另一些现有技术中，尝试使用传统的掩膜版进行蒸镀形成图案化阴极的方案。但是，请参照图3，为了形成相互连接的阴极有效区510，需要掩膜版具有相互连通的掩膜开口区，这就导致掩膜版上会形成与边框或与掩膜版其他位置均不连接的掩膜版遮挡区，这些掩膜遮挡区相互分离，无法实现固定或者定位，几乎不可能用于蒸镀作业。

有鉴于此，本实施例提供一种改进掩膜版组件、显示面板的制造方法及显示面板，可以在仅使用掩膜版进行蒸镀的情况下形成图案化的共用电极层，下面对本实施例提供的方案进行详细阐述。

本实施例提供一种掩膜版组件，该掩膜版组件可以包括如图4所示的第一掩膜版和如图5所示的第二掩膜版。

请参照图4，第一掩膜版包括第一掩膜遮挡区911和多个第一掩膜开口区912，多个第一掩膜开口区912相互间隔。再请参照图5，第二掩膜版包括第二掩膜遮挡区921和多个第二掩膜开口区922，多个第二掩膜开口区922相互间隔。

其中，第一掩膜开口区912形成的图案与第二掩膜开口区922形成的图案可拼合形成阵列状网格图案。

例如，将第一掩膜版设置于待蒸镀面板时，第一掩膜开口区912在待蒸镀面板上形成第一正投影，将第二掩膜版设置于待蒸镀面板时，第二掩膜开口区922在待蒸镀面板上形成第二正投影。第二正投影位于相邻的第一正投影之间，第一正投影和第二正投影相互连接形成阵列状网格。

由于第一掩膜版和第二掩膜版上的掩膜开口均是相互间隔的，因此不会存在孤立的掩膜遮挡区，即不会产生掩膜遮挡区无法定位或固定的问题。

又由于第一掩膜版上的第一掩膜开口区912和第二掩膜版上的第二掩膜开口区922相互错开，在分别使用第一掩膜版和第二掩膜版进行蒸镀作业后，两次蒸镀形成图案位置互补，从而可以拼合形成阵列状网格。

在一种可能的实现方式中，通过第一掩膜版和第二掩膜版进行蒸镀的材料可以包括导电材料，该导电材料可以在待蒸镀面板上形成图案化的阴极层。例如，请参照图6，使用如图4所示的第一掩膜版进行导电材料蒸镀，可以在待蒸镀面板上形成第一图案511，再使用如图5所示的第二掩膜版进行导电材料蒸镀，则可以在相邻的第一图案511之间形成第二图案512，如图6中虚线位置所示。最终，第一图案511和第二图案512相互连接形成网格状的导电材料层，该导电材料层即为显示面板的共用电极层(如图2所示的阴极层500)。

基于上述设计，本实施例提供的掩膜版组件，通过使用掩膜开口区位置错开的两个掩膜版进行两次蒸镀，可以在不增加其他工艺的情况下依靠蒸镀形成图案化的共用电极层，降低了图案化共用电极层的制造难度和制造成本。

在一种可能的实现方式中，可以基于第一掩膜版上的定位标识将第一掩膜版设置于待蒸镀面板，并进行蒸镀形成第一图案511，然后基于第二掩膜版上的定位标识将第二掩膜版设置于待蒸镀面板，并进行蒸镀形成第二图案512，从而使第一图案511和第二图案512相互连接形成阵列状网格图案。

在一种可能的实现方式中，第一掩膜遮挡区911的图案和第二掩膜遮挡区921的图案可重叠形成像素间隙遮挡区。

例如，将第一掩膜版设置于待蒸镀面板时，第一掩膜遮挡区911在待蒸镀面板上形成第三正投影，将第二掩膜版设置于待蒸镀面板时，第二掩膜遮挡区921在待蒸镀面板上形成第四正投影。第三正投影和第四正投影重合的部分形成像素间隙遮挡区，像素间隙遮挡区与待蒸镀面板上相邻发光像素之间的至少部分间隙重合。

也就是说，如果将第一掩膜版和第二掩膜版重叠，则第一掩膜遮挡区911和第二掩膜遮挡区921存在重叠的部分。在使用第一掩膜版进行蒸镀时，被第一掩膜遮挡区911遮挡的位置不会形成第一图案511，使用第二掩膜版进行蒸镀时，被第二掩膜遮挡区921遮挡的位置不会形成第二图案512。第一掩膜遮挡区911和第二掩膜遮挡区921重叠的部分在两次蒸镀中均不会形成图案，就形成了图案之间的开口区(如图2所示阴极开口区520)，且图案之间的开口区与相邻发光像素之间的至少部分间隙重合，从而可以减少共用电极层对外界光线的阻挡，提高光线透过率。

基于相同的发明构思，请参照图7，本实施例还提供一种显示面板的制造方法，使用本实施前述提供的掩膜版组件进行蒸镀，该方法可以包括以下步骤。

步骤S110，通过所述第一掩膜版在待蒸镀面板上蒸镀形成多个第一图案。

步骤S120，通过所述第二掩膜版在待蒸镀面板上蒸镀形成多个第二图案，使所述第二图案位于相邻的第一图案之间，并使所述第一图案和所述第二图案拼合形成阵列状网格。

进一步地，在本实施例中，请参照图8及图9，为了减少掩膜版上掩膜开口区各个位置的宽度差异，可以将第一掩膜开口区912和第二掩膜开口区922的形状设置为较为平滑，例如，第一掩膜开口区912形成的图案与第二掩膜开口区922形成的图案拼合形成的阵列状网格包括具有圆角的三角形的开口。如此，可以降低第一掩膜版和第二掩膜版的开口制造难度，并且可以降低掩膜版张网后的应力不均问题。基于上述设计，第三正投影和第四正投影的重合部分呈具有圆角的三角形，即，第一正投影和第二正投影相互连接形成阵列状网格包括具有圆角的三角形的开口，最终形成的图案化的共用电极层如图10所示。

在一种可能的实现方式中，第一掩膜开口区911形成的图案与第二掩膜开口区912形成的图案包括至少部分重合区域，重叠区域位于第一掩膜开口区形成的图案与第二掩膜开口区形成的图案拼合的交界位置。

例如，第一掩膜开口区911形成的图案和第二掩膜开口区912形成图案相互连接的位置(如图6椭圆虚线框所示位置)可以存在至少部分重合，如此，可以保证通过第一掩膜开口区911蒸镀形成的图案和通过第二掩膜开口区912蒸镀形成的图案可以有效的连接。

本实施例还提供另一种掩膜版组件，请参照图11，掩膜版组件包括可以第三掩膜版，第三掩膜版包括第三掩膜遮挡区931和多个第三掩膜开口区932，多个第三掩膜开口区932相互间隔。

第三掩膜版包括第一定位标识933和第二定位标识934，第三掩膜开口区932以第一定位标识933为基准形成的图案和第三掩膜开口区932以第二定位标识934为基准形成的图案可拼合形成阵列状网格图案。

例如，根据第一定位标识933将第三掩膜版设置于待蒸镀面板时，第三掩膜开口区932在待蒸镀面板上形成第五正投影。根据第二定位标识934将第三掩膜版设置于待蒸镀面板时，第三掩膜开口区932在待蒸镀面板上形成第六正投影。第五正投影和第六正投影相互连接形成阵列状网格。

在一种可能的实现方式中，通过第一掩膜版和第二掩膜版进行蒸镀的材料可以包括导电材料，该导电材料可以在待蒸镀面板上形成图案化的阴极层。根据第一定位标识933将第三掩膜版设置于待蒸镀面板时，可以使将第三掩膜版位于第一位置，此时执行蒸镀作业可以在待蒸镀面板上形成第一图案511，如图6所示。然后再根据第二定位标识934将第三掩膜版设置于待蒸镀面板时，可以使第三掩膜版平移至第二位置，此时再次执行蒸镀作业，可以在第一图案511之间形成第二图案512，如图6中虚线区域所示。最终，第一图案511和第二图案512相互连接形成网格状的导电材料层，该导电材料层即为显示面板的共用电极层(如图2所示的阴极层500)。

在一种可能的实现方式中，第三掩膜遮挡区931以第一定位标识933为基准形成的图案和第三掩膜遮挡区931以第二定位标识934形成的图案可重叠形成像素间隙遮挡区。

例如，根据第一定位标识933将第三掩膜版设置于待蒸镀面板时，第三掩膜遮挡区931在待蒸镀面板上形成第七正投影。根据第二定位标识934将第三掩膜版设置于待蒸镀面板时，第三掩膜遮挡区931在待蒸镀面板上形成第八正投影。第七正投影和第八正投影重合的部分形成像素间隙遮挡区，像素间隙遮挡区与待蒸镀面板上相邻发光像素之间的至少部分间隙重合。

也就是说，当第三掩膜版分别位于第一位置和第二位置时，第三掩膜遮挡区931存在重叠的部分，该重叠部分在两次蒸镀中均不会形成图案，就形成了图案之间的开口区(如图2所示阴极开口区520)，该重叠部分与待蒸镀面板上相邻发光像素之间的至少部分间隙重合。如此，可以减少共用电极层整体上对外界光线的阻挡，提高光线透过率。

进一步地，请参照图12，在本实施例中，为了减少掩膜版上掩膜开口区各个位置的宽度差异，可以将第三掩膜开口区932形状设置为较为平滑，例如，第三掩膜开口区以第一定位标识933为基准形成的图案和第三掩膜开口区以第二定位标识934为基准形成的图案拼合形成的阵列状网格包括具有圆角的三角形的开口。如此，可以降低第三掩膜版的开口制造难度，并且可以降低掩膜版张网后的应力不均问题。基于上述设计，第七正投影和第八投影的重合部分呈具有圆角的三角形，即，第五正投影和第六正投影相互连接形成阵列状网格包括具有圆角的三角形的开口，最终形成的图案化的共用电极层如图9所示。

在一种可能的实现方式中，第三掩膜开口区932以第一定位标识933为基准形成的图案和第三掩膜开口区932以第二定位标识934为基准形成的图案包括至少部分重合区域，重叠区域位于第三掩膜开口区932以第一定位标识933为基准形成的图案和第三掩膜开口区932以第二定位标识934为基准形成的图案拼合的交界位置。

例如，第三掩膜开口区932以第一定位标识933为基准形成的图案和第三掩膜开口区932以第二定位标识934为基准形成的图案相互连接的位置(如图6椭圆虚线框所示位置)可以存在至少部分重合，如此，可以两次蒸镀形成的图案可以有效的连接。

本实施例还提供另一种显示面板的制造方法，该方法使用上述第三掩膜版进行蒸镀，请参照图13，该方法可以包括以下步骤。

步骤S210，通过第三掩膜版进行蒸镀形成第一图案511。

步骤S220，调整第三掩膜版与待蒸镀面的相对位置，并通过第三掩膜版进行蒸镀形成第二图案512，使所述第二图案位512于相邻的第一图案511之间，并使第一图案511和第二图案512拼合形成阵列状网格。

在一种可能的实现方式中，请再次参照图9，第三掩膜版包括第一定位标识933和第二定位标识934。

在步骤S210中，可以根据第一定位标识933将第三掩膜版设置于待蒸镀面，使第三掩膜版位于第一位置，并在第一位置执行蒸镀。

在步骤S220中，可以根据第二定位标识934将第三掩膜版设置于待蒸镀面，使第三掩膜版位于第二位置，并在第二位置执行蒸镀。

本实施例还提供一种显示面板，所述显示面板的制造过程会使用本实施例提供的掩膜版组件，或者使用本实施例提供的显示面板的制造方法制成。

综上所述，本申请提供一种掩膜版组件、显示面板的制造方法及显示面板，通过使用掩膜开口区位置错开的两个掩膜版进行两次蒸镀或者使用掩膜开口区位置错开的一个掩膜版平移前后进行两次蒸镀，可以在不增加其他工艺的情况下依靠蒸镀形成图案化的共用电极层，降低了图案化共用电极层的制造难度和制造成本。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种掩膜版组件，其特征在于，所述掩膜版组件包括：

第一掩膜版，所述第一掩膜版包括第一掩膜遮挡区和多个第一掩膜开口区，所述多个第一掩膜开口区相互间隔；

第二掩膜版，所述第二掩膜版包括第二掩膜遮挡区和多个第二掩膜开口区，所述多个第二掩膜开口区相互间隔；

其中，所述第一掩膜开口区形成的图案与所述第二掩膜开口区形成的图案可拼合形成阵列状网格图案。

2.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述第一掩膜遮挡区的图案和所述第二掩膜遮挡区的图案可重叠形成像素间隙遮挡区。

3.一种掩膜版组件，其特征在于，所述掩膜版组件包括：

第三掩膜版，所述第三掩膜版包括第三掩膜遮挡区和多个第三掩膜开口区，所述多个第三掩膜开口区相互间隔；

所述第三掩膜版包括第一定位标识和第二定位标识；所述第三掩膜开口区以第一定位标识为基准形成的图案和所述第三掩膜开口区以所述第二定位标识为基准形成的图案可拼合形成阵列状网格图案。

4.根据权利要求3所述的掩膜版组件，其特征在于，所述第三掩膜遮挡区以第一定位标识为基准形成的图案和所述第三掩膜遮挡区以所述第二定位标识为基准形成的图案可重叠形成像素间隙遮挡区。

5.根据权利要求2或4所述的掩膜版组件，其特征在于，所述第一掩膜开口区形成的图案与所述第二掩膜开口区形成的图案拼合形成的阵列状网格包括具有圆角的三角形的开口；

或，所述第三掩膜开口区以所述第一定位标识为基准形成的图案和所述第三掩膜开口区以所述第二定位标识为基准形成的图案拼合形成的阵列状网格包括具有圆角的三角形的开口。

6.根据权利要求1或3所述的掩膜版组件，其特征在于，所述第一掩膜开口区形成的图案与所述第二掩膜开口区形成的图案包括至少部分重合区域，所述重叠区域位于所述第一掩膜开口区形成的图案与所述第二掩膜开口区形成的图案拼合的交界位置；

或，所述第三掩膜开口区以所述第一定位标识为基准形成的图案和所述第三掩膜开口区以所述第二定位标识为基准形成的图案包括至少部分重合区域，所述重叠区域位于所述第三掩膜开口区以所述第一定位标识为基准形成的图案和所述第三掩膜开口区以所述第二定位标识为基准形成的图案拼合的交界位置。

7.一种显示面板的制造方法，其特征在于，所述方法使用权利要求1或2所述的掩膜版组件进行蒸镀，所述方法包括：

通过所述第一掩膜版在待蒸镀面板上蒸镀形成多个第一图案；

通过所述第二掩膜版在待蒸镀面板上蒸镀形成多个第二图案，使所述第二图案位于相邻的第一图案之间，并使所述第一图案和所述第二图案拼合形成阵列状网格。

8.一种显示面板的制造方法，其特征在于，所述方法使用权利要求3或4所述的掩膜版组件进行蒸镀，所述方法包括：

通过所述第三掩膜版在待蒸镀面板上蒸镀形成第一图案；

调整所述第三掩膜版与所述待蒸镀面板的相对位置，并通过所述第三掩膜版在待蒸镀面板上蒸镀形成第二图案，使所述第二图案位于相邻的第一图案之间，并使所述第一图案和所述第二图案拼合形成阵列状网格。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述通过所述第三掩膜版在待蒸镀面板上蒸镀形成第一图案的步骤，包括：

根据所述第一定位标识将所述第三掩膜版设置于待蒸镀面板，使所述第三掩膜版位于第一位置，并在所述第一位置执行蒸镀；

所述调整所述第三掩膜版与所述待蒸镀面板的相对位置的步骤，包括：

根据所述第二定位标识将所述第三掩膜版设置于待蒸镀面板，使所述第三掩膜版位于第二位置。

10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板的制造过程采用权利要求7-9任意一项所述的方法。

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