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CN116426051A - 表面处理膜 - Google Patents

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CN116426051A
CN116426051A CN202310035902.8A CN202310035902A CN116426051A CN 116426051 A CN116426051 A CN 116426051A CN 202310035902 A CN202310035902 A CN 202310035902A CN 116426051 A CN116426051 A CN 116426051A
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CN
China
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surface treatment
layer
treatment film
film
coating
Prior art date
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Pending
Application number
CN202310035902.8A
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English (en)
Inventor
冈田知大
祖父江彰二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=85173893&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CN116426051(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

提供一种具有厚度小的基材层且断裂得到抑制的表面处理膜。表面处理膜具有厚度小于20μm的基材层、设置于基材层表面的涂敷层、以及温度23℃、相对湿度55%下的撕裂强度为0.5N以上的第1端部。

Description

表面处理膜
技术领域
本发明涉及表面处理膜,进一步涉及具备表面处理膜的偏振板和偏振板的制造方法。
背景技术
作为液晶显示装置和有机EL显示装置等显示装置中使用的光学膜,已知有通过在树脂膜等基材层的表面涂敷树脂组合物而设置有相位差层或硬涂层等涂布膜的表面处理膜(例如专利文献1和2等)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2020-54939号公报
专利文献2:日本特开2011-59154号公报
发明内容
发明要解决的课题
近年来,要求减小显示装置中使用的光学膜的厚度。伴随于此,还要求减小表面处理膜中所含的基材层的厚度。在厚度小的基材层形成有涂布膜的表面处理膜有时在输送时端部断裂。
本发明的目的在于,提供具有厚度小的基材层且断裂得到抑制的表面处理膜、具备该表面处理膜的偏振板、以及偏振板的制造方法。
用于解决课题的手段
本发明提供以下的表面处理膜、偏振板和偏振板的制造方法。
〔1〕一种表面处理膜,其具有:
厚度小于20μm的基材层;
设置于上述基材层表面的涂敷层;以及
温度23℃、相对湿度55%下的撕裂强度为0.5N以上的第1端部。
〔2〕根据〔1〕所述的表面处理膜,其中,上述第1端部包含在上述基材层表面未设置上述涂敷层的未涂敷区域,
上述未涂敷区域中的从上述基材层的端部到上述涂敷层的端部为止的距离为0.6mm以上。
〔3〕根据〔1〕或〔2〕所述的表面处理膜,其中,上述第1端部沿着上述表面处理膜的俯视时相向的一对边而设置。
〔4〕根据〔1〕~〔3〕中任一项所述的表面处理膜,其中,根据在温度23℃、相对湿度55%下在上述表面处理膜的上述涂敷层形成100个划格而进行的划格试验,在上述基材层上残留90个以上的上述划格。
〔5〕根据〔1〕~〔4〕中任一项所述的表面处理膜,其中,上述基材层为环状烯烃树脂膜。
〔6〕根据〔1〕~〔5〕中任一项所述的表面处理膜,其中,上述涂敷层为包含紫外线固化型树脂的组合物的固化物层。
〔7〕根据〔1〕~〔6〕中任一项所述的表面处理膜,其中,上述表面处理膜为长条体,
上述第1端部设置于上述表面处理膜的宽度方向两端部。
〔8〕一种偏振板,其具有〔1〕~〔7〕中任一项所述的表面处理膜和直线偏振层。
〔9〕一种偏振板的制造方法,其为〔8〕所述的偏振板的制造方法,包括:
准备层叠体的工序,所述层叠体具有上述表面处理膜、和以能够剥离的方式层叠于上述表面处理膜的上述基材层侧的保护膜;
输送从上述层叠体剥离上述保护膜而得到的上述表面处理膜的输送工序;以及
将在上述输送工序中得到的上述表面处理膜与上述直线偏振层层叠的工序。
发明效果
根据本发明,能够提供具有厚度小的基材层且断裂得到抑制的表面处理膜。
附图说明
图1是示意性地表示本发明的一个实施方式的表面处理膜的俯视图。
图2是图1的X-X’截面图。
图3是示意性地表示用于撕裂强度的测定的样品片的俯视图。
具体实施方式
以下,参照附图对本发明的实施方式进行说明,但本发明并不限定于以下的实施方式。以下的所有附图是为了帮助理解本发明而示出的,附图中示出的各构成要素的尺寸或形状不一定与实际的构成要素的尺寸或形状一致。
(表面处理膜)
图1是示意性地表示本发明的一个实施方式的表面处理膜的俯视图。图2是图1的X-X’截面图。
如图1和图2所示,表面处理膜1具有厚度小于20μm的基材层11、设置于基材层11表面的涂敷层12、以及温度23℃、相对湿度55%下的撕裂强度为0.5N以上的第1端部10。
在表面处理膜1中,基材层11与涂敷层12直接接触。表面处理膜1可以具有在基材层11的表面形成有涂敷层12的涂敷区域22、和在基材层11的表面未形成涂敷层12的未涂敷区域21,也可以具有涂敷区域22而不具有未涂敷区域21。
第1端部10包含撕裂表面处理膜1时的撕裂开始位置即端部,是沿着表面处理膜1的俯视时该端部所处的边15的至少一部分而设置的区域。如图1所示,第1端部10可以是沿着边15的整体而设置的区域。
第1端部10只要沿着表面处理膜1的俯视时的边中的至少一条边的一部分或整体而设置即可,也可以沿着2条以上的边的一部分或整体而设置。第1端部10优选沿着表面处理膜1的俯视时相向的一对边15、15而设置。如图1和图2所示,在表面处理膜1为长条体的情况下,第1端部10优选设置于表面处理膜1的宽度方向W的两端部。
第1端部10在温度23℃、相对湿度55%下的撕裂强度为0.5N以上,优选为0.8N以上,也可以为1.0N以上,也可以为1.2N以上,也可以为1.5N以上,也可以为1.7N以上,也可以为1.8N以上,通常为5.0N以下,也可以为4.5N以下,也可以为4.0N以下。
第1端部10的撕裂强度是将表面处理膜1的端部作为撕裂开始位置,从该端部起沿着与该端部所处的边15交叉的方向撕裂表面处理膜1时的撕裂强度,可以通过后述的实施例中记载的方法进行测定。如图1所示,在边15为直线状的情况下,撕裂方向为与边15正交的方向。撕裂方向也可以改称为撕裂时裂缝行进的方向。
在表面处理膜1中形成具有上述撕裂强度的第1端部10的方法没有特别限定。例如,可举出如下方法:以包含在基材层11表面未设置涂敷层12的未涂敷区域21的方式,形成第1端部10的方法;遍及形成有第1端部10的基材层11的端部整体,而使该端部的厚度大于该端部以外的基材层11的厚度的方法;使用包含不易引起基材层11的劣化的溶剂的涂敷材料,在第1端部10形成涂敷层12的方法;以及在第1端部10形成韧性大的涂敷层12的方法等。
在第1端部10包含未涂敷区域21的情况下,第1端部10可以包含涂敷区域22,也可以不包含涂敷区域22。在第1端部10包含未涂敷区域21的情况下,第1端部10中的从基材层11的端部起到涂敷层12的端部为止的距离L优选为0.6mm以上,也可以为0.8mm以上,也可以为1.0mm以上,还可以为1.5mm以上,还可以为5.0mm以上,还可以为5.5mm以上。距离L的上限值没有特别限定,例如可以为50mm以下,也可以为40mm以下。距离L是指:从表面处理膜1采集的样品的第1端部10的延伸方向的中央的位置和从该中央的位置沿着延伸方向在两个方向(左右方向)上1cm的位置的合计3点的位置处的、从基材层11的端部到涂敷层12的端部之间的最短距离的平均值,距离L可以通过后述的实施例中记载的方法来确定。表面处理膜1为长条体时的样品从长条体的长度方向的两端采集,将对采集的2个样品分别按照上述步骤所确定的最短距离的平均值进一步进行平均而得到的值作为距离L。在表面处理膜1为单片体的情况下,在任意的位置进行采集。
通过使距离L为上述范围内,从而容易将第1端部10的撕裂强度调整为上述范围。在表面处理膜1为长条体的情况下等,以将表面处理膜1卷绕成卷状的卷体的状态进行保存和输送等。在卷体中,由于表面处理膜1的涂敷区域22的厚度与未涂敷区域21的厚度之差、以及在保存表面处理膜1时产生的收缩和膨胀等行为之差等,导致卷体的端面有时会起伏。从端面起伏的卷体放出的表面处理膜1有时也产生变形。在表面处理膜1中,通过使距离L为上述的范围内,能够形成良好的卷姿的卷体,也能够抑制从该卷体放出的表面处理膜1产生变形的情形。
通过使表面处理膜1具有第1端部10,例如在制造后述的偏振板时输送表面处理膜1时,能够抑制第1端部10在与边15交叉的方向上开裂这样的第1端部10的断裂。与此相对,在上述的具有撕裂强度小于0.5N的端部的表面处理膜中,在输送时等,该端部容易断裂。推测这是因为:在如基材层11的厚度小于20μm的情况那样基材层11的厚度小的表面处理膜1中,难以通过基材层11缓和冲击,基材层11上的硬的涂敷层12容易受到损伤,由此涂敷区域22变脆。认为变脆的区域在受到外力或变形时容易断裂。表面处理膜1在输送时等,在端部容易受到外力或产生变形,因此推测在具有上述撕裂强度为0.5N以上的第1端部10的表面处理膜1中,能够抑制第1端部10的断裂。
关于表面处理膜1,优选的是,通过在涂敷层12上形成100个划格而进行的划格试验,在基材层11上残留90个以上的划格,更优选残留95个以上,进一步优选残留100个。认为这样的表面处理膜1在基材层11与涂敷层12的密合性方面优异。在密合性优异的表面处理膜1中,认为在受到外力或发生变形的端部容易产生上述断裂。因此,通过对基材层11与涂敷层12的密合性优异的表面处理膜1设置上述第1端部10,能够有效地抑制表面处理膜1的第1端部10的断裂。划格试验是在温度23℃、相对湿度55%下,在表面处理膜1的涂敷层12面刻100个1mm见方的划格,将贴附于该划格的粘合带剥离而进行的试验,可以通过后述的实施例中记载的方法进行。
表面处理膜1可以为单片体,也可以为能够连续输送的长条体。在本说明书中,长条体是指具有例如30m以上且15000m以下的长度的表面处理膜。在表面处理膜1为长条体的情况下,第1端部10优选如图1所示那样设置于宽度方向W的两端部。
表面处理膜1可以具有硬涂特性、防眩特性、防反射特性、抗静电特性和防污特性等中的至少1种以上的功能。这些特性可以通过涂敷层12来赋予。表面处理膜1通过贴合于后述的直线偏振层等被粘物的表面,从而能够对被粘物赋予上述特性等。表面处理膜1优选基材层11侧贴合于被粘物。
(基材层)
基材层11用于被覆被粘物表面并支撑涂敷层12。基材层11优选为树脂膜,优选为透明树脂膜。透明树脂膜例如可以使用:利用光学膜的领域中公知的树脂进行制膜而成的膜等。作为透明树脂膜,可举出:聚乙烯、聚丙烯、乙烯·丙烯共聚物等聚烯烃膜;由降冰片烯系聚合物等构成的环状烯烃树脂膜;由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯构成的聚酯膜;由聚(甲基)丙烯酸酯等构成的(甲基)丙烯酸类树脂膜;三乙酰纤维素等纤维素树脂膜;聚碳酸酯膜;尼龙、芳香族聚酰胺等聚酰胺膜;聚酰亚胺膜等。透明树脂膜优选为环状烯烃树脂膜、聚酯膜和(甲基)丙烯酸类树脂膜中的1种以上,更优选为环状烯烃树脂膜。“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸和甲基丙烯酸中的至少一者。关于“(甲基)丙烯酸酯”等也是同样的。
基材层11的厚度小于20μm,可以为18μm以下,也可以为15μm以下,还可以为13μm以下,通常为1μm以上,可以为5μm以上。具备厚度处于上述范围的基材层11的表面处理膜在输送时端部容易断裂,但根据本发明,能够兼顾薄型化和断裂的防止。
(涂敷层)
涂敷层12可以是用于对表面处理膜1赋予硬涂特性、防眩特性、防反射特性、抗静电特性和防污特性等中的至少1种以上的特定功能的层。作为涂敷层12,可举出硬涂层、防眩层、防反射层、抗静电层和防污层等。
涂敷层12可以是通过将用于形成涂敷层12的涂敷材料涂敷于基材层11而形成的。作为涂敷材料的涂敷方法,可以没有特别限制地使用公知的方法,优选为模涂或凹版涂布。从涂敷精度的观点出发,更优选凹版涂布。
表面处理膜1的未涂敷区域21和涂敷区域22例如可以通过如下方法形成:使用根据涂敷区域22的宽度进行了凹凸加工的凹版辊来进行涂敷的方法;通过在形成未涂敷区域21的部分的凹版辊表面贴膜或设置齿(日文:ツメ)等,以凹版辊与基材层11成为非接触的方式进行涂敷的方法等。涂敷区域22的宽度可以通过如上所述调整凹版辊的表面的状态来进行调整。未涂敷区域21的宽度可以通过用于形成涂敷区域22的涂敷材料的粘度来调整。在制造表面处理膜1时,优选以未涂敷区域21的宽度的偏差成为0.5mm以内的方式来调整涂敷材料的粘度。
涂敷材料的粘度在温度25℃下例如为1mPa·s以上且150mPa·s以下,优选为3mPa·s以上且100mPa·s以下,更优选为5mPa·s以上且50mPa·s以下。如果粘度过小,则涂布不均有可能变得显著,如果粘度过大,则膜厚的调整有可能变得困难。在粘度为1mPa·s以上且150mPa·s以下的情况下,有容易进行涂布膜厚的调节的趋势。粘度可以是利用Brookfield型粘度计(B型粘度计,Brookfield公司制)测定的值。
作为涂敷材料,可举出:包含固化性化合物的组合物;包含固化性化合物以外的树脂的组合物等。为了适当地形成涂敷层12所具有的功能和/或涂敷层12,涂敷材料除了上述固化性化合物和树脂以外,还可以包含有机微粒或无机微粒等填料、抗静电剂、防污剂、着色剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、光稳定剂、阻燃剂、粘度调节剂、交联剂、偶联剂、流平剂、消泡剂、溶剂等。
作为包含固化性化合物的组合物中所含的固化性化合物,可举出:紫外线固化型树脂、电子束固化型树脂等活性能量射线固化型树脂;热固化型树脂;具有(甲基)丙烯酰基和乙烯基等聚合性基团的单体;具有聚合性基团的低聚物等。作为固化性化合物以外的树脂,可举出热塑性树脂等。
涂敷层12优选为包含活性能量射线固化型树脂的组合物的固化物层,更优选为包含紫外线固化型树脂的组合物的固化物层。包含紫外线固化型树脂的组合物优选为包含(甲基)丙烯酸酯单体和/或(甲基)丙烯酸类树脂的丙烯酸系树脂组合物。作为(甲基)丙烯酸酯单体和/或(甲基)丙烯酸类树脂,可举出:包含多官能(甲基)丙烯酸酯、多官能氨基甲酸酯化(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、和根据需要的具有包含2个以上羟基的烷基的(甲基)丙烯酸类聚合物的固化性混合物等。
作为多官能(甲基)丙烯酸酯,例如可举出:三羟甲基丙烷的二(甲基)丙烯酸酯或三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇的三(甲基)丙烯酸酯或四(甲基)丙烯酸酯、作为在分子内具有至少1个羟基的(甲基)丙烯酸酯与二异氰酸酯的反应产物的多官能氨基甲酸酯化(甲基)丙烯酸酯等。这些多官能(甲基)丙烯酸酯可以分别单独使用,也可以组合使用2种以上。
作为多官能氨基甲酸酯化(甲基)丙烯酸酯,例如使用(甲基)丙烯酸和/或(甲基)丙烯酸酯、多元醇、以及二异氰酸酯来制造。具体而言,由(甲基)丙烯酸和/或(甲基)丙烯酸酯和多元醇制备分子内具有至少1个羟基的羟基(甲基)丙烯酸酯,使其与二异氰酸酯反应,由此可以制造多官能氨基甲酸酯化(甲基)丙烯酸酯。如此制造的多官能氨基甲酸酯化(甲基)丙烯酸酯具有作为上述紫外线固化型树脂的功能。在其制造时,(甲基)丙烯酸和/或(甲基)丙烯酸酯可以分别使用1种,也可以组合使用2种以上,多元醇和二异氰酸酯也同样地可以分别使用1种,也可以组合使用2种以上。
作为形成多官能氨基甲酸酯化(甲基)丙烯酸酯时使用的(甲基)丙烯酸酯,可以使用(甲基)丙烯酸的链状或环状烷基酯,作为其具体例,可举出:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯等(甲基)丙烯酸烷基酯;(甲基)丙烯酸环己酯等(甲基)丙烯酸环烷基酯等。
形成多官能氨基甲酸酯化(甲基)丙烯酸酯时使用的多元醇是在分子内具有至少2个羟基的化合物,作为其具体例,可举出:乙二醇、丙二醇、1,3-丙二醇、二乙二醇、二丙二醇、新戊二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、1,9-壬二醇、1,10-癸二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、羟基特戊酸的新戊二醇酯、环己烷二甲醇、1,4-环己二醇、螺二醇、三环癸烷二甲醇、氢化双酚A、环氧乙烷加成双酚A、环氧丙烷加成双酚A、三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷、丙三醇、3-甲基戊烷-1,3,5-三醇、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、葡萄糖类等。
形成多官能氨基甲酸酯化(甲基)丙烯酸酯时使用的二异氰酸酯是在分子内具有2个异氰酸酯基(-NCO)的化合物,可以使用芳香族、脂肪族或脂环式的各种二异氰酸酯,作为其具体例,可举出:四亚甲基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、2,4-甲苯二异氰酸酯、4,4’-二苯基二异氰酸酯、1,5-萘二异氰酸酯、3,3’-二甲基-4,4’-二苯基二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯(日文:キシレンジイソシアネート)、三甲基六亚甲基二异氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二异氰酸酯、以及这些中具有芳香环的二异氰酸酯的核氢化物(日文:核水添物)等。
具有包含2个以上羟基的烷基的(甲基)丙烯酸类聚合物是在1个结构单元中具有包含2个以上羟基的烷基的聚合物,作为其具体例,可举出:包含(甲基)丙烯酸2,3-二羟基丙酯作为结构单元的聚合物、包含(甲基)丙烯酸2,3-二羟基丙酯和(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯作为结构单元的聚合物等。
包含固化性化合物的组合物除了固化性化合物以外,还可以包含聚合引发剂。作为聚合引发剂,可举出光聚合引发剂和自由基聚合引发剂等,可以使用公知的聚合引发剂。
在涂敷层12为硬涂层的情况下,涂敷层12具有提高基材层11的表面硬度的功能,能够提高表面的耐擦伤性。硬涂层优选在JIS K5600-5-4:1999“涂料一般试验方法-第5部:涂膜的机械性质-第4节:划痕硬度(铅笔法)”所规定的铅笔硬度试验(将表面处理膜放置在玻璃板上进行测定)中显示出8B或比其更硬的值,也可以为5B或比其更硬。涂敷层12优选为硬涂层。
在涂敷层12为防眩层的情况下,涂敷层12可以具有提高可视性、抑制外部光的映入、减少云纹(干涉条纹)等功能。防眩层可以在表面具有微细的凹凸形状。微细的凹凸形状可以通过在防眩层中添加填料、对表面赋予微细的压花等来形成。
在涂敷层12为防反射层的情况下,涂敷层12可以具有抑制外部光的反射的功能。防反射层可以是具有比基材层11的折射率小的折射率的层,例如可以包含微粒。
在涂敷层12为抗静电层的情况下,涂敷层12可以具有抑制静电的产生等的功能。抗静电层可以包含抗静电剂(其例子为导电性物质。)。
在涂敷层12为防污层的情况下,涂敷层12可以对表面处理膜1赋予疏水性、疏油性、耐汗性、防污性等功能。防污层可以包含碳氟化合物、全氟硅烷、它们的高分子化合物等含氟有机化合物等防污剂。
涂敷层12的厚度例如可以为1nm以上,也可以为10nm以上,还可以为50nm以上,还可以为500nm以上,还可以为1μm以上,另外,可以为15μm以下,也可以为10μm以下,还可以为5μm以下,还可以小于5μm,还可以为4μm以下。
此外,在基材层11的厚度小于20μm的情况下,涂敷层12的厚度优选为3μm以下,进一步优选为2μm以下。在涂敷层12的厚度相对于基材层11的厚度更厚的情况下,由于固化收缩而容易产生基材层端部的翘曲,因此有时因偏振板加工时的热而导致翘曲部分折入,从而导致断裂。
(偏振板)
本实施方式的偏振板具有表面处理膜1和直线偏振层。偏振板可以在直线偏振层的单面或两面具有表面处理膜1。在直线偏振层的两面具有表面处理膜1的情况下,2个表面处理膜1可以是相同种类,也可以是不同种类。表面处理膜1优选基材层11侧与直线偏振层相向。
偏振板可以具有用于将表面处理膜1与直线偏振层贴合的贴合层。贴合层为粘合剂层或粘接剂层。在偏振板具有贴合层的情况下,贴合层优选设置于表面处理膜1的基材层11侧。
在偏振板在直线偏振层的单面具有表面处理膜1的情况下,偏振板可以在直线偏振层的另一面具有表面处理膜1以外的其他层。作为其他层,可举出保护层、相位差层、粘合剂层等。直线偏振层与其他层可以以直接接触的方式层叠,在其他层为保护层或相位差层的情况下,也可以经由贴合层而层叠。
(偏振板的制造方法)
本实施方式的偏振板的制造方法可以包括:
准备层叠体的准备工序,所述层叠体具有表面处理膜1、和以能够剥离的方式层叠于表面处理膜1的基材层11侧的保护膜;
输送从层叠体剥离保护膜而得到的表面处理膜1的输送工序;以及
将在输送工序中得到的表面处理膜1与直线偏振层层叠的工序。
在准备工序中,例如,可以在基材层11的单面贴合保护膜后,在基材层11的表面(与贴合有保护膜侧相反一侧的面)形成涂敷层12而得到层叠体。涂敷层12可以通过在基材层11的与保护膜侧相反一侧涂敷涂敷材料而形成。作为对涂敷材料进行涂敷的方法,可举出公知的方法,例如,可以通过凹版涂敷、棒涂、喷涂、旋转涂敷、浸渍涂敷、模涂和喷墨涂敷等中的1种以上的方法来进行。在基材层11上涂敷了涂敷材料后,可以根据涂敷材料的种类进行干燥和/或涂敷材料中所含的固化性化合物的固化等处理。
在输送工序中,例如可以一边输送层叠体,一边从层叠体剥离保护膜,将表面处理膜1与保护膜分离,将它们分别输送。层叠体、表面处理膜1和保护膜的输送可以采用公知的输送方法,例如可以使用输送辊和/或输送带等进行输送。利用输送辊进行输送时的张力可以以输送的膜不蜿蜒行进来输送的方式进行调整。利用输送辊进行输送时的张力可以以输送的膜不断裂的方式进行调整。
在层叠工序中,例如可以将表面处理膜1的剥离保护膜而露出的那一侧(基材层11侧)与直线偏振层介由贴合层等进行层叠。
表面处理膜1的第1端部10的撕裂强度处于上述范围。因此,在输送工序中输送的表面处理膜1中,能够抑制容易受到外力或变形的第1端部10发生断裂的情形。由此,能够提高成品率而制造偏振板。
(直线偏振层)
直线偏振层具有在使无偏振的光入射时使具有与吸收轴正交的振动面的直线偏振光透射的性质。直线偏振层可以是吸附有碘并取向而成的聚乙烯醇系树脂膜(以下,有时称为“PVA系膜”。),也可以是包含液晶性的直线偏振层的膜,所述液晶性的直线偏振层是通过将包含具有吸收各向异性和液晶性的化合物的组合物涂布于基材膜而形成的。具有吸收各向异性和液晶性的化合物可以是具有吸收各向异性的色素与具有液晶性的化合物的混合物,也可以是具有吸收各向异性和液晶性的色素。
作为PVA系膜的直线偏振层例如可举出:对聚乙烯醇膜、部分缩甲醛化聚乙烯醇膜、乙烯·乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等PVA系膜实施利用碘的染色处理和拉伸处理而成的直线偏振层等。根据需要,也可以利用硼酸水溶液对通过染色处理而吸附取向有碘的PVA系膜进行处理,然后进行洗去硼酸水溶液的清洗工序。各工序可以采用公知的方法。
聚乙烯醇系树脂(以下,有时称为“PVA系树脂”。)可以通过将聚乙酸乙烯酯系树脂皂化来制造。聚乙酸乙烯酯系树脂可以是作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯,除此以外,还可以是乙酸乙烯酯同能够与乙酸乙烯酯共聚的其他单体的共聚物。作为能够与乙酸乙烯酯共聚的其他单体,例如可举出不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类、具有铵基的丙烯酰胺类等。
PVA系树脂的皂化度通常为85~100摩尔%左右,优选为98摩尔%以上。PVA系树脂可以被改性,例如也可以使用被醛类改性的聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛等。PVA系树脂的平均聚合度通常为1,000~10,000左右,优选为1,500~5,000左右。PVA系树脂的皂化度和平均聚合度可以按照JIS K 6726(1994)求出。如果平均聚合度小于1000,则难以得到优选的偏振性能,如果超过10000,则有时膜加工性差。
作为PVA系膜的直线偏振层的制造方法可以包括:准备基材膜,在基材膜上涂布PVA系树脂等树脂的溶液,进行除去溶剂的干燥等而在基材膜上形成树脂层的工序。需要说明的是,可以在基材膜的形成有树脂层的面上预先形成底涂层。作为基材膜,可以使用应用了作为热塑性树脂而说明的树脂材料的膜,该热塑性树脂用于形成后述的作为保护层的保护膜。作为底涂层的材料,可举出将直线偏振层中使用的亲水性树脂交联而成的树脂等。
接下来,根据需要调整树脂层的水分等溶剂量,然后,对基材膜和树脂层进行单轴拉伸,接着,用碘对树脂层进行染色,使碘吸附取向于树脂层。接下来,根据需要将碘吸附取向了的树脂层用硼酸水溶液进行处理,然后,进行洗去硼酸水溶液的清洗工序。由此,制造成为吸附取向有碘的树脂层、即直线偏振层的PVA系膜。各工序可以采用公知的方法用。
通过使用基材膜的制造方法制作的直线偏振层可以通过在层叠保护层后剥离基材膜而得到。
作为PVA系膜的直线偏振层的厚度优选为1μm以上,可以为2μm以上,也可以为5μm以上,另外,优选为30μm以下,更优选为15μm以下,可以为10μm以下,也可以为8μm以下。
包含液晶性的直线偏振层的膜可举出:将包含具有液晶性和吸收各向异性的色素的组合物、或者包含具有吸收各向异性的色素和聚合性液晶的组合物涂布于基材膜而得到的直线偏振层。液晶性的直线偏振层可以为聚合性液晶化合物的固化物,也可以包含取向层。包含液晶性的直线偏振层的膜可以为液晶性的直线偏振层,也可以具有液晶性的直线偏振层与基材膜的层叠结构。作为基材膜,例如可举出使用了作为热塑性树脂而说明的树脂材料的膜,该热塑性树脂用于形成后述的作为保护层的保护膜。作为包含液晶性的直线偏振层的膜,例如可举出日本特开2013-33249号公报等中记载的偏光层。
以上述方式形成的基材膜与直线偏振层的合计厚度优选小,但如果过小,则存在强度降低、加工性差的趋势,因此通常为20μm以下,优选为5μm以下,更优选为0.5~3μm。
(其他层)
作为其他层的保护层,例如可举出:作为由透明性、机械强度、热稳定性、水分阻隔性、各向同性、拉伸性等优异的热塑性树脂形成的膜的保护膜;由耐溶剂性、透明性、机械强度、热稳定性、遮蔽性和各向同性等优异的组合物形成的外涂层等。保护膜优选介由贴合层而层叠于直线偏振层,外涂层优选以与直线偏振层直接接触的方式层叠。
作为用于形成保护膜的热塑性树脂的具体例,可举出:三乙酰纤维素等纤维素树脂;聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯树脂;聚醚砜树脂;聚砜树脂;聚碳酸酯树脂;尼龙、芳香族聚酰胺等聚酰胺树脂;聚酰亚胺树脂;聚乙烯、聚丙烯、乙烯·丙烯共聚物等聚烯烃树脂;具有环系和降冰片烯结构的环状聚烯烃树脂(也称为降冰片烯系树脂);(甲基)丙烯酸类树脂;聚芳酯树脂;聚苯乙烯树脂;聚乙烯醇树脂、以及它们的混合物。保护膜的厚度优选为3μm以上,更优选为5μm以上,另外,优选为50μm以下,更优选为30μm以下。
外涂层例如可以通过在直线偏振层上涂布用于形成外涂层的材料(组合物)来形成。作为构成外涂层的材料,例如可举出光固化性树脂、水溶性聚合物等,可以使用(甲基)丙烯酸系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚酰胺环氧树脂等。外涂层的厚度例如可以为0.1μm以上且10μm以下。
作为其他层的相位差层可以为拉伸膜,也可以为包含聚合性液晶化合物的固化物层的相位差层。作为构成相位差层的拉伸膜和固化物层,可以使用公知的拉伸膜和固化物层。
作为其他层的粘合剂层是使用粘合剂组合物而形成的粘合剂层。粘合剂组合物或粘合剂组合物的反应产物通过将其自身粘贴于显示装置的显示元件等被粘物而表现出粘接性,被称为所谓的压敏型粘接剂。另外,使用后述的活性能量射线固化型粘合剂组合物而形成的粘合剂层可以通过照射活性能量射线来调整交联度、粘接力。
作为粘合剂组合物,可以没有特别限制地使用公知的光学透明性优异的粘合剂,例如可以使用:含有丙烯酸类聚合物、氨基甲酸酯聚合物、有机硅聚合物、聚乙烯基醚等基础聚合物的粘合剂组合物。另外,粘合剂组合物可以为活性能量射线固化型粘合剂组合物或热固化型粘合剂组合物等。其中,以透明性、粘合力、再剥离性(再加工性)、耐候性、耐热性等优异的丙烯酸类树脂作为基础聚合物的粘合剂组合物是适合的。粘合剂层优选由包含(甲基)丙烯酸类树脂、交联剂、硅烷化合物的粘合剂组合物的反应产物构成,也可以包含其他成分。
关于活性能量射线固化型粘合剂组合物,可以通过在上述粘合剂组合物中配合多官能性丙烯酸酯等紫外线固化性化合物,对涂布其而形成的层照射紫外线使其固化,从而形成更硬的粘合剂层。活性能量射线固化型粘合剂组合物具有受到紫外线、电子束等能量射线的照射而固化的性质。活性能量射线固化型粘合剂组合物在能量线照射前也具有粘合性,因此具有与被粘物密合、通过能量射线的照射而固化从而能够调整密合力的性质。
粘合剂组合物和活性能量射线固化型粘合剂组合物可以根据需要含有抗氧化剂、增粘剂、热塑性树脂、填充剂、流动调节剂、增塑剂、消泡剂、抗静电剂、溶剂等添加剂。
(贴合层)
贴合层为粘合剂层或粘接剂层。粘合剂层可举出上述的粘合剂层。粘接剂层可以通过使粘接剂组合物中的固化性成分固化而形成。作为用于形成粘接剂层的粘接剂组合物,可举出:压敏型粘接剂(粘合剂)以外的粘接剂,例如水系粘接剂、活性能量射线固化型粘接剂。
作为水系粘接剂,例如可举出使聚乙烯醇树脂溶解或分散于水中而成的粘接剂。对于使用水系粘接剂时的干燥方法没有特别限定,例如可以采用使用热风干燥机、红外线干燥机进行干燥的方法。
作为活性能量射线固化型粘接剂,例如可举出:包含通过紫外线、可见光、电子束、X射线等活性能量射线的照射而固化的固化性化合物的无溶剂型的活性能量射线固化型粘接剂。通过使用无溶剂型的活性能量射线固化型粘接剂,能够提高层间的密合性。
(保护膜)
保护膜以能够剥离的方式层叠于表面处理膜1的基材层11侧,用于被覆保护表面处理膜的表面。保护膜可以具有层叠有树脂膜和粘合剂层的多层结构,也可以是单层结构的自粘合性膜。
树脂膜例如可以使用:利用光学膜的领域中公知的树脂进行制膜而成的膜等。作为构成树脂膜的树脂,例如可举出:聚乙烯和聚丙烯等聚烯烃;降冰片烯系聚合物等环状烯烃树脂;聚乙烯醇;聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯;聚(甲基)丙烯酸酯;三乙酰纤维素、二乙酰纤维素和醋酸丙酸纤维素等纤维素系树脂;聚碳酸酯;聚砜;聚醚砜;聚醚酮;聚苯硫醚;聚苯醚等。
在保护膜为自粘合性膜的情况下,可举出将聚丙烯系树脂和聚乙烯系树脂等进行制膜而成的膜。
[实施例]
以下,示出实施例和比较例对本发明进行更具体的说明,但本发明并不限定于这些例子。
〔实施例1~10、比较例1和2、参考例1~3〕
作为基材层,准备具有表1所示的厚度的环状烯烃树脂膜(以下,有时称为“COP膜”。)。在COP膜的单面,以沿着相向的一对边(宽度方向的两端)形成未涂敷区域的方式凹版涂敷包含紫外线固化型树脂的丙烯酸系树脂组合物,形成涂膜。通过后述的方法测定的丙烯酸系树脂组合物的粘度为20mPa·s。将涂膜干燥后进行紫外线照射,在基材层表面形成作为硬涂层的涂敷层,得到表面处理膜。
将从表面处理膜采集的样品的COP膜侧贴合于玻璃板,在COP膜的端部(未形成涂敷层的端部)的延伸方向的中央的位置、和从该中央的位置起在左右方向(沿着延伸方向的两个方向)1cm的位置的合计3点的位置,确定从COP膜的端部到涂敷层之间的最短距离,将其平均,确定从表面处理膜的COP膜的端部到涂敷层的端部之间的距离L。最短距离通过使用双模3D共焦·干涉系统PLμ2300(有限会社SENSOFAR JAPAN制),一边从样品的COP膜的端部向涂敷层移动,一边取得厚度图来确定(透镜:20倍(EPI20x))。将确定的距离L1的值示于表1。
对于表面处理膜的形成有未涂敷区域的端部(参考例1和3中为基材层),按照后述的步骤测定撕裂强度。对于参考例1和3以外得到的表面处理膜,按照后述的步骤进行划格试验。将结果示于表1。
另外,除了使用长条体的基材层作为基材层以外,按照上述的步骤形成涂敷层而得到长条体的表面处理膜。在参考例1和3中,使用了未形成涂敷层的长条体的基材层。确认了以不产生蛇行等输送不良情况的方式利用输送辊输送长条体的表面处理膜(参考例1和3中为长条体的基材层)时有无断裂。将结果示于表1。
[撕裂强度的测定]
图3是示意性地表示撕裂强度的测定中使用的样品片的俯视图。在表面处理膜的形成有未涂敷区域的端部中,包含表面处理膜的端部、未涂敷区域21和涂敷区域22,以在上述表面处理膜的端部所处的边的延伸方向上成为50mm、在与该边正交的方向上成为70mm的大小的方式,切出矩形状的样品片31(图3)。以跨越样品片31的边中的构成表面处理膜的上述边的边33、未涂敷区域21和涂敷区域22的方式,在样品片31的一个面安装2个引导胶带(PYOLAN cloth(日文:パイオランクロス)养护用胶带绿,50mm×25mm,Y-09-GR,Diatex制)35、35(以下,有时将安装有引导胶带的边33称为“安装边33”。)。各引导胶带35设为长度50mm×宽度20mm,以如下方式安装于样品片31:在样品片31的安装边33的中心,在2个引导胶带35、35之间形成1mm的间隙,引导胶带35的宽度方向与安装边33平行,从一端起10mm的长度的范围配置于样品片31上。在样品片31的另一个面,也以与安装于样品片31的一个面的引导胶带35、35重叠的方式安装2个引导胶带。由此,如图3所示,成为在样品片31的安装边33隔开1mm的间隔(间隙)地安装有2组引导胶带组的状态,所述引导胶带组是在样品片31的俯视时2个引导胶带(安装于样品片31的两面的引导胶带)重叠而成的。
将安装于样品片31的引导胶带35的长度方向的端部中的、与安装于样品片31侧相反的那一侧的端部分别固定于Autograph(“AGS-50NX”,岛津制作所制)的上下卡盘。然后,进行180°拉伸试验:使2组引导胶带组中的一组成为以样品片31的平面为基准的一侧,使2组引导胶带组中的另一组成为以样品片31的平面为基准的另一侧,以样品片31的平面为基准向彼此相反的方向(以样品片31的平面为基准的上下方向)以速度300mm/min进行拉伸。进而测定了样品片31的包括安装边33的端部撕裂时出现的峰值的值(力的大小)。测定在温度23℃、相对湿度55%的条件下进行。将该测定进行5次,将所测定的力的大小的平均值作为撕裂强度。
[撕裂试验(官能评价)]
按照上述撕裂强度的测定中说明的步骤,准备矩形状的样品片。在温度23℃、相对湿度55%的条件下,评价从样品片的边中的表面处理膜的端部(形成有未涂敷区域的端部)所处的边起,向与该边正交的方向用手撕裂样品片时的撕裂容易度。关于撕裂容易度的评价,将按照上述的步骤撕裂厚度13μm的基材层(参考例1)时的撕裂容易度评价为不易撕裂(下述的“B”),将其作为基准,如下进行评价。
A:比B更不易撕裂。
B:不易撕裂。
C:比B更容易撕裂。
[粘度的测定]
丙烯酸系树脂组合物的粘度通过在温度25℃下利用Brookfield型粘度计(B型粘度计,Brookfield公司制)进行测定。
[划格试验]
在表面处理膜的涂敷层面,以贯通涂敷层的方式刻100个(10×10个)1mm见方的划格。在该划格贴附宽度24mm的粘合带(透明粘合带CT405AP-24,NICHIBAN制)后,将粘合带向相对于划格面为45°的方向剥离。在剥离粘合带后,对残留于基材层上的划格的数量进行计数。划格试验在温度23℃、相对湿度55%的条件下进行。
[表1]
IA224207H
Figure BDA0004048753170000201
附图标记说明
1表面处理膜,10第1端部,11基材层,12涂敷层,15边,21未涂敷区域,22涂敷区域,31样品片,33边(安装边),35引导胶带。

Claims (9)

1.一种表面处理膜,其具有:
厚度小于20μm的基材层;
设置于所述基材层表面的涂敷层;以及
温度23℃、相对湿度55%下的撕裂强度为0.5N以上的第1端部。
2.根据权利要求1所述的表面处理膜,其中,
所述第1端部包含在所述基材层表面未设置所述涂敷层的未涂敷区域,
所述未涂敷区域中的从所述基材层的端部到所述涂敷层的端部为止的距离为0.6mm以上。
3.根据权利要求1或2所述的表面处理膜,其中,
所述第1端部沿着所述表面处理膜的俯视时相向的一对边而设置。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的表面处理膜,其中,
根据在温度23℃、相对湿度55%下在所述表面处理膜的所述涂敷层形成100个划格而进行的划格试验,在所述基材层上残留90个以上的所述划格。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的表面处理膜,其中,
所述基材层为环状烯烃树脂膜。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的表面处理膜,其中,
所述涂敷层为包含紫外线固化型树脂的组合物的固化物层。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的表面处理膜,其中,IA224207H
所述表面处理膜为长条体,
所述第1端部设置于所述表面处理膜的宽度方向两端部。
8.一种偏振板,其具有权利要求1~7中任一项所述的表面处理膜和直线偏振层。
9.一种偏振板的制造方法,其为权利要求8所述的偏振板的制造方法,包括:
准备层叠体的工序,所述层叠体具有所述表面处理膜、和以能够剥离的方式层叠于所述表面处理膜的所述基材层侧的保护膜;
输送从所述层叠体剥离所述保护膜而得到的所述表面处理膜的输送工序;以及
将在所述输送工序中得到的所述表面处理膜与所述直线偏振层层叠的工序。
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