CN116324538A - 相位差膜及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种相位差膜，其具有：具有慢轴的A层、和具有与A层的慢轴成85°～90°的角度的慢轴的B层；A层由具有正固有双折射的树脂A形成；B层由具有负固有双折射的树脂B形成；树脂B包含聚酯、聚碳酸酯或聚酯碳酸酯，该聚酯、聚碳酸酯或聚酯碳酸酯含有芴骨架；A层整体的面内延迟和B层整体的面内延迟满足特定的关系；波长450nm处和波长550nm处的相位差膜的面内延迟Re(450)和Re(550)满足特定的关系；A层整体的厚度T_A与B层整体的厚度T_B的比T_A/T_B为30/70～65/35。

Description

相位差膜及其制造方法

技术领域

本发明涉及相位差膜及其制造方法。

背景技术

在图像显示装置中有时会设置相位差膜(专利文献1)。在这种相位差膜中，存在具有包括两层以上的层的多层结构的相位差膜(专利文献2～3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2002-40258号公报；

专利文献2：日本特开2017-177342号公报；

专利文献3：日本特开2018-128568号公报。

发明内容

发明要解决的问题

在图像显示装置中，有时设置圆偏振片以减少显示面上外界光的反射。作为这种圆偏振片，通常使用组合了线性起偏器和相位差膜的膜。然而，现有的相位差膜几乎都具有正波长色散性。因此，现有的圆偏振片大多能够减少特定的窄波长范围的外界光的反射，但难以减少除此之外的外界光的反射，因此有时无法得到足够高的反射抑制能力。

为了提高反射抑制能力，可以考虑在圆偏振片上设置具有反波长色散性的相位差膜。作为这种具有反波长色散性的相位差膜，存在将具有正固有双折射的树脂和具有负固有双折射的树脂组合而成的膜。该相位差膜通常利用由具有正固有双折射的树脂显现的面内延迟与由具有负固有双折射的树脂显现的面内延迟的差，能够显现出反波长色散性。具体而言，测定波长越长，上述面内延迟的差越大，由此能够实现反波长色散性。

但是，将具有正固有双折射的树脂和具有负固有双折射的树脂组合使用的相位差膜如下所示，存在再加工性差的倾向。

有时要求在将相位差膜首次贴合于某个构件后，剥离该相位差膜，再次贴合于上述构件。能够容易地进行从构件上剥离并再次贴合的操作的性质称为“再加工性”。例如，在将相位差膜贴合于图像显示装置之后，将该相位差膜从图像显示装置上剥离并再次重新贴合的情况下，要求该再加工性优异。

但是，将具有正固有双折射的树脂和具有负固有双折射的树脂组合而成的现有的相位差膜的再加工性差。其中，反射抑制能力高的相位差膜存在再加工性大幅劣化的倾向，其中，在薄的相位差膜中，兼顾反射抑制能力和再加工性特别困难。

本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供：具有高的反射抑制能力和优异的再加工性的相位差膜及其制造方法；以及具有该相位差膜的偏振片和图像显示装置。

用于解决问题的方案

本发明人为了解决上述问题而进行了深入研究。结果，本发明人发现，在由具有正固有双折射的树脂A形成的A层和由具有负固有双折射的树脂B形成的B层组合而成的相位差膜满足特定的要件的情况下，能够解决上述问题，从而完成了本发明。

即，本发明包含下述内容。

[1]一种相位差膜，其具有：一个或两个以上的具有慢轴的A层、和一个或两个以上的具有与上述A层的慢轴成85°～90°的角度的慢轴的B层，

上述A层由具有正固有双折射的树脂A形成，

上述B层由具有负固有双折射的树脂B形成，

上述树脂B包含选自聚酯、聚碳酸酯以及聚酯碳酸酯中的至少一种聚合物，

上述聚合物含有芴骨架，

波长450nm处的上述A层整体的面内延迟Re(A450)、波长550nm处的上述A层整体的面内延迟Re(A550)、波长450nm处的上述B层整体的面内延迟Re(B450)、以及波长550nm处的上述B层整体的面内延迟Re(B550)满足下述式(i)：

|Re(A450)/Re(A550)-Re(B450)/Re(B550)|≥0.10 (i)，

波长450nm处的上述相位差膜的面内延迟Re(450)和波长550nm处的上述相位差膜的面内延迟Re(550)满足下述式(ii)：

0.60≤Re(450)/Re(550)≤0.96 (ii)，

上述A层整体的厚度T_A与上述B层整体的厚度T_B的比T_A/T_B为30/70～65/35。

[2]根据[1]所述的相位差膜，其中，上述B层整体的面内延迟Re(B450)和Re(B550)满足下述式(iii)：

1.14≤Re(B450)/Re(B550) (iii)。

[3]根据[1]或[2]所述的相位差膜，其中，上述聚合物包含具有芴-9,9-二基的结构单元。

[4]根据[1]～[3]中任一项所述的相位差膜，其中，上述具有芴-9,9-二基的结构单元包含下述式(1)所表示的芴二羧酸单元和/或下述式(2)所表示的芴二醇单元，所述式(1)为：

[化学式1]

(式中，R¹表示取代基，k表示0～8的整数，X^1a和X^1b分别独立地表示能够具有取代基的二价烃基)

所述式(2)为：

[化学式2]

(式中，R²表示取代基，m表示0～8的整数，X^2a和X^2b分别独立地表示能够具有取代基的二价烃基，A^1a和A^1b分别独立地表示直链状或支链状亚烷基，n1和n2表示0以上的整数))。

[5]根据[4]所述的相位差膜，其中，上述芴二醇单元包含下述式(2A)所表示的二醇单元，所述式(2A)为：

[化学式3]

(式中，Z^1a和Z^1b分别独立地表示芳烃环，R^3a和R^3b分别独立地表示取代基，p1和p2分别独立地表示0以上的整数，R²、m、A^1a和A^1b、n1和n2分别与上述式(2)相同)。

[6]根据[5]所述的相位差膜，其中，在式(2A)所表示的二醇单元中，Z^1a和Z^1b为C_6-12芳烃环，R^3a和R^3b为C_1-4烷基或C_6-10芳基，p1和p2为0～2的整数，A^1a和A^1b为直链状或支链状C_2-4亚烷基，n1和n2为0～2的整数。

[7]根据[4]～[6]中任一项所述的相位差膜，其中，在上述式(1)所表示的芴二羧酸单元中，X^1a和X^1b为直链状或支链状C_2-4亚烷基。

[8]根据[1]～[7]中任一项所述的相位差膜，其中，上述树脂B还包含下述式(3)所表示的亚烷基二醇单元，所述式(3)为：

[化学式4]

(式中，A²表示直链状或支链状亚烷基，q表示1以上的整数)。

[9]根据[8]所述的相位差膜，其中，在式(3)所表示的亚烷基二醇单元中，A²为直链状或支链状C_2-4亚烷基，q为1～4的整数。

[10]根据[1]～[9]中任一项所述的相位差膜，其中，上述树脂A包含不含芳香环的聚合物。

[11]根据[1]～[10]中任一项所述的相位差膜，其中，上述树脂A包含含有异山梨醇骨架的聚合物。

[12]根据[1]～[11]中任一项所述的相位差膜，其中，上述相位差膜的面内延迟Re(450)和Re(550)满足下述式(iv)：

Re(450)/Re(550)≤0.91 (iv)。

[13]根据[1]～[12]中任一项所述的相位差膜，其中，上述树脂A的玻璃化转变温度TgA为100℃以上且160℃以下，

上述树脂B的玻璃化转变温度TgB为100℃以上且160℃以下。

[14]根据[1]～[13]中任一项所述的相位差膜，其中，上述树脂A的玻璃化转变温度TgA与上述树脂B的玻璃化转变温度TgB的差|TgA-TgB|为15℃以下。

[15]根据[1]～[14]中任一项所述的相位差膜，其中，上述相位差膜的厚度为90μm以下。

[16]根据[1]～[15]中任一项所述的相位差膜，其中，上述相位差膜的厚度为70μm以下。

[17]一种相位差膜的制造方法，为[1]～[16]中任一项所述的相位差膜的制造方法，该制造方法包括：

准备具有由树脂A形成的层和由树脂B形成的层的多层膜的工序；上述树脂A具有正固有双折射，上述树脂B具有负固有双折射；和

拉伸上述多层膜的工序。

[18]根据[17]所述的相位差膜的制造方法，其中，准备上述多层膜的工序包括熔融挤出上述树脂A和上述树脂B的步骤。

[19]根据[17]或[18]所述的相位差膜的制造方法，其中，拉伸上述多层膜的工序包括在“Tg(h)-10℃”以上且“Tg(h)+20℃”以下的拉伸温度进行拉伸的步骤(其中，Tg(h)表示上述树脂A的玻璃化转变温度TgA和上述树脂B的玻璃化转变温度TgB中较高的一方的温度)。

[20]根据[17]～[19]中任一项所述的相位差膜的制造方法，其中，拉伸上述多层膜的工序包括以1.5倍以上且5.0倍以下的拉伸倍率进行拉伸的步骤。

[21]根据[17]～[20]中任一项所述的相位差膜的制造方法，其中，拉伸上述多层膜的工序包括将上述多层膜沿倾斜方向进行拉伸的步骤。

[22]一种偏振片，其具有[1]～[16]中任一项所述的相位差膜和线性起偏器。

[23]一种图像显示装置，其具有[1]～[16]中任一项所述的相位差膜。

发明效果

根据本发明能够提供：具有高的反射抑制能力和优异的再加工性的相位差膜及其制造方法；以及具有该相位差膜的偏振片和图像显示装置。

附图说明

图1是示意性地表示一个例子的A层整体的面内延迟ReA和B层整体的面内延迟ReB的相对关系的曲线图。

具体实施方式

以下，示出实施方式和例示物，对本发明进行详细说明。但是，本发明并不限定于以下示出的实施方式及例示物，在不脱离本发明的保护范围及与其等同的范围的范围内可以任意地变更实施。

在以下的说明中，只要没有另外说明，具有三维折射率nx、ny和nz的层以及膜的面内延迟Re为Re＝(nx-ny)×d所表示的值。nx表示在与厚度方向垂直的方向(面内方向)中的提供最大折射率的方向的折射率。ny表示在上述面内方向中的与nx的方向正交的方向的折射率。nz表示厚度方向的折射率。d表示厚度。

具有三维折射率nx、ny和nz不同的多个层的膜的面内延迟通常可以由各层的面内延迟合成。例如，由具有慢轴的第一层和具有与第一层的慢轴垂直的慢轴的第二层形成的膜的面内延迟可以表现为第一层的面内延迟与第二层的面内延迟的差。此外，例如，由具有慢轴的第三层和具有与第三层的慢轴平行的慢轴的第四层形成的膜的面内延迟可以表现为第三层的面内延迟与第四层的面内延迟的和。

面内延迟的具体值可以使用相位差计(王子计测机器株式会社制“KOBRA-WIST”)进行测定。只要没有另外说明，测定波长为590nm。

只要没有另外说明，某层或膜的慢轴表示该层或膜的面内方向的慢轴。

正波长色散性是指测定波长450nm和550nm处的面内延迟Re450和Re550满足Re450＞Re550的性质。通常，测定波长越长，具有正波长色散性的构件的面内延迟越小。

反波长色散性是指测定波长450nm和550nm处的面内延迟Re450和Re550满足Re450＜Re550的性质。通常，测定波长越长，具有反波长色散性的构件的面内延迟越大。

只要没有另外说明，在具有多个层的构件中的各层的光轴(吸收轴、透射轴、慢轴等)所成的角度表示从厚度方向观察上述层时的角度。

只要没有另外说明，要素的方向为“平行”、“垂直”和“正交”可以包含在不损害本发明效果的范围内(例如±5°、±4°、±3°、±2℃或±1°的范围内)的误差。

只要没有另外说明，“具有正固有双折射的树脂”表示拉伸方向的折射率大于与拉伸方向正交的方向的折射率的树脂。此外，只要没有另外说明，“具有正固有双折射的聚合物”表示拉伸方向的折射率大于与拉伸方向正交的方向的折射率的聚合物。

只要没有另外说明，“具有负固有双折射的树脂”表示拉伸方向的折射率小于与拉伸方向正交的方向的折射率的树脂。只要没有另外说明，“具有负固有双折射的聚合物”表示拉伸方向的折射率小于与拉伸方向正交的方向的折射率的聚合物。

只要没有另外说明，“长条”的膜是指具有相对于宽度为5倍以上的长度的膜，优选为10倍或其以上的长度，具体是指具有可以卷成卷状而保存或运输的程度的长度的膜。长条的膜的长度上限没有特别限制，可以是例如相对于宽度为10万倍以下。

只要没有另外说明，“偏振片”、“圆偏振片”及“波片”不仅包含刚性的构件，还包含例如树脂制的膜那样的具有可挠性的构件。

只要没有另外说明，粘接剂不仅包含狭义的粘接剂，也包含在23℃的剪切储能弹性模量小于1MPa的粘接剂。此外，狭义的粘接剂是指在能量射线照射后或加热处理后，在23℃的剪切储能弹性模量为1MPa～500MPa的粘接剂。

[1.相位差膜的概要]

本发明的一个实施方式的相位差膜具有：一个或两个以上的由具有正固有双折射的树脂A形成的A层；和一个或两个以上的由具有负固有双折射的树脂B形成的B层。A层和B层是光学各向异性的层，因此具有慢轴。在从厚度方向观察相位差膜的情况下，A层的慢轴与B层的慢轴垂直。进而，树脂B包含选自聚酯、聚碳酸酯以及聚酯碳酸酯中的至少一种聚合物。该聚合物含有芴骨架。

在本实施方式中，A层的波长色散性与B层的波长色散性的差处于特定的范围。具体而言，用Re(A450)/Re(A550)表示A层的波长色散性。另外，用Re(B450)/Re(B550)表示B层的波长色散性。在这种情况下，A层的波长色散性与B层的波长色散性的差的大小用|Re(A450)/Re(A550)-Re(B450)/Re(B550)|表示。在本实施方式中，该波长色散性的差的大小满足下述式(i)：

|Re(A450)/Re(A550)-Re(B450)/Re(B550)|≥0.10 (i)。

在此，Re(A450)表示波长450nm处的A层整体的面内延迟。此外，Re(A550)表示波长550nm处的A层整体的面内延迟。在相位差膜具有一个A层的情况下，“A层整体的面内延迟”表示该A层的面内延迟。此外，在相位差膜具有两个以上的A层的情况下，“A层整体的面内延迟”表示这些A层的面内延迟的和。

进而，Re(B450)表示波长450nm处的B层整体的面内延迟。此外，Re(B550)表示波长550nm处的B层整体的面内延迟。在相位差膜具有一个B层的情况下，“B层整体的面内延迟”表示该B层的面内延迟。此外，在相位差膜具有两个以上的B层的情况下，“B层整体的面内延迟”表示这些B层的面内延迟的和。

进一步详细地说明式(i)。A层的波长色散性与B层的波长色散性的差的大小|Re(A450)/Re(A550)-Re(B450)/Re(B550)|通常为0.10以上，优选为0.12以上，更优选为0.14以上。上限没有特别限制，通常可以为0.8以下，优选为0.5以下，特别优选为0.3以下。在多数情况下，B层的波长色散性Re(B450)/Re(B550)大于A层的波长色散性Re(A450)/Re(A550)，因此A层的波长色散性与B层的波长色散性的差“Re(A450)/Re(A550)-Re(B450)/Re(B550)”可以为负值。

在本实施方式中，A层整体的厚度T_A与B层整体的厚度T_B的比T_A/T_B处于特定的范围。具体而言，厚度的比T_A/T_B通常为30/70以上，优选为35/65以上，更优选为40/60以上，通常为65/35以下，优选为60/40以下，更优选为55/45以下。在此，在相位差膜具有一个A层的情况下，厚度T_A表示该A层的厚度。此外，在相位差膜具有两个以上的A层的情况下，厚度T_A表示这些A层的厚度的和。进而，在相位差膜具有一个B层的情况下，厚度T_B表示该B层的厚度。此外，在相位差膜具有两个以上的B层的情况下，厚度T_B表示这些B层的厚度的和。

本实施方式的相位差膜具有特定范围的波长色散性。具体而言，相位差膜的波长色散性用Re(450)/Re(550)表示。而且，相位差膜的波长色散性Re(450)/Re(550)满足下述式(ii)：

0.60≤Re(450)/Re(550)≤0.96 (ii)。

在此，Re(450)表示波长450nm处的相位差膜的面内延迟。此外，Re(550)表示波长550nm处的相位差膜的面内延迟。

进一步详细地说明式(ii)。相位差膜的波长色散性Re(450)/Re(550)通常为0.60以上，优选为0.70以上，更优选为0.80以上，通常为0.96以下，优选为0.93以下，更优选为0.92以下，进一步优选为0.91以下。

满足上述要件的本实施方式的相位差膜具有高的反射抑制能力和优异的再加工性。具体而言，在将相位差膜与线性起偏器组合而得到偏振片(通常为圆偏振片)的情况下，该偏振片能够有效地抑制图像显示装置的画面中的反射。此外，相位差膜在首次贴合于某个构件后，在剥离该相位差膜时，能够有效地抑制该相位差膜的凝聚破坏。由此，在剥离该相位差膜后，能够抑制相位差膜的一部分残留在构件上。因此，即使在将剥离的相位差膜再次贴合于上述构件的情况下，也能够抑制品质降低。

[2.A层]

相位差膜具有一个或两个以上的A层。A层都具有慢轴。在相位差膜具有两个以上的A层的情况下，这些A层的慢轴通常是平行的。因此，在从厚度方向观察的情况下，这些A层的慢轴间形成的角度通常为0°～5°，优选为0°～4°，更优选为0°～3°，进一步优选为0°～2°，特别优选为0°～1°，理想为0°。

A层由具有正固有双折射的树脂A形成。因此，A层包含树脂A，优选仅包含树脂A。该树脂A通常为热塑性树脂。树脂A可以包含聚合物和根据需要的任意的成分。通常，上述聚合物的一部分或全部具有正固有双折射，由此树脂A可以具有正固有双折射。

作为A层所包含的聚合物，可举出例如含有脂环式结构的聚合物。含有脂环式结构的聚合物优选具有正固有双折射。含有脂环式结构的聚合物是在重复单元中含有脂环式结构的聚合物，可举出例如(1)降冰片烯系聚合物、(2)单环的环状烯烃聚合物、(3)环状共轭二烯聚合物、(4)乙烯基脂环式烃聚合物、以及它们的氢化物等。上述含有脂环式结构的聚合物例如可以从日本特开2002-321302号公报中公开的聚合物中选择。作为含有脂环式结构的聚合物，可举出例如日本瑞翁株式会社制造的“ZEONOR”、JSR株式会社制造的“ARTON”等。从再加工性和与B层的密合性的观点出发，A层所包含的聚合物优选在分子内含有杂原子。

此外，树脂A所含有的聚合物优选含有异山梨醇骨架，特别优选为含有异山梨醇骨架的聚碳酸酯。在此，异山梨醇骨架表示下述式(X1)所表示的骨架。在式(X1)中，*表示结合位点。含有异山梨醇骨架的聚合物优选具有正固有双折射。在使用含有异山梨醇骨架的聚合物、特别是含有异山梨醇骨架的聚碳酸酯的情况下，能够有效地改善与树脂B的层的密合性、相位差膜的反射抑制能力、再加工性、以及施加应力时的相位差变化抑制能力。

[化学式5]

树脂A所含有的聚合物优选不含芳香环。在使用分子中不含芳香环的聚合物的情况下，能够有效地改善相位差膜的反射抑制能力。特别是，包含不含芳香环的聚合物的树脂A由于存在波长色散性Re(A450)/Re(A550)小的倾向，因此在与后述的包含含有芴环的聚酯那样地波长色散性Re(B450)/Re(B550)大的聚合物的树脂B进行组合的情况下，反射抑制能力的改善显著。

作为含有异山梨醇骨架的聚合物，可举出例如三菱化学株式会社制造的“DURABIO”。此外，三菱化学株式会社制造的“DURABIO”在聚合物的分子中不含芳香环。

聚合物可以单独使用一种，也可以以任意的比率组合使用两种以上。

树脂A所包含的聚合物的重均分子量(Mw)优选为10000以上，更优选为15000以上，特别优选为20000以上，优选为100000以下，更优选为80000以下，特别优选为50000以下。在重均分子量处于这样的范围的情况下，A层的机械强度和成型加工性高度平衡。

上述重均分子量是使用环己烷作为溶剂通过凝胶渗透色谱(GPC)测定的聚异戊二烯或聚苯乙烯换算的重均分子量。然而，在GPC中，在试样不溶于环己烷的情况下，也可以使用甲苯作为溶剂。

树脂A所包含聚合物的分子量分布(重均分子量(Mw)/数均分子量(Mn))优选为1.2以上，更优选为1.5以上，特别优选为1.8以上，优选为3.5以下，更优选为3.0以下，特别优选为2.7以下。在分子量分布为上述范围的下限值以上的情况下，能够提高聚合物的生产率，抑制制造成本。此外，在分子量分布为上限值以下的情况下，由于低分子成分的量变少，因此能够抑制高温暴露时的弛豫(relaxation)，提高A层的稳定性。

树脂A中的聚合物的比例优选为50重量％～100重量％，更优选为70重量％～100重量％，特别优选为90重量％～100重量％。在聚合物的比例处于上述范围的情况下，A层获得充分的耐热性和透明性。

树脂A可以进一步包含任意的成分来与聚合物组合。作为任意的成分，可举出例如：抗氧化剂、热稳定剂、光稳定剂、耐候稳定剂、紫外线吸收剂、近红外线吸收剂等稳定剂；增塑剂等。这些成分可以单独使用一种，也可以以任意的比率组合使用两种以上。

树脂A的玻璃化转变温度TgA优选为100℃以上，更优选为110℃以上，特别优选为120℃以上，优选为160℃以下，更优选为150℃以下，特别优选为140℃以下。在树脂A的玻璃化转变温度TgA为上述范围的下限值以上的情况下，能够提高相位差膜的耐热性。此外，在玻璃化转变温度TgA为上述范围的上限值以下的情况下，能够顺利地进行相位差膜的制造方法中的制膜和拉伸。玻璃化转变温度可以使用差示扫描量热仪(DSC)以10℃/分钟进行升温来测定。树脂A的玻璃化转变温度例如可以根据树脂A的组成来调节。

树脂A的玻璃化转变温度TgA与树脂B的玻璃化转变温度TgB的差|TgA-TgB|优选为15℃以下，更优选为10℃以下，特别优选为8℃以下。玻璃化转变温度的差|TgA-TgB|处于上述范围表示树脂A的玻璃化转变温度TgA与树脂B的玻璃化转变温度TgB接近。在这种情况下，将树脂A和树脂B进行共拉伸来制造相位差膜时，拉伸条件的选择范围变宽，容易得到作为目标的相位差膜的延迟和厚度。树脂A的玻璃化转变温度TgA可以高于也可以低于树脂B的玻璃化转变温度TgB。

波长550nm处的A层整体的面内延迟Re(A550)优选为180nm以上，更优选为200nm以上，特别优选为220nm以上，优选为320nm以下，更优选为300nm以下，特别优选为280nm以下。A层整体的面内延迟Re(A550)处于上述范围的情况下，能够使反射抑制能力和再加工性两者都特别良好。

波长550nm处的A层整体的面内延迟Re(A550)与波长550nm处的B层整体的面内延迟Re(B550)的差的大小|Re(A550)-Re(B550)|优选处于特定的范围。上述特定的范围优选为90nm以上，更优选为100nm以上，特别优选为110nm以上，优选为200nm以下，更优选为180nm以下，特别优选为160nm以下。在面内延迟的差的大小|Re(A550)-Re(B550)|处于上述范围的情况下，能够使反射抑制能力和再加工性两者都特别良好。A层整体的面内延迟Re(A550)可以大于也可以小于B层整体的面内延迟Re(B550)。

A层的波长色散性Re(A450)/Re(A550)优选为0.98以上，更优选为0.99以上，特别优选为1.00以上，优选为1.10以下，更优选为1.06以下，特别优选为1.04以下。在A层的波长色散性Re(A450)/Re(A550)处于上述范围的情况下，能够使反射抑制能力和再加工性两者都特别良好。A层的波长色散性Re(A450)/Re(A550)例如可以根据树脂A的组成来调节。

一个A层的厚度优选为5μm以上，更优选为10μm以上，特别优选为15μm以上，优选为100μm以下，更优选为80μm以下，特别优选为60μm以下。在A层的厚度为上述范围的下限值以上的情况下，可以顺利地进行用于制造具有这样的厚度的A层的相位差膜的制膜和拉伸。此外，在A层的厚度为上述范围的上限值以下的情况下，能够使相位差膜的厚度变薄。

[3.B层]

相位差膜具有一个或两个以上的B层。B层都具有慢轴。在相位差膜具有两个以上的B层的情况下，这些B层的慢轴通常是平行的。因此，在从厚度方向观察的情况下，这些B层的慢轴间形成的角度通常为0°～5°，优选为0°～4°，更优选为0°～3°，进一步优选为0°～2°，特别优选为0°～1°，理想为0°。

在从厚度方向观察相位差膜的情况下，B层的慢轴垂直于A层的慢轴。由此，从厚度方向观察，B层的慢轴与A层的慢轴成特定范围的角度。具体而言，在从厚度方向观察的情况下，这些B层的慢轴与A层的慢轴所成的角度通常为85°～90°，优选为86°～90°，更优选为87°～90°，进一步优选为88°～90°，特别优选为89°～90°，理想为90°。在A层的慢轴和B层的慢轴的组为两个以上的情况下，所有组的A层的慢轴与B层的慢轴之间的角度都处于上述范围。例如，在相位差膜具有两个以上的A层和一个B层的情况下，由于各A层的慢轴可以与B层的慢轴组合，因此A层的慢轴和B层的慢轴的组可以是两个以上。在这种情况下，所有组的A层的慢轴与B层的慢轴之间的角度处于上述范围，因此，B层的慢轴与各A层的慢轴所成的角度都处于上述范围。

由于A层的慢轴与B层的慢轴垂直，因此包含A层和B层的相位差膜的面内延迟通常可以反映A层的面内延迟与B层的面内延迟的差。因此，通常，由于相位差膜能够具有反映式(i)所表示的A层的波长色散性与B层的波长色散性的关系的面内延迟，因此相位差膜能够具有反波长色散性。

B层由具有负固有双折射的树脂B形成。因此，B层包含树脂B，优选仅包含树脂B。该树脂B通常为热塑性树脂。树脂B可以包含聚合物和根据需要的任意的成分。通常，上述聚合物的一部分或全部具有负固有双折射，由此树脂B可以具有负固有双折射。

树脂B所包含的聚合物可以是一种，也可以是两种以上。树脂B包含选自聚酯、聚碳酸酯以及聚酯碳酸酯中的至少一种聚合物。这些聚酯、聚碳酸酯以及聚酯碳酸酯优选具有负固有双折射。在树脂B包含选自聚酯、聚碳酸酯以及聚酯碳酸酯中的至少一种聚合物的情况下，能够有效地改善相位差膜的反射抑制能力和再加工性。

选自聚酯、聚碳酸酯以及聚酯碳酸酯的上述聚合物含有芴骨架，例如在侧链含有芴骨架。上述聚合物优选具有负固有双折射。在树脂B包含含有芴骨架的聚合物的情况下，能够有效地改善相位差膜的反射抑制能力和再加工性。在此，在侧链含有芴骨架的聚合物表示含有下述式(X2)所表示的结构单元的聚合物。

[化学式6]

树脂B所包含的聚合物优选包含具有芴-9,9-二基的结构单元。在树脂B所包含的聚合物中，对具有芴-9,9-二基的结构单元的种类没有限制。例如，树脂B所包含的聚合物可以包含具有芴-9,9-二基的二羧酸单元(A)。二羧酸单元(A)表示具有将二羧酸成分(A)聚合而形成的结构的结构单元。此外，在二羧酸单元(A)中，有时将具有芴-9,9-二基的二羧酸单元(A)称为“芴二羧酸单元(A1)”。进而，例如，树脂B所包含的聚合物可以包含具有芴-9,9-二基的二醇单元(B)。二醇单元(B)表示具有将二醇成分(B)聚合而形成的结构的结构单元。此外，在二醇单元(B)中，有时将具有芴-9,9-二基的二醇单元(B)称为“芴二醇单元(B1)”。

如上所述，树脂B可以包含选自聚酯、聚碳酸酯以及聚酯碳酸酯中的至少一种聚酯系聚合物。这些聚酯系聚合物中，从成型性和相位差显现性的观点出发，优选聚酯。特别优选含有芴骨架的聚酯。含有芴骨架的聚酯适当地称为“含有芴环的聚酯”。

聚酯通常通过将包含二羧酸成分(A)和二醇成分(B)的聚合成分聚合而得到。因此，聚酯通常包含二羧酸单元(A)和二醇单元(B)。在含有芴环的聚酯中，芴骨架可以包含在来自任何聚合成分的结构单元中。因此，可以仅二羧酸单元(A)含有芴骨架，也可以仅二醇单元(B)含有芴骨架，还可以二羧酸单元(A)和二醇单元(B)两者都含有芴骨架。特别地，由于能够特别有效地改善相位差膜的反射抑制能力和再加工性，因此优选二羧酸单元(A)和二醇单元(B)两者都含有芴骨架。

(二羧酸单元(A))

树脂B所包含的聚合物可以包含二羧酸单元(A)。其中，树脂B所包含的聚合物优选包含芴二羧酸单元(A1)。例如，在树脂B包含聚酯的情况下，该聚酯优选包含芴二羧酸单元(A1)。

芴二羧酸单元(A1)

作为芴二羧酸单元(A1)，可举出例如下述式(1)所表示的二羧酸单元。

[化学式7]

(式(1)中，R¹表示取代基，k表示0～8的整数，X^1a和X^1b分别独立地表示能够具有取代基的二价烃基)。

在上述式(1)中，作为X^1a和X^1b中的二价烃基，优选环己基等二价脂环族烃基、二价脂肪族烃基，特别优选二价脂肪族烃基。在形成主链的X^1a和X^1b为二价脂环族或脂肪族烃基的情况下，通过与侧链的芴环结构(芴-9,9-二基)的组合，主链方向的折射率和波长色散性变小，与主链方向正交的方向的折射率和波长色散性变大。因此，容易制备取向双折射显示负、为正波长色散性且波长色散性大的聚酯等聚合物。特别是，当X^1a和X^1b为二价脂肪族烃基时，相位差显现性变高，能够在更平缓的拉伸条件下进行拉伸。进而，能够提高聚合物的韧性(柔软性)，形成不易断裂、成型性和操作性优异的相位差膜。此外，由于减轻了残留应力引起的热收缩，因此能够形成更薄的相位差膜。

作为基团X^1a和X^1b所表示的二价脂肪族烃基，可举出例如直链状或支链状亚烷基、直链状或支链状亚烯基、直链状或支链状亚炔基，优选直链状或支链状亚烷基。其中，优选亚乙基、亚丙基等直链状或支链状C_2-4亚烷基；更优选直链状或支链状C_2-3亚烷基；特别优选亚乙基。只要没有另外说明，在基团的名称之前附加的“C_x-y”(x和y表示正整数)的标记表示附加了该标记的基团的碳原子数为x以上且y以下。另外，X^1a和X^1b可以彼此不同，但通常多为相同的基团。

在上述式(1)中，作为基团R¹，可举出例如在聚合反应中非活性的非聚合性基团或非反应性取代基。作为基团R¹的具体例子，可举出：氰基；氟原子、氯原子、溴原子等卤素原子；烷基、芳基等烃基等。作为上述芳基，可举出苯基等C_6-10芳基等。作为上述烷基，可举出例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、叔丁基等C_1-12烷基，优选C_1-8烷基，特别优选甲基等C_1-4烷基等。

作为上述式(1)所表示的典型的二羧酸单元，可举出X^1a和X^1b为直链状或支链状C_2-6亚烷基的结构单元、例如9,9-双(2-羧基乙基)芴、9,9-双(2-羧基丙基)芴等来自9,9-双(羧基C_2-6烷基)芴的结构单元等。这些上述式(1)所表示的二羧酸单元可以单独使用或组合使用两种以上。这些上述式(1)所表示的二羧酸单元中，优选为来自9,9-双(羧基C_2-6烷基)芴的结构单元，更优选为来自9,9-双(羧基C_2-4烷基)芴的结构单元，特别优选为包含来自9,9-双(2-羧基乙基)芴、9,9-双(2-羧基丙基)芴等9,9-双(羧基C_2-3烷基)芴的结构单元。

第二二羧酸单元(A2)

树脂B所包含的聚合物可以不含与芴二羧酸单元(或第一二羧酸单元)(A1)不同的二羧酸单元(第二二羧酸单元(A2))作为二羧酸单元(A)，但只要在不损害本发明效果的范围，也可以根据需要包含。例如，在树脂B包含聚酯的情况下，该聚酯可以包含第二二羧酸单元(A2)。

作为第二二羧酸单元(A2)，可举出例如来自芳香族二羧酸成分[其中，除芴二羧酸成分(A1)以外]、脂环族二羧酸成分、脂肪族二羧酸成分等的结构单元。

作为芳香族二羧酸成分，可举出例如邻苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸、4-甲基间苯二甲酸、5-甲基间苯二甲酸、1,2-萘二羧酸、1,4-萘二羧酸、1,5-萘二羧酸、1,8-萘二羧酸、2,3-萘二羧酸、2,6-萘二羧酸、蒽二羧酸、菲二羧酸、2,2’-联苯二羧酸、3,3’-联苯二羧酸、4,4’-联苯二羧酸、4,4’-二苯基甲烷二羧酸等。

作为脂环族二羧酸成分，可举出例如1,4-环己烷二羧酸、萘烷二羧酸、降冰片烷二羧酸、金刚烷二羧酸、三环癸烷二羧酸、环己烯二羧酸、降冰片烯二羧酸等二或三环烯烃二羧酸等。

作为脂肪族二羧酸成分，可举出例如琥珀酸、己二酸、癸二酸、癸烷二羧酸、马来酸、富马酸、衣康酸等。

这些第二二羧酸单元(A2)可以单独或两种以上组合。

相对于二羧酸单元(A)整体，芴二羧酸单元(A1)的比例例如能够从1摩尔％以上、具体为10摩尔％～100摩尔％左右的范围中选择，作为优选范围，以下阶段性地为30摩尔％以上、50摩尔％以上、60摩尔％以上、70摩尔％以上、80摩尔％以上、90摩尔％以上、95摩尔％以上，特别优选为100摩尔％而实质上不含第二二羧酸单元(A2)。在芴二羧酸单元(A1)的比例为上述范围的下限值以上的情况下，能够容易地得到显示负取向双折射性和正波长色散性的聚酯等聚合物。

(二醇单元(B))

树脂B所包含的聚合物可以包含二醇单元(B)。其中，树脂B所包含的聚合物优选包含芴二醇单元(B1)。例如，在树脂B包含聚酯的情况下，该聚酯优选包含芴二醇单元(B1)。

芴二醇单元(B1)

作为芴二醇单元(B1)，可举出例如下述式(2)所表示的二醇单元。

[化学式8]

(式(2)中，R²表示取代基，m表示0～8的整数，X^2a和X^2b分别独立地表示能够具有取代基的二价烃基，A^1a和A^1b分别独立地表示直链状或支链状亚烷基，n1和n2表示0以上的整数)。

在上述式(2)中，R²所表示的取代基及其取代数m包含具体的基团、取代数的范围、取代位置等优选的方式，分别与上述式(1)中的R¹所表示的取代基及其取代数k相同。

在X^2a和X^2b中，作为二价烃基，与上述式(1)中的X^1a和X^1b相同，可举出例如直链状或支链状亚烷基等二价脂肪族烃基、亚环己基等二价脂环族烃基、亚苯基等二价芳香族烃基等。作为优选的二价烃基，为二价脂肪族烃基、二价芳香族烃基。X^2a和X^2b的种类能够彼此不同，但通常多为相同。

作为上述R²所表示的烃基，可举出例如：甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基等直链状或支链状C_1-10烷基；环戊基、环己基等C_5-10环烷基；苯基、甲基苯基(或甲苯基)、二甲基苯基(或二甲苯基)等一至三C_1-4烷基-苯基；联苯基、萘基等C_6-12芳基；苄基、苯乙基等C_6-10芳基-C_1-4烷基。

作为亚烷基A^1a和A^1b，可举出例如亚乙基、亚丙基(1,2-丙烷二基)、三亚甲基、1,2-丁二基、四亚甲基等直链状或支链状C_2-6亚烷基等，优选直链状或支链状C_2-4亚烷基，更优选亚乙基、亚丙基等直链状或支链状C_2-3亚烷基，特别优选亚乙基。

氧亚烷基(-OA^1a-)和(-OA^1b-)的重复数(加成摩尔数)n1、n2分别可以为0以上，例如能够从0～15左右的整数的范围中选择，作为优选范围，以下阶段性地为0～10、0～8、0～6、0～4、0～2、0～1。

作为上述式(2)所表示的典型的二醇单元，可举出例如X^2a和X^2b为直链状或支链状亚烷基的二醇单元(以下，也简称为双烷基芴二醇单元)、后述的式(2A)所表示的二醇单元(以下，也简称为双芳基芴二醇单元)等。这些芴二醇单元(B1)可以单独或两种以上组合。

作为典型的双烷基芴二醇单元，可举出例如来自9,9-双(羟甲基)芴、9,9-双(2-羟乙基)芴、9,9-双(3-羟丙基)芴、9,9-双(4-羟基丁基)芴等9,9-双(羟基直链状或支链状C_1-6烷基)芴的结构单元。这些双烷基芴二醇单元可以单独或两种以上组合。特别优选来自9,9-双(羟甲基)芴的结构单元。

下述式(2A)所表示的双芳基芴二醇单元由于容易提高聚合物的玻璃化转变温度，因此能够减轻因残留应力导致的热收缩，有效地提高耐环境可靠性(耐热性和耐水性(耐湿性)、对热、水分的尺寸稳定性以及相位差稳定性)。即，双芳基芴二醇单元对于调节相位差显现性和波长色散特性与耐环境可靠性的平衡是有效的。

[化学式9]

(式(2A)中，Z^1a和Z^1b分别独立地表示芳烃环，R^3a和R^3b分别独立地表示取代基，p1和p2分别独立地表示0以上的整数，R²、m、A^1a和A^1b、n1和n2分别包含优选方式，与上述式(2)相同)。

在上述式(2A)中，作为Z^1a和Z^1b所表示芳烃环(芳香族烃环)，可举出例如苯环、萘环、茚环、蒽环、菲环、联苯环、苯基萘环、联萘环、三联苯环，优选苯环、萘环、联苯环等C_6-12芳烃环，更优选苯环、萘环等C_6-10芳烃环，特别优选苯环。

作为R^3a和R^3b所表示的取代基，可举出：卤素原子；烷基、环烷基、芳基、芳烷基等烃基；烷氧基；酰基；硝基；氰基；取代氨基等。其中，R^3a和R^3b分别独立地优选烷基和芳基，特别优选C_1-4烷基和C_6-10芳基。

p1和p2分别独立地优选为0以上，优选为8以下，更优选为4以下，进一步优选为3以下，更进一步优选为2以下。

作为代表性的双芳基芴二醇单元，可举出例如，在上述式(2A)中对应于n1和n2为0的9,9-双(羟基芳基)芴类的二醇单元；对应于n1和n2为1以上、例如1～10左右的9,9-双[羟基(聚)烷氧基芳基]芴类的二醇单元等。

作为9,9-双(羟基芳基)芴类，可举出例如：9,9-双(4-羟基苯基)芴、9,9-双(4-羟基-3-甲基苯基)芴、9,9-双(4-羟基-3-异丙基苯基)芴、9,9-双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)芴等9,9-双[(一或二)C_1-4烷基-羟基苯基]芴；9,9-双(4-羟基-3-苯基苯基)芴等9,9-双(C_6-10芳基-羟基苯基)芴；9,9-双(6-羟基-2-萘基)芴、9,9-双(5-羟基-1-萘基)芴等。

作为9,9-双[羟基(聚)烷氧基芳基]芴类，可举出例如：9,9-双[4-(2-羟基乙氧基)苯基]芴、9,9-双[4-(2-(2-羟基乙氧基)乙氧基)苯基]芴、9,9-双[4-(2-羟基丙氧基)苯基]芴等9,9-双[羟基(一至十)C_2-4烷氧基-苯基]芴；9,9-双[4-(2-羟基乙氧基)-3-甲基苯基]芴、9,9-双[4-(2-(2-羟基乙氧基)乙氧基)-3-甲基苯基]芴、9,9-双[4-(2-羟基乙氧基)-3,5-二甲基苯基]芴、9,9-双[4-(2-羟基丙氧基)-3-甲基苯基]芴等9,9-双[(一或二)C_1-4烷基-羟基(一至十)C_2-4烷氧基-苯基]芴等。

作为9,9-双[芳基-羟基(聚)烷氧基苯基]芴类，可举出例如：9,9-双(4-(2-羟基乙氧基)-3-苯基苯基)芴、9,9-双[4-(2-(2-羟基乙氧基)乙氧基)-3-苯基苯基]芴、9,9-双(4-(2-羟基丙氧基)-3-苯基苯基)芴等9,9-双[C_6-10芳基-羟基(一至十)C_2-4烷氧基-苯基]芴；9,9-双[6-(2-羟基乙氧基)-2-萘基]芴、9,9-双[5-(2-羟基乙氧基)-1-萘基]芴、9,9-双[6-(2-(2-羟基乙氧基)乙氧基)-2-萘基]芴、9,9-双[6-(2-羟基丙氧基)-2-萘基]芴等9,9-双[羟基(一至十)C_2-4烷氧基-萘基]芴等。

在芴二醇单元(B1)中，双烷基芴二醇单元和双芳基芴二醇单元可以单独使用或组合使用两种以上。

此外，相对于二醇单元(B)整体，芴二醇单元(B1)的比例例如能够从1摩尔％以上、具体为10摩尔％～100摩尔％左右的范围中选择，作为优选范围，以下阶段性地为30摩尔％～100摩尔％、50摩尔％～99摩尔％、60摩尔％～98摩尔％、70摩尔％～97摩尔％、80摩尔％～96摩尔％，特别优选85摩尔％～95摩尔％。在芴二醇单元(B1)的比例为上述范围的下限值以上的情况下，能够容易地得到显示负取向双折射性和正波长色散性的聚酯等聚合物。此外，在芴二醇单元(B1)的比例为上述范围的上限值以下的情况下，能够使成型性和操作性良好。

(聚)亚烷基二醇单元(B2)

树脂B所包含的聚合物可以根据需要包含下述式(3)所表示的(聚)亚烷基二醇单元(B2)作为二醇单元(B)。例如，在树脂B包含聚酯的情况下，该聚酯可以包含(聚)亚烷基二醇单元(B2)。在包含(聚)亚烷基二醇单元(B2)的情况下，由于能够提高聚合物的聚合反应性而增加分子量，或者能够通过柔软的化学结构来提高韧性，因此对于制备成型性和操作性优异的相位差膜是有效的。

[化学式10]

(式(3)中，A²表示直链状或支链状亚烷基，q表示1以上的整数)。

在上述式(3)中，作为A²所表示的亚烷基，可举出例如亚乙基、亚丙基、三亚甲基、1,2-丁二基、1,3-丁二基、四亚甲基、1,5-戊二基、1,6-己二基、1,8-辛二基、1,10-癸二基等直链状或支链状C_2-12亚烷基等。优选亚乙基、亚丙基等直链状或支链状C_2-4亚烷基；更优选直链状或支链状C_2-3亚烷基；特别优选亚乙基。

重复数q例如能够从1～10左右的范围中选择，作为优选的范围，以下阶段性地为1～8、1～6、1～4、1～3、1～2，特别优选1。

作为对应于(聚)亚烷基二醇单元(B2)的二醇成分，可举出例如：乙二醇、丙二醇、三亚甲基二醇、1,2-丁二醇、1,3-丁二醇、四亚甲基二醇(或1,4-丁二醇)、1,5-戊二醇、新戊二醇、1,6-己二醇、1,8-辛二醇、1,10-癸二醇等直链状或支链状C_2-12亚烷基二醇；二甘醇、二丙二醇、三乙二醇等二至十直链状或支链状C_2-12亚烷基二醇等。可以单独或两种以上组合地包含这些(聚)亚烷基二醇单元(B2)。特别优选来自乙二醇的结构单元。

相对于二醇单元(B)整体，(聚)亚烷基二醇单元(B2)的比例能够从0摩尔％～100摩尔％、例如1摩尔％～50摩尔％左右的范围中选择，作为优选的范围，以下阶段性地为3摩尔％～30摩尔％、5摩尔％～20摩尔％、7摩尔％～15摩尔％，特别优选为8摩尔％～12摩尔％。在(聚)亚烷基二醇单元(B2)的比例为上述范围的上限值以下的情况下，能够容易地得到显示负取向双折射性和正波长色散性的聚酯等聚合物。此外，在(聚)亚烷基二醇单元(B2)的比例为上述范围的下限值以上的情况下，能够使成型性和操作性良好。

对聚合物的制造方法没有特别限制。例如，在制造聚酯作为聚合物的情况下，其制造方法能够利用惯用的方法。例如，可以使对应于上述各二羧酸单元等的二羧酸成分(A)与对应于上述二醇单元等的二醇成分(B)发生反应来制造，能够通过酯交换法、直接聚合法等熔融聚合法、溶液聚合法、界面聚合法等惯用的方法来制备，优选熔融聚合法。另外，反应可以根据聚合方法在溶剂的存在下或不存在下进行。具体的制造方法可以采用例如日本特开2017-198956号公报中记载的方法。

树脂B所包含的聚合物的重均分子量(Mw)优选为20000以上，更优选为25000以上，进一步优选为30000以上，更进一步优选为35000以上，再进一步优选为40000以上，特别优选为50000以上，优选为100000以下，更优选为80000以下，进一步优选为70000以下。在重均分子量处于这样的范围的情况下，能够顺利地进行通过拉伸的B层的制造。

树脂B中的聚合物的比例优选为50重量％～100重量％，更优选为70重量％～100重量％，特别优选为90重量％～100重量％。在聚合物的比例处于上述范围的情况下，B层得到充分的耐热性和透明性。

树脂B可以进一步包含任意的成分来与聚合物组合。作为任意的成分，可举出例如与树脂A可包含的任意的成分相同的例子。这些成分可以单独使用一种，也可以以任意的比率组合使用两种以上。

树脂B的玻璃化转变温度TgB优选为100℃以上，更优选为110℃以上，特别优选为120℃以上，优选为160℃以下，更优选为150℃以下，特别优选为140℃以下。在树脂B的玻璃化转变温度TgB为上述范围的下限值以上的情况下，能够提高相位差膜的耐热性。此外，在玻璃化转变温度TgB为上述范围的上限值以下的情况下，能够顺利地进行相位差膜的制造方法中的制膜和拉伸。树脂B的玻璃化转变温度TgB例如可以根据树脂B的组成来调节。

波长550nm处的B层整体的面内延迟Re(B550)优选为60nm以上，更优选为80nm以上，特别优选为100nm以上，优选为180nm以下，更优选为160nm以下，特别优选为140nm以下。在B层整体的面内延迟Re(B550)处于上述范围的情况下，能够使反射抑制能力和再加工性两者都特别良好。

B层整体的面内延迟Re(B450)和Re(B550)优选满足下述式(iii)：

1.14≤Re(450)/Re(550) (iii)

具体而言，B层的波长色散性Re(B450)/Re(B550)优选为1.14以上，更优选为1.15以上，特别优选为1.16以上，优选为1.30以下，更优选为1.24以下，特别优选为1.20以下。在B层的波长色散性Re(B450)/Re(B550)处于上述范围的情况下，能够使反射抑制能力和再加工性两者都特别良好。B层的波长色散性Re(B450)/Re(B550)例如可以根据树脂B的组成来调节。

一个B层的厚度优选为5μm以上，更优选为10μm以上，特别优选为15μm以上，优选为100μm以下，更优选为80μm以下，特别优选为60μm以下。在B层的厚度为上述范围的下限值以上的情况下，可以顺利地进行用于制造具有这样的厚度的B层的相位差膜的制膜和拉伸。此外，在B层的厚度为上述范围的上限值以下的情况下，能够使相位差膜的厚度变薄。

[4.任意的层]

相位差膜根据需要可以具有除A层和B层以外的任意的层。作为任意的层的例子，可举出具有光学各向同性的层。具有光学各向同性的层表示面内延迟小的层。具有光学各向同性的层的波长550nm处的面内延迟通常为10nm以下，优选为7nm以下，更优选为5nm以下。作为任意的层的具体例子，可举出：保护膜层；粘接A层和B层等各层的粘接剂层等。

[5.相位差膜的特性]

上述相位差膜在与线性起偏器组合使用的情况下，能够发挥高的反射抑制能力。申请人如下推测能够发挥如此高的反射抑制能力的结构。但是，本发明的技术范围不限于下述结构。

图1是示意性地表示一个例子的A层整体的面内延迟ReA和B层整体的面内延迟ReB的相对关系的曲线图。在图1中，横轴表示波长，纵轴表示面内延迟的大小。在图1中对A层整体的面内延迟ReA大于B层整体的面内延迟ReB的例子进行说明。

A层和B层的组合的面内延迟表现为A层的面内延迟与B层的面内延迟的合成。在A层的慢轴与B层的慢轴垂直的情况下，如图1所示，A层与B层的组合的面内延迟表现为A层整体的面内延迟ReA与B层整体的面内延迟ReB的差ReA-ReB。如上述实施方式那样，在通过树脂A的选择和树脂B的选择等方法来满足式(i)的情况下，由于A层整体的面内延迟ReA的斜率与B层整体的面内延迟ReB的斜率不同，因此波长越长，面内延迟的差ReA-ReB越大。因此，A层与B层的组合显示反波长色散性，该反波长色散性波长越长越显示大的面内延迟。因此，包含该A层和B层的组合的相位差膜能够具有满足式(ii)的反波长色散性。该具有反波长色散性的相位差膜在可见波长区域(400nm～700nm)的宽范围中，能够发挥均匀的光学功能，因此，能够使透过该相位差膜的光的偏振状态均匀地变化。因此，具有该相位差膜与线性起偏器的组合的偏振片(通常为圆偏振片)能够在可见波长区域的宽范围中，有效地抑制光的反射。因此，能够实现高的反射抑制能力。

上述相位差膜的再加工性优异。申请人如下推测能够得到如此优异的再加工性的结构。但是，本发明的技术范围不限于下述结构。

考虑假设树脂A和树脂B的反波长色散性的差小、不满足式(i)的情况。在该情况下，为了使相位差膜显示出反波长色散性，要求A层和B层各自的面内延迟大。作为增大面内延迟的方法，可举出例如增大树脂A和树脂B中所包含的聚合物分子的取向的程度。通过以大的拉伸倍率进行拉伸或在低温进行拉伸，能够增大取向的程度。但是，当聚合物分子的取向的程度大时，容易产生由层离(Delamination)引起的凝聚破坏。在将相位差膜首次贴合于某个构件之后，当剥离该相位差膜时，如果在A层或B层上产生层离，则被破坏的A层或B层的一部分可以残留在构件的表面。因此，即使再次将相位差膜贴合于该构件，在被破坏的A层或B层的一部分所残留的部分处，也不能得到所期望的光学特性。因此，容易产生层离的膜的再加工性差。

与此相对，本实施方式的相位差膜通过适当组合具有正固有双折射的树脂A和具有负固有双折射的树脂B、将A层与B层的厚度比控制在特定的范围等方法，不会过度提高聚合物分子的取向的程度而得到满足式(i)和式(ii)的面内延迟。因此，由于抑制了伴随A层和B层的凝聚破坏的层离，因此能够得到优异的再加工性。

相位差膜优选具有根据其用途的适当范围的面内延迟。其中，从与线性起偏器组合而得到具有特别优异的反射抑制能力的偏振片的观点出发，测定波长590nm处的相位差膜的面内延迟Re(590)可以优选为100nm以上，更优选为110nm以上，特别优选为120nm以上，可以优选为180nm以下，更优选为170nm以下，特别优选为160nm以下。具有这样范围的面内延迟Re(590)的相位差膜能够作为1/4波片发挥功能，因此能够与线性起偏器组合而得到圆偏振片。

相位差膜的总透光率优选为80％以上，更优选为85％以上，特别优选为90％以上。总透光率能够使用紫外·可见光谱仪在波长400nm～700nm的范围进行测定。

相位差膜的雾度优选为5％以下，更优选为3％以下，特别优选为1％以下，理想地为0％。雾度能够根据JIS K7361-1997使用雾度计进行测定。

从提高施加应力时的相位差变化抑制能力的观点出发，相位差膜优选具有小的光弹性系数。具体而言，相位差膜的光弹性系数优选为30布鲁斯特(Brewster)以下。光弹性系数是表示受到应力时产生的双折射的应力依赖性的值。通常，双折射(折射率的差nx-ny)Δn具有用应力σ和光弹性系数C的积(Δn＝C·σ)求出的关系。光弹性系数的绝对值越小，即使在施加冲击或为了适合于具有曲面的显示面的显示装置而变形的情况下，也能够发挥良好的光学性能。

光弹性系数的测定能够制作载荷-Δn曲线，作为其斜率而求出。能够在改变负荷的同时进行一边对膜施加50g～150g范围的载荷一边求出双折射值Δn的操作，制作该载荷-Δn曲线。此外，双折射值Δn的测定能够使用延迟测定装置(王子计测机器株式会社制，“KOBRA-21ADH”)测定膜面内的延迟，将其除以膜的厚度来求出。

相位差膜可以是单片的膜，也可以是长条的膜。

相位差膜的厚度优选为90μm以下，更优选为70μm以下，进一步优选为60μm以下，特别优选为50μm以下。以往，在这样薄的相位差膜中，兼顾高的反射抑制能力和优异的再加工性是特别困难的。因此，从具有高的反射抑制能力和优异的再加工性的同时能够变薄的方面出发，上述实施方式的相位差膜是有用的。相位差膜的厚度的下限没有特别的限制，可以为例如10μm以上、20μm以上、30μm以上等。

[6.相位差膜的制造方法]

只要能够得到所期望的相位差膜，相位差膜的制造方法就没有限制。例如，相位差膜可以通过包括如下工序的制造方法来制造：

准备具有由树脂A形成的层和由树脂B形成的层的多层膜的第一工序；和

拉伸多层膜的第二工序。

该制造方法能够通过少的工序数和简单的制造条件控制而简单地制造上述相位差膜。

[6.1.第一工序]

在第一工序中准备的多层膜具有由树脂A形成的层和由树脂B形成的层。为了将拉伸前的“由树脂A形成的层”和“由树脂B形成的层”与相位差膜所具有的A层和B层区别开来，有时称为“层(a)”和“层(b)”。

在第一工序中准备的多层膜所具有的层(a)和层(b)可以具有与相位差膜所具有的A层和B层的光学特性不同的光学特性。具体而言，通常多层膜所具有的层(a)和层(b)不具有大的光学各向异性。因此，层(a)和层(b)的面内延迟通常很小。举例说明具体的范围，550nm处的层(a)和层(b)的面内延迟分别独立地优选为0nm～20nm，更优选为0nm～10nm，特别优选为0nm～5nm。

多层膜可以是单片的膜，优选为长条的膜。通过以长条的膜的形式准备多层膜，在制造相位差膜的情况下能够在生产线上进行一部分或全部的各工序，因此能够简便且有效地进行制造。

对多层膜的制造方法没有限制。多层膜例如能够通过如下的制造方法来制造：共挤出T模头法、共挤出吹塑法、共挤出层压法等共挤出成型法；共流延法；涂敷成型法；干层压等膜层压成型法等。在这些中，从制造效率的观点和在膜中不残留溶剂等挥发性成分的观点出发，优选共挤出成型法。在共挤出成型法中，优选共挤出T模头法。在共挤出T模头法中，可举出给料块(feed block)方式和多歧管方式，从能够减少各层厚度的偏差的方面出发，特别优选多歧管方式。

在使用共挤出成型法制造多层膜的情况下，第一工序通常包括熔融挤出树脂A和树脂B而形成层(a)和层(b)的步骤。此时，被挤出的树脂的熔融温度优选为Tg+80℃以上，更优选为Tg+100℃以上，优选为Tg+180℃以下，更优选为Tg+150℃以下。在此，“Tg”表示树脂A和树脂B的玻璃化转变温度。此外，上述熔融温度例如在共挤出T模头法中表示具有T模头的挤出机中的树脂的熔融温度。在被挤出的树脂的熔融温度为上述范围的下限值以上的情况下，能够充分提高树脂的流动性，使成型性良好，此外，在被挤出的树脂的熔融温度为上限值以下的情况下，能够抑制树脂的劣化。

在共挤出成型法中，通常使从模唇挤出的膜状的熔融树脂与冷却辊密合而冷却，使其固化。此时，作为使熔融树脂密合于冷却辊的方法，可举出例如气刀方式、真空箱方式、静电密合方式等。

在使用涂敷成型法制造多层膜的情况下，第一工序通常包括：准备树脂A和树脂B中的一者的层；以及在准备的层上涂敷包含树脂A和树脂B中的另一者的涂敷液。准备树脂A和树脂B中的一者的层的方法没有限制，可以使用例如后述的贴合法中说明的方法来准备。

准备好树脂A和树脂B中的一者的层之后，在该层上涂敷涂敷液。涂敷液通常包括树脂A和树脂B中的另一者和溶剂。作为溶剂，优选能够使树脂A和树脂B中的另一者溶解或分散的溶剂，特别优选能够使其溶解的溶剂。溶剂可以单独使用一种，也可以以任意的比率组合使用两种以上。作为溶剂，可举出例如：苯、甲苯、二甲苯等芳香族系溶剂；二丙酮醇、丙酮、环戊酮、环己酮、甲乙酮、甲基异丙基酮等酮系溶剂；乳酸甲酯、乳酸乙酯等酯系溶剂；环己烷、乙基环己烷、1,2-二甲基环己烷等环烯烃系溶剂；二氯甲烷、氯仿等含卤素溶剂；四氢呋喃、二氧杂环己烷等醚系溶剂；1-戊醇、1-丁醇等醇系溶剂。从得到适于涂敷的粘度的观点出发，涂敷液中的树脂的浓度可以为1重量％～50重量％。

对涂敷液的涂敷方法没有限制。作为涂敷方法，可举出例如帘式涂敷法、挤出涂敷法、辊式涂敷法、旋涂法、浸涂法、棒涂法、喷涂法、滑动涂敷法、印刷涂敷法、凹版涂敷法、模涂法、间隙涂敷法以及浸渍法等。

通过涂敷涂敷液，该涂敷液的膜形成在树脂A和树脂B中的一者的层上。因此，根据需要，通过使涂敷液干燥而除去溶剂，能够得到具有层(a)和层(b)的多层膜。干燥方法没有限制，可以使用例如加热干燥、减压干燥等干燥方法。

多层膜也可以使用贴合法来制造。在使用贴合法制造多层膜的情况下，第一工序包括：准备层(a)；准备层(b)；以及贴合层(a)和层(b)。

准备层(a)和层(b)的方法没有限制。层(a)和层(b)能够通过例如熔融成型法、溶液流延法来制造，其中优选熔融成型法。在熔融成型法中，优选挤出成型法、吹塑成型法或压制成型法，特别优选挤出成型法。

层(a)和层(b)的贴合可以根据需要使用粘接剂进行。粘接剂优选根据树脂A和树脂B的种类来选择。作为粘接剂，可举出例如丙烯酸系粘接剂、聚氨酯系粘接剂、聚酯系粘接剂、聚乙烯醇系粘接剂、聚烯烃系粘接剂、改性聚烯烃系粘接剂、聚乙烯烷基醚系粘接剂、橡胶系粘接剂、乙烯-乙酸乙烯酯系粘接剂、氯乙烯-乙酸乙烯酯系粘接剂、SEBS(苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯共聚物)系粘接剂、SIS(苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物)系粘接剂、乙烯-苯乙烯共聚物等乙烯系粘接剂、乙烯-(甲基)丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸乙酯共聚物等丙烯酸酯系粘接剂等。

在使用粘接剂的情况下，通常在层(a)与层(b)之间可以由粘接剂形成粘接层。该粘接层的平均厚度优选为0.1μm～10μm，更优选为0.5μm～5μm。

[6.2.第二工序]

第二工序包括拉伸多层膜。通过该拉伸，可以在层(a)中显现双折射，出现与拉伸方向平行的慢轴。此外，可以在层(b)中显现双折射，出现与拉伸方向垂直的慢轴。因此，根据上述拉伸，能够得到具有满足上述必要条件的面内延迟和具有慢轴的A层和B层的相位差膜。

多层膜的拉伸温度优选为“Tg(h)-10℃”以上，更优选为“Tg(h)-5℃”以上，特别优选为“Tg(h)℃”以上，优选为“Tg(h)+20℃”以下，更优选为“Tg(h)+15℃”以下，特别优选为“Tg(h)+10℃”以下。在此，Tg(h)表示树脂A的玻璃化转变温度TgA和树脂B的玻璃化转变温度TgB中较高的温度。在以上述范围的拉伸温度进行拉伸的情况下，可以得到再加工性特别优异的相位差膜。

多层膜的拉伸倍率优选为1.5倍以上，更优选为1.6倍以上，特别优选为1.8倍以上，优选为5.0倍以下，更优选为4.0倍以下，特别优选为3.0倍以下。在以上述范围的拉伸倍率进行拉伸的情况下，可以得到再加工性特别优异的相位差膜。

多层膜的拉伸可以通过在一个方向上进行拉伸的单轴拉伸法进行，也可以通过在两个方向上进行拉伸的双轴拉伸法进行。

作为单轴拉伸法，可举出例如：利用辊间的圆周速度的差沿纵向单轴拉伸的方法；使用扩幅拉伸机沿横向单轴拉伸的方法等。

作为双轴拉伸法，可举出例如：拉开固定的夹具的间隔来在纵向拉伸的同时、通过导轨的扩展角来沿横向进行拉伸的同时双轴拉伸法；利用辊间圆周速度的差沿纵向进行拉伸后、将其两端部用夹具夹持并使用拉幅机沿横向进行拉伸的依次双轴拉伸法等。

此外，作为其它拉伸法，使用能够在横向或纵向上施加左右不同的速度的推力或拉力或牵引力的扩幅拉伸机，沿与多层膜的宽度方向成任意的角度θ的倾斜方向连续地进行拉伸的倾斜拉伸法。倾斜方向表示与膜的宽度方向既不平行也不垂直的方向。

这些拉伸法例如可以使用纵向单轴拉伸机、扩幅拉伸机、气泡拉伸机、辊拉伸机等拉伸机进行。

第二工序优选包括将多层膜沿倾斜方向进行拉伸的步骤。经过包括沿倾斜方向的拉伸的第二工序制造的相位差膜可以在倾斜方向上具有慢轴。因此，该相位差膜能够通过辊对辊法与具有与长度方向平行或垂直的透射轴的通常的线性起偏器贴合而得到偏振片。因此，使用长条的相位差膜和长条的线性起偏器能够高效地制造偏振片。

[6.3.任意的工序]

相位差膜的制造方法还可以进一步包括任意的工序来与上述第一工序和第二工序组合。例如，在使用长条的多层膜得到长条的相位差膜的情况下，相位差膜的制造方法可以包括将得到的相位差膜裁切成所期望的形状的修剪工序。根据修剪工序，可得到具有所期望的形状的单片的相位差膜。此外，相位差膜的制造方法例如可以包括在相位差膜上进一步设置任意的层的工序。

[6.4.其它的制造方法]

相位差膜可以通过与上述制造方法不同的方法来制造。例如，相位差膜可以通过包括如下工序的方法来制造：准备A层的工序、准备B层的工序、以及将这些A层和B层贴合的工序。

A层例如能够通过包括如下工序的方法来制造：通过熔融成型法、溶液流延法等方法制造层(a)；和拉伸该层(a)。层(a)的拉伸可以在与第二工序的说明中记载的相同的条件下进行。

B层例如能够通过包括如下工序的方法来制造：通过熔融成型法、溶液流延法等方法制造层(b)；和拉伸该层(b)。层(b)的拉伸可以在与第二工序的说明中记载的相同的条件下进行。

A层和B层的贴合也可以使用粘接剂进行。粘接剂的种类和粘接层的厚度可以与层(a)和层(b)的贴合相同。

[7.偏振片]

本发明的一个实施方式的偏振片具有线性起偏器和相位差膜。该偏振片通常能够作为圆偏振片发挥功能，通过设置在图像显示装置的显示面上，能够抑制外界光的反射。

偏振片可以依次具有线性偏振器、A层和B层。此外，偏振片也可以依次具有线性起偏器、B层和A层。

在偏振片中，线性起偏器的透射轴与A层的慢轴所成的角度优选处于接近45°的特定范围。具体而言，上述角度优选为40°以上，更优选为42°以上，进一步优选为43°以上，特别优选为44°以上，优选为50°以下，更优选为48°以下，进一步优选为47°以下，特别优选为46°以下。

作为线性起偏器，可以使用任意的线性起偏器。作为线性起偏器的例子，可举出：使聚乙烯醇膜吸附碘或二向色性染料后、在硼酸浴中进行单轴拉伸而得到的膜；使聚乙烯醇膜吸附碘或二向色性染料进行拉伸、进而将分子链中的一部分聚乙烯醇单元改性为聚亚乙烯单元而得到的膜。在这些中，优选含有聚乙烯醇的起偏器作为线性起偏器。

当自然光入射到线性起偏器时，仅一种偏振光透射。该线性起偏器的偏振度没有特别限定，优选为98％以上，更优选为99％以上。

此外，线性起偏器的厚度优选为5μm～80μm。

上述偏振片还可以包含任意的层。作为任意的层，可举出例如：起偏器保护膜层；用于贴合线性起偏器和相位差膜的粘接层；耐冲击性的聚甲基丙烯酸酯树脂层等硬涂层；提高膜的平滑性的垫(mat)层；反射抑制层；防污层；带电抑制层等。这些任意的层可以仅设置一层，也可以设置两层以上。

[8.图像显示装置]

本发明的一个实施方式的图像显示装置具有上述相位差膜。通常，图像显示装置具有包含相位差膜的上述偏振片。偏振片优选设置在有机电致发光显示装置(以下有时称为“有机EL显示装置”)中。该有机EL显示装置具有偏振片和有机电致发光元件(以下有时称为“有机EL元件”)。该有机EL显示装置通常依次具有线性起偏器、相位差膜以及有机EL元件。

有机EL元件依次具有透明电极层、发光层和电极层，通过由透明电极层和电极层施加电压，可以使发光层发光。作为构成有机发光层的材料的例子，能够举出聚对苯撑乙烯(Poly(p-phenylene vinylene))系材料、聚芴系材料以及聚乙烯咔唑系材料。此外，发光层可以具有多个发光颜色不同的层的层叠体、或者具有在某色素的层中掺杂了不同色素的混合层。进而，有机EL元件也可以具有空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层、等电位面形成层、电荷产生层等功能层。

上述图像显示装置能够抑制显示面上的外界光的反射。以偏振片为圆偏振片的情况为例，说明该反射抑制的结构。从装置外部入射的光仅其一部分线性偏振光通过线性起偏器，接着其通过相位差膜，由此成为圆偏振光。圆偏振光被图像显示装置内的反射光的结构元件(有机EL元件中的反射电极等)反射，再次通过相位差膜，由此成为具有与入射的线性偏振光的振动方向正交的振动方向的线性偏振光，而无法通过线性起偏器。在此，线性偏振光的振动方向是指线性偏振光的电场的振动方向。由此，实现抑制反射的功能。

实施例

以下示出实施例对本发明进行具体说明。但是，本发明并不限定于以下所示的实施例，在不脱离本发明的权利要求及其等同的范围的范围内可以任意地变更实施。

在以下说明中，只要没有另外说明，表示量的“％”和“份”为重量基准。此外，只要没有另外说明，以下说明的操作在常温常压大气中进行。

[评价方法]

(各层的厚度的测定方法)

各层的厚度使用反射分光膜厚计(大冢电子株式会社制“FE-3000”)进行测定。

(各层的慢轴的方向的测定方法)

各层的慢轴的方向使用相位差计(王子计测机器株式会社制“KOBRA-WIST”)进行测定。

(面内延迟的测定方法)

面内延迟使用相位差计(王子计测机器株式会社制“KOBRA-WIST”)进行测定。

(光弹性系数的测定方法)

一边对相位差膜在50g～150g的范围施加载荷，一边测定该相位差膜的面内延迟。将测定的面内延迟除以相位差膜的厚度，求出施加上述载荷时的相位差膜的双折射Δn。一边改变载荷一边进行多次这样地求出双折射值Δn的操作，制作载荷-Δn曲线。作为该载荷-Δn曲线的斜率，得到相位差膜的光弹性系数。

(反射抑制特性的评价方法)

准备依次具有保护膜、线性起偏器以及保护膜的长条的偏振片(株式会社SANRITZ制“HLC2-5618S”、厚度180μm)。线性起偏器在宽度方向上具有透射轴。除去偏振片的一面侧的保护膜，在该面上贴合实施例或比较例中得到的相位差膜。贴合以相位差膜的慢轴与线性起偏器的透射轴成45°的角度的方式进行。特别是实施例5和比较例3的相位差膜以A层和B层从线性起偏器侧起依次排列的方式贴合。通过以上操作，得到作为依次具有相位差膜、线性起偏器以及保护膜的圆偏振片的偏振片样品。

准备具有有机EL元件和设置在该有机EL元件的目视确认侧的圆偏振片的市售的有机EL显示装置(LG电子制“OLED55EG9600”)。将有机EL显示装置的圆偏振片置换为上述偏振片样品。在置换时，偏振片样品以相位差膜和线性起偏器从有机EL元件侧起依次排列的方式配置。此外，设置在有机EL显示装置的偏振片样品所具有的线性起偏器的透射轴处于与有机EL显示装置原本具有的圆偏振片的线性起偏器的透射轴相同的方向。

一边用光源照射得到的有机EL显示装置的显示面，一边从相对于显示面的正面方向(法线方向)观察该显示面。与置换前相比，在显示面的反射率被明显抑制的情况下，判定为“优”。与置换前相比，在显示面的反射率被抑制的情况下，判定为“可”。与置换前相比，在显示面的反射率相等或上升的情况下，评价为“不良”。

(密合性的评价方法)

准备由包含降冰片烯系聚合物的树脂形成的未拉伸膜(玻璃化转变温度160℃、厚度100μm、日本瑞翁株式会社制)。对该未拉伸薄膜的单面实施电晕处理。

对实施例或比较例中得到的相位差膜的单面实施电晕处理。特别是实施例5和比较例3的相位差膜在A层侧的面上实施了电晕处理。使粘接剂附着在相位差膜的实施了电晕处理的面和未拉伸膜的实施了电晕处理的面上，使附着了粘接剂的面彼此贴合，使粘接剂固化。作为粘接剂，使用紫外线固化型粘接剂。由此，得到具有相位差膜和未拉伸膜的样品膜。

将样品膜裁剪为15mm的宽度，得到样品片。用粘接剂(日东电工株式会社制造的双面粘接胶带“CS9621”)将样品片的相位差膜侧贴合于载玻片的表面。

通过将未拉伸膜夹在测力计的前端，沿载玻片的表面的法线方向拉伸，实施90度剥离试验。此时，未拉伸膜剥离时测定的力是为了使相位差膜和未拉伸膜剥离所需要的力，因此将该力的大小作为剥离强度进行测定。

通常，上述剥离强度越大，在重新粘贴膜时相位差膜的破损越被抑制，因此再加工性优异。因此，在剥离强度为2.0N以上的情况下，将再加工性判定为“优”。此外，在剥离强度为1.0N以上且小于2.0N的情况下，将再加工性判定为“可”。进而，在剥离强度小于1.0N的情况下，将再加工性判定为“不良”。

[合成例1]

在1.00摩尔的FDPM(9,9-双(2-甲氧基羰基乙基)芴)、0.90摩尔的BPEF(9,9-双[4-(2-羟基乙氧基)苯基]芴、大阪燃气化学有限公司制)、2.10摩尔的EG(乙二醇)中，加入作为酯交换催化剂的2×10^-4摩尔的乙酸锰·四水合物和8×10^-4摩尔的乙酸钙·一水合物，一边搅拌一边慢慢加热熔融。升温至230℃后，加入14×10^-4摩尔的磷酸三甲酯，20×10^-4摩尔的氧化锗，在达到270℃、0.13kPa以下为止，一边逐渐升温、减压一边除去EG。达到规定的搅拌转矩后，从反应器中取出内容物，制备含有芴环的聚酯的粒料。

上述FDPM是9,9-双(2-羧基乙基)芴(或芴-9,9-二丙酸)的二甲基酯。该FDPM是除了将日本特开2005-89422号公报的实施例1记载的丙烯酸叔丁酯变更为丙烯酸甲酯[37.9g(0.44摩尔)]以外，同样地合成的。

通过¹H-NMR将得到的粒料进行分析的结果，导入到含有芴环的聚酯中的二羧酸单元的100摩尔％来自于FDPM，导入的二醇单元的90摩尔％来自于BPEF，10摩尔％来自于EG。

得到的含有芴环的聚酯的玻璃化转变温度Tg为125℃，重均分子量Mw为60000。

[实施例1]

(1-1.多层膜的制造)

准备膜成型机，该膜成型机具有T模头、与该T模头连接的给料块、以及经由聚合物管和聚合物过滤器与该给料块连接的多个单轴挤出机。

作为树脂A，准备三菱化学株式会社制造的“DURABIO”(包含含有异山梨醇骨架且不含芳香环的聚合物的树脂。玻璃化转变温度127℃)。将该树脂A供给至单轴挤出机。

作为树脂B，准备合成例1中制作的含有芴环的聚酯。将该树脂B供给至与供给了树脂A不同的单轴挤出机。

使用膜成型机，进行树脂A和树脂B的熔融共挤出。具体而言，树脂A和树脂B分别在单轴挤出机内熔融，经由聚合物管和聚合物过滤器供给至给料块。树脂A和树脂B在给料块内合流，通过T模头在浇铸鼓上挤出成片状。将挤出的片状的树脂在冷却鼓上冷却，得到具有“树脂A的层/树脂B的层/树脂A的层”的三层结构的长条的多层膜。

(1-2.多层膜的拉伸)

使用带恒温槽的拉伸试验机，在拉伸温度135℃、拉伸倍率2.0倍的拉伸条件下，对上述多层膜在长度方向上实施自由端单轴拉伸，得到作为拉伸膜的相位差膜。“自由端单轴拉伸”是指向某一方向的拉伸，不向被拉伸的方向以外的方向施加约束力。得到的相位差膜具有“A层/B层/A层”的三层结构，这些层的厚度的比为A层∶B层∶A层＝22.5∶55∶22.5。

用上述方法评价得到的相位差膜。

(1-3.A层和B层的面内延迟的测定)

使用干法蚀刻装置(莎姆克株式会社制“RIE-10NE”)，从相位差膜的表面进行蚀刻。采集多种的使蚀刻时间每隔10分钟变化的样品，分别测定样品的延迟和厚度。由延迟和厚度的变化量算出各层的延迟。

[实施例2]

通过变更树脂A和树脂B的挤出量来变更相位差膜的厚度及该相位差膜所包含的三层(即，A层和B层)的厚度的比。厚度的比为A层∶B层∶A层＝30∶40∶30。除以上事项以外，通过与实施例1相同的方法，进行相位差膜的制造及评价。

[实施例3]

通过变更树脂A和树脂B的挤出量来变更相位差膜的厚度及该相位差膜所包含的三层(即，A层和B层)的厚度的比。厚度的比为A层∶B层∶A层＝17.5∶65∶17.5。此外，将多层膜的拉伸方法从自由端单轴拉伸变更为使用扩幅拉伸机的倾斜拉伸。在上述倾斜拉伸中，通过调节供给至扩幅拉伸机的多层膜的移动方向与从扩幅拉伸机送出的相位差膜的移动方向所成的角度(抽出角度)，将多层膜沿与其宽度方向成45°角度的拉伸方向进行拉伸。除以上事项以外，通过与实施例1相同的方法，进行相位差膜的制造及评价。

[实施例4]

(4-1.多层膜的制造)

作为树脂B，准备合成例1中制作的由含有芴环的聚酯形成的长条的未拉伸膜。

作为树脂A，准备JSR株式会社制造的“ARTON”(包含含有极性基团的含脂环式结构聚合物的树脂。玻璃化转变温度130℃)。将树脂A溶解在环己烷中，得到浓度为20重量％的溶液。使用涂敷刮刀将该树脂A的溶液涂敷在由树脂B形成的未拉伸膜的单面上，并进行干燥，形成树脂A的层。使用干燥机，在干燥温度120℃、干燥时间2分钟的条件下进行干燥。然后，在由树脂B形成的未拉伸膜的另一面，用相同的方法进行树脂A的溶液的涂敷及干燥，形成树脂A的层。通过以上操作，得到具有“树脂A的层/树脂B的层/树脂A的层”的三层结构的长条的多层膜。

(4-2.多层膜的拉伸)

使用带恒温槽的拉伸试验机，在拉伸温度135℃、拉伸倍率2.5倍的拉伸条件下，对上述多层膜在长度方向上实施自由端单轴拉伸，得到作为拉伸膜的相位差膜。得到的相位差膜具有“A层/B层/A层”的三层结构，这些层的厚度的比为A层∶B层∶A层＝22.5∶55∶22.5。

用上述方法评价得到的相位差膜。

(4-3.A层和B层的面内延迟的测定)

使用干法蚀刻装置(莎姆克株式会社制“RIE-10NE”)，从相位差膜的表面进行蚀刻。采集多种使蚀刻时间每隔10分钟变化的样品，分别测定样品的延迟和厚度。由延迟和厚度的变化量算出各层的延迟。

[实施例5]

(5-1.A层的制造)

准备膜成型机，该膜成型机具有：T模头、经由聚合物管和聚合物过滤器与该T模头连接的单轴挤出机。

作为树脂A，准备日本瑞翁株式会社制造的“ZEONOR”(包含不含极性基团的含脂环式结构聚合物的树脂。玻璃化转变温度126℃)。将该树脂A供给至单轴挤出机进行熔融挤出。具体而言，树脂A在单轴挤出机内熔融，经由聚合物管和聚合物过滤器供给至T模头，通过T模头在浇铸鼓上挤出成片状。将挤出的片状的树脂在冷却鼓上冷却，得到由树脂A形成的单层的拉伸前膜。

使用带恒温槽的拉伸试验机，在拉伸温度135℃、拉伸倍率2.5倍的拉伸条件下，对上述拉伸前膜在长度方向上实施自由端单轴拉伸，得到作为拉伸膜的A层。通过上述测定方法测定A层的面内延迟。

(5-2.B层的制造)

代替树脂A，使用合成例1中制作的含有芴环的聚酯作为树脂B。此外，通过变更浇铸鼓的旋转速度来变更拉伸前膜的厚度。除以上事项以外，通过与上述工序(5-1)相同的方法，制造作为拉伸膜的B层。通过上述测定方法测定B层的面内延迟。

(5-3.A层与B层的贴合)

作为粘接剂，准备日东电工株式会社制造的双面粘接胶带“CS9621”。该粘接剂是光学各向同性的粘接剂，因此不具有面内延迟。经由该粘接剂将A层和B层贴合，得到相位差膜。上述贴合是使A层的拉伸方向与B层的拉伸方向平行而进行的。得到的相位差膜具有“A层/粘接剂的层/B层”的三层结构，A层与B层的厚度的比为A层∶B层＝45∶55。此外，粘接剂层的厚度为10μm。

用上述方法评价得到的相位差膜。

[比较例1]

作为树脂B，使用POLYSCOPE公司制造的“XIRAN”(包含聚苯乙烯的树脂。玻璃化转变温度130℃)代替合成例1中制作的含有芴环的聚酯。此外，通过变更树脂A和树脂B的挤出量来变更相位差膜的厚度。进而，将多层膜的拉伸条件变更为拉伸温度130℃、拉伸倍率2.5倍。除以上事项以外，通过与实施例1相同的方法，进行相位差膜的制造及评价。

[比较例2]

作为树脂B，使用POLYSCOPE公司制造的“XIRAN”代替合成例1中制作的含有芴环的聚酯。此外，通过变更树脂A和树脂B的挤出量来变更相位差膜的厚度及包含该相位差膜的三层(即，A层和B层)的厚度的比。厚度的比为A层∶B层∶A层＝20∶60∶20。进而，将多层膜的拉伸条件变更为拉伸温度130℃、拉伸倍率3.5倍。除以上事项以外，通过与实施例1相同的方法，进行相位差膜的制造及评价。

[比较例3]

作为树脂A，使用三菱化学株式会社制造的“DURABIO”代替日本瑞翁株式会社制造的“ZEONOR”。此外，通过变更树脂A和树脂B的挤出量来变更A层和B层的厚度。进而，将拉伸前膜的拉伸倍率变更为2.0倍。此外，使A层的拉伸方向与B层的拉伸方向垂直而进行A层和B层的贴合。除以上事项以外，通过与实施例5相同的方法，进行相位差膜的制造及评价。

[比较例4]

通过变更树脂A和树脂B的挤出量来变更相位差膜的厚度及包含该相位差膜的三层(即，A层和B层)的厚度的比。厚度的比为A层∶B层∶A层＝10∶80∶10。除以上事项以外，通过与实施例1相同的方法，进行相位差膜的制造及评价。

[比较例5]

通过变更树脂A和树脂B的挤出量来变更相位差膜的厚度及包含该相位差膜的三层(即，A层和B层)的厚度的比。厚度的比为A层∶B层∶A层＝35∶30∶35。除以上事项以外，通过与实施例1相同的方法，进行相位差膜的制造及评价。

[结果]

上述实施例和比较例的结果示于下述的表。在下表中，简写的意思如下所述。

慢轴的关系：A层的慢轴与B层的慢轴的关系。

厚度比(T_A/T_B)：A层整体的厚度T_A与B层整体的厚度T_B的比T_A/T_B。

ΔRe450/Re550：|Re(A450)/Re(A550)-Re(B450)/Re(B550)|

[表1]

[表1.实施例的结果]

[表2]

[表2.比较例的结果]

附图标记说明

ReA A层整体的面内延迟

ReB B层整体的面内延迟

Claims (23)

1.一种相位差膜，其具有：一个或两个以上的具有慢轴的A层、和一个或两个以上的具有与所述A层的慢轴成85°～90°角度的慢轴的B层，

所述A层由具有正固有双折射的树脂A形成，

所述B层由具有负固有双折射的树脂B形成，

所述树脂B包含选自聚酯、聚碳酸酯以及聚酯碳酸酯中的至少一种聚合物，

所述聚合物含有芴骨架，

波长450nm处的所述A层整体的面内延迟Re(A450)、波长550nm处的所述A层整体的面内延迟Re(A550)、波长450nm处的所述B层整体的面内延迟Re(B450)、以及波长550nm处的所述B层整体的面内延迟Re(B550)满足下述式(i)：

|Re(A450)/Re(A550)-Re(B450)/Re(B550)|≥0.10 (i)，

波长450nm处的所述相位差膜的面内延迟Re(450)和波长550nm处的所述相位差膜的面内延迟Re(550)满足下述式(ii)：

0.60≤Re(450)/Re(550)≤0.96 (ii)，

所述A层整体的厚度T_A与所述B层整体的厚度T_B的比T_A/T_B为30/70～65/35。

2.根据权利要求1所述的相位差膜，其中，所述B层整体的面内延迟Re(B450)和Re(B550)满足下述式(iii)：

1.14≤Re(B450)/Re(B550) (iii)。

3.根据权利要求1或2所述的相位差膜，其中，所述聚合物包含具有芴-9,9-二基的结构单元。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的相位差膜，其中，所述具有芴-9,9-二基的结构单元包含下述式(1)所表示的芴二羧酸单元和/或下述式(2)所表示的芴二醇单元，所述式(1)为：

[化学式1]

式中，R¹表示取代基，k表示0～8的整数，X^1a和X^1b分别独立地表示能够具有取代基的二价烃基，

所述式(2)为：

[化学式2]

式中，R²表示取代基，m表示0～8的整数，X^2a和X^2b分别独立地表示能够具有取代基的二价烃基，A^1a和A^1b分别独立地表示直链状或支链状亚烷基，n1和n2表示0以上的整数。

5.根据权利要求4所述的相位差膜，其中，所述芴二醇单元包含下述式(2A)所表示的二醇单元，所述式(2A)为：

[化学式3]

式中，Z^1a和Z^1b分别独立地表示芳烃环，R^3a和R^3b分别独立地表示取代基，p1和p2分别独立地表示0以上的整数，R²、m、A^1a和A^1b、n1和n2分别与上述式(2)相同。

6.根据权利要求5所述的相位差膜，其中，在式(2A)所表示的二醇单元中，Z^1a和Z^1b为C_6-12芳烃环，R^3a和R^3b为C_1-4烷基或C_6-10芳基，p1和p2为0～2的整数，A^1a和A^1b为直链状或支链状C_2-4亚烷基，n1和n2为0～2的整数。

7.根据权利要求4～6中任一项所述的相位差膜，其中，在所述式(1)所表示的芴二羧酸单元中，X^1a和X^1b为直链状或支链状C_2-4亚烷基。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的相位差膜，其中，所述聚合物还包含下述式(3)所表示的亚烷基二醇单元，所述式(3)为：

[化学式4]

式中，A²表示直链状或支链状亚烷基，q表示1以上的整数。

9.根据权利要求8所述的相位差膜，其中，在式(3)所表示的亚烷基二醇单元中，A²为直链状或支链状C_2-4亚烷基，q为1～4的整数。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的相位差膜，其中，所述树脂A包含不含芳香环的聚合物。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的相位差膜，其中，所述树脂A包含含有异山梨醇骨架的聚合物。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的相位差膜，其中，所述相位差膜的面内延迟Re(450)和Re(550)满足下述式(iv)：

Re(450)/Re(550)≤0.91 (iv)。

13.根据权利要求1～12中任一项所述的相位差膜，其中，所述树脂A的玻璃化转变温度TgA为100℃以上且160℃以下，

所述树脂B的玻璃化转变温度TgB为100℃以上且160℃以下。

14.根据权利要求1～13中任一项所述的相位差膜，其中，所述树脂A的玻璃化转变温度TgA与所述树脂B的玻璃化转变温度TgB的差|TgA-TgB|为15℃以下。

15.根据权利要求1～14中任一项所述的相位差膜，其中，所述相位差膜的厚度为90μm以下。

16.根据权利要求1～15中任一项所述的相位差膜，其中，所述相位差膜的厚度为70μm以下。

17.一种相位差膜的制造方法，为权利要求1～16中任一项所述的相位差膜的制造方法，该制造方法包括：

准备具有由树脂A形成的层和由树脂B形成的层的多层膜的工序；所述树脂A具有正固有双折射，所述树脂B具有负固有双折射；和

拉伸所述多层膜的工序。

18.根据权利要求17所述的相位差膜的制造方法，其中，准备所述多层膜的工序包括熔融挤出所述树脂A和所述树脂B的步骤。

19.根据权利要求17或18所述的相位差膜的制造方法，其中，拉伸所述多层膜的工序包括在“Tg(h)-10℃”以上且“Tg(h)+20℃”以下的拉伸温度进行拉伸的步骤，其中，Tg(h)表示所述树脂A的玻璃化转变温度TgA和所述树脂B的玻璃化转变温度TgB中较高的一方的温度。

20.根据权利要求17～19中任一项所述的相位差膜的制造方法，其中，拉伸所述多层膜的工序包括以1.5倍以上且5.0倍以下的拉伸倍率进行拉伸的步骤。

21.根据权利要求17～20中任一项所述的相位差膜的制造方法，其中，拉伸所述多层膜的工序包括将所述多层膜沿倾斜方向进行拉伸的步骤。

22.一种偏振片，其具有权利要求1～16中任一项所述的相位差膜和线性起偏器。

23.一种图像显示装置，其具有权利要求1～16中任一项所述的相位差膜。

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