CN116165840A - 掩模检查系统 - Google Patents
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Abstract
一实施例涉及的掩模检查系统包括:工作台;掩模,包括彼此对置的第一面和第二面,以竖立的状态被放置到所述工作台;第一相机和第一照明器,位于所述掩模的所述第一面侧;以及第二相机和第二照明器,位于所述掩模的所述第二面侧。
Description
技术领域
本发明涉及掩模检查系统,更具体而言涉及用于检测在沉积工序、光刻工序等中使用的掩模的缺陷的检查系统。
背景技术
在制造如显示面板这样的电子装置时,可以使用掩模。例如,在用于在基板上形成发光层、电极层等的沉积工序中,可以使用如精细金属掩模(fine metal mask)、开放掩模(open mask)这样的金属掩模。
若掩模中存在缺陷,则沉积在基板上的图案或层可能会形成为不同于期望的图案或层,可能会引起产品的不良。因此,在使用掩模之前需要检查掩模的缺陷,若发现缺陷,则可以修复缺陷或者更换掩模。
对于掩模而言,例如可以在工作台(stage)上放置掩模并利用相机拍摄掩模的第一面(前表面),基于拍摄的图像来检查缺陷。为了检查掩模的第二面(背面),可以翻转掩模来将其放置到工作台,利用相机拍摄掩模的第二面,基于拍摄的图像来检查缺陷。但是,若掩模的第一面和掩模的第二面是不同的结构,则需要变更检查第一面时放置掩模的工作台的形状和检查第二面时放置掩模的工作台的形状。此外,用于检查第一面的相机的景深和焦点可能会不同于用于检查第二面的相机的景深和焦点,因此可能需要变更相机的设定。
发明内容
实施例用于提供一种可以容易检查掩模的两面的掩模检查系统。
一实施例涉及的掩模检查系统包括:工作台;掩模,包括彼此对置的第一面和第二面,以竖立的状态被放置到所述工作台;第一相机和第一照明器,位于所述掩模的所述第一面侧;以及第二相机和第二照明器,位于所述掩模的所述第二面侧。
可以是,所述掩模其所述第一面和所述第二面相对于与重力方向垂直的水平面形成80°至100°范围的角且被放置到所述工作台。
可以是,所述第一相机利用由所述第二照明器照射而通过了所述掩模的光来拍摄所述第一面,从而生成图像信息。可以是,所述第二相机利用由所述第一照明器照射而通过了所述掩模的光来拍摄所述第二面,从而生成图像信息。
可以是,所述第一相机与所述第二照明器对齐,所述第二相机与所述第一照明器对齐。
可以是,所述第一相机拍摄被所述第一照明器照射的所述第一面来生成图像信息。可以是,所述第二相机拍摄被所述第二照明器照射的所述第二面来生成图像信息。
可以是,所述第一相机与所述第一照明器对齐,所述第二相机与所述第二照明器对齐。
可以是,所述掩模检查系统还包括:第一机架,位于所述掩模的所述第一面侧;以及第二机架,位于所述掩模的所述第二面侧。可以是,所述第一相机和所述第一照明器以朝向所述第一面的方式被安装到所述第一机架,所述第二相机和所述第二照明器以朝向所述第二面的方式被安装到所述第二机架。
可以是,所述掩模检查系统还包括:第一鼓风机或第一吸入器,以朝向所述第一面的方式被安装到所述第一机架;以及第二鼓风机或第二吸入器,以朝向所述第二面的方式被安装到所述第二机架。
可以是,所述掩模检查系统还包括:机架,被设置成在所述掩模的所述第一面侧与所述第二面侧之间能够移动。可以是,所述第一相机和所述第一照明器被安装在所述机架的第一面,所述第二相机和所述第二照明器被安装在与所述机架的所述第一面对置的所述机架的第二面。
可以是,在所述机架位于所述掩模的所述第一面侧时,所述第一相机和所述第一照明器被设置成与所述掩模的所述第一面相向。可以是,在所述机架位于所述掩模的所述第二面侧时,所述第二相机和所述第二照明器被设置成与所述掩模的所述第二面相向。
可以是,所述掩模检查系统还包括:第一鼓风机或第一吸入器,被安装在所述机架的所述第一面;以及第二鼓风机或第二吸入器,被安装在所述机架的所述第二面。
可以是,所述掩模检查系统还包括:机架,包括位于所述掩模的所述第一面侧的第一部分以及位于所述掩模的所述第二面侧的第二部分。可以是,所述第一相机和所述第一照明器以朝向所述第一面的方式被安装到所述机架的所述第一部分,所述第二相机和所述第二照明器以朝向所述第二面的方式被安装到所述机架的所述第二部分。
可以是,所述掩模检查系统还包括:第一鼓风机或第一吸入器,被安装到所述机架的所述第一部分;以及第二鼓风机或第二吸入器,被安装到所述机架的所述第二部分。
可以是,所述工作台包括插入所述掩模的边缘位置的槽。
可以是,所述掩模是沉积用金属掩模。
一实施例涉及的掩模检查系统包括:工作台;掩模,包括彼此对置的第一面和第二面,以竖立的状态被放置到所述工作台;第一相机和第一照明器,位于所述掩模的所述第一面侧,被配置成朝向所述第一面;第二相机和第二照明器,位于所述掩模的所述第二面侧,被配置成朝向所述第二面;以及一个以上的机架,安装所述第一相机、所述第一照明器、所述第二相机和所述第二照明器。
可以是,所述掩模其所述第一面和所述第二面相对于垂直于重力方向的水平面形成80°至100°范围的角且被放置到所述工作台。
可以是,所述一个以上的机架包括:第一机架,位于所述掩模的所述第一面侧;以及第二机架,位于所述掩模的所述第二面侧。可以是,所述第一相机和所述第一照明器以朝向所述第一面的方式被安装到所述第一机架,所述第二相机和所述第二照明器以朝向所述第二面的方式被安装到所述第二机架。
可以是,所述一个以上的机架包括被设置成在所述掩模的所述第一面侧与所述第二面侧之间能够移动的机架。可以是,所述第一相机和所述第一照明器被安装到所述机架的第一面,所述第二相机和所述第二照明器被安装到与所述机架的所述第一面对置的所述机架的第二面。
可以是,所述一个以上的机架包括具备位于所述掩模的所述第一面侧的第一部分以及位于所述掩模的所述第二面侧的第二部分的机架。可以是,所述第一相机和所述第一照明器以朝向所述第一面的方式被安装到所述机架的第一部分,所述第二相机和所述第二照明器以朝向所述第二面的方式被安装到所述机架的第二部分。
(发明效果)
根据实施例,可以提供一种能够容易检查掩模的两面的掩模检查系统。例如,掩模检查系统无需变更放置掩模的工作台的形状或者无需变更相机的设定就可以实质上同时检查掩模的两面。此外,根据实施例,具有可以经由整个说明书认识到的有益效果。
附图说明
图1是示意性表示一实施例涉及的掩模检查系统的立体图。
图2是示意性表示一实施例涉及的掩模检查系统的正面图。
图3是示意性表示一实施例涉及的掩模检查系统的立体图。
图4、图5和图6是示意性表示一实施例涉及的掩模检查系统的立体图。
图7是示意性表示一实施例涉及的掩模检查系统的立体图。
符号说明:
1:掩模检查系统;10:工作台;20、21、22:机架;201:支承部;211:第一支承部;221:第二支承部;202:安装部;212:第一安装部;222:第二安装部;31、32:相机;41、42:照明器;51、52:附加装置;60:控制器;M:掩模;S1:第一面;S2:第二面。
具体实施方式
参照附图,详细说明实施例,以便本领域技术人员能够容易实施。
层、膜、区域、板等部分位于其他部分上或上方时,不仅包括直接位于其他部分上的情况,还包括其间具有其他构成的情况。相反,某一部分直接位于其他部分上时,是指其间不存在其他构成。
在整个说明书中,某一部分包括某一构成要素时,在没有特别相反的记载的情况下,是指还可以包括其他构成要素。
在整个说明书中,连接并不是仅表示两个以上的构成要素被直接连接的情况,还表示两个以上的构成要素通过其他构成要素被间接连接的情况,除了物理上连接外还包括电连接的情况,或者虽然根据位置或功能而被指代为不同的名称但实质上形成为一体的各部分被彼此连接的情况。
在附图中,符号“x”、“y”和“z”用于表示方向,在此,符号“x”是第一方向,符号“y”是与第一方向大致垂直的第二方向,符号“z”是与第一方向及第二方向大致垂直的第三方向。
图1是示意性表示一实施例涉及的掩模检查系统的立体图,图2是示意性表示一实施例涉及的掩模检查系统的正面图。
掩模检查系统1可以包括工作台10、机架(gantry)21、22、相机31、32、照明器41、42和控制器60。
工作台10可以支承并放置作为检查对象的掩模M。工作台10可以在第一方向x上移动。由此,掩模M可以在被放置到工作台10的状态下与工作台10一同在第一方向x上移动。工作台10可以在与第一方向x不同的方向(例如,第二方向y和/或第三方向z)上移动或者也可以是固定型。
掩模M整体上可以是板形,可以包括彼此对置的第一面S1和第二面S2。掩模M例如可以是在显示面板的制造工序中用于沉积发光层、电极层等的如精细金属掩模、开放掩模等这样的沉积用金属掩模,但是并不限于此。第一面S1和第二面S2分别可以是掩模M的正面和背面。在掩模M中可以形成在厚度方向上贯通掩模M(因此贯通第一面S1和第二面S2)的图案(pattern)、缝隙(slit)、开口(opening)等,沉积物质、光等可以通过这种图案、缝隙、开口等。
掩模M可以以竖立的状态(即,第一面S1和第二面S2大致平行于第三方向z地)被放置到工作台10。掩模M可以被放置成第一面S1和第二面S2大致垂直于作为可与重力方向垂直的水平面的x-y平面的状态。例如,掩模M可以被放置成第一面S1和第二面S2与x-y平面形成约80°至约100°的范围或约84°至约96°的范围的角。
工作台10的上部面可以整体与x-y平面大致平行。工作台10可以包括用于放置掩模M的槽11。槽11可以与掩模M的边缘位置对应地形成为在第一方向x上长。在槽11中可以插入掩模M的一个边缘位置。工作台10还可以包括用于稳定地固定掩模M使得掩模M不会晃动的如夹具(clamp)这样的固定部件(未图示)。
机架21、22可以包括位于工作台10和掩模M的一侧(第一面S1侧)的第一机架21以及位于工作台10和掩模M的另一侧(第二面S2侧)的第二机架22。即,掩模检查系统1可以包括位于工作台10和掩模M的两侧的一对机架21、22。
第一机架21可以包括第一支承部211以及与第一支承部211结合的第一安装部212。第一支承部211可以是在第三方向z上延伸的柱形状。第一支承部211可以被固定到预定位置处。但是,第一支承部211也可以在第一方向x和/或第二方向y上移动,例如可以通过如在第一方向x上延伸设置的导轨这样的移送部件(未图示)而在第一方向x上移动。第一安装部212可以以能够在可作为重力方向的第三方向z上移动的方式与第一支承部211结合。第一安装部212也可以以能够在第一方向x和第三方向z上移动的方式与第一支承部211结合。第一机架21也可以不包括第一安装部212。
第二机架22可以包括分别与第一机架21的第一支承部211及第一安装部212对应的第二支承部221和第二安装部222。
相机31、32可以包括安装到第一安装部212的第一相机31以及安装到第二安装部222的第二相机32。照明器41、42可以包括安装到第一安装部212的第一照明器41以及安装到第二安装部222的第二照明器42。第一相机31和第一照明器41可以被设置成一个模块或者单独设置。第二相机32和第二照明器42可以被设置成一个模块或者单独设置。在第一机架21和第二机架22不包括第一安装部212和第二安装部222的情况下,第一相机31和第一照明器41可以被安装到第一支承部211,第二相机32和第二照明器42可以被安装到第二支承部221。
第一相机31可以被配置成朝向掩模M的第一面S1以便拍摄第一面S1。第二相机32可以被配置成朝向掩模M的第二面S2以便拍摄第二面S2。第一照明器41可以被配置成朝向掩模M的第一面S1以便朝向第一面S1照射光。第二照明器42可以被配置成朝向掩模M的第二面S2以便朝向第二面S2照射光。第一相机31可以与第二照明器42对齐,第二相机32可以与第一照明器41对齐。在本说明书中,相机与照明器的对齐可以表示相机的光轴与照明器的光轴被排列成同轴的情况。第一相机31可以利用由第二照明器42照射而通过了掩模M的光来拍摄第一面S1,可以生成相对于第一面S1的图像信息。第二相机32可以利用由第一照明器41照射而通过了掩模M的光来拍摄第二面S2,可以生成相对于第二面S2的图像信息。不同于此,第一相机31可以拍摄被第一照明器41照射的第一面S1来生成相对于第一面S1的图像信息,第二相机32可以拍摄被第二照明器42照射的第二面S2来生成相对于第二面S2的图像信息。在该情况下,第一相机31可以与第一照明器41对齐,第二相机32可以与第二照明器42对齐。第一相机31和第二相机32可以向控制器60传送生成的图像信息。
在掩模M的面积大于第一相机31和第二相机32的拍摄范围的情况下,可以移动相对于掩模M的第一相机31和第二相机32的拍摄范围以及第一照明器41和第二照明器42的照射范围。即,为了生成相对于比第一相机31和第二相机32的拍摄范围大的第一面S1和第二面S2的整个区域的图像信息,第一相机31和第二相机32以及第一照明器41和第二照明器42可以相对于掩模M在第一方向x和第三方向z上相对地进行移动,同时拍摄第一面S1和第二面S2。例如,在拍摄第一面S1和第二面S2时,放置了掩模M的工作台10可以在第一方向x上移动,安装了第一相机31和第一照明器41的第一安装部212以及安装了第二相机32和第二照明器42的第二安装部222可以在第三方向z上移动。作为其他例,放置了掩模M的工作台10可以被固定,第一相机31和第一照明器41可以在第一安装部212中沿着第一方向x移动,第二相机32和第二照明器42可以在第二安装部222中沿着第一方向x移动,安装了第一相机31和第一照明器41的第一安装部212以及安装了第二相机32和第二照明器42的第二安装部222可以在第三方向z上移动。当第一相机31和第二相机32以及第一照明器41和第二照明器42被安装到第一支承部211和第二支承部221的情况下,放置了掩模M的工作台10可以在第一方向x上移动,第一相机31和第二相机32以及第一照明器41和第二照明器42可以在第一支承部211和第二支承部221中沿着第三方向z移动。相机31、32和照明器41、42相对于掩模M的相对移动可以以各种方式变更。
控制器60可以控制掩模检查系统1的操作,执行整体的处理。控制器60可以通过有线通信方式或无线通信方式与第一相机31及第二相机32交换信息。控制器60可以基于从第一相机31和第二相机32接收到的图像信息,判断掩模M的缺陷。控制器60还基于从第一相机31和第二相机32接收到的图像信息,判断缺陷的种类。控制器60可以包括处理器(例如,中央处理装置)和存储器。在存储器中可以存储掩模M的设计信息,处理器可以比较存储的设计信息和接收到的图像信息来判断掩模M的缺陷(例如,异物附着、图案等的不良)。
如上所述,掩模检查系统1可以使用分别被配置成拍摄掩模M的第一面S1和第二面S2的第一相机31和第二相机32,生成相对于掩模M的第一面S1和第二面S2的图像信息。因此,无需变更工作台10的形状或者无需变更相机31、32的设定就可以实质上同时检查掩模M的第一面S1和第二面S2。
掩模检查系统1还可以包括附加装置51、52。附加装置51、52可以是能够去除附着于掩模M的异物的装置,例如可以包括能够吹散异物的鼓风机和/或能够吸入异物的吸入器。附加装置51、52可以包括安装到第一机架21的第一附加装置51以及安装到第二机架22的第二附加装置52。第一附加装置51和第二附加装置52分别可以与第一相机31及第二相机32相邻地配置。
若基于由第一相机31和第二相机32获得的图像信息检测到掩模M的缺陷,则第一相机31和/或第二相机32可以拍摄发现了缺陷的部位。此时,第一照明器41可以照射第一相机31拍摄的部位(即,第一面S1的特定区域),第二照明器42可以照射第二相机32拍摄的部位(即,第二面S2的特定区域)。可以使用位于掩模M的一侧的第一相机31和第一照明器41来在第一面S1中鲜明地拍摄缺陷部位,可以生成图像信息。此外,可以使用位于掩模M的另一侧的第二相机32和第二照明器42来在第二面S2中鲜明地拍摄缺陷部位,可以生成图像信息。控制器60可以基于由第一相机31和第二相机32获得的图像信息,判断缺陷的种类。若判断为缺陷的种类是异物附着,则第一附加装置51可以被用于去除附着于第一面S1的异物,第二附加装置52可以被用于去除附着于第二面S2的异物。
图3是示意性表示一实施例涉及的掩模检查系统的立体图。
参照图3,一实施例涉及的掩模检查系统1可以如前述的实施例那样包括工作台10、机架21、22、相机31、32、照明器41、42以及控制器60,还可以包括附加装置51、52。
若主要说明与前述的实施例的差异点,则掩模M可以以放倒的状态(即,第一面S1和第二面S2大致与x-y平面平行地)被放置于工作台10。工作台10可以形成为仅支承掩模M的边缘位置,使得掩模M的第二面S2实质上不会被工作台10挡住。例如,工作台10可以在与掩模M的边缘位置重叠的区域的内部形成有开口(未图示)(即,工作台10是仅支承掩模M的边缘位置的框体形状),或者工作台10可以被分离成两个部分使得仅支承掩模M的对置的两个边缘位置。工作台10可以在第一方向x和/或第二方向y上移动,掩模M可以被放置于工作台10而与工作台10一同移动。
机架21、22可以包括位于工作台10的上侧的第一机架21以及位于工作台10的下侧的第二机架22。第一机架21可以包括第一支承部211以及与第一支承部211结合的第一安装部212,第二机架22可以包括第二支承部221以及与第二支承部221结合的第二安装部222。第一支承部211和第二支承部221可以被设置成能够在第一方向x和/或第三方向z上移动。第一安装部212和第二安装部222可以以能够在第一方向x和/或第二方向y上移动的方式与第一支承部211及第二支承部221结合。
与前述的实施例相同地,相机31、32可以包括安装到第一安装部212的第一相机31以及安装到第二安装部222的第二相机32。第一相机31和第二相机32实质上可以同时拍摄掩模M的第一面S1和第二面S2,可以生成相对于第一面S1和第二面S2的图像信息。照明器41、42可以包括安装到第一安装部212的第一照明器41以及安装到第二安装部222的第二照明器42。在拍摄第一面S1和第二面S2时,第一相机31可以与第二照明器42对齐,第二相机32可以与第一照明器41对齐。附加装置51、52可以包括安装到第一机架21(例如,第一安装部212)的第一附加装置51以及安装到第二机架22(例如,第二安装部222)的第二附加装置52。控制器60可以基于由第一相机31和第二相机32获得的图像信息来检测掩模M的缺陷,可以确认缺陷的种类。若掩模M的缺陷是异物附着,则在控制器60的控制下,第一附加装置51可以去除附着于第一面S1的异物,或者第二附加装置52可以去除附着于第二面S2的异物。
图4、图5和图6是示意性表示一实施例涉及的掩模检查系统的立体图。
参照图4、图5和图6,掩模检查系统1可以包括工作台10、机架20、相机31、32、照明器41、42以及控制器60,还可以包括附加装置51、52。掩模M可以以竖立的状态(即,掩模M的第一面S1和掩模M的第二面S2大致垂直于x-y平面的状态)(例如,以与x-y平面形成约80°至约100°的范围或者约84°至约96°的范围的角的方式)被放置于工作台10。工作台10可以在第一方向x、第二方向y和/或第三方向z上移动,但是也可以是固定型。工作台10可以包括用于放置掩模M的槽11。
掩模检查系统1可以包括一个机架20。机架20可以被设置成能够在掩模M的一侧与掩模M的另一侧之间移动。机架20可以包括支承部201以及与支承部201结合的安装部202。支承部201可以通过如导轨这样的移送部件而在第二方向y上移动。安装部202可以被安装成在支承部201中能够在第三方向z上移动。第一相机31、第一照明器41和第一附加装置51可以被安装到安装部202的第一面。第二相机32、第二照明器42和第二附加装置52可以被安装到安装部202的与第一面对置的第二面。即,在一个安装部202的两面可以配置并安装用于检查掩模M的第一面S1和第二面S2或者用于去除异物的装置。掩模M的第一面S1和第二面S2的检查可以通过检查第一面S1并使机架20的支承部201沿着第二方向y移动之后检查第二面S2的方式、或者检查第二面S2并使机架20的支承部201沿着第二方向y移动之后检查第一面S1的方式来执行。
具体而言,参照图4,机架20可以位于掩模M的一侧,安装到安装部202的第一面的第一相机31、第一照明器41和第一附加装置51可以被设置成与掩模M的第一面S1相向。可以将第一相机31和第一照明器41相对于掩模M的位置例如在x-z平面中相对地移动的同时使用第一相机31和第一照明器41来拍摄第一面S1,生成相对于第一面S1的图像信息。此外,可以基于生成的图像信息来检测掩模M的缺陷和缺陷的种类,使用第一附加装置51来去除异物等。另一方面,掩模检查系统1还可以包括在掩模M的另一侧被设置成与第一相机31对齐且朝向掩模M的第二面S2照射光的附加照明器(未图示)。这种附加照明器可以在第一相机31利用通过了掩模M的光来拍摄第一面S1时被使用。
若相对于第一面S1的检查结束,则如图5所示,机架20可以在第二方向y上移动。在机架20移动时,安装部202可以处于在第三方向z上朝向掩模M的上侧移动的状态,使得不会产生安装部202与掩模M间的干扰。
机架20在第二方向y上移动之后,如图6所示,可以位于掩模M的另一侧。与拍摄掩模M的第一面S1时相同地,安装到安装部202的第二面的第二相机32、第二照明器42和第二附加装置52可以被设置成与掩模M的第二面S2相向。可以将第二相机32和第二照明器42相对于掩模M的位置例如在x-z平面中相对地移动的同时,使用第二相机32和第二照明器42来生成相对于第二面S2的图像信息。此外,可以基于生成的图像信息来检测掩模M的缺陷和缺陷的种类,使用第二附加装置52来去除异物等。另一方面,掩模检查系统1还可以包括在掩模M的一侧被设置成与第二相机32对齐且朝向掩模M的第一面S1照射光的附加照明器(未图示)。这种附加照明器可以在第二相机32利用通过了掩模M的光来拍摄第二面S2时被使用。
图7是示意性表示一实施例涉及的掩模检查系统的立体图。
参照图7,掩模检查系统1可以包括工作台10、机架20、相机31、32、照明器41、42以及控制器60,还可以包括附加装置51、52。掩模M可以以竖立的状态(即,掩模M的第一面S1和掩模M的第二面S2大致垂直于x-y平面的状态)(例如,以与x-y平面形成约80°至约100°的范围或者约84°至约96°的范围的角的方式)被放置于工作台10。工作台10可以在第一方向x、第二方向y和/或第三方向z上移动,但是也可以是固定型。工作台10可以包括用于放置掩模M的槽11。
掩模检查系统1可以包括一个机架20。机架20可以包括支承部201以及与支承部201结合的安装部202。支承部201可以在第一方向x上与工作台10位于同一线上。安装部202可以以能够在第三方向z上移动的方式与支承部201结合。安装部202可以是大致如韩语字符字这样的平面形状。例如,安装部202可以包括与支承部201结合且在第二方向y上延伸的横向部202a以及从横向部202a的两端开始在第一方向x上延伸的第一部分202b及第二部分202c。第一部分202b可以位于掩模M的一侧,第二部分202c可以位于掩模M的另一侧。
第一相机31、第一照明器41和第一附加装置51可以在第一部分202b中被安装成朝向掩模M的第一面S1。第二相机32、第二照明器42和第二附加装置52可以在第二部分202c中被安装成朝向掩模M的第二面S2。第一照明器41和第一附加装置51可以在第一部分202b中被安装成能够在第一方向x上移动或者以固定的方式被安装。第二相机32、第二照明器42和第二附加装置52可以在第二部分202c中被安装成能够在第一方向x上移动或者以固定的方式被安装。
可以将第一相机31和第二相机32以及第一照明器41和第二照明器42相对于掩模M的位置例如在x-z平面中相对地移动的同时,使用第一相机31和第二照明器42来拍摄第一面S1,使用第二相机32和第一照明器41来拍摄第二面S2,从而生成相对于第一面S1和第二面S2的图像信息。也可以使用第一相机31和第一照明器41来拍摄第一面S1,使用第二相机32和第二照明器42来拍摄第二面S2,从而生成相对于第一面S1和第二面S2的图像信息。
如上所述,通过构成机架20,配置第一相机31、第二相机32、第一照明器41、第二照明器42、第一附加装置51以及第二附加装置52,从而可以实质上同时检查掩模M的第一面S1和第二面S2。掩模检查系统1不仅可以容易地检查掩模M的第一面S1,还可以容易地检查掩模M的第二面S2,并且去除存在于第一面S1和第二面S2的异物,从而可以减少产品的不良。
以上,详细说明了本发明的实施例,但是本发明的权利范围并不限于此,本领域技术人员利用权利要求书中定义的本发明的基本概念的各种变形以及改良形态也属于本发明的权利范围。
Claims (10)
1.一种掩模检查系统,包括:
工作台;
掩模,包括彼此对置的第一面和第二面,以竖立的状态被放置到所述工作台;
第一相机和第一照明器,位于所述掩模的所述第一面侧;以及
第二相机和第二照明器,位于所述掩模的所述第二面侧。
2.根据权利要求1所述的掩模检查系统,其中,
所述掩模其所述第一面和所述第二面相对于与重力方向垂直的水平面形成80°至100°范围的角且被放置到所述工作台。
3.根据权利要求1所述的掩模检查系统,其中,
所述第一相机利用由所述第二照明器照射而通过了所述掩模的光来拍摄所述第一面,从而生成图像信息,
所述第二相机利用由所述第一照明器照射而通过了所述掩模的光来拍摄所述第二面,从而生成图像信息。
4.根据权利要求3所述的掩模检查系统,其中,
所述第一相机与所述第二照明器对齐,所述第二相机与所述第一照明器对齐。
5.根据权利要求1所述的掩模检查系统,其中,
所述第一相机拍摄被所述第一照明器照射的所述第一面来生成图像信息,
所述第二相机拍摄被所述第二照明器照射的所述第二面来生成图像信息,
所述第一相机与所述第一照明器对齐,所述第二相机与所述第二照明器对齐。
6.根据权利要求1所述的掩模检查系统,还包括:
第一机架,位于所述掩模的所述第一面侧;以及
第二机架,位于所述掩模的所述第二面侧,
所述第一相机和所述第一照明器以朝向所述第一面的方式被安装到所述第一机架,所述第二相机和所述第二照明器以朝向所述第二面的方式被安装到所述第二机架。
7.根据权利要求6所述的掩模检查系统,还包括:
第一鼓风机或第一吸入器,以朝向所述第一面的方式被安装到所述第一机架;以及
第二鼓风机或第二吸入器,以朝向所述第二面的方式被安装到所述第二机架。
8.根据权利要求1所述的掩模检查系统,还包括:
机架,被设置成在所述掩模的所述第一面侧与所述第二面侧之间能够移动,
所述第一相机和所述第一照明器被安装在所述机架的第一面,所述第二相机和所述第二照明器被安装在与所述机架的所述第一面对置的所述机架的第二面,
在所述机架位于所述掩模的所述第一面侧时,所述第一相机和所述第一照明器被设置成与所述掩模的所述第一面相向,
在所述机架位于所述掩模的所述第二面侧时,所述第二相机和所述第二照明器被设置成与所述掩模的所述第二面相向。
9.根据权利要求1所述的掩模检查系统,还包括:
机架,包括位于所述掩模的所述第一面侧的第一部分以及位于所述掩模的所述第二面侧的第二部分,
所述第一相机和所述第一照明器以朝向所述第一面的方式被安装到所述机架的所述第一部分,所述第二相机和所述第二照明器以朝向所述第二面的方式被安装到所述机架的所述第二部分。
10.根据权利要求1所述的掩模检查系统,其中,
所述工作台包括插入所述掩模的边缘位置的槽。
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