CN116075232A - 涂覆的基质及其制备方法 - Google Patents

Abstract

提供了一种涂覆的基质及其制造方法。该方法包括：将基质固定到基座上；将第一涂层施加到基质上；将所述第一涂层围绕所述基质包裹以基本上涂覆所述基质，所述第一涂层具有从基本上涂覆的基质延伸出去并围绕所述基座的第一涂层的过量涂层；从基质中撤回基座；由所述第一涂层的过量涂层形成尾部，所述尾部从基质的表面以一定角度延伸；以及将尾部密封到所述第一涂层以包封所述基质形成涂覆的基质。

Description

涂覆的基质及其制备方法

相关申请的交叉引用

本申请要求2020年7月10日提交的美国临时专利申请第63/050344号(其全部内容通过引用并入本文)；2020年8月7日提交的美国临时专利申请第63/062491号(其全部内容通过引用并入本文)；和2020年11月23日提交的美国临时专利申请第63/116940号(其全部内容通过引用并入本文)的优先权。

技术领域

本公开总体上涉及涂覆基质，更具体地，涉及改进的涂覆的基质，以及用于制造涂覆的基质的系统和方法。

背景技术

基质可以被涂覆以提供对环境因素的抗性，例如对水污染的抗性，或者提供期望的性能特性，例如延迟释放，这是某些类型的基质所需要的。涂覆的基质可用于肥料、药片和其他应用。形成基质的组分可能对环境影响敏感，并且如果在基质预期使用前暴露于周围环境中，可能会降解和变得不太有效或引起不良影响。涂覆基质可以防止由于环境污染或降解引起的不良影响。涂覆的基质也可以被设计用于定时释放，其中涂层被设计用于在某些期望的条件下暴露基质。

发明内容

一方面，本公开描述了一种制造涂覆的基质的方法，该方法包括：将基质固定到基座上；将第一涂层施加到基质上；将所述第一涂层围绕所述基质包裹以基本上涂覆所述基质，所述第一涂层具有从基本上涂覆的基质延伸出去并围绕所述基座的第一涂层的过量涂层；从基质中撤回基座；由第一涂层的过量涂层形成尾部，该尾部从基质表面以一定角度延伸；以及将尾部密封到第一涂层以包封基质。

在一个实施方案中，所述基质是固体芯。

在一个实施方案中，所述基座是销。在一个实施方案中，该方法包括加热所述销。销可以被加热到高于基质熔点的温度；并且将基质固定到销上包括使销和基质接触以将销的一部分嵌入基质中。

在一个实施方案中，在将基质固定到基座之前，将第二涂层施加到基座上以部分涂覆基座；以及将基质传送到部分涂覆的基座。第二涂层可以被加热以围绕基座热成型第二涂层。在一个实施方案中，尾部由第一涂层的过量涂层和第二涂层的一部分形成。

在一个实施方案中，基座包括被配置成提供真空抽吸以将基质固定到基座上的通道。

在一个实施方案中，固体芯被送入腔。

在一个实施方案中，基座延伸到腔中以与基质连接，其中基座沿着其纵轴平移而没有水平位移。

在一个实施方案中，第一涂层的边缘被施加到腔外围的横向表面上；以及将第一涂层的边缘从腔的横向部分断开。

在一个实施方案中，将第一涂层围绕基质包裹包括围绕基质抽吸第一涂层。

在一个实施方案中，将第一涂层围绕基质包裹包括沿着第一涂层的外围吹送空气。

在一个实施方案中，将尾部熔化并层压到第一涂层上。

在一个实施方案中，基质是肥料、杀虫剂、肥料-杀虫剂组合产品、药物片剂、营养片剂、农业种子、固体食品或水溶性固体芯。

实施方案可以包括上述特征的组合。

另一方面，本公开描述了一种涂覆的基质，包括：基质；包封基质的涂层，该涂层包括覆盖基质大部分表面积的主要部分；和覆盖基质表面区域的剩余部分的密封区域，主要部分包括聚合物膜的单一整体件，其边缘在密封区域处密封。

在一个实施方案中，所述基质是固体芯。在一个实施方案中，基质是肥料、杀虫剂、肥料-杀虫剂组合产品、药物片剂、营养片剂、农业种子、固体食品或水溶性固体芯。

在一个实施方案中，密封区域包括层压到基质或形成涂层的聚合物膜中的至少一个上的单片聚合物膜的过量膜。

在一个实施方案中，涂层包含聚合物、聚合物加工添加剂、矿物质、颜料、杀虫剂、抗微生物剂、抗催熟剂、植物生长剂、微量营养素、药物活性成分、聚乙烯醇、蜡、增粘树脂、增粘剂、杀真菌剂、杀虫剂、杀线虫剂、除草剂、微生物和/或肥料中的至少一种。

在一个实施方案中，涂层是可热成型膜、可真空成型膜、可生物降解膜、不可生物降解膜、水溶性膜、非肠溶性膜和/或包含至少一种植物生长剂的聚合物膜中的至少一种。

在一个实施方案中，涂层占基质总重量的约0.1％至30％，优选占基质总重量的0.1％至10％，更优选占基质总重量的0.1％至5％。

在一个实施方案中，密封区域的厚度大于主要部分的厚度。

在一个实施方案中，密封区域小于涂覆的基质总表面的40％，优选小于涂覆的基质总表面的20％，更优选小于涂覆的基质总表面的10％。

在一个实施方案中，密封区域具有与涂层的主要部分基本相同的厚度。

在一个实施方案中，密封区域通过将涂层的过量管状部分连接到层叠在基质上的涂层的相邻部分而形成，管状部分包括涂层的边缘。

在一个实施方案中，通过熔化过量的管状部分并将熔化的过量的管状部分层压到涂层上来形成密封区域。

在一个实施方案中，密封区域包括连接到涂层边缘的增强涂层。

在一个实施方案中，将补充的涂层施加到第一涂层上，或直接施加到固体芯上，第二涂层至少部分包封固体芯。

实施方案可以包括上述特征的组合。

在另一方面，本公开描述了一种用于制造涂覆的基质的系统，该系统包括：进料装置，其被配置成将基质进料到接受器中，该接受器具有配对基座；第一涂覆装置，被配置成将涂层涂覆到接受器上；以及偏置装置，被配置成围绕基质和基座的一部分偏置涂层；该基座可通过限定在配对接受器中的开口相对于其配对接受器移动，该基座被配置成在延伸位置和撤回位置之间转换，在延伸位置，基座延伸到其配对接受器中，用于在基座上接收基质，在撤回位置，基座从其配对接受器中撤回，使基座与基质和涂层脱离，以形成具有尾部的涂覆的基质；和密封系统，将尾部密封到涂层上。

在一个实施方案中，第二涂覆装置被配置成在基座接收基质之前将第二涂层施加到每个基座上以部分涂覆基座。

在一个实施方案中，每个基座被配置成沿其纵轴平移穿过配对接受器的开口而没有水平位移，以接合基质或从基质脱离。

在一个实施方案中，接受器是由板的表面限定的腔。

在一个实施方案中，基座限定了被配置成提供真空吸力以将基质固定到基座的通道。

在一个实施方案中，偏置装置是真空泵，其被配置成在开口处产生真空压力，以围绕基质和基座的一部分偏置涂层。

在一个实施方案中，偏置装置是气泵，其被配置成对空气加压，以围绕基质和基座的一部分偏置涂层。

实施方案可以包括上述特征的组合。

在另一方面，本公开描述了一种用于制造涂覆的基质的系统，该系统包括：第一旋转滚筒，包括位于第一旋转滚筒表面上的多个接受器；进料装置，其被配置成将多种基质进料到第一旋转滚筒中，每种基质进料到多个接受器中的一个，每个接受器具有配对基座；第一涂覆装置，其被配置成将涂层施加到容纳基质的多个接受器中的每一个上，当多个接受器中的每一个旋转通过第一涂覆装置时施加涂层；以及偏置装置，被配置成围绕基质和基座的一部分偏置涂层；其中，所述多个接受器中的每一个的配对基座可相对于其配对接受器移动穿过限定在配对接受器中的开口，所述基座可移动以在延伸位置和撤回位置之间转换，在延伸位置，基座延伸到其配对接受器中以在基座上接收基质，在撤回位置，基座从其配对接受器中撤回，使基座与基质和涂层脱离，以形成具有尾部的涂覆的基质；和密封系统，其将尾部密封到涂层上。

在一个实施方案中，每个基座被配置成沿其纵轴平移穿过配对接受器的开口而没有水平位移，以接合基质或从基质脱离。

在一个实施方案中，该系统包括第二旋转滚筒，该第二旋转滚筒的表面上具有多个接受器，第二旋转滚筒的多个接受器定位成接收来自第一旋转滚筒的具有尾部的涂覆的基质，定位在第二旋转滚筒上的涂覆的基质具有远离第二旋转滚筒定位的尾部。

在一个实施方案中，该系统包括将尾部层压到涂层上的辊。

在一个实施方案中，偏置装置包括真空箱，该真空箱被配置成当每个接受器从进料装置旋转到邻近第二旋转滚筒的位置之前时向每个接受器提供真空压力。

在一个实施方案中，每个基座限定了将真空箱连通到基座的通道。

在一个实施方案中，该偏置装置包括气泵，该气泵被配置成吹送空气以围绕基质和基座的一部分偏置涂层。

在一个实施方案中，密封系统包括将尾部加热熔化到涂层上的热源。

在一个实施方案中，该系统包括用于加热基座的加热销系统，该加热销系统包括用于将基座加热到期望温度的加热元件，其中基座是具有用于接触基质的尖端的销，以在销处于延伸位置时通过点熔化将销粘附到基质上。

实施方案可以包括上述特征的组合。

在另一方面，本公开描述了一种用于制造涂覆的基质的系统，该系统包括：平台板，其包括一个或多个基座，每个基座在腔板上具有对应的接受器，该腔板包括位于腔板表面上的一个或多个接受器，每个接受器限定了用于接收基质的腔，且每个接受器限定了延伸穿过腔板的开口；进料装置，其被配置成将基质进料到每个基座或其配对接受器；第一涂覆装置，其被配置成将第一涂层施加到容纳基质的多个接受器的每一个上；第一偏置装置，其被配置成围绕所述基质和每个基座的一部分偏置所述第一涂层，所述平台板可相对于所述腔板移动，以同时使每个基座相对于其配对接受器移动穿过在所述配对接受器中限定的开口，所述基座可移动以在延伸位置和撤回位置之间转换，在延伸位置，基座延伸到其配对接受器中以在基座上接收基质，在撤回位置，基座从其配对接受器中撤回，使基座与基质和第一涂层脱离，以形成具有尾部的涂覆的基质；和密封系统，其将尾部密封到第一涂层。

在一个实施方案中，该系统包括第一偏置构件，该第一偏置构件被配置成将平台板偏置远离腔板，以将一个或多个基座移动到撤回位置。

在一个实施方案中，偏置构件是位于腔板和平台板之间的弹簧。

在一个实施方案中，该系统包括第二涂覆装置，该第二涂覆装置被定位成在基质被进料装置进料到接受器之前将第二涂层施加到接受器上。

在一个实施方案中，该系统包括第二偏置装置，该第二偏置装置被定位成在基质被进料装置进料到接受器之前围绕每个基座的一部分偏置第二涂层。

在一个实施方案中，该系统包括一个或多个脱离构件，该脱离构件固定到每个接受器并延伸到用于接收基质的腔中。

在一个实施方案中，基座包括形成接收基质的平台的多个构件，该多个构件定位在平台板上以当基座在延伸和撤回位置之间移动时，在脱离构件之间移动。

在一个实施方案中，多个构件包括定位于三角形的三个顶点的三个构件。

在一个实施方案中，多个构件包括在十字架的四个顶点处的四个构件。

在一个实施方案中，平台板限定了多个真空开口，每个真空开口通常定位于多个构件的中心，每个开口被配置成当多个真空开口与腔板中的配对开口对准时，将真空压力从真空压力源传递到配对接受器。

在一个实施方案中，每个基座被配置成沿其纵轴平移穿过其配对接受器的开口而没有水平位移，以接合基质或从基质脱离。

在一个实施方案中，该偏置装置包括气泵，该气泵被配置成吹送空气以围绕基质和基座的一部分偏置涂层。

在一个实施方案中，该系统包括连接到腔板和平台板中的至少一个的致动器，以相对于平台板移动腔板，从而同时在延伸位置和撤回位置之间移动每个基座。

实施方案可以包括上述特征的组合。

从下面包括的详细描述和附图中，本申请主题的这些和其他方面的其他的细节将变得显而易见。

附图说明

现在参考附图，其中：

图1示出了示例涂覆的基质的侧视图；

图2A示出了图1所示的涂覆的基质的前体的侧视图；和

图2B示出了图2A中所示的涂覆的基质的示例尾部的局部视图。

图3示出了用于制造涂覆的基质的示例系统的接受器。

图4示出了用于制造涂覆的基质的示例系统的示例基座。

图5示出了包括图3的接受器和处于其撤回位置的图4的基座的示例系统。基质被接收在接受器中。

图6示出了定位在处于基座的延伸位置的图4的基座上的基质。

图7示出了将涂层施加到图6的基质和接受器上。

图8示出了对图7的涂层施加真空压力或空气压力。

图9示出了涂覆的基质的前体和处于其撤回位置的图8中所示的示例系统的基座。

图10示出了重新定位在另一个接受器中的图9的示例前体。

图11示出了图10的示例前体和用于加热示例前体尾部的加热装置。

图12示出了用于层压图11所示的尾部的辊和所得的示例涂覆的基质。

图13示出了用于制造涂覆的基质的系统的多个示例基座。

图14示出了用于制造涂覆的基质的包括图13的基座的示例系统。

图15示出了用于制造涂覆的基质的包括图3-12的系统的示例装置。

图16示出了用于制造涂覆的基质的包括图3-12的系统的另外的示例装置。

图17示出了示例涂覆装置。

图18-23示出了用于制造涂覆的基质的另一个系统。图18和19示出了系统的示例接受器和基座。图20示出了在图18和19所示的基座上接收的基质。图21-23示出了将涂层施加到图20的基质上以形成示例前体。

图24示出了包括图18-23的系统的示例装置。

图25示出了包括用于制造涂覆的基质的系统的示例装置。

图26示出了图25的系统的示例平台板。

图27示出了图25的系统的示例腔板。

图28示出了图26的示例平台板的剖面图。

图29示出了图27的示例腔板的剖面图。

图30示出了定位在示例平台板的图27的示例腔板的剖面图。

图31示出了定位在图30中所示的平台板上的示例腔板被涂层涂覆的剖面图。

图32示出了定位在图30中所示的平台板上的示例腔板在其被涂层部分涂覆之后的剖面图。

图33示出了定位在图30中所示的平台板上的示例腔板在其被涂层部分涂覆且已接收基质之后的剖面图。

图34示出了定位在图30中所示的平台板上的具有定位在平台板的基座上的示例前体的示例腔板的剖面图。

图35示出了图34的示例前体。

图36示出了由图35的前体形成的示例涂覆的基质。

图37示出了用于制造涂覆的基质的系统的示例腔板的等距视图。

图38示出了用于制造涂覆的基质的包括基座的系统的示例平台板的等距视图。

图39示出了图37的腔板与图38的平台板重叠的等距视图。

图40示出了图37的腔板的示例接受器和脱离构件的俯视图。

图41示出了沿着图40中的线A-A的示例接受器和基座的剖面图。

图42和43示出了示例接受器和脱离构件的俯视图。

图44示出了图38的平台板的剖面图，其具有围绕平台板的开口定位的基座的构件。

图45示出了图39所示的腔板与平台板重叠的一部分的剖面图。

图46示出了具有定位在基座构件上的基质的图39中所示的腔板与平台板重叠的一部分的剖面图。

图47示出了具有设置在基座上的涂覆有涂层的基质的图39中所示的腔板与平台板重叠的一部分的剖面图。

图48示出了图45所示的腔板与平台板重叠的一部分的剖面图，该腔板具有设置在基座上的涂覆有涂层的基质和切割工具。

图49示出了具有设置在基座上的前体的图45中所示的腔板与平台板重叠的一部分的剖面图。

图50示出了具有脱离基座的前体的图49中所示的腔板与平台板重叠的一部分的剖面图。

图51示出了图2A所示前体的示例尾部的透视剖视图。

图52示出了图2A所示前体的另一个示例尾部的透视剖视图。

图53示出了图2A所示前体的另一个示例尾部的透视剖视图。

图54是图1所示的涂覆的基质的示例密封区域的局部视图。

图55是图1所示的涂覆的基质的另一示例密封区域的局部视图。

图56是图1所示的包覆的基质的另一示例密封区域的局部视图。

图57是制造涂覆的基质的示例方法的流程图。

具体实施方式

本文的公开内容涉及涂覆的基质和制造涂覆的基质的系统/方法，该涂覆的基质具有改善的耐环境污染性、改善的性能特征和/或提供制造的便利性。

根据本公开的示例基质可以是肥料颗粒、肥料片剂、生物肥料片剂、杀生物剂片剂或颗粒、盐颗粒、除草剂颗粒或片剂、杀真菌剂颗粒或片剂、杀虫剂颗粒或片剂、其它杀虫剂颗粒或片剂、颗粒或片剂形式的肥料-杀虫剂组合产品、盐片剂、无机化学颗粒、农业种子、动物饲料产品、洗涤剂片剂或颗粒、药物或营养片剂、药物或营养胶囊、糖果制品、水处理片剂、杀粘剂、生物刺激剂、接种剂、固体食品、水果、蔬菜或水溶性固体芯。

尽管在本公开中可以使用术语例如“最大化”、“最小化”和“优化”，但是应该理解，这些术语可以用于表示改进、调整和细化，而可以不严格限于最大化、最小化或最优化。

术语“固定到”或“连接到(connected)”或“连接到(coupled to)”可以包括直接连接(其中彼此连接的两个元件彼此接触)和间接连接(其中至少一个附加元件位于两个元件之间)。

本文使用的术语“基本上”可用于修饰任何定量表示，其可允许变化，而不导致与其相关的基本功能的变化。例如，在本发明的范围内，在本文公开的具有圆形剖面的驱动轴可以允许具有稍微非圆形的剖面，如果其旋转驱动能力没有实质性改变的话。

除非另有说明，术语“例如(e.g.,)”、“等”、“例如(for instance)”、“例如(forexample)”和“或”以及语法上相关的术语表示非排他性的选择，而没有限制。

除非另有说明，术语“包括”和语法上相关的术语表示“包括，但不限于”。

冠词“一(a)”、“一(an)”、“所述(the)”意在被解释为指代单数以及复数，除非上下文另有明确规定。

术语“涂层组合物”是指两种或多种组分的混合物或共混物。涂覆组合物可以包括以下中的两种或更多种：聚合物、加工添加剂、植物生长剂、增塑剂、蜡、共引发剂或固化催化剂、抗氧化剂、增粘剂、矿物填料、氧/光生物降解添加剂、防粘连添加剂、颜料或润滑剂等。“涂覆组合物”的形式应理解为不同组分的液体混合物，这些组分可以溶解或分散在溶液中，或者可以是乳液/微乳液。

在本文中定义聚合物的术语“熔化的”或“软化的”是指聚合物是易弯曲的，可以是热成型或真空成型的。

术语“涂层”是指涂覆在基质上的具有期望的涂层厚度的聚合物膜层。术语“涂层”、“聚合物膜”、“聚合物涂层”可互换使用，除非另有定义，否则表示相同的意思。

术语“大部分的表面区域”“基本上涂覆”或“基本上涂覆的”是指涂层覆盖被涂覆的基质的大于50％的表面积但小于100％的表面积。

术语“过量的涂层”和“尾部”可互换使用，是指聚合物膜的一部分，从基质表面延伸出去，附着在覆盖表面区域的聚合物膜上。过量的涂层不直接覆盖被涂覆的基质的表面。

术语“密封区域”是指涂层的一部分，其具有由密封并连接到基质和/或覆盖基质表面以包封和密封基质的涂层的过量涂层的尺寸限定的面积。在一个实例中，密封区域通过过量涂层的熔融形成，其中过量涂层在加热下自身熔融以形成密封区域。在另一个示例中，过量的涂层可以用粘合剂连接到涂层上。在SEM或其他显微镜下，密封区域可能看起来与涂层的其余部分不同。“密封区域”或“密封点”在本文中可以互换使用。

术语“多层涂层”是指具有多层聚合物膜的涂层。例如：30微米厚的第一涂层可以由20微米厚的PLA(聚乳酸)膜和10微米厚的LDPE(低密度聚乙烯)膜组成。多种聚合物的共挤出多层膜是多层涂层的一个示例。本文所述的涂层可以包括多层涂层。

术语“层压”是指聚合物膜通过热、压力或粘合剂与其自身或与另一表面粘合。层压包括热层压和冷层压。

术语“热层压”是指使用热量将两层聚合物膜熔融熔合。

术语“冷层压”是指仅使用压力或粘合剂层压两层膜。通常，具有粘合剂层的两层薄膜被压在一起，粘合剂作为结合试剂用于粘合两层薄膜。

术语“聚合物”是指通过聚合相同或不同类型的单体制备的聚合化合物。通用术语聚合物包括术语均聚物，通常用来指仅由一种类型的单体制备的聚合物。

术语“生物聚合物”或“天然聚合物”是指由植物或动物产生的聚合化合物。

术语“共聚物”、“互聚物”和类似术语是指由至少两种不同类型的单体聚合制备的聚合物。这些通用术语包括共聚物的传统定义，即由两种不同类型的单体制备的聚合物，以及共聚物和互聚物的更宽泛的定义，即由两种以上不同类型的单体制备的聚合物，例如三元共聚物、四元共聚物等。

术语“共混物”是指两种或更多种材料的组合物。这样的共混物可以是或可以不是可混溶的。这样的共混物可以是或可以不是相分离的。这样的共混物可以含有或不含有一种或多种域构型，如通过透射电子光谱、光散射、x-射线散射和本领域已知的任何其他方法测定的。

术语“涂覆装置”是指任何可将涂层涂覆到基质上的市售装置。涂覆装置可以是：能够产生期望厚度的聚合物膜层的热熔挤出机和模具；能够产生热熔聚合物喷雾的热熔聚合物喷雾器；能够产生涂层的狭缝式挤压涂布机；能够产生涂层的狭缝式喷嘴；能够产生涂层的帘式涂布机、使用电子束或UV灯固化涂层的UV或EB涂布设备、或者可以通过加热源加热聚合物膜并将其施加或层压到表面上的热膜层压机。

术语“涂覆站”是指安装涂覆装置并将涂层涂覆到基质上的地方。

术语“预制聚合物膜”或“聚合物膜”是指使用任何商业膜制造工艺(如流延膜挤出、吹塑膜挤出工艺或流延溶液)制造的聚合物膜。聚合物膜可以包含赋予聚合物膜理想的化学或机械性能所需的任何加工助剂或添加剂。

术语“肥料”是指任何形状或尺寸的任何市售肥料颗粒、肥料片剂、肥料-杀虫剂片剂或用于促进植物生长的任何化学品。

术语“任何形状或尺寸的肥料”是指被涂覆的肥料可以是任何形状，例如通过干压实工艺生产的压实化学品、片剂、尖状物、团块、球体、椭球体、胶囊或没有任何特定形状的化学盐晶体。

术语“网格状图案”是指以彼此固定的距离定位和保持的基质。

术语“腔”是指用于容纳基质的外壳。

术语“基座”是指腔内的一个或多个支柱，基质位于其上，并且可以例如通过摩擦、重力或真空压力保持在适当的位置。一个或多个支柱可以限定平台，在该平台上接收基质。

术语“传送带系统”被理解为马达驱动的平坦传送带，其上连接有腔板和基座板。

术语“热销”或“热针”或“加热平台”是指可通过内部或外部热源加热以提高销或平台的温度的腔内的销、平台或支柱。

术语“销”是指具有用于连接到基质的尖端的构件。

术语“点熔化”是指通常小于总物体的50％的区域被加热熔化或软化。

术语“熔化融合”是指基质或颗粒物质通过一种材料与另一种材料的熔化和结合而结合在一起。

术语“嵌入”是指销的一部分被推入基质的表面以结合到基质上。

通过参考附图描述了各种实施方案的方面。

图1示出了示例涂覆的基质105。涂覆的基质105包括基质101和包封基质101的涂层102。涂层102包括主要部分102A和密封区域104。主要部分102A可以是聚合物的单一整体件，其边缘在密封区域104密封的边缘。在一个示例中，主要部分102A可以围绕基质101延伸，以覆盖基质101的基本的表面区域。涂层102可以在基质101的表面周围具有大致均匀的厚度。在实例中，涂层102的主要部分102A覆盖了基质101表面的60％以上。在另一个实例中，涂层102的主要部分102A覆盖了基质101表面的75％以上。在另一个实例中，涂层102的主要部分102A覆盖了基质101表面的90％以上。在另一个实例中，涂层102的主要部分102A覆盖了基质101表面的80％至90％。在另一个实例中，涂层102的主要部分102A覆盖了基质101表面的90％至95％。如图1所示，主要部分102A是延伸到涂层102的密封区域104的聚合物膜的单一整体件，其包封了主要部分102A没有包封的基质101的剩余部分。如本文将描述的，密封区域104可以通过将涂层102的过量涂层102与其自身层压到主要部分102A和/或基质101来形成。

在一个实施方案中，涂覆的基质105的密封区域104的厚度通常大于涂层102的主要部分102A。在另一个实施方案中，涂覆的基质105具有小于涂覆的基质的总表面的40％的密封区域。在另一个实施方案中，涂覆的基质105具有小于涂覆的基质的总表面的20％的密封区域。在另一个实施方案中，涂覆的基质105具有小于涂覆的基质的总表面的10％的密封区域。在一个实施方案中，密封区域104可以具有与其上形成有涂覆的基质105的基座大致相同尺寸的区域。

在一个实施方案中，涂覆的基质105可以包括施加到第一涂层上或直接施加到基质上的补充的涂层，第二涂层至少部分包封基质。

图36图示了另一个示例涂覆的基质105B。类似于涂覆的基质105，涂覆的基质105B包括包封基质101的涂层102-1。涂层102B包括主要部分102B和密封区域104B。主要部分102B可以是聚合物的单一整体件，其边缘在密封区域104B密封。在一个示例中，主要部分102B可以围绕基质101延伸，以覆盖基质101的大部分的表面区域。涂层102-1可以在基质101的表面周围具有大致均匀的厚度。涂覆的基质105B还包括连接到密封区域104B的增强涂层108。在一个实施方案中，增强涂层108可被熔化融合或粘附到密封区域104B。在另一个实施方案中，涂覆的基质105B具有小于涂覆的基质的总表面的40％的密封区域104B。在另一个实施方案中，涂覆的基质105B具有小于涂覆的基质的总表面的20％的密封区域。在另一个实施方案中，涂覆的基质105B具有小于涂覆的基质的总表面的10％的密封区域。在一个实施方案中，密封区域104B可以具有与其上形成有涂覆的基质105B的基座大致相同尺寸的区域。

基质105可以是固体芯。固体芯的非限制性示例包括有机肥料、无机肥料、矿物肥料、天然肥料、生物肥料、有机矿物肥料、杀虫剂、肥料-杀虫剂产品、复合肥料产品、任何形状或尺寸的肥料、生物刺激剂、接种剂、植物生长促进剂、农业种子、杀生物剂、化学盐、水处理化学品、药片、营养产品、糖果制品、任何形状或尺寸的固体芯。

在一个实施方案中，涂覆的基质105具有涂层102、102-1、103C，该涂层包括聚合物、聚合物加工添加剂、矿物、颜料和/或植物生长剂(PGA)中的至少一种。在一些实施方案中，涂层102是水溶性的。在一些实施方案中，涂层占基质101总重量的约0.1％至30％，优选占基质101总重量的0.1％至10％，更优选占基质101总重量的0.1％至5％。

在另一个实施方案中，涂层102、102-1、103C可以是用于膜挤出的市售热塑性聚合物，例如市售挤出涂覆级聚合物。用于熔融挤出成膜形式的商业级聚合物的实例可在以下出版物中获得；Biopolymer:Processing&Products/By Michael Niaounakis/PDLHandbook Series/William Andrew,Inc(2014),Handbook of Biodegradable Polymers-Synthesis Characterization and Application/edited by Andreas Lendlein andAdam Sissoon/Published by Wiley VCH(2011)。

在另一个实施方案中，涂层102、102-1、103C可以包括选自以下的热塑性聚合物：聚缩醛、尼龙、不同分子量和密度的聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、聚氯乙烯(PVC)、聚甲基丙烯酸甲酯(P MMA或丙烯酸)、丙烯腈丁二烯苯乙烯(ABS)、聚碳酸酯(PC)聚酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚酰胺(PA或尼龙)、聚苯硫醚(PPS)、聚苯醚/聚苯乙烯共混物、聚醚酰亚胺(PEI)、聚砜(PSO)以及它们的共混物和共聚物。

在另一个实施方案中，涂层102、102-1、103C可以包括选自以下的热塑性弹性体聚合物：苯乙烯-丁二烯橡胶、丁二烯橡胶、异戊二烯、丁基橡胶、氯丁橡胶、丁腈橡胶、乙丙橡胶(EPM和EPDM)、硅橡胶、聚脲、聚氨酯或它们的共混物或衍生物。

在另一个实施方案中，涂层102、102-1、103C可以包括选自以下的可生物降解的热塑性聚合物：聚乙交酯、聚(丙交酯-共乙交酯)(PI-GA)、聚丁二酸丁二醇酯(PBS)及其共聚物、聚二氧环己酮(PDO或PPDO)、聚己内酯(PCL)、聚羟基烷酸酯(PHA)、聚羟基丁酸酯(PHB)、聚羟基戊酸酯(PHV)、聚乳酸(PI-A)、可生物降解的聚碳酸酯、聚乙烯醇(PVOH)、聚醋酸乙烯酯(PVA)以及它们的共聚物和衍生物。

在另一个实施方案中，涂层102、102-1、103C可以包括天然或合成来源的可生物降解或不可生物降解的热塑性聚合物、热塑性弹性体、热固性聚合物、醇酸树脂、UV或EB可固化树脂、生物聚合物、再循环聚合物和天然聚合物、它们的共聚物或共混物。在又一实施方案中，生物聚合物或天然聚合物可选自：纤维素衍生物、多糖、甲壳质和壳聚糖聚合物、蛋白质或明胶。许多商业产品可用于本公开所预期的涂覆应用中。

用于本文所述涂层的示例商品级生物可降解聚合物可包括：PLA树脂，来自

2000系列：2003D TDS，

3000系列：3001D SDS3052D SDS3251D SDS 3801X SDS,

4000系列：4032D TDS,4043D TDS,4060D TDS,

6000系列：6060D TDS,6201D TDS,6202D TDS,6204D TDS 6400D TDS6251D TDS 6252D TDS 6302D TDS 6751D TDS 6752D TDS,

7000系列：7001D TDS、7032D TDS；再循环的PLA，例如来自Galactic(比利时)、Futerro Total/Galactic(比利时)的

PLA/PCL共混物：来自Toyobo(日本)的VYLOECOL BE-4001VYLOECOL BE-600VYLOECOL BE-910VYLOECOL HYD-306VYLOECOL BE-450VYLOECOL BE-410VYLOECOL HYD-006；Toray Industries(JP)的

系列是来自FKuR Kunststoff GmbH(DE)的PLA/聚醚共聚物BIO-

系列PLA(Nature-Works)/共聚酯共混物的共混物；聚己酸内酯：CapaTM 6000和7000系列、Celgreen PH、

200系列、

300系列、

F系列(大单体)、

H1P(Mw 10000)、来自DOW的

系列；来自Showa High Polymer Co Ltd(JP)的商品名为BionolleTM 1000的PBS(聚丁二酸丁二醇酯)和商品名为BionolleTM 3000系列的PBSA(聚丁二酸丁二醇酯-己二酸丁二醇酯)，来自SK Chemicals(韩国)的商品名为SkygreenTM SG200的PBSA；来自Mitsubishi Chemical(JP)的商品名为

AD92W、

AZ91T和

GZ95T的PBSL(聚丁二酸丁二醇酯-共-乳酸酯)，来自Nippon Shokubai(JP)的商品名为Lunare

的PES-聚丁二酸乙二醇酯；来自BASF(德国)的PBAT(聚己二酸-共-对苯二甲酸丁二醇酯)

系列，来自Novamont(意大利)的

(ex Eastar

1)。

用于本文所述涂层的示例市售热塑性淀粉基淀粉聚合物可包括：来自Novamont(IT)的Mater-

来自Plantic(AU)的

HP

R1、来自Biotec(德国)的BIOPLAST GF 106/02BIOPLAST GS 2189BIOPLAST WRAP 100BIOPLAST TPS、来自Limagrain(FR)的

BP、

C1xxx级(注射成型)C1001、C1201、C1203、

C2xxx级(热成型级)C2201、

C8xxx级(吹塑膜)：C8101C8201。

用于本文所述涂层的示例市售热塑性甲壳质基聚合物可从以下中获得：PrimexCorporation,冰岛(IS),Biopolymer Engineering,Inc.(USA),BiopolymerTechnologies,Inc.(USA),和CarboMer,Inc.(USA)。

用于本文所述的涂层的审查(Examiner)商品级聚乙烯醇(PVOH)可以包括：来自Nippon Synthetic Chemical Industry Co.Ltd(JP)的商品名为GOHSENOL EG系列：EG-05、EG-05P、EG-40和EG-40P的高纯度PVOH，来自Nippon Synthetic Chemical IndustryCo.Ltd(JP)的商品名为GOHSENAL系列：T330H、T-300、T-350的阴离子PVOH，也来自NipponSynthetic Chemical Industry Co.Ltd(JP)的商品名为ECOMATY系列：WO-320R WO-320N的亲水基团改性的PVOH,来自Nippon Synthetic Chemical Industry Co.Ltd(JP)的GOHSERAN系列下可获得的在其侧链上带有磺酸基(-SO3X基团)的改性PVOH以及GOHSEFIMER系列下可获得的低皂化亲水PVOH。来自Kuraray(JP)的

/Kuraray

Mowiflex

Exceval,Kuraray

K,Kuraray

L,Kuraray

LM和Kuraray

R。来自Air Products&Chemicals的

下的PVOH-共-增塑剂(聚亚烷氧基丙烯酸酯)。无定形PVOH，商品名称为Nichigo G-Polymer粉末类型：AZF8035W OKS-6026OKS-1011OKS-8041OKS-8049OKS-1028OKS-1027OKS-1109；颗粒类型：来自Nippon Gohsei(JP)的OKS-8049P OKS-8084P OKS-8042P。

在一个实施方案中，涂层可以包含蜡，包括石蜡、费托蜡、副产物聚乙烯蜡、高密度低分子量聚乙烯蜡、微晶蜡、植物蜡及其组合。

在一个实施方案中，涂层可以包括增粘树脂或增粘剂。增粘树脂或增粘剂可用于改进涂层的增粘、润湿和粘附特性。增粘树脂或增粘剂的示例可以包括：基于脂肪族或芳香族烃的低分子量聚合物、松香、松香酯、萜烯、苯乙烯或苯酚衍生物、苯乙烯化萜烯、萜烯酚醛树脂、脂肪族烃树脂、芳香族改性的脂肪族树脂、芳香族烃树脂、α-甲基苯乙烯树脂、氢化烃树脂和芳香族改性的烃树脂，或这些中的任意组合。该制剂可以包括稳定剂和抗氧化剂，以防止过早的粘度变化和可能导致设备停机的炭或凝胶形成。

在另一个实施方案中，涂层102、102-1、103C包含分散在聚合物膜基质中的一种或多种植物生长剂(PGA)。PGA可被配置成通过膜的降解或通过与液体介质或水接触时PGA从膜基质中浸出而释放。PGA的释放速率受生物降解速率和PGA从聚合物膜基质中的浸出速率控制。具有不同生物降解速率的聚合物膜可能具有不同的PGA释放速率，水溶性或PGA和PGA与聚合物的混溶性也影响PGA从膜基质中释放的速率。在一些实施方案中，PGA与促进PGA从膜基质中释放的表面活性剂一起施用。

在一些实施方案中，涂层102、102-1、103C包含与聚合物膜基质共混/混合的抗微生物剂或抗催熟剂。抗微生物剂或抗催熟剂可以以缓慢释放的方式通过聚合物膜释放。在一个实例中，填充有抗微生物剂的聚合物膜可以被涂覆到供人类消费的基质，例如水果和蔬菜上。

在一些实施方案中，涂层102、102-1、103C包含分散或溶解在聚合物基质中的药物活性成分(PAI)。可以通过热熔挤出将PAI混合在聚合物中，然后可以将热熔挤出的膜层施加到基质(例如药物剂型，如片剂、胶囊、囊片或软凝胶片剂/胶囊)的表面上。用于热熔挤出的聚合物膜可以由干颗粒形式的药物级聚合物制成，挤出成可热成型的膜。用于药物应用实例聚合物可以是非肠溶性聚合物、羟丙甲纤维素、羟乙基纤维素、羟乙基甲基纤维素、羧甲基纤维素钠、羟丙基纤维素、聚乙二醇、乙基纤维素。用于肠溶涂覆的聚合物可包括羟丙甲纤维素邻苯二甲酸酯、聚醋酸乙烯邻苯二酸酯、醋酸邻苯二甲酸纤维素、聚甲基丙烯酸酯和虫胶。

在一些实施方案中，涂层102、102-1、103C包括苯乙烯嵌段共聚物、聚烯烃(例如无定形和结晶聚烯烃，包括均匀且基本上线性的乙烯/α-烯烃互聚物)、乙烯的互聚物和共聚物，包括例如乙烯-醋酸乙烯酯、乙烯-醋酸乙烯酯乙烯-丙烯酸、乙烯-甲基丙烯酸、乙烯-丙烯酸甲酯、乙烯-丙烯酸乙酯和乙烯-丙烯酸正丁酯及其衍生物(例如结合至少两种共聚单体)、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚丙烯酸酯、聚醋酸乙烯酯、聚乳酸(polylactic acids)、聚乳酸(polylactides)、己内酯聚合物、聚(羟基丁酸酯/羟基戊酸酯)、聚乙烯醇、聚酯、共聚酯(例如可生物降解的共聚酯)、聚(氧化乙烯)聚醚酰胺、聚酯醚嵌段共聚物、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯吡咯烷酮-乙酸乙烯酯共聚物、聚醚噁唑啉、聚乙烯醚(例如聚乙烯甲基醚)、聚酰胺、聚氨酯、聚丙烯酰胺、聚酯及其组合和共混物。

在一些实施方案中，涂层102、102-1、103C可以包括预先层压在一起的多个聚合物膜层，以减少涂层在施加到本文所述的基质期间的收缩。

图2A图示了图1所示的涂覆的基质105的前体200。密封区域104包括从基质101表面延伸出去的涂层102的过量涂层103。如图所示，过量涂层103是涂层102的连续延伸，并且可以以任何角度(例如，通常垂直于基质101的表面，如图2A和2B所示)从基质101的表面延伸出去。在一个实施方案中，图2B所示的过量涂层103在转变成密封区域104之前可以具有大致圆柱形的形状。如下文关于生产涂覆的基质105的制造方法所述，过量的涂层103可以例如通过层压连接到基质101和/或主要部分102A。在一个实施方案中，密封区域104通过将涂层102的过量涂层103连接到与过量涂层103相邻的主要部分102A和/或基质101而形成。过量涂层103可以具有大致管状的形状，其边缘限定了涂层的开口103A。密封区域104可以通过熔化过量的涂层103并将其层压到涂层的主要部分102A和/或基质101上来形成。

图3-12图示了用于制造本文所述的涂覆的基质的示例系统300。系统300可以包括被配置成将基质101进料到接受器203中的进料装置(未示出),其中每个接受器203具有配对的基座。基座可以具有各种设计，例如图4所示的销301，图18-22中所示的基座409，图26中所示的基座203，图38中所示的基座2121。进料装置可以是用于将基质传送到系统300的接受器203的任何合适的装置。在一个示例中，进料装置可以是料斗和/或可以包括振动进料装置，该振动进料装置具有对齐通道，以向系统300的一个或多个接受器203进料基质101。接受器203可以限定用于接收基质101的腔203A。如图3和5所示，接受器203可以限定开口202，该开口202具有被配置成接收和容纳基质101的区域。每个基座可通过开口202相对于其配对的接受器203移动，并且每个基座被配置成具有延伸位置，在该延伸位置，基座延伸到其配对的接受器中以在基座上接合基质。在一个示例中，基座被配置成沿其纵轴平移穿过配对的接受器的开口202而没有水平位移，以接合基质101或从基质101脱离。接受器203可以具有凸起的边缘201，该边缘201在接受器的外围201限定了用于接收涂层的横向表面。第一涂覆装置401，例如聚合物膜挤出机，可以被配置成将涂层102施加到接受器203上。如图7所示，在将涂层102施加到接受器203之前，基质101可以接收在接受器203中。可以提供偏置装置，该偏置装置被配置成围绕基质和基座的一部分偏置聚合物涂层。如图8所示，在一个示例中，偏置装置可以是真空泵，其被配置成施加真空压力(如线A所示),从而围绕基质101和基座的一部分拉动涂层102。在一个示例中，真空抽吸气流可以保持以(取决于聚合物膜的厚度)20立方英尺每分钟(CFM)至200CFM(ft3/min)通过开口202。在另一个示例中，偏置装置也可以是气泵，其被配置成施加压力以围绕基质101和基座的一部分偏置涂层102。一旦涂层102围绕基质101和基座的一部分包裹，基座可以从其对应的接受器203中撤回，使基座与基质101和涂层102脱离，以形成具有尾部103的涂覆的基质。当基座从接受器203中撤回时，基质101可以脱离基座，导致基质101与限定开口202的接受器203的一部分接合。图9图示了处于撤回位置的示例基座，即销301，以将基座从基质101和聚合物涂层102脱离，从而形成具有尾部103的涂覆的基质。在基座从基质101中撤回后，形成前体200，且尾部103可以密封到聚合物涂层102和/或基质101上，以包封基质并形成涂覆的基质。如图8所示，可以再定位前体200，以使前体200的尾部103面向密封系统，该密封系统被配置成将尾部密封到聚合物涂层102和/或基质101上。在一个示例中，如图8所示，密封系统可以包括加热装置404，其熔化尾部103，使得尾部103的聚合物融合在一起，并形成密封区域104。密封系统还可以包括用于挤压层压尾部103的辊403。然后产生图1所示的涂覆的基质105，其具有被涂层102包封的基质101和不同的密封区域104。

图4和图5图示了包括加热的销系统304的示例系统300。如图所示，接受器203可以限定用于容纳加热的销系统304的第二腔305。在基质101被接收在接受器203的腔203A中之后，被加热的销系统304可以相对于接受器203朝向基质101移动。销301可以被加热元件302加热到期望的温度，例如50℃至700℃范围内的温度。在一个实施方案中，销301的期望温度高于基质101的熔点。在另一个实施方案中，销301的尖端301A处于高于基质熔点的温度，以熔化基质的表面。加热的销301的尖端301A可以接触基质101，以通过点熔化基质101的小区域将销301粘附到基质101。销301可以冷却到低于基质101的熔点，使得销301的尖端301A嵌入基质101中，以将基质101固定到销301，使得销301可以单独支撑在销301上。在一个实施方案中，加热元件302可以被配置成向销301提供能量，该能量根据基质101的熔化温度从10瓦/平方英寸至100瓦/平方英寸的范围中选择。销301可以由任何可用的商业级的不锈钢、铜、青铜或其他高导热性材料制成。销301也可以用例如PTFE或这样的材料的不粘涂层处理，并且可以在远端具有尖锐的尖端301A，其厚度/直径通常小于销301的厚度/直径。在一个实施方案中，销301可以具有0.01mm至5mm范围内的直径。销301的直径可以通过基质的尺寸和基质的重量来选择。选定的销直径可以基于能够承受基质101的重量和真空下拉动涂层102的最小厚度。在一个实例中，对于直径为1mm至8mm的基质，可以使用直径为0.2mm至0.5mm的销。本公开还设想了其他销直径。

继续上述示例，容纳在腔305中的加热系统304包括加热元件302和绝缘材料303，以最小化热损失和对系统300的其他元件的潜在损坏。销301可以直接连接到加热元件302，并由加热元件302加热。加热元件302可以连接到控制加热元件温度的外部控制器(未示出)。加热系统304也可以被配置成在腔305内沿其纵轴垂直移动，以移动通过开口202或从开口202中撤回，而没有水平位移。固定在销301上的基质101可以从接受器203移开一段距离，以便为涂层102提供间隙，从而围绕基质101和销301的一部分包裹。涂覆装置401可以将涂层102施加到基质101和接受器203的凸起边缘201上，如图7和8所示。在一个实施方案中，涂覆装置401可以是挤出涂覆机、狭缝式挤压涂覆机、熔融喷涂机、幕涂机、静电涂覆机、热薄膜层压涂覆机、UV或电子束固化涂覆机。涂覆装置401也可以是热成型系统，在改进的热成型系统中，用合适的加热系统加热聚合物膜102以软化聚合物膜，使得它可以容易地热成型，合适的加热系统可以是加热的圆柱辊、热空气滚筒风机加热器、红外加热系统，或者可以使用其它热源，然后将软化的膜施加到基质和接受器上。可以通过开口202使用真空抽吸将涂层102围绕基质101拉动(如图8中的线A所示)，或者通过使用气泵将涂层102围绕基质101推动(如图9中的线B所示)。向涂层102施加真空或空气压力可以使涂层102从接受器203的凸起边缘201脱离，从而基本上包封基质101和基座的一部分，例如图9所示的销301。加热的销系统304然后可以通过沿着其垂直轴向下移动而从腔203A中撤回，以产生前体200。前体200可以转移到另一个表面，例如图16所示的辊表面501A，以暴露尾部103。加热装置，例如图11和16中所示的加热装置404，可以熔化尾部103以包封基质101，因为尾部103与自身和/或涂层102熔化融合，以提供密封区域104并形成涂覆的基质105。也可以提供辊，例如缓冲辊403，以将尾部103与其自身和/或涂层102挤压并层压在一起，以产生涂覆的基质105(图1和12),该基质105具有被涂层102包封的基质101和明显的密封点104。

图17图示了涂覆装置401的实施方案。如图所示，加热的销系统304包括覆盖有电绝缘材料例如绝缘胶带的销301，尖端301A保持未覆盖，并且加热的销系统304连接到接地站(未示出)。接受器203可以由电中性材料制成。当基质101由销301支撑时，其可以在静电涂覆或喷涂站401A下通过，并且将涂覆组合物喷涂到基质101上，以在基质101的暴露表面和销301的一部分上形成涂层102。可以使用任何市售的静电涂层材料。取决于用于形成前体200的聚合物的性质(例如，干的或基于溶剂的)，涂层102可以被干燥或冷却。此后，可以用如上所述的加热装置和/或辊处理前体200，以产生涂覆的基质105。

图13和14图示了用于制造涂覆的基质的系统300的示例。如图所示，系统300可以包括多个接受器203，每个接受器具有配对基座，例如销301。每个接受器203可以彼此相邻布置，用于将基质101接收到每个接受器中。图14图示了三个接受器；然而，可以提供多个接受器203。如上所述，每个接受器具有相对于其配对接受器203可移动的配对基座，例如销301。在图示的实施方案中，每个销301可以连接到加热系统304，该加热系统304包括基座303a、加热元件302和绝缘材料303。基座302a可以被配置成相对于接受器203移动，以将销301沿着它们的纵轴平移穿过接受器的相应开口202。基质101可被供进料到多个接受器203中的每一个，并由如上所述的系统300涂覆，以提供多个涂覆的基质105。

图15和16图示了包括用于制造涂覆的基质的系统300的示例装置601。装置601包括结合到旋转滚筒501中的上述系统300。更具体地，系统300围绕旋转滚筒501定位。进料装置105，例如振动进料装置，将多个基质101分别进料到围绕滚筒501的圆周定位的多个接受器203。多个接受器203中的每一个可以在基质101经过进料装置105时接收基质101。在图示的实施方案中，滚筒501可以装配有真空箱204，以通过接受器203中的开口202抽真空。腔305和203A(在图3中更好地示出)通过开口202连接，通过该开口可以抽真空。真空压力可以根据待施加到每个基质101上的聚合物膜的厚度及其在聚合物的加热或塑化下的拉伸行为来调节。当每个接受器203旋转经过进料装置105时，真空箱204可以将基质101吸入接受器中。每个接受器203可以在滚筒501的外周表面上彼此相距固定距离，并且每个接受器203具有配对的基座，例如如图3、4和5所示的容纳在腔305中的加热销的系统304的销301。腔305(在图3和5中更好地示出)容纳加热系统304(在图4中更好地示出)。如上所述，加热系统304可以使用尖端301A将熔体点在基质101的表面上。加热销系统304可以连接到外部控制器(未示出)以控制加热销301的温度和时间，以及销相对于接受器203的运动。

加热系统304被配置成沿其纵轴平移，使得销301移动穿过开口202进入接受器203的腔203A，以接合销301的尖端301A，使其与基质101的表面接触。尖端301A可以熔化基质101表面的小点，以将尖端301A嵌入基质101中。在尖端301A被嵌入之后，在销301和基质101接触时，温度降低，导致点熔化区域冷却，以将尖端301A连接到基质101的表面。销301可将基质301升高离接受器203一段距离，以允许施加涂层以基本上包封基质101和销301的一部分。滚筒501可以连续旋转以将基质101移动到涂覆装置401，例如聚合物膜挤出机、狭缝式涂布机、熔融喷涂机、帘式涂布机、静电涂布机、热膜层压涂布机或UV或电子束固化涂布机，其被配置成将涂层102涂覆到接受器203和其中的基质上。涂层102是真空形成的，以覆盖基质101的大部分表面区域和销301的一部分，产生前体200。滚筒501可以继续旋转，直到接受器203不再与真空箱204连通。销301可以通过开口202撤回，以使前体200脱离销301。在一个实例中，当前体200位于滚筒602的接受器203b上方时，销301被撤回，从而允许前体200落入围绕滚筒602表面定位的多个接受器203b之一中。滚筒501a可以包括真空箱205，以用真空将前体200保持在配对接受器203b中。密封系统405可以包括加热装置404，其被配置成熔化前体200的尾部103，导致尾部103的聚合物融合在一起并形成密封区域104。密封系统405还可以包括用于层压尾部103的辊403。然后，涂覆的基质105可被旋转至收集装置206，在该处，接受器203b不再与真空箱205连通，从而允许涂覆的基质105脱离并转移至收集装置206。

图18-23图示了用于制造本文所述的涂覆的基质，例如前体200和涂覆的基质105的示例系统700。系统700可以包括被配置成将基质101进料到接受器703中的进料装置(未示出),其中每个接受器703具有配对的基座。如上所述，基座可以具有各种设计。如图18-20所示，基座709限定了基座709内延伸至平台720(被配置成接收基质101)的通道712。接受器703可以具有宽度/直径X-X和深度Y-Y，其被配置成接收基质101并允许基座709与基质101接合。开口722可以具有宽度/直径Z-Z，其被配置成允许基座709平移穿过开口722，同时防止基质101穿过开口722。当被涂层702部分涂覆时，宽度/直径Z-Z也可以允许基座709的间隙。接受器703的直径X-X通常可以保持为基质101直径的两倍。进料装置可以是用于将基质传送到系统700的接受器703的任何合适的装置。如上所述，在一个示例中，进料装置可以是料斗和/或可以包括振动进料装置，该振动进料装置具有对齐通道，以向系统700的一个或多个接受器703进料基质101。接受器703可以限定用于接收基质101的腔703A。如图3和5所示，接受器703可以限定开口722，该开口202具有被配置成接收和容纳基质101的区域。每个基座可通过开口722相对于其配对的接受器703移动，并且每个基座被配置成具有延伸位置，在该延伸位置，基座延伸到其配对的接受器中以在基座上接合基质。在一个示例中，基座被配置成沿其纵轴平移穿过配对接受器的开口722而没有水平位移，以接合基质101或从基质101脱离。在其延伸位置，基座709可以在平台720上接收基质101。真空压力可以通过通道712提供吸力，以拉动基质101与平台720接合和/或保持接合。通道712可以具有宽度/直径C-C，其被配置成提供用于将基质101固定到平台720的吸力。接受器703可以在接受器703的外围具有凸起的边缘701，用于接收涂层。第一涂覆装置，例如聚合物膜挤出机741，可以被配置成将涂层702施加到接受器703上。如图20所示，在将涂层702施加到接受器203之前，基质101可以接收在接受器203中。在将基座709延伸到腔703A之前或者在基座709延伸到腔703A中之后，接受器203可以接收基质101。

图21图示了在涂层102被施加到接受器703和基质101之后的系统700。可以提供偏置装置，该偏置装置被配置成围绕基质和基座的一部分偏置聚合物涂层。在一个示例中，如图22所示，偏置装置可以是真空泵，其被配置成施加真空压力(如图21中的线A所示)，围绕基质101和基座的一部分拉动涂层702以形成前体200。在一个示例中，真空抽吸气流可以保持以20立方英尺每分钟(CFM)至200CFM(ft3/min)通过开口722。在另一个示例中，偏置装置也可以是气泵，其被配置成施加压力(如图21中的线B所示)以围绕基质101和基座的一部分偏置涂层102。

在图19-23所示的实施方案中，系统700包括具有用于加热涂层702的接受器加热系统717的接收器703。如图所示，接受器加热系统717可以定位于腔703A的边缘701上，加热系统717可以加热熔化涂层702，以在偏置装置的偏置下与边缘701分离。例如，偏置装置可以通过开口722真空拉动热熔化/软化的膜702，以包封基质101和基座709的一部分。在一个示例中，接受器加热系统717可以是围绕边缘701的加热线圈。在示例中，根据涂层702的热熔特性，接受器加热系统717可以将温度保持在50℃至300℃，或60℃至200℃，或100℃至200℃。

继续上述的示例,一旦涂层702围绕基质101和基座709的一部分包裹，基座可以从其对应的接受器703中撤回，使基座与基质101和聚合物涂层702脱离，以形成具有尾部703的涂覆的基质。当基座从接受器703中撤回时，基质101可以脱离基座，导致基质101与限定开口722的接受器703的一部分接合。图23示出了处于从基质101和聚合物涂层102中脱离以形成具有尾部103的涂覆的基质的撤回位置的示例基座。在基座从基质101中撤回后，形成前体200，且尾部103可以密封到聚合物涂层102和/或基质101上，以包封基质并形成涂覆的基质。如上文参考图8所述，可以重新定位前体200，以将前体200的尾部103定向为面向密封系统，该密封系统被配置成将尾部密封到聚合物涂层102和/或基质101上，以形成具有密封区域104的涂覆的基质105。

如上所述，根据基质，接受器和配对基座可以具有不同的尺寸。在一个示例中，基质101可以是NPK(15-15-15)肥料片剂，其通过市售的压片机(TDP-5)制备，以提供直径为10mm、厚度为8mm的尿素片剂。接受器203、703可以具有以下尺寸：接受器的宽度/直径X-X为25mm；深度Y-Y为20mm；基座的宽度/直径W-W为5mm；通道的宽度/直径C-C为2mm；基座距离接受器底部的深度H-H为18mm；接受器开口的直径Z-Z为10mm。使用25微米的市售聚乳酸(PLA)膜的聚合物膜进行涂覆，通过高置(overhead)加热器加热该膜，使其足够软化，从而它可以热成型，通过接受器中的开口施加真空抽吸，并且PLA膜涂覆肥料片剂并覆盖相当大的表面积，还产生直径为5mm(大约)和长度为8mm的管状过量的膜。通过加热装置加热过量的膜，以将过量的膜焊接到涂层以及保持未涂覆的肥料表面上，从而将肥料片剂包封在涂层和焊点(即密封区域)之间。这产生了完全涂覆的基质105(如图1所示)，涂覆的肥料片剂105的平均涂覆重量为涂覆的片剂总重量的约2％。

图24图示了包括用于制造涂覆的基质的系统700的示例装置901。装置901包括结合到旋转滚筒901中的上述系统700。更具体地，系统700围绕旋转滚筒901定位。进料装置705，例如振动进料装置，将多个基质101分别进料到围绕滚筒901的圆周定位的多个接受器703。多个接受器703中的每一个可以在基质101经过进料装置705时接收基质101。在图示的实施方案中，滚筒901可以装配有真空箱904，以通过接受器703中的开口722抽真空。腔703A(在图18中更好地示出)和真空箱904通过开口722和通道712相连，通过开口722和通道712可以进行真空抽吸。真空压力可以根据待施加到每个基质101上的聚合物膜的厚度及其在聚合物的加热或塑化下的拉伸行为来调节。当每个接受器703旋转经过进料装置705时，真空箱904可以将基质101吸入接受器中。每个接受器703可以在滚筒901的外周表面上彼此相距固定距离，并且如图18-23所示每个接受器703具有配对的基座。当涂层102被施加到基质101时，通过通道712的真空压力可以将基质保持在基座709的平台上。

基座709被配置成沿其纵轴平移通过开口202进入接受器703的腔703A，以接合基质101。基座709可将基质709升高离接受器703一段距离，以允许施加涂层以基本上包封基质101和基座301的一部分。滚筒901可以连续旋转以移动基质101，从而从涂覆装置401接收聚合物，该涂覆装置401被配置成将涂层102施加到接受器703和其中的基质上。

在一个实施方案中，涂层702在第一膜表面处理站730下通过，在那里将表面处理施加到涂层702的第一表面702a上，此后涂层702可以通过第二表面处理站731，在那里将第二表面处理施加到涂层702的第二表面702b上，此后涂层702可以在第三膜表面处理站732下通过，在那里可以施加进一步的处理。膜表面处理站是任选的，并且根据涂覆的基质105的要求，可以有更多或更少的表面处理站。表面处理站可以是涂覆站、加热站和/或加湿站。

继续上面关于图24的示例，涂层702是真空形成的，以覆盖基质101的大部分表面区域和基座709的一部分，产生前体200。滚筒901可以继续旋转，直到接受器703不再与真空箱904连通。基座709可以通过开口722撤回，以使前体200脱离基座709。在一个示例中，当前体200位于滚筒902的接受器703b上方时，基座709被撤回，从而允许前体200落入围绕滚筒902表面定位的多个接受器703b之一中。滚筒902可以包括真空箱905，以用真空将前体200保持在配对接受器703b中。密封系统907可以包括加热装置904，其被配置成熔化前体200的尾部103，导致尾部103的聚合物融合在一起并形成密封区域104。密封系统907还可以包括用于层压尾部103的辊906。然后，涂覆的基质105可被旋转至收集装置706，在该处，接受器703b不再与真空箱905连通，从而允许涂覆的基质105脱离并转移至收集装置706。

图25图示了包括用于制造涂覆的基质的系统700的示例装置1000。装置1000包括双板传送带系统1507，该系统包括腔板1200b和平台板1200a，这将在下面详细描述。装置还可以包括聚合物膜退卷机1508，以将用于涂层102的聚合物膜进料到板系统1207。用于涂层1的聚合物膜可以在加热系统1501下通过，以在施加到板系统1207的接受器703之前加热软化该膜。真空箱1505可以通过开口1205和通道712(如图26所示，如下所述)向板系统1207的接受器703提供真空抽吸。如下面参照图31所述，真空抽吸可以将涂层103C拉到基座709上。接受器703周围的过量聚合物可以通过膜收集单元1502从板系统1207的表面收集。膜收集单元可以包括刮刀或弱真空源，以收集容器703之间的残余膜。如下面参照图33所述，进料装置1503，例如振动进料装置，将多个基质101进料到的板系统1207的多个接受器703。进料装置可以包括多个通道，每个通道与配对的接受器703对齐，以将基质101进料到每个接受器703。如下面参考图33所述，退卷机1508可以向板系统1207提供用于涂层102-1的聚合物膜。用于涂层102-1的聚合物膜可以在加热系统1504下通过，以在施加到基质101和板系统1207的接受器703之前加热软化该膜。如下面参考图33-34所述，真空箱1506可以通过真空压力将涂层102-1围绕基质101和基座709的一部分拉动，并形成图35所示的前体200B。密封系统1511然后可以热收缩或密封重叠的尾部103和涂层103C，以形成图36所示的涂覆基质105B。涂覆基质105B然后可以被收集在收集系统510，例如容器中。

图26和27分别图示了示例平台板1200a和腔板1200b。腔板1200b包括多个接受器703，接受器703可以例如通过CNC加工系统加工到板1200b中。平台板1200a可以包括用于接合基质101的基座709。基座709可以包括用于接合基质101的在顶面上的平台1204。顶面上的平台1204可以包括通道712，通过该通道可以抽取真空压力。平台1204可以具有大致凹形的形状，以保持基质101。基座709还可以包括一个或多个真空抽吸孔1205，其围绕基座709的圆周定位，以使用真空压力将聚合物膜102-1和103C拉向基座709。在一个示例中，平台1204的直径小于或等于基质101的直径。如图30和31所示，平台板1200a定位在腔板1200b下方，使得每个基座709与对应的开口202对准，以允许基座709在延伸位置之间平移通过开口。

图28图示了示例平台板1200a的剖面图。平台板1200a包括至少一个偏置构件1206，例如弹簧，以对腔板1200b施加偏置力。在一个实施方案中，偏置构件是垂直于板1200a定向的缓冲弹簧。真空抽吸孔1205以虚线示出，以示出真空压力通过板1200a的流动路径。如图所示，真空抽吸孔可以沿着基座709长度的50％以上延伸。在一个实施方案中，真空抽吸孔可以基本延伸到平台1204。

图29图示了示例腔板1200b的剖面图。当腔板1200b位于平台板1200a的顶部时，基座709可以通过开口202延伸到腔703A中。基座709被配置成沿其纵轴平移通过开口202进入接受器703的腔703A，以接合基质101。如上所述，腔703A的尺寸可以接收基质101，并且可以在接受器703的外围具有凸起的边缘701，用于接收涂层。在图20所示的示例中，在将涂层施加到接受器703之前，基质101可以被接收在接受器703中。在另一个示例中，在接收基质101之前，可以接受器703和/或基座709提供涂层。如上所述，在将基座709延伸到腔703A之前或者在基座709延伸到腔703A中之后，接受器703可以接收基质101。

图30图示了定位在平台板1200a上的示例腔板1200b的剖面图。腔板1200b可以位于偏置构件1206上，从而对腔板提供偏置力。传送带系统1507可以包括致动器2130，以使腔板1200b和平台板1200a彼此相向或相背移动。致动器2130可以包括表面，该表面被定位成当传送带系统旋转腔板1200b和平台板1200b以与该表面接触时，克服偏置构件1206的力而将腔板1200a朝向平台板1200b偏置。基座709延伸穿过开口202进入腔703A。共同板系统1207包括腔板1200b、平台板1200a和基座709。如图25所示，多个重叠的腔板和平台板(即板系统1207)可在传送机上彼此连接，以产生连续的平坦表面。当腔板1200b克服由偏置构件1206施加的偏置力朝向平台板1200a移动时，基座709可以沿着其纵向轴线相对于腔板1200b移动通过开口202进入其延伸位置。当由偏置构件1206施加的偏置力克服施加到腔板1200b的相反力时，基座709可以移动到其撤回位置。

图31示出了正被涂层103C的聚合物膜涂覆的定位于图30所示的平台板1200a上的示例腔板1200b的剖面图。在基座709接收基质101之前，涂层103C可以施加到基座709上。涂层103C包括可被加热元件1501加热软化的聚合物膜。如图32所示，然后例如通过开口1205的真空抽吸将加热软化的涂层103C围绕基座709拉动，可以在基座709周围形成涂层103C。在另一个实施方案中，涂层103C包括辊上的熔融聚合物，该熔融聚合物被施加到基座709上，当冷却时在基座709上形成层。在另一个实施方案中，涂层103C可以包括通过将聚合物膜施加到前面的聚合物膜层上以形成多层聚合物膜的多个涂层。在一个示例中，涂层103C包括共挤出的聚合物膜或乳胶涂覆膜。

图32示出了定位在图30所示的平台板1200a上的示例腔板1200b在其被涂层部分涂覆之后的剖面图。如图所示，涂层103C可以覆盖平台1204，并且包括在基座709的径向表面上延伸的过量部分103C。

图33图示了定位于图30所示的平台板1200a上的示例腔板1200b在被涂层部分涂覆并接收了基质之后的剖面图。如图所示，基质101由例如在平台1204上的基座709接收，该平台1204预先被涂层103C涂覆。根据上述本公开，涂层102-1可以施加到基质上。在一个示例中，加热元件1504可以加热软化涂层102-1，以热成型到基质101和基座709上。在施加到基质之前，涂层102-1的表面温度可以保持在50℃至200℃。涂层102-1的表面温度不应该损坏基质101。如上所述，涂层102-1可以包括过量的聚合物膜以重叠基座709。在图示的实施方案中，如图34所示，涂层102-1具有尾部103，该尾部103与在基座709的径向表面上延伸的过量部分103C重叠。

图34图示了具有定位在基座上的前体200B的定位在图30所示的平台板1200a上的示例腔板1200b的剖面图。基座709可以移动到其撤回位置，以从基座709中移走前体200B。如图所示，基质101被涂层102-1、103C包封。在撤回基座709之后，重叠尾部103和过量部分103C可以密封到聚合物涂层102-1和/或基质101上。在一个示例中，密封系统1511可以加热熔化重叠尾部103和过量部分103C，以将它们融合在一起，并形成图36所示的密封区域104B。当过量部分103C和尾部103热收缩时，形成涂覆的基质105B。密封系统1511还可以包括辊(未示出),以将尾部103和过量部分103C层压到涂层102-1上。

图35图示了涂覆的基质的前体200B。前体200B类似于图2A和2B所示的前体；然而，尾部包括包含过量部分103C的涂层103C。如图35所示，前体200B的基质101被聚合物膜包封。图36中所示的示例涂覆的基质105B可以通过加热熔化涂层102-1的尾部103和过量部分103C以塌陷并形成连接到密封区域104B的增强涂层108来形成。如图36所示，增强涂层108包封基质101的一部分，并且具有连接到涂层102-1和密封区域104B的边缘。

图37图示了用于制造本文所述的涂覆的基质的系统2000的示例腔板的等距视图。虚线表示从视图中隐藏的边缘，实线表示可见的边缘。示例系统2000包括与上述示例系统300和700相似的特征。系统2000可以包括被配置成将基质101进料到具有配对基座2121(图38所示)的接受器2111中的进料装置(未示出)。多个接受器2111可以设置在腔板2118的表面上。接受器2111可以限定用于接收基质101的腔2111A。如图37所示，接受器2111可以设置在涂层板2118中。接受器2111可以限定开口2117且每个基座可通过开口2117相对于其配对接受器2111移动，并且每个基座被配置成具有延伸位置，在该延伸位置，基座延伸到其配对接受器中以在基座上接合基质。每个基座2121具有从腔2111A中撤回的撤回位置。在一个示例中，基座被配置成沿其纵轴平移穿过配对接受器的开口2117而没有水平位移，以接合基质101或从基质101脱离。接受器2111可以在接受器2111的外围具有边缘2112，用于接收涂层。

在一个实施方案中，接受器2111包括一个或多个脱离构件2119。脱离构件2119可以固定到接受器2111，并在每个构件之间限定一个容积，基座2121的构件2121B通过该容积平移。如图40、42、43所示，脱离构件2119可以与开口2117重叠，基座构件通过该开口2117平移。当前体200或200B定位于基座2121上，并且基座2121移动其撤回位置时，脱离构件2119在垂直于基座2121移动的方向上推动前体200的尾部103，或者重叠尾部103和前体200B的过量部分103C，这可以使前体200或200B从基座2121上脱离。

在一个实施方案中，具有一个或多个接受器2111的腔板2118可以使用工业加工或铣削工具，例如计算机数控(CNC)或立式加工中心(VMC)机器，形成具有期望的尺寸。接受器2111的尺寸可以基于将用于涂覆的基质的尺寸。在一个示例中，直径为3mm的基质可以被提供给直径为6mm、深度为3mm的接受器。

继续上面的示例，基质101可以被提供给接受器2111。在一个实施方案中，可以向图37所示的每个接受器2111提供基质。可以通过真空压力或重力将每个基质拉入接受器2111中。此后，包括聚合物膜的涂层200可以施加在基质101上。然后，涂层200在切割工具2145(例如旋转模切机)下通过，其中切割刀片2147的尖端2149围绕腔111的边缘切割膜200(如图48所示)，以提供足以包封基质101整个表面的涂层。可以通过接受器2111中的开口2117由真空抽吸将涂层200拉到基质101表面上并围绕基质101。真空抽吸用涂层200涂覆基质101的大部分表面区域，并且还围绕基座2121(基质101位于其上)的一部分包裹，产生过量的膜或尾部1202(如图49所示)，即前体200。然后，通过从接受器2111中撤回基座2121，将具有尾部1202的涂覆的基质100从基座2121上脱离。

图38图示了系统2000的示例平台板2200的等距视图。如图所示，平台板2200包括一个或多个基座2121，基座2121包括多个构件2121B，每个构件2121B具有限定平面XYZ的表面，以形成用于接收基质101的平台2121A。在一个实施方案中，每个构件2121B的用于接收基质101的表面可以是凹形的。当从上方观察时，每个构件2121B可以平行并呈三角形图案定位。在一个实施方案中，当沿着构件2121B的纵向轴观察时，基座2121的构件2121B与脱离构件2119间隔开。如图所示，每个构件2121B被图示为销。虽然示出了三角形图案，但是可以使用许多其他图案，例如四边形图案、六边形图案。基座2121及其形成平台2121A的构件2121B可以大致定位在开口2117内。基座2121和平台2121A可以通过腔的开口2117沿着基座2121的纵轴移动。在一个实施方案中，基座2121的构件2121B可以在脱离构件2119之间移动和/或经过脱离构件2119。基座2121的移动可以由控制器控制，该控制器可以使用例如致动器2130控制基座2121相对于接受器2111的相对位置。在一个示例中，基座2121位于平台板2200上，平台板2200定位于腔板2118下方，允许一个或多个基座2121平移通过腔板2118的配对开口2117。当腔板2118和平台板2200相对于彼此移动时，当腔板2118和平台板2200彼此相向移动时，每个基座2121可以同时移动到基座在接受器2111中的延伸位置，或者当腔板2118和平台板2200彼此相背移动时，每个基座2121可以同时移动到其撤回位置。平台板2200可以限定通常定位于构件2121B中心的真空开口2125，每个开口2125被配置成从真空压力源向接受器2111提供真空压力。

图39图示了腔板2118与平台板2200重叠的等距视图。基座2121处于用于接收基质101的延伸位置。基座2121的每个构件2121定位于脱离构件2119之间。腔板2118可以通过任何方式例如致动器2130、偏压构件2206相对于平台板2200移动。致动器2130可以包括传送带系统(例如系统1507)，该传送带系统具有定位成在传送带系统旋转腔板2118和平台板以与表面接触时克服偏置构件2206的力将腔板2118朝向平台板2200偏置的表面。基座2121延伸通过开口2117进入腔2111A。当腔，例如当板2118朝向平台板2200移动时，基座2121可通过开口2117沿其纵向轴相对于腔板2118移动进入其延伸位置。当基座2121通过开口2117撤回时，例如当腔板2118远离平台板2200移动时，基座2121可以移动到其撤回位置，反之亦然。

图40是根据本公开的示例接受器和脱离构件的俯视图。如图所示，接受器2111限定开口2117，基座2121可以通过该开口平移。脱离构件2119，例如图40中所示的三个，布置成与开口2117重叠。脱离构件由金属、塑料、橡胶或任何其他合适的材料制成。在一个实施方案中，脱离构件是配置成在高温下操作的橡胶材料，例如硅橡胶。

图41图示了沿着图40中的线AA-AA的示例接受器和基座的剖面图。脱离构件2121B包括接合前体200的尾部103或重叠尾部103和前体200B的过量部分103C的表面，当基座2121移动到其撤回位置时施加法向力，导致前体200或200B从基座2121脱离。

图42图示了根据本公开的另一示例接受器和脱离构件的俯视图。如图所示，接受器2111限定开口2117，基座2121可以通过该开口平移。脱离构件2119A布置成重叠并延伸穿过开口2117的直径。

图43图示了根据本公开的另一示例接受器和基座。如图所示，接受器2111限定开口2117，基座2121可以通过该开口平移。脱离构件2119B布置成重叠并延伸穿过开口2117的一部分。

图44图示了图38的平台板2200的剖面图，其具有围绕由板2200限定的开口2125定位的基座2121的构件2121B。偏置构件2206，例如弹簧，可以向腔板2118施加偏置力，以将基座2121移动到撤回位置。

图45图示了图39中所示的腔板2118与平台板2200重叠的一部分的剖面图。如图46所示，基座2121的基座构件2121B处于延伸位置，在该位置构件2121B延伸通过开口2117并在脱离构件2119之间，以在平台2121A上接收基质101。偏置构件2206可以处于第一位置，在该位置偏置构件2206的偏置力小于将平台板2200和腔板2118压缩在一起的力。开口2117和2125可以对齐，以允许真空压力源(未示出)通过对齐的开口抽真空。

图47图示了图39中所示的腔板2118与平台板2200重叠的一部分的剖面图，其具有设置在基座2121上的涂覆有涂层102的基质101。如本文所述，涂层102可以通过涂覆装置，例如聚合物膜挤出机，施加到基质101上。

图48图示了图45和47中所示的腔板2118与平台板2200重叠的一部分的剖面图，其具有设置在基座2121上的涂覆有涂层102的基质101以及切割工具2145。切割工具2145可以是配置成从涂层102切割出期望形状的旋转模切工具。在一个示例中，切割工具2145可以具有与接受器2111的边缘匹配的尺寸。接受器可以在接受器2111的外围具有表面2701，用于接收涂层102。切割工具2145可以是传送带系统或辊的一部分，其中切割刀片2147的尖端2149可以定位成在接受器2111的表面2701处切割涂层102。切割工具2145图示为在接受器2111的相对侧切割涂层102；然而，切割工具2145将在表面2701上在接受器2111的边缘处或邻近其切割涂层102。尖端2149可以将涂层102压靠在表面2701上，并且从涂层200上切割出一个形状来匹配接受器2111的形状。通过开口2117和2125的真空抽吸可以围绕基质101拉动涂层200，并包裹基质100和基座2121的构件2121B的一部分。在一个实施方案中，切割工具2145具有与每个接受器2111的形状相匹配的切割刀片网格，这些切割刀片网格以网格状图案布置。在一个示例中，板2118的六边形接受器2111可以在切割工具2145的表面上，例如在旋转模切机的表面上具有六边形的刀片位置，其中尖端2149面向接受器2111的表面2701。

图49图示了图45和47中所示的腔板2118与平台板2200重叠的一部分的剖面图，其具有设置在基座2121上的前体200。如本文所述，通过围绕基质101和基座2121的一部分真空抽吸涂层102，可以在基座2121上形成前体200。前体200的尾部103围绕基座2121的边缘的一部分与基座200接合。前体200可通过将基座从延伸位置移动到撤回位置而与基座2121脱离。

图50图示了图47中所示的腔板2118与平台板2200重叠的一部分的剖面图，其具有与基座2121脱离的前体200。通过将基座2121从其延伸位置移动到图50所示的撤回位置，前体200可以从基座2121脱离。当基座2121平移通过脱离构件2119之间的开口2117时，前体200沿着基座2121的纵向轴朝向脱离构件2117移动。当尾部103邻接脱离构件2119时，随着基座2121移动通过开口2117，前体200可以从基座200脱离。脱离构件2119可以折叠尾部103的至少一部分。一旦从基座2121脱离，前体200的尾部103可被热熔化以形成密封区域104并产生涂覆的基质105。

图51是图2A所示前体200的示例尾部的透视剖视图。如本文所述，示例尾部202A是涂层102的连续延伸，并且可以以任何角度(例如，通常垂直于基质101的表面)从基质101的表面延伸出去。尾部202A具有大致十字形的横截面，其可以由四构件的基座通过将四个构件2121B定位在由十字形的四个臂形成的四个直角的四个顶点处而形成。然后可以使用本文关于图37-50描述的系统和方法来产生具有尾部202A的前体200。

图52是图2A所示前体200的示例尾部的透视剖视图。如本文所述，示例尾部202B是涂层102的连续延伸，并且可以以任何角度(例如，通常垂直于基质101的表面)从基质101的表面延伸出去。尾部202B具有大致三角形的横截面，该横截面可以由三构件的基座通过在三角形的三个顶点处定向三个构件2121B而形成。然后可以使用本文关于图37-50描述的系统和方法来产生具有尾部202A的前体200。

图53是图2A所示前体200的示例尾部的透视剖视图。如本文所述，示例尾部202C是涂层102的连续延伸，并且可以以任何角度(例如，通常垂直于基质101的表面)从基质101的表面延伸出去。尾部202C具有大致圆柱形的横截面，其可以通过将多个构件2121B定向成圆形图案而形成。在另一个示例中，可以使用单构件的基座。然后可以使用本文关于图37-50描述的系统和方法来产生具有尾部202B的前体200。

图54是图1所示的涂覆的基质的示例密封区域的局部视图。如图所示，在一个示例中，密封区域104可具有大致十字形的密封点217A。当外部热量施加到图51所示的尾部202A以使其熔化融合时，可以形成十字形密封点217A。

图55是图1所示的涂覆的基质的示例密封区域的局部视图。如图所示，在一个示例中，密封区域104可具有大致Y形的密封点217B。当外部热量施加到图52所示的尾部202B以使其熔化融合时，可以形成Y形密封点217B。

图56是图1所示的涂覆的基质的示例密封区域的局部视图。如图所示，在一个示例中，密封区域104可具有大致圆形的密封点217C。当外部热量施加到图51所示的尾部202C以使其熔化融合时，可以形成圆形密封点217C。

密封点217A、217B和217C可以具有与涂层102的部分102A不同的性质，并且可以具有比涂覆的基质105的主要部分102A更高的密度和/或更大的涂层厚度。密封点可以在涂覆的基质105的表面上作为与主要部分102A不同的单一区域出现，并且只出现在涂覆的基质105的一个半球上。在显微镜下，与主要部分102A的相对较平滑的涂层相比，密封点可以表现为明显的凸起。

通过重复本文描述的方法，可以将多个涂层102施加到单个基质上。如果在同一个基质上涂覆多个涂层，涂覆的基质将具有与涂覆施加次数相同的密封区域数。

参考图57的方法流程图，一些实施方案可以提供制造涂覆的基质的方法。

在3100，可以将基质固定到基座上。基质可以被进料到限定腔和开口的接受器，基座延伸通过该开口。基座可以延伸到腔中以与基质连接，其中基座沿着其纵向轴平移而没有水平位移。基质可以是固体芯。在另一个示例中，基质可以是肥料、杀虫剂、肥料-杀虫剂组合产品、药物片剂、营养片剂、农业种子、固体食品或水溶性固体芯。在一个实施方案中，基座包括被配置成提供真空抽吸以将基质固定到基座的通道。在另一个实施方案中，基座可以是可被加热的销。销可以被加热到高于基质熔点的温度；并且通过使销和基质接触以将销的一部分嵌入基质中来将基质固定到销上。

在3200，可以将第一涂层施加到基质上。在一个实施方案中，在将基质固定到基座之前，将第二涂层可以施加到基座上以部分涂覆基座；以及将基质传送到部分涂覆的基座。第二涂层可以被加热以围绕基座热成型第二涂层。在另一个实施方案中，可以将第一涂层的边缘施加到腔外围的横向表面上；以及将第一涂层的边缘从腔的横向部分断开。

在3300，可以将第一涂层围绕基质包裹以基本上涂覆基质，第一涂层具有从基本上涂覆的基质延伸出去并围绕基座延伸的第一涂层的过量涂层。在一个实施方案中，可以将第一涂层围绕基质包裹包括围绕基质抽吸第一涂层。在另一个实施方案中，将第一涂层围绕基质包裹包括沿着第一涂层的外围吹送空气。在另一个实施方案中，可以将粘合剂施加到基座上，将粘合剂转移到第一涂层或部分涂覆基座的第二涂层。当密封时，具有粘合剂的第一涂层的过量涂层可以被压到其自身上，并且粘合剂将过量涂层粘合到基质上。

在3400，可以将基座从基质中撤回。

在3500，可以由第一涂层的过量涂层形成尾部，该尾部以一定角度从基质表面延伸。在一个实施方案中，尾部由第一涂层的过量涂层和第二涂层的一部分形成。

在3600，可以将尾部密封到第一涂层以包封基质。在一个实施方案中，可以将尾部熔化并层压到第一涂层上。

另外的非限制性示例材料

作为基质101的非限制性示例种子可包括可分类为单子叶植物或双子叶植物的各种栽培植物的种子。栽培植物包括但不限于，例如谷物，如小麦、黑麦、大麦、小黑麦、燕麦或大米；甜菜，例如糖用甜菜或饲用甜菜；水果(fruits)，例如梨果、核果或无核小水果(softfruits)，例如苹果、梨、李子、桃子、杏仁、樱桃、草莓、覆盆子、黑莓或醋栗；豆科植物，如扁豆、豌豆、苜蓿或大豆；油料植物，如油菜、油菜籽油菜(oil seed rape)/加拿大油菜、芥菜、橄榄、向日葵、椰子、可可豆、蓖麻油植物、油棕榈、磨碎的坚果或大豆；葫芦科植物，如南瓜、黄瓜或甜瓜；纤维植物，如棉花、亚麻、大麻或黄麻；柑桔类水果，如橙子、柠檬、葡萄柚或柑橘；蔬菜，如菠菜、莴苣、芦笋、卷心菜、胡萝卜、洋葱、西红柿、土豆、葫芦或红辣椒；樟科植物，如鳄梨、肉桂或樟脑；能源和原材料植物，如玉米、大豆、油菜、甘蔗或油棕榈；玉米；烟草；坚果；咖啡；茶；香蕉；葡萄藤(食用葡萄和葡萄汁葡萄藤(grape juice grape vines))；啤酒花(hop)；草皮(turf)；天然橡胶植物或观赏和林业植物，如花、灌木、阔叶树或常绿植物，例如针叶树，优选玉米、向日葵、谷物(例如小麦、黑麦、大麦、黑小麦、燕麦或大米)、大豆、棉花、油菜籽油菜/加拿大油菜，更优选玉米、向日葵、大豆、谷物(如小麦、黑麦、大麦、黑小麦、燕麦或大米)。

作为基质101的非限制性示例肥料可包括肥料成分，例如氮、磷、钾、硅、镁、钙、锰、硼、铁等，用于为栽培作物提供养分。其典型示例包括：氮肥例如尿素、硝酸铵、硝酸镁铵、氯化铵、硫酸铵、磷酸铵、硝酸钠、硝酸钙、硝酸钾、石灰氮、尿素形式(UF)、巴豆酰二脲(CDU)、异丁基二脲(IBDU)、胍基脲(GU)；磷肥如过磷酸钙、cone superphosphate、熔融磷酸盐、腐植酸磷肥、烧制磷酸盐、烧制cone phosphate、过磷酸镁、聚磷酸铵、偏磷酸钾、偏磷酸钙、磷酸镁、硫酸铵磷酸盐、硝酸钾铵磷酸盐和氯化铵磷酸盐；钾肥如氯化钾、硫酸钾、硫酸钾钠、硫酸钾镁肥、碳酸氢钾和磷酸钾；硅酸盐肥料，如硅酸钙；镁肥，如硫酸镁和氯化镁；钙肥，如氧化钙、氢氧化钙和碳酸钙；锰肥，例如硫酸锰、硫酸锰镁肥和锰渣；硼肥，如硼酸和硼酸盐；和铁肥。

非限制性示例聚合物膜可包括用于药物制造的商品级聚合物，例如非肠溶性聚合物：羟丙甲纤维素、羟乙基纤维素、羟乙基甲基纤维素、羧甲基纤维素钠、羟丙基纤维素、聚乙二醇、乙基纤维素。用于肠溶涂覆的聚合物可包括羟丙甲纤维素邻苯二甲酸酯、聚醋酸乙烯邻苯二酸酯、醋酸邻苯二甲酸纤维素、聚甲基丙烯酸酯、虫胶。

可以使用PGA分散在基质中的聚合物膜。聚合物膜可以通过膜的降解或通过与液体介质或水接触时PGA从膜基质中浸出来释放PGA。PGA的释放速率受生物降解速率和PGA从聚合物膜基质中的浸出速率控制。具有不同生物降解速率的聚合物膜可能具有不同的PGA释放速率，PGA的水溶性和PGA与聚合物的混溶性也影响PGA从膜基质中释放的速率。在一些实施方案中，PGA与促进PGA从膜基质中释放的表面活性剂一起施用。

用于涂层的非限制性示例PGA包括杀真菌剂、杀菌剂、杀虫剂、杀线虫剂、消毒剂、微生物、微生物接种剂、灭鼠剂、除草剂、诱导剂、驱虫剂、植物生长调节剂、营养素、植物激素、矿物质、植物提取物、杀螨剂(acaricides)或杀螨剂(miticides)、杀螺剂、萌发刺激物、信息素、生物制剂、生物试剂等。

用于涂层的其它非限制性示例PGA是市售的可流动浓缩物。可流动浓缩物可以喷涂/辊涂到聚合物膜的表面上。可商购的可流动浓缩物的非限制性示例是：Imidacloprid-48％FS(也可作为

从Bayer获得)、Thiomethoxam-30％FS、Thiram-40％FS、Thiophanate methyl+Pyroclostribin 50％FS。可从供应商和定制制剂商购买许多可流动的浓缩物以及定制制剂，也可以通过将不同的相容浓缩物以适合于活性成分在种子上的正确负载水平的比率混合来进行制备。乳化种子(ES)处理剂可作为植物生长剂(PGAs)的水包油乳剂购得。这些PGA也可以喷涂或辊涂到膜表面上。市售的ES的一个示例是精甲霜灵-31.8％ES。有许多市售的具有用于种子施用的不同PGA的ES处理剂，这些处理剂可用于涂覆到膜表面上。在一个实施方案中，PGA是具有涂层聚合物的液体形式。植物促进剂可以分散在聚合物溶液中或溶解在聚合物溶液中或两者兼有。溶液的固体含量可以在1％w/v至60％w/v。可以使用任何商业手段将该溶液转化成聚合物膜。当聚合物膜中不需要对温度敏感的PGA时，溶液中的聚合物和PGA可以具有更高的蒸发温度。当聚合物溶液中需要对温度敏感的PGA时，可以使用较低蒸发温度的溶液，并且可以调节温度以最小化或避免活性成分的温度诱导降解或死亡。

在一个实施方案中，在本文的方法、系统和涂覆的基质中使用的聚合物膜可以用分散在膜结构中的PGA制造。PGA的量可以为干膜重量的1％-50％。对温度敏感的PGA可以混合在低熔点聚合物中，例如聚己内酯(可以以商品名CAPA系列熔融挤出级树脂获得)中。可以将PGA填充的膜挤出涂布到PVOH膜上形成双层膜，或者热层压到PVOH膜上。本文中使用的术语PGEA是植物生长促进剂，用于单独的试剂或不同试剂的混合物。

在一个实施方案中，在本文的方法、系统和涂覆的基质中使用的聚合物膜可以用分散在膜结构中的PGA制造。PGA的量可以为干膜重量的1％-50％。对温度敏感的PGA可以混合在低熔点聚合物中，例如聚己内酯(可以以商品名CAPA系列熔融挤出级树脂获得)中。可以将PGA填充的膜挤压涂布到种子表面上，或者在足够低的温度下热层压，以不损坏种子。PGA填充的膜覆盖种子表面10％至90％的种子表面积，优选30％至70％的种子表面积，更优选60％至70％的种子表面积。PGA以作为膜降解的缓慢释放的方式通过膜结构释放，或者通过从膜中浸出来释放。

包含水溶性膜的聚合物膜可以含有PGA，并且可以通过已知的溶剂流延方法制备，其中将聚合物溶液或水分散体倾倒在光滑的金属表面上，并且蒸发水或溶剂，留下光滑的薄膜。通过流延制造水溶性膜的方法是水溶性膜制造工业中已知的工艺。溶剂流延膜可以通过使用市售的缝模式挤压涂布方法(缝模式挤压涂布设备可从Nordson Inc.获得)来制备。

用于涂层的其它非限制性PGA示例包括包含不同PGA的干燥混合物。

在一个实施方案中，在本文的方法、系统和涂覆的基质中使用的聚合物膜可以包含涂覆组合物，该涂覆组合物包含颗粒形式的干混合物，各个组分在干混合物中共混，其中各个组分是粉末形式或包含多于一种组分的复合颗粒形式。干涂覆组合物可以通过静电粉末涂覆方法涂覆到膜的表面。

用于种子处理的PGA的微胶囊悬浮液，例如来自SYNGENTA的FORCE ST，也可以作为涂层施加于膜表面。用于种子处理的PGA的干粉末或可湿性粉末(WP)也可商业购买。WP可以干涂覆在膜的表面上，或者嵌入膜的一侧上的膜的结构中。非限制性的示例是：Carbendazim-25％DS、Tebuconazole-2.5％DS、Carbosulfan-25％DS、Carboxin-37.5+Thiram-37.5％ DS。

根据本公开的涂层还可以包括合适的杀真菌剂。合适的杀真菌剂的非限制性示例可包括例如嗜球果伞素类(strobilurin)杀真菌剂、唑类杀真菌剂、康唑类杀真菌剂、三唑类杀真菌剂、酰胺类杀真菌剂、苯并噻二唑类杀真菌剂或其组合。在其他实施方案中，杀真菌剂可以包括嘧菌酯、苯氧菌胺(metominostrobin)、肟醚菌胺、多效唑、阿拉酸式苯-S-甲基、百菌清、双炔酰菌胺、噻菌灵、百菌清、三唑醇、嘧菌环胺、戊菌唑、啶酰菌胺、联苯吡菌胺、氟吡菌酰胺、苯锈啶、氟唑菌酰胺、氟唑菌苯胺、氟嘧菌酯、苯噻菌胺、苯噻菌胺-异丙基、烯酰吗啉、磺菌胺、甲基硫菌灵、灭菌唑、粉唑醇、福美双、萎锈灵、多菌灵及其组合。典型的杀真菌剂包括：克菌丹(N-三氯甲基)硫代-4-环己烷-1,2-二甲酰亚胺)、福美双(四甲基硫代过氧化二碳酸二酰胺；以商品名Prosed市售)、甲霜灵(甲基N-(2,6-二甲基苯基)-N-(甲氧基乙酰基)-DL-丙氨酸甲酯)、咯菌腈(4-(2,2-二氟-1,3-苯并二恶茂-4-基)-1-H-吡咯-3-甲腈((4-(2,2-difluoro-1,3-benzodioxol-4-yl)-1-H-pyrrol-3-carbonitril)；以商品名Maxim XL与mefonoxam的混合物市售)、苯醚甲环唑(以商品名Dividend 3FS市售)、多菌灵异菌脲(以商品名

市售)、种菌唑、精甲霜灵(mefenoxam)(以商品名Apron XL市售)、戊唑醇、萎锈灵、噻苯咪唑、嘧菌酯咪鲜胺、和恶霜灵(N-(2,6-二甲基苯基)-2-甲氧基-N-(2-氧代-3-恶唑烷基)乙酰胺)。基于涂覆的种子的总重量，杀真菌剂可以以0.0001-10wt％的量包含在本发明的种子涂覆组合物中。

根据本公开的涂层还可以包括合适的杀线虫剂。杀线虫剂的非限制性示例可包括阿维菌素杀线虫剂、氨基甲酸酯杀线虫剂和有机磷杀线虫剂、苯菌灵、benclothiaz及其组合。杀线虫剂还包括杀线虫活性生物有机体，如细菌或真菌。例如，坚强芽孢杆菌、蜡状芽孢杆菌、芽孢杆菌属、帕斯特氏菌属、厚垣孢普克尼亚菌、普克尼亚菌属和链霉菌属。来自Syngenta的杀线虫剂

的即用型制剂的示例。

根据本公开的涂层还可以包括合适的杀虫剂。非限制性示例杀虫剂包括拟除虫菊酯、有机磷酸酯、酰肟类(caramoyloximes)、吡唑、脒、卤代烃、新烟碱类和氨基甲酸酯及其衍生物。特别合适的杀虫剂种类包括有机磷酸酯、苯基吡唑和拟除虫菊酯。优选的杀虫剂是已知的特丁硫磷、毒死蜱、氟虫腈、氧基磷、七氟菊酯、呋喃丹、吡虫啉和丁基嘧啶磷。市售的杀虫剂包括吡虫啉(以商品名

市售)和噻虫胺(Bayer以商品名

市售)、噻虫嗪(Syngenta以商品名

市售)和氟虫腈(BASF以商品名

市售)。基于涂覆的种子的总重量，杀虫剂可以以0.001％-10wt％的量包含在本发明的种子涂覆组合物中。

杀虫剂和杀真菌剂的混合物作为涂覆组合物中的PGA也可以用于本发明。试剂混合物的一些示例是：噻虫胺/环唑醇；新烟碱类/噻唑菌胺；新烟碱类/2-[2-(2，5-二甲基苯氧基甲基)苯基]-2-甲氧基-N-甲基乙酰胺；新烟碱类/甲基立枯磷；叶菌唑/噻唑菌胺；8叶菌唑/2-[2-(2，5-二甲基苯氧基甲基)苯基]-2-甲氧基-N-甲基乙酰胺；噻唑菌胺/2-[2-(2，5-二甲基苯氧基甲基)苯基]-2-甲氧基-N-甲基乙酰胺；噻唑菌胺/甲基立枯磷；2-[2-(2，5-二甲基苯氧基甲基)苯基]-2-甲氧基-N-甲基乙酰胺/甲基立枯磷；2-[2-(2，5-二甲基苯氧基甲基)苯基]-2-甲氧基-N-甲基乙酰胺/甲霜灵；2-[2-(2，5-二甲基苯氧基甲基)苯基]-2-甲氧基-N-甲基乙酰胺/精甲霜灵；和2-[2-(2，5-二甲基苯氧基甲基)苯基]-2-甲氧基-N-甲基乙酰胺/种菌唑。

根据本公开的涂层还可以包括作为PGA的除草剂。非限制性示例除草剂包括芳氧基羧酸、芳氧基苯氧基丙酸酯、环己二酮肟、羟基苯甲腈、磺酰脲、三唑并嘧啶、三唑酮、三嗪类除草剂例如嗪草酮、己嗪酮(hexaxinone)或莠去津；磺酰脲类除草剂，如氯磺隆；尿嘧啶，例如环草定、除草定或特草定；脲类除草剂，如利谷隆、敌草隆、环草隆或草不隆；乙酰苯胺类除草剂，如甲草胺或异丙甲草胺；硫代氨基甲酸酯类除草剂，如禾草丹、野麦畏；噁二唑酮类除草剂，如噁二唑啉；异噁唑烷酮类除草剂，苯氧乙酸；联苯醚类除草剂，如氟草灵、三氟羧草醚、联苯醚或乙氧氟草醚；二硝基苯胺类除草剂，如氟乐灵；有机膦酸酯类除草剂如草丁膦盐和酯以及草甘膦盐和酯；和/或二卤代苄腈类除草剂例如溴苯腈或碘苯腈，苯甲酸类除草剂，双吡啶鎓类除草剂如百草枯；和其它除草剂，例如广灭灵、唑草酮、苯嘧磺草胺和砜吡草唑(pyroxasulfone)。

根据本公开的涂层还可以包括植物生长调节剂。非限制性示例植物生长调节剂包括叠氮化钾、2-氨基-4-氯-6-甲基嘧啶、N-(3,5-二氯苯基)琥珀酰亚胺、3-氨基-1,2,4-三唑、2-氯-6-(三氯甲基)吡啶、磺胺塞唑、双氰胺、硫脲、脒基硫脲或其组合。

根据本公开的涂层还可以包括微生物。非限制性示例微生物包括任何对农业具有有益效果(例如控制杂草、害虫或疾病，或改善植物生长、出苗或产量)的细菌、真菌或病毒。可以使用的细菌的一些非限制性示例包括假单胞菌属(例如，荧光素假单胞菌等)、慢生根瘤菌属(例如，日本芽孢杆菌等)、沙雷氏菌属、节杆菌属、固氮螺菌属、根瘤菌属和芽孢杆菌属。

可替代的实施方案

以上描述仅是示例性的，相关领域的技术人员将认识到，在不脱离所公开的本发明的范围的情况下，可以对所描述的实施方案进行改变。在不脱离权利要求的主题的情况下，本公开可以以其他特定形式实施。本公开旨在覆盖并包含所有合适的技术变化。根据对本公开的回顾，落入本发明范围内的修改对于本领域技术人员来说将是显而易见的，并且这些修改旨在落入所附权利要求的范围内。此外，权利要求的范围不应受实施方案中阐述的优选实施方案的限制，而应给予与说明书整体一致的最广泛的解释。

Claims (60)

1.一种制造涂覆的基质的方法，所述方法包括：

将基质固定到基座上；

将第一涂层施加到基质上；

将所述第一涂层围绕所述基质包裹以基本上涂覆所述基质，所述第一涂层具有从基本上涂覆的基质延伸出去并围绕所述基座的第一涂层的过量涂层；

从基质中撤回基座；

由所述第一涂层的过量涂层形成尾部，所述尾部从基质的表面以一定角度延伸；和

将尾部密封到所述第一涂层以包封所述基质。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述基质是固体芯。

3.根据权利要求1-2中任一项所述的方法，其中所述基座是销。

4.根据权利要求3所述的方法，其包括加热所述销。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述销可以被加热至高于所述基质的熔点的温度；并且其中将基质固定到销上包括使销和基质接触以将销的一部分嵌入基质中。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其包括：在将基质固定到基座之前，将第二涂层施加到基座上以部分涂覆基座；以及将基质传送到部分涂覆的基座。

7.根据权利要求6所述的方法，其包括加热所述第二涂层以围绕所述基座热成型第二涂层。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其中所述尾部由所述第一涂层的过量涂层和所述第二涂层的一部分形成。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的方法，其中所述基座包括被配置成提供真空抽吸以将基质固定到基座上的通道。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的方法，其包括将固体芯进料到腔。

11.根据权利要求10所述的方法，其包括将基座延伸到腔中以与基质连接，其中所述基座沿着其纵向轴平移而没有水平位移。

12.根据权利要求10或11所述的方法，其包括将第一涂层的边缘施加到腔外围的横向表面上；以及将第一涂层的边缘从腔的横向部分断开。

13.根据权利要求1-12中任一项所述的方法，其中将第一涂层围绕基质包裹包括围绕所述基质抽吸所述第一涂层。

14.根据权利要求1-12中任一项所述的方法，其中将第一涂层围绕基质包裹包括沿着第一涂层的外围吹送空气。

15.根据权利要求1-14中任一项所述的方法，其包括熔化所述尾部并将熔化的尾部层压到第一涂层上。

16.根据权利要求1-15中任一项所述的方法，其中所述基质是肥料、杀虫剂、肥料-杀虫剂组合产品、药物片剂、营养片剂、农业种子、固体食品或水溶性固体芯。

17.一种涂覆的基质，包括：

基质；

包封基质的涂层，所述涂层包括覆盖基质大部分表面区域的主要部分；和覆盖基质表面区域的剩余部分的密封区域，所述主要部分包括聚合物膜的单一整体件，其边缘在密封区域处密封。

18.根据权利要求17所述的涂覆的基质，其中所述基质是固体芯。

19.根据权利要求17所述的涂覆的基质，其中所述基质是肥料、杀虫剂、肥料-杀虫剂组合产品、药物片剂、营养片剂、农业种子、固体食品或水溶性固体芯。

20.根据权利要求17-19中任一项所述的涂覆的基质，其中所述密封区域包括层压到基质或形成涂层的聚合物膜中的至少一个上的单片聚合物膜的过量膜。

21.根据权利要求17-20中任一项所述的涂覆的基质，其中所述涂层包含聚合物、聚合物加工添加剂、矿物质、颜料、杀虫剂、抗微生物剂、抗催熟剂、植物生长剂、微量营养素、药物活性成分、聚乙烯醇、蜡、增粘树脂、增粘剂、杀真菌剂、杀虫剂、杀线虫剂、除草剂、微生物和/或肥料中的至少一种。

22.根据权利要求17-20中任一项所述的涂覆的基质，其中所述涂层为可热成型膜、可真空成型膜、可生物降解膜、不可生物降解膜、水溶性膜和/或非肠溶性膜中的至少一种。

23.根据权利要求17-22中任一项所述的涂覆的基质，其中所述涂层为基质总重量的约0.1％至30％，优选为基质总重量的0.1％至10％，更优选为基质总重量的0.1％至5％。

24.根据权利要求17-23中任一项所述的涂覆的基质，其中所述密封区域的厚度大于所述主要部分的厚度。

25.根据权利要求24所述的涂覆的基质，其中所述密封区域小于涂覆的基质总表面的40％，优选小于涂覆的基质总表面的20％，更优选小于涂覆的基质总表面的10％。

26.根据权利要求17-25中任一项所述的涂覆的基质，其中所述密封区域的厚度基本上与涂层的主要部分相同。

27.根据权利要求17-26中任一项所述的涂覆的基质，其中所述密封区域通过将涂层的过量管状部分连接到层叠在基质上的涂层的相邻部分而形成，所述管状部分包括涂层的边缘。

28.根据权利要求27所述的涂覆的基质，其中所述密封区域通过熔化过量的管状部分并将熔化的过量的管状部分层压到涂层上来形成。

29.根据权利要求17-28中任一项所述的涂覆的基质，其中所述密封区域包括连接到涂层边缘的增强涂层。

30.根据权利要求17-29中任一项所述的涂覆的基质，其包括将补充的涂层施加到所述第一涂层上，或直接施加到固体芯上，第二涂层至少部分地包封固体芯。

31.根据权利要求17-30中任一项所述的涂覆的基质，其通过根据权利要求1-16中任一项所述的方法制成。

32.一种用于制造涂覆的基质的系统，所述系统包括：

进料装置，其被配置成将基质进料到接受器中，所述接受器具有配对基座；

第一涂覆装置，其被配置成将涂层施加到接受器上；和

偏置装置，其被配置成围绕基质和基座的一部分偏置涂层；

所述基座可通过限定在配对接受器中的开口相对于其配对接受器移动，所述基座被配置成在延伸位置和撤回位置之间转换，在延伸位置，基座延伸到其配对接受器中，用于在基座上接收基质，在撤回位置，基座从其配对接受器中撤回，使基座与基质和涂层脱离，以形成具有尾部的涂覆的基质；和

密封系统，其将尾部密封到涂层上。

33.根据权利要求32所述的系统，其包括被配置成在基座接收基质之前将第二涂层涂覆到每个基座上以部分涂覆基座的第二涂覆装置。

34.根据权利要求32-33中任一项所述的系统，其中每个基座被配置成沿其纵向轴平移通过配对接受器的开口而没有水平位移，以接合基质或从基质中脱离。

35.根据权利要求32-24中任一项所述的系统，其中所述接受器是由板的表面限定的腔。

36.根据权利要求32-35中任一项所述的系统，其中所述基座限定了被配置成提供真空抽吸以将基质固定到基座的通道。

37.根据权利要求32-36中任一项所述的系统，其中偏置装置是被配置成在开口处产生真空压力，以围绕基质和基座的一部分偏置涂层的真空泵。

38.根据权利要求32-36中任一项所述的系统，其中偏置装置是被配置成对空气加压，以围绕基质和基座的一部分偏置涂层的气泵。

39.一种用于制造涂覆的基质的系统，所述系统包括：

第一旋转滚筒，其包括定位于第一旋转滚筒表面上的多个接受器；

进料装置，其被配置成将多个基质进料到第一旋转滚筒中，将每个基质进料到多个接受器中的一个，每个接受器具有配对基座；

第一涂覆装置，其被配置成将涂层施加到容纳基质的多个接受器中的每一个，当多个接受器中的每一个旋转通过第一涂覆装置时施加涂层；和

偏置装置，其被配置成围绕基质和基座的一部分偏置涂层；

其中，所述多个接受器中的每一个的配对基座可相对于其配对接受器移动通过限定在配对接受器中的开口，所述基座可移动以在延伸位置和撤回位置之间转换，在延伸位置，基座延伸到其配对接受器中以在基座上接收基质，在撤回位置，基座从其配对接受器中撤回，使基座与基质和涂层脱离，以形成具有尾部的涂覆的基质；和

密封系统，其将尾部密封到涂层上。

40.根据权利要求39所述的系统，其中每个基座被配置成沿其纵向轴平移通过配对接受器的开口而没有水平位移，以接合基质或从基质中脱离。

41.根据权利要求39-40中任一项所述的系统，其包括第二旋转滚筒，所述第二旋转滚筒的表面上具有多个接受器，所述第二旋转滚筒的多个接受器定位成接收来自第一旋转滚筒的具有尾部的涂覆的基质，定位在第二旋转滚筒上的涂覆的基质具有远离第二旋转滚筒定位的尾部。

42.根据权利要求41所述的系统，其包括将尾部层压到涂层上的辊。

43.根据权利要求41或42所述的系统，其中所述偏置装置包括真空箱，所述真空箱被配置成当每个接受器从进料装置旋转到邻近第二旋转滚筒的位置之前时向每个接受器提供真空压力。

44.根据权利要求43所述的系统，其中每个基座限定了将真空箱连通到基座的通道。

45.根据权利要求39-44中任一项所述的系统，其中所述偏置装置包括被配置成吹送空气以围绕基质和基座的一部分偏置涂层的气泵。

46.根据权利要求39-45中任一项所述的系统，其中所述密封区域包括将尾部加热熔化到涂层上的热源。

47.根据权利要求39-46中任一项所述的系统，其包括用于加热基座的加热销系统，所述加热销系统包括用于将基座加热到期望温度的加热元件，其中所述基座是具有用于接触基质的尖端的销，以在销处于延伸位置时通过点熔化将销粘附到基质上。

48.一种用于制造涂覆的基质的系统，所述系统包括：

平台板，其包括一个或多个基座，每个基座在腔板上具有配对接受器，

所述腔板包括定位于腔板表面上的一个或多个接受器，每个接受器限定了用于接收基质的腔，且每个接受器限定了延伸通过腔板的开口；

进料装置，其被配置成将基质进料到每个基座或其配对接受器；

第一涂覆装置，其被配置成将第一涂层施加到容纳基质的多个接受器中的每一个上；

第一偏置装置，其被配置成围绕所述基质和每个基座的一部分偏置所述第一涂层，

所述平台板可相对于所述腔板移动，以同时移动每个基座相对于其配对接受器通过在所述配对接受器中限定的开口，所述基座可移动以在延伸位置和撤回位置之间转换，在延伸位置，基座延伸到其配对接受器中以在基座上接收基质，在撤回位置，基座从其配对接受器中撤回，使基座与基质和第一涂层脱离，以形成具有尾部的涂覆的基质；和

密封系统，其将尾部密封到第一涂层。

49.根据权利要求48所述的系统，其包括第一偏置构件，所述第一偏置构件被配置成偏置平台板远离腔板，以将一个或多个基座移动到撤回位置。

50.根据权利要求49所述的系统，其中所述偏置构件是定位于腔板和平台板之间的弹簧。

51.根据权利要求48-50中任一项所述的系统，其包括第二涂覆装置，所述第二涂覆装置被定位成在基质被进料装置进料到接受器之前将第二涂层施加到接受器上。

52.根据权利要求51所述的系统，其包括第二偏置装置，所述第二偏置装置被定位成在基质被进料装置进料到接受器之前围绕每个基座的一部分偏置第二涂层。

53.根据权利要求48-52中任一项所述的系统，其包括一个或多个固定到每个接受器并延伸到用于接收基质的腔中的脱离构件。

54.根据权利要求53所述的系统，其中所述基座包括形成接收基质的平台的多个构件，所述多个构件定位在平台板上以当基座在延伸和撤回位置之间移动时，在脱离构件之间移动。

55.根据权利要求54所述的系统，其中所述多个构件包括定位在三角形的三个顶点处的三个构件。

56.根据权利要求54所述的系统，其中所述多个构件包括在十字架的四个顶点处的四个构件。

57.根据权利要求54-56中任一项所述的系统，其中平台板限定了多个真空开口，每个真空开口通常定位在所述多个构件的中心，每个开口被配置成当多个真空开口与腔板中的配对开口对准时，将真空压力从真空压力源传递到配对接受器。

58.根据权利要求48-57中任一项所述的系统，其中每个基座被配置成沿其纵向轴平移通过配对接受器的开口而没有水平位移，以接合基质或从基质中脱离。

59.根据权利要求48-58中任一项所述的系统，其中偏置装置包括被配置成吹送空气以围绕基质和基座的一部分偏置涂层的气泵。

60.根据权利要求48-59中任一项所述的系统，其包括连接到腔板和平台板中的至少一个的致动器，以相对于平台板移动腔板，从而同时在延伸位置和撤回位置之间移动每个基座。

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