CN116009367A - 基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种基板处理装置，能够减少因搬运辊引起的筋状的处理斑痕，并且还难以产生在基板的上表面形成积液的处理液的一部分向搬运辊的表面流出或者附着于搬运辊的泡上升到基板的上表面的问题。搬运机构(20)具有多个搬运辊(21)。搬运辊通过一边使在外周面上部分地形成的接触部(53)与基板(9)的下表面接触一边旋转，来搬运基板。接触部(53)与基板的下表面的接触位置随着搬运辊的旋转而在宽度方向上变化。由此，能够减少因搬运辊引起的筋状的处理斑痕。另外，由于搬运辊与基板的下表面的接触面积小，因此，还难以产生在基板的上表面形成积液的处理液的一部分向搬运辊的表面流出或者附着于搬运辊的泡上升到基板的上表面的问题。

Description

基板处理装置

技术领域

本发明涉及一边搬运基板一边利用处理液进行处理的基板处理装置。

背景技术

以往，在有机EL面板等基板的制造工序中，使用一边搬运基板一边进行向基板供给处理液的处理的基板处理装置。以往的基板处理装置例如记载于专利文献1中。专利文献1的基板处理装置一边通过多个辊将基板支撑为水平的姿势一边搬运基板。然后，通过向被搬运的基板的上表面供给显影液，在基板的上表面形成显影液的积液(puddle)。

专利文献1：日本特开2016-167475号公报。

在这种基板处理装置中，设置于辊的多个滚轮与基板的下表面接触。多个滚轮在宽度方向(与基板的搬运方向正交且水平的方向)上隔开间隔地排列。因此，在基板的下表面产生与滚轮接触的部分和不接触的部分。由此，在基板上产生局部温度差、显影液的局部流动。其结果，存在在基板的上表面上产生沿搬运方向延伸的筋状的处理斑痕的情况。

为了抑制这样的处理斑痕，例如，考虑使用沿宽度方向延伸的圆筒状的实心辊。若使用实心辊，则基板的下表面的整个宽度方向与辊接触。因此，能够减少沿搬运方向延伸的筋状的处理斑痕。

但是，当使用实心辊时，基板与辊的接触面积增加。因此，在基板的上表面形成积液的处理液的一部分因表面张力而变得容易向辊的表面流出。通过这样做，可能存在如下情况：在基板的上表面形成的处理液的积液变薄而显影处理变得斑痕匀。

另外，在辊的表面上有时附着有显影液的泡，但在使用实心辊的情况下，由于基板与辊的接触面积大，因此该泡容易从辊上升到基板的上表面。这样一来，还存在如下问题：在基板的上表面会产生由泡引起的处理斑痕。

发明内容

本发明是鉴于这样的情况而完成的，其目的在于提供一种基板处理装置，其能够减少因搬运辊引起的筋状的处理斑痕，并且还难以产生在基板的上表面形成积液的处理液的一部分向搬运辊的表面流出或者附着于搬运辊的泡上升到基板的上表面的问题。

本发明的第一技术方案，一种基板处理装置，一边搬运基板一边利用处理液对基板进行处理，其中，具有：搬运机构，一边将基板支撑为水平的姿势，一边沿作为水平方向的搬运方向搬运基板；以及处理液供给部，通过向由所述搬运机构搬运的基板的上表面供给所述处理液，在基板的上表面形成所述处理液的积液，所述搬运机构具有在所述搬运方向上隔开间隔地排列的多个搬运辊，所述搬运辊通过一边使在外周面上部分地形成的接触部与基板的下表面接触，一边以沿与所述搬运方向正交的作为水平方向的宽度方向延伸的轴为中心旋转，将基板向所述搬运方向的下游侧搬运，在所述搬运辊的外周面上，所述接触部的所述宽度方向的位置根据以所述轴为中心的周向的位置而变化。

本发明的第二技术方案，在第一技术方案的基板处理装置中，所述接触部是以所述轴为中心的螺旋状。

本发明的第三技术方案，在第二技术方案的基板处理装置中，多个所述搬运辊包括：所述接触部为右旋螺旋状的多个右旋搬运辊；以及所述接触部为左旋螺旋状的多个左旋搬运辊，所述右旋搬运辊与所述左旋搬运辊沿所述搬运方向交替地排列。

本发明的第四技术方案，在第一技术方案的基板处理装置中，所述搬运辊具有在所述宽度方向上排列的多个所述接触部，多个所述接触部分别为相对于所述轴倾斜的椭圆状。

本发明的第五技术方案，在第四技术方案的基板处理装置中，所述搬运辊具有：转轴，沿所述轴延伸；以及多个辊构件，固定于所述转轴，所述多个辊构件分别具有所述接触部。

本发明的第六技术方案，在第四技术方案或第五技术方案的基板处理装置中，多个所述搬运辊包括：多个第一搬运辊；以及多个第二搬运辊，所述第一搬运辊和所述第二搬运辊沿所述搬运方向交替地排列，在所述宽度方向上，所述第一搬运辊的所述接触部和所述第二搬运辊的所述接触部交替地排列。

本发明的第七技术方案，在第一技术方案～第六技术方案中任一技术方案的基板处理装置中，所述处理液供给部具有喷出所述处理液的喷嘴，所述搬运机构还具有一个以上圆筒辊，所述圆筒辊配置在所述喷嘴喷出所述处理液的喷出位置的下游侧，所述圆筒辊具有沿所述宽度方向延伸的一个圆筒面，所述圆筒辊通过一边使所述圆筒面与基板的下表面接触一边以沿所述宽度方向延伸的轴为中心旋转，将基板向所述搬运方向的下游侧搬运。

本发明的第八技术方案，在第一技术方案～第七技术方案中任一技术方案的基板处理装置中，所述基板处理装置还具有与基板的所述宽度方向的端部接触的引导辊。

本发明的第九技术方案，在第一技术方案～第八技术方案中任一技术方案的基板处理装置中，所述处理液是对形成于基板的上表面的抗蚀剂膜进行显影的显影液。

根据本发明第一技术方案～第九技术方案，搬运辊与基板的下表面的接触位置随着搬运辊的旋转而在宽度方向上变化。由此，能够减少因搬运辊引起的筋状的处理斑痕。另外，在搬运辊的外周面部分地形成与基板接触的接触部。由此，能够减少搬运辊与基板的下表面的接触面积。因此，也难以产生在基板的上表面形成积液的处理液的一部分向搬运辊的表面流出或者附着于搬运辊的泡上升到基板的上表面的问题。

特别地，根据本发明的第二技术方案，能够在宽度方向上无缝地形成接触部。由此，能够减少宽度方向上不存在接触部的位置。其结果，能够进一步抑制因搬运辊引起的筋状的处理斑痕。

特别地，根据本发明的第三技术方案，能够使搬运辊与基板的下表面的接触位置更均匀化。因此，能够进一步抑制因搬运辊引起的筋状的处理斑痕。

特别地，根据本发明的第四技术方案，使接触部成为闭合的椭圆状而不是螺旋状。由此，能够在搬运辊的外周面容易地形成接触部。

特别地，根据本发明的第五技术方案，能够通过制作多个具有接触部的辊构件并将这些辊构件固定于转轴来制造搬运辊。由此，能够容易地制造具有多个接触部的搬运辊。

特别地，根据本发明的第六技术方案，能够使搬运辊与基板的下表面的接触位置更均匀化。因此，能够进一步抑制因搬运辊引起的筋状的处理斑痕。

特别地，根据本发明的第七技术方案，在紧邻处理液的喷出位置的后方配置圆筒辊。能够一边由该圆筒辊将基板高精度地支撑为水平，一边在基板的上表面良好地形成处理液的积液。

特别地，根据本发明的第八技术方案，能够抑制基板相对于搬运方向倾斜地移动。

附图说明

图1是显影装置的侧视图。

图2是显影装置的俯视图。

图3是搬运机构的部分俯视图。

图4是第二实施方式的搬运机构的部分俯视图。

图5是第三实施方式的搬运机构的部分俯视图。

图6是第四实施方式的搬运机构的部分俯视图。

图7是第五实施方式的搬运机构的部分俯视图。

图8是第六实施方式的搬运机构的部分俯视图。

图9是第七实施方式的显影装置的俯视图。

附图标记的说明：

1 显影装置

9 基板

10 腔室

13 排液孔

20 搬运机构

21 搬运辊

21A 右旋搬运辊

21B 左旋搬运辊

21C 第一搬运辊

21D 第二搬运辊

22 辊驱动机构

23 引导辊

24 圆筒辊

30 处理液供给部

31 喷嘴

40 控制部

51 转轴

52 辊构件

53 接触部

54 非接触部

A 轴

L 显影液

具体实施方式

以下，参照附图说明本发明的实施方式。

<1.第一实施方式>

<1-1.基板处理装置的结构>

图1是本发明的基板处理装置的一个例子的显影装置1的侧视图。图2是显影装置1的俯视图。该显影装置1是在有机EL面板的制造工序中，对矩形的基板9进行显影处理的装置。显影装置1作为连续进行清洗、抗蚀剂液的涂敷、干燥、曝光、显影等处理的所谓的涂敷显影设备的一部分来使用。但是，显影装置1也可以与构成涂敷显影设备的涂敷装置、曝光装置分开而单独地使用。

在搬入显影装置1的基板9的上表面形成有抗蚀剂膜(光致抗蚀剂的膜)。另外，该抗蚀剂膜在前段的曝光装置中被部分地曝光。显影装置1一边搬运这样的基板9，一边向基板9的上表面供给显影液L。由此，抗蚀剂膜被曝光的部分被溶解(显影)。

如图1和图2所示，显影装置1具有腔室10、搬运机构20、处理液供给部30和控制部40。此外，以下将搬运机构20对基板9的搬运方向的上游侧简称为“上游侧”，将搬运方向的下游侧简称为“下游侧”。

腔室10是沿基板9的搬运方向延伸的大致长方体状的框体。在腔室10的内部存在用于对基板9进行显影处理的空间。此外，为了说明腔室10的内部结构，在图1和图2中，以剖面的状态示出腔室10。在腔室10的上游侧的端部设有用于搬入基板9的搬入口11。在腔室10的下游侧的端部设有用于搬出基板9的搬出口12。另外，在腔室10的底面设有用于将在腔室10内使用的显影液L向外部排出的排液孔13。

搬运机构20是在腔室10内搬运基板9的机构。搬运机构20一边基板9支撑为水平的姿势，一边沿作为水平方向的搬运方向搬运基板9。如图1和图2所示，搬运机构20具有多个搬运辊21。多个搬运辊21在搬运方向上隔开间隔地排列。多个搬运辊21与由马达等构成的辊驱动机构22连接。当使辊驱动机构22工作时，各搬运辊21以沿宽度方向(与基板9的搬运方向正交且水平的方向)延伸的轴为中心旋转。

当基板9被搬入腔室10内时，多个搬运辊21一边与基板9的下表面接触一边旋转。由此，基板一边被支撑为水平的姿势一边向下游侧被搬运。

处理液供给部30是向由搬运机构20搬运的基板9的上表面供给作为处理液的显影液L的机构。如图1所示，处理液供给部30具有喷嘴31、供液配管32和供液罐33。喷嘴31配置于腔室10内。另外，喷嘴31配置于搬运机构20对基板9的搬运路径的上方。喷嘴31的下端部设有沿宽度方向延伸的狭缝状的喷出口。喷出口与由搬运机构20搬运的基板9的上表面经由微小的间隙在上下方向上相对。

供液配管32的下游侧的端部与喷嘴31连接。供液配管32的上游侧的端部与供液罐33连接。另外，在供液配管32的路径上设有阀34和泵35。供液罐33中贮存有供给前的显影液L。显影液L例如是常温的四甲基氢氧化铵(TMAH)。但是，显影液L也可以为TMAH以外的液体。

当打开阀34使泵35工作时，从供液罐33通过供液配管32向喷嘴31供给显影液L。另外，从喷嘴31的喷出口向下方喷出显影液L。基板9通过喷出显影液L的喷嘴31的下方。由此，在基板9的上表面形成显影液L的积液(puddle)。显影液L通过其表面张力保持在基板9的上表面。

控制部40是用于对显影装置1的各部进行动作控制的单元。控制部40由具有CPU等处理器、RAM等存储器和硬盘驱动器等存储部的计算机构成。存储部中存储有用于执行显影处理的计算机程序和各种数据。另外，如图1和图2中虚线箭头所示，控制部40与上述的辊驱动机构22、阀34和泵35电连接。控制部40通过根据计算机程序进行工作，来动作控制上述各部。由此，进行显影装置1中的基板9的搬运和显影处理。

<1-2.关于搬运机构>

接着，更详细地说明上述的搬运机构20。

图3是搬运机构20的部分俯视图。如上所述，搬运机构20具有多个搬运辊21。如图3所示，各搬运辊21具有转轴51和固定于转轴51的辊构件52。

转轴51是沿着在宽度方向上延伸的轴A配置的圆柱状的部件。转轴51由刚性比辊构件52高的金属形成。转轴51的两端部经由轴承被相对于腔室10静止的框架支撑为能够旋转。另外，转轴51与上述的辊驱动机构22连接。当使辊驱动机构22工作时，多个转轴51分别以在宽度方向上延伸的轴A为中心旋转。

辊构件52是沿上述的轴A在宽度方向上延伸的圆筒状的部件。例如，辊构件52由刚性比转轴51低的树脂形成。转轴51插入辊构件52的内侧。辊构件52固定于转轴51的外周面。因此，当使辊驱动机构22工作时，辊构件52与转轴51一起以在宽度方向上延伸的轴A为中心旋转。

在辊构件52的外周面具有接触部53和非接触部54。接触部53构成辊构件52的最外径。因此，在搬运基板9时，接触部53与基板9的下表面接触。本实施方式的接触部53是以上述的轴A为中心的螺旋状。接触部53可以为单条的螺旋状，也可以为多条的螺旋状。接触部53是以上述的轴A为中心的圆筒面的一部分。

非接触部54是辊构件52的外周面中的除接触部53以外的部分。非接触部54比接触部53更向内侧(以轴A为中心的径向的内侧)凹陷。因此，即使在搬运基板9时，非接触部54也不与基板9的下表面接触。即，搬运辊21通过一边仅使其外周面中的部分形成的接触部53与基板9的下表面接触一边旋转，将基板9向下游侧搬运。

辊构件52的外周面中的接触部53的宽度方向的位置，根据以轴A为中心的周向的角度位置而变化。因此，辊构件52与基板9的下表面的接触位置随着搬运辊21的旋转而在宽度方向上变化。通过这样做，能够防止搬运辊21仅接触基板9的下表面中的宽度方向上的特定位置。由此，能够抑制显影液L的温度变化或显影液L的流动集中在宽度方向上的特定位置。其结果，能够抑制在形成于基板9上表面的抗蚀剂膜上产生因与搬运辊21的接触所引起的筋状的斑痕。

另外，接触部53部分地形成于辊构件52的外周面。因此，与辊构件52的整个外周面为圆筒状的接触部的情况相比，能够减少与基板9的接触面积。因此，在基板9的上表面上形成积液的显影液L的一部分因表面张力而向辊构件52的表面流出，由此，难以产生积液的厚度减少的问题。另外，也难以产生附着于辊构件52的外周面的泡上升到基板9的上表面的问题。因此，能够一边将形成于基板9的上表面的显影液L的积液保持为适当的厚度，一边使抗蚀剂膜均匀地显影。

特别地，如本实施方式，当接触部53为螺旋状时，能够在宽度方向上无缝地形成接触部53。因此，能够减少宽度方向上不存在接触部53的位置。由此，能够进一步抑制在基板9的上表面的抗蚀剂膜上产生因与搬运辊21的接触所引起的筋状的斑痕。

另外，如图3所示，本实施方式的搬运机构20具有多个引导辊23。各引导辊23能以在上下方向上延伸的轴为中心旋转。多个引导辊23中的配置于搬运路径的右侧的引导辊23与基板9的右侧的端缘部接触。多个引导辊23中的配置于搬运路径的左侧的引导辊23与基板9的左侧的端缘部接触。这样，通过引导辊23与基板9宽度方向的两端缘部接触，能够抑制基板9的宽度方向的移动。特别地，在本实施方式中，由于搬运辊21的接触部53为螺旋状，因此，搬运辊21容易对基板9施加倾斜方向的力。但是，通过设置引导辊23，能够抑制基板9沿倾斜方向移动，从而能够沿搬运方向高精度地搬运基板9。

<2.第二实施方式>

接着，说明本发明的第二实施方式。此外，以下，以与上述实施方式的不同点为中心进行说明。与对于与上述实施方式等同的部分，省略重复说明。

图4是第二实施方式的搬运机构20的部分俯视图。如图4所示，在本实施方式中，多个搬运辊21包含多个右旋搬运辊21A和多个左旋搬运辊21B。右旋搬运辊21A的接触部53呈右旋螺旋状。即，在右旋搬运辊21A中，接触部53随着从宽度方向的一端朝向另一端而以顺时针的螺旋状延伸。左旋搬运辊21B的接触部53呈左旋螺旋状。即，在左旋搬运辊21B中，接触部53随着从宽度方向的一端朝向另一端以逆时针的螺旋状延伸。

右旋搬运辊21A和左旋搬运辊21B沿搬运方向交替地排列。通过这样做，能够使搬运辊21与基板9的下表面的接触位置更加均匀化。因此，能够进一步抑制在基板9的上表面的抗蚀剂膜上产生因与搬运辊21的接触所引起的筋状的斑痕。

<3.第三实施方式>

接着，说明本发明的第三实施方式。此外，以下，以与上述实施方式的不同点为中心进行说明。对于与上述实施方式等同的部分，省略重复说明。

图5是第三实施方式的搬运机构20的部分俯视图。如图5所示，在本实施方式中，辊构件52具有多个独立的接触部53，而不是连续螺旋状的接触部53。多个接触部53沿宽度方向等间隔地排列。各接触部53呈现出相对于在宽度方向上延伸的轴A倾斜的椭圆状。

即使在这样的方式中，辊构件52的外周面中的接触部53的宽度方向的位置也根据以轴A为中心的周向的角度位置而变化。因此，辊构件52与基板9的下表面的接触位置随着搬运辊21的旋转而在宽度方向上变化。因此，能够防止搬运辊21仅接触基板9的下表面中的宽度方向上的特定位置。由此，能够抑制在基板9的上表面的抗蚀剂膜上产生因与搬运辊21的接触所引起的筋状的斑痕。

另外，通过使接触部53为闭合的椭圆状，与螺旋状的情况相比，接触部53的加工变得更容易。即，能够在辊构件52的外周面容易地形成接触部53。因此，能够容易地制造具有多个接触部53的辊构件52。

<4.第四实施方式>

接着，说明本发明的第四实施方式。此外，以下，以与上述实施方式的不同点为中心进行说明。对于与上述实施方式等同的部分，省略重复说明。

图6是第四实施方式的搬运机构20的部分俯视图。如图6所示，本实施方式的搬运辊21具有多个辊构件52，而不是一根圆筒状的辊构件52。多个辊构件52沿宽度方向等间隔地排列。各辊构件52固定于转轴51的外周面。另外，各辊构件52具有相对于在宽度方向上延伸的轴A倾斜的椭圆状的接触部53。

在本实施方式的结构中，通过大量制作具有接触部53的小型的辊构件52，并将这些辊构件52固定于转轴51，从而能够制造搬运辊21。由此，能够更容易地制造具有多个接触部53的搬运辊21。

此外，在图6的例子中，一个辊构件52具有一个椭圆状的接触部53。但是，一个辊构件52也可以具有多个椭圆状的接触部53。另外，各辊构件52也可以具有螺旋状的接触部53。

<5.第五实施方式>

接着，说明本发明的第五实施方式。此外，以下，以与上述实施方式的不同点为中心进行说明。对于与上述实施方式等同的部分，省略重复说明。

图7是第五实施方式的搬运机构20的部分俯视图。如图7所示，在本实施方式中，多个搬运辊21包含多个第一搬运辊21C和多个第二搬运辊21D。第一搬运辊21C和第二搬运辊21D分别与第四实施方式相同，具有多个辊构件52。多个辊构件52沿宽度方向等间隔地排列。各辊构件52具有相对于在宽度方向上延伸的轴A倾斜的椭圆状的接触部53。

但是，在本实施方式中，在宽度方向上，第一搬运辊21C的接触部53与第二搬运辊21D的接触部53交替地排列。换言之，第二搬运辊21D的接触部53配置于在宽度方向上相当于第一搬运辊21C上相邻的接触部53之间的位置。因此，第一搬运辊21C的接触部53的宽度方向的中心位置与第二搬运辊21D的接触部53的宽度方向的中心位置在轴向上不重叠。

第一搬运辊21C与第二搬运辊21D沿搬运方向交替地排列。通过这样做，能够使搬运辊21与基板9下表面的接触位置更加均匀化。因此，能够进一步抑制在基板9的上表面的抗蚀剂膜产生因与搬运辊21的接触所引起的筋状的斑痕。

<6.第六实施方式>

接着，说明本发明的第六实施方式。此外，以下，以与上述实施方式的不同点为中心进行说明。对于与上述实施方式等同的部分，省略重复说明。

图8是第六实施方式的搬运机构20的部分俯视图。本实施方式的搬运辊21与上述第四实施方式和第五实施方式相同，具有多个辊构件52。但是，在本实施方式中，各辊构件52是不具有相当于非接触部54的部分的椭圆形状的板。通过这样做，能够进一步简化各辊构件52的形状。因此，能够更加容易地制造多个辊构件52。

<7.第七实施方式>

接着，说明本发明的第七实施方式。此外，以下，以与上述实施方式的不同点为中心进行说明。对于与上述实施方式等同的部分，省略重复说明。

图9是第七实施方式的显影装置1的俯视图。如图9所示，本实施方式的搬运机构20具有多个搬运辊21和多个圆筒辊(实心辊)24。在从喷嘴31喷出显影液L的喷出位置向下游侧的规定范围的区域，在搬运方向上隔开间隔排列有多个圆筒辊24。多个搬运辊21配置于基板9的搬运路径中的配置有圆筒辊24的上述区域以外的区域。多个搬运辊21和多个圆筒辊24与辊驱动机构22连接。因此，当使辊驱动机构22工作时，多个搬运辊21和多个圆筒辊24分别以在宽度方向上延伸的轴A为中心旋转。

各圆筒辊24的辊构件的外周面是沿宽度方向延伸的一个圆筒面。圆筒辊24通过一边使其圆筒面与基板9的下表面接触一边旋转，将基板9向下游侧搬运。

圆筒辊24相比与基板9的接触面积小的搬运辊21，更能够高精度地将基板9支撑为水平。在本实施方式中，这样的圆筒辊24配置于紧邻处理液的喷出位置的后方，由此，能够一边将基板9高精度地支撑为水平，一边在基板9的上表面形成处理液的积液。

此外，在图9的例子中，在紧邻喷嘴31喷出显影液L的喷出位置的后方，配置有三根圆筒辊24。但是，圆筒辊24的数量可以为1～2根，也可以为4根以上。

<8.变形例>

在上述实施方式中，说明向基板9上表面供给作为处理液的显影液L的显影装置1。但是，本发明的基板处理装置不限定于显影装置1。例如，基板处理装置也可以是在基板的上表面涂敷作为处理液的抗蚀剂液的涂敷装置。另外，基板处理装置也可以是向基板的上表面供给作为处理液的抗蚀剂液的蚀刻装置。另外，基板处理装置也可以是向基板的上表面供给作为处理液的清洗液的清洗装置。

另外，在上述实施方式中，作为处理对象的基板9是有机EL面板用的基板。但是，在本发明的基板处理装置中，作为处理对象的基板也可以为液晶面板用基板、等离子体显示器用基板、太阳能电池面板用基板、光盘用基板、半导体晶片等其他基板。

除此之外，也可以将上述实施方式和变形例中出现的各构件在不产生矛盾的范围内适当地组合。

Claims (9)

1.一种基板处理装置，一边搬运基板一边利用处理液对基板进行处理，其中，

具有：

搬运机构，一边将基板支撑为水平的姿势，一边沿作为水平方向的搬运方向搬运基板；以及

处理液供给部，通过向由所述搬运机构搬运的基板的上表面供给所述处理液，在基板的上表面形成所述处理液的积液，

所述搬运机构具有在所述搬运方向上隔开间隔地排列的多个搬运辊，

所述搬运辊通过一边使在外周面上部分地形成的接触部与基板的下表面接触，一边以沿与所述搬运方向正交的作为水平方向的宽度方向延伸的轴为中心旋转，将基板向所述搬运方向的下游侧搬运，

在所述搬运辊的外周面上，所述接触部的所述宽度方向的位置根据以所述轴为中心的周向的位置而变化。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述接触部是以所述轴为中心的螺旋状。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其中，

多个所述搬运辊包括：

所述接触部为右旋螺旋状的多个右旋搬运辊；以及

所述接触部为左旋螺旋状的多个左旋搬运辊，

所述右旋搬运辊与所述左旋搬运辊沿所述搬运方向交替地排列。

4.如权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述搬运辊具有在所述宽度方向上排列的多个所述接触部，

多个所述接触部分别为相对于所述轴倾斜的椭圆状。

5.如权利要求4所述的基板处理装置，其中，

所述搬运辊具有：

转轴，沿所述轴延伸；以及

多个辊构件，固定于所述转轴，

所述多个辊构件分别具有所述接触部。

6.如权利要求4或5所述的基板处理装置，其中，

多个所述搬运辊包括：

多个第一搬运辊；以及

多个第二搬运辊，

所述第一搬运辊和所述第二搬运辊沿所述搬运方向交替地排列，

在所述宽度方向上，所述第一搬运辊的所述接触部和所述第二搬运辊的所述接触部交替地排列。

7.如权利要求1～6中任一项所述的基板处理装置，其中，

所述处理液供给部具有喷出所述处理液的喷嘴，

所述搬运机构还具有一个以上圆筒辊，所述圆筒辊配置在所述喷嘴喷出所述处理液的喷出位置的下游侧，

所述圆筒辊具有沿所述宽度方向延伸的一个圆筒面，所述圆筒辊通过一边使所述圆筒面与基板的下表面接触一边以沿所述宽度方向延伸的轴为中心旋转，将基板向所述搬运方向的下游侧搬运。

8.如权利要求1～7中任一项所述的基板处理装置，其中，

所述基板处理装置还具有与基板的所述宽度方向的端部接触的引导辊。

9.如权利要求1～8中任一项所述的基板处理装置，其中，

所述处理液是对形成于基板的上表面的抗蚀剂膜进行显影的显影液。

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