CN115916870A

CN115916870A - 含氟醚化合物及其制造方法、化合物及其制造方法、含氟醚组合物、涂布液、以及物品及其制造方法

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Publication number: CN115916870A
Application number: CN202180042132.9A
Authority: CN
Inventors: 渡边弘毅; 高下隆太
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2020-06-12
Filing date: 2021-06-08
Publication date: 2023-04-04
Anticipated expiration: 2041-06-08
Also published as: JPWO2021251396A1; JP7729338B2; US20230120739A1; CN115916870B; KR20230023713A; WO2021251396A1; JP2025156619A

Abstract

提供能够形成耐久性优异的表面层的含氟醚化合物及其制造方法、含氟醚组合物和涂布液、以及具有耐久性优异的表面层的物品及其制造方法。一种含氟醚化合物，其用下式(A1)或式(A2)表示。{R^fO‑(R^f1O)_m1‑(R¹)_m2‑(CHF)_m3‑O‑(CHF)_m4}_n1‑Q¹(‑T¹)_n2式(A1)。(T²)_n3‑Q²‑(CHF)_m5‑O‑(CHF)_m6‑(R²)_m7‑O‑(R^f2O)_m8‑(R³)_m9‑(CHF)_m10‑O‑(CHF)_m11‑Q³(‑T³)_n4式(A2)。其中，式中的各符号如说明书中记载的那样。

Description

含氟醚化合物及其制造方法、化合物及其制造方法、含氟醚组合物、涂布液、以及物品及其制造方法

技术领域

本发明涉及含氟醚化合物及其制造方法、适于制造该含氟醚化合物等的新型化合物及其制造方法、含氟醚组合物、涂布液、以及物品及其制造方法。

背景技术

具有全氟聚醚链和水解性甲硅烷基的含氟醚化合物能够在基材的表面形成显示高润滑性、拒水拒油性等的表面层，因此，适宜用于表面处理剂。包含含氟醚化合物的表面处理剂被用作要求即便用手指反复摩擦表面层也会长期维持拒水拒油性不易降低的性能(耐摩擦性)和通过擦拭而能够轻易去除附着于表面层的指纹的性能(指纹污垢去除性)的用途、例如构成触摸面板的手指接触面的构件、镜片、可穿戴终端的显示器的表面处理剂。

作为能够在基材的表面形成耐摩擦性和指纹污垢去除性优异的表面层的含氟醚化合物，提出了具有全氟聚醚链和水解性甲硅烷基的含氟醚化合物(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2017/022437号

发明内容

发明要解决的问题

要求上述表面处理剂不仅可应用于例如智能手机、平板终端等的显示器面，还可应用于各种材质的表面处理。寻求进一步提高表面处理剂的耐久性。

本发明的目的在于，提供能够形成耐久性优异的表面层的含氟醚化合物、含氟醚组合物和涂布液、以及具有耐久性优异的表面层的物品、以及作为含氟醚化合物的原料而有用的化合物。

用于解决问题的方案

本发明提供具有下述[1]～[10]的构成的含氟醚化合物及其制造方法、化合物及其制造方法、含氟醚组合物、涂布液、以及物品及其制造方法。

[1]一种含氟醚化合物，其用下式(A1)或式(A2)表示。

{R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-(CHF)_m3-O-(CHF)_m4}_n1-Q¹(-T¹)_n2式(A1)

(T²)_n3-Q²-(CHF)_m5-O-(CHF)_m6-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-(CHF)_m10-O-(CHF)_m11-Q³(-T³)_n4式(A2)

其中，

R^f为碳原子数1～20的氟烷基，存在多个R^f时，存在的多个R^f任选彼此相同或不同，

R^f1和R^f2各自独立地为碳原子数1～6的氟亚烷基，存在多个R^f1或R^f2时，存在的多个R^f1或R^f2各自任选彼此相同或不同，

R¹、R²和R³各自独立地为任选具有氟原子的亚烷基，存在多个R¹时，该R¹任选彼此相同或不同，

Q¹为n1+n2价的连接基团，

Q²为1+n3价的连接基团，

Q³为1+n4价的连接基团，

T¹、T²和T³各自独立地为密合性基团，存在多个T¹、T²或T³时，存在的多个T¹、T²或T³各自任选彼此相同或不同，

m1和m8各自独立地为0～210的整数，存在多个m1时，该m1任选彼此相同或不同，

m2、m7和m9各自独立地为0或1，存在多个m2时，该m2任选彼此相同或不同，

m3和m4各自独立地为0或1，m3+m4为1或2，存在多个(CHF)_m3-O-(CHF)_m4时，该m3与m4的组合任选彼此相同或不同，

m1+m2为1以上，

m7+m8+m9为1以上，

m5和m6各自独立地为0或1，m5+m6为1或2，

m10和m11各自独立地为0或1，m10+m11为1或2，

n1为1～10的整数，

n2、n3和n4各自独立地为1～20的整数。

[2]根据[1]的含氟醚化合物，其中，前述m3、m6或m10为1。

[3]根据[1]或[2]的含氟醚化合物，其中，前述m4、m5或m11为0。

[4]一种化合物，其用下式(B1)或式(B2)表示。

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CHO式(B1)

OHC-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-CHO式(B2)

其中，

R^f为碳原子数1～20的氟烷基，

R¹、R²和R³各自独立地为任选具有氟原子的亚烷基，

m1和m8各自独立地为0～210的整数，

m2、m7和m9各自独立地为0或1。

[5]一种含氟醚化合物的制造方法，其包括：使下式(B1)或式(B2)所示的化合物与下式(C1)所示的化合物发生反应。

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CHO式(B1)

OHC-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-CHO式(B2)

(CH₂＝CH-)_n5-Q⁴(-OH)_n6式(C1)

其中，

R^f为碳原子数1～20的氟烷基，

R¹、R²和R³各自独立地为任选具有氟原子的亚烷基，

Q⁴为n5+n6价的连接基团，

m1和m8各自独立地为0～210的整数，

m2、m7和m9各自独立地为0或1，

n5为1～20的整数，

n6为1～10的整数。

[6]一种下式(B1)或式(B2)所示的化合物的制造方法，其中，使下式(D1)或式(D2)所示的化合物在路易斯酸化合物的存在下与氢化硅化合物发生反应，得到下式(E1)或式(E2)所示的化合物，

使Si(R¹⁶)₃自下式(E1)或式(E2)所示的化合物脱离，得到下式(F1)或式(F2)所示的化合物，

将下式(F1)或式(F2)所示的化合物加热。

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-C(＝O)OR¹¹式(D1)

R¹¹OC(＝O)-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-C(＝O)OR¹¹式(D2)

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CH(OR¹²)₂式(E1)

(R¹²O)₂CH-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-CH(OR¹³)₂式(E2)

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CH(OR¹⁴)₂式(F1)

(R¹⁴O)₂CH-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-CH(OR¹⁵)₂式(F2)

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CHO式(B1)

OHC-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-CHO式(B2)

其中，

R^f为碳原子数1～20的氟烷基，

R¹、R²和R³各自独立地为任选具有氟原子的亚烷基，

R¹¹为氢原子或任选具有取代基的烷基，存在多个R¹¹时，存在的多个R¹¹任选彼此相同或不同，

R¹²和R¹³各自独立地为Si(R¹⁶)₃或R¹¹，存在的多个R¹²和R¹³之中的各自的至少一个为Si(R¹⁶)₃，

R¹⁴和R¹⁵各自独立地为氢原子或R¹¹，存在的多个R¹⁴和R¹⁵之中的各自的至少一个为氢原子，

R¹⁶为氢原子、卤素原子、烷基、芳基或烷氧基，存在的多个R¹⁶任选彼此相同或不同，

m1和m8各自独立地为0～210的整数，

m2、m7和m9各自独立地为0或1。

[7]一种含氟醚组合物，其含有[1]～[3]中任一项的含氟醚化合物中的1种以上、以及其它含氟醚化合物。

[8]一种涂布液，其含有：

[1]～[3]中任一项的含氟醚化合物或[7]的含氟醚组合物；以及

液体介质。

[9]一种物品，其具有由[1]～[3]中任一项的含氟醚化合物或[7]的含氟醚组合物形成的表面层。

[10]一种物品的制造方法，其中，使用[1]～[3]中任一项的含氟醚化合物、[7]的含氟醚组合物或[8]的涂布液，利用干式涂布法或湿式涂布法来形成表面层。

发明的效果

通过本发明，提供能够形成耐久性优异的表面层的含氟醚化合物、含氟醚组合物和涂布液、具有耐久性优异的表面层的物品、以及作为含氟醚化合物的原料而有用的化合物。

附图说明

图1是表示本发明的物品的一例的示意剖视图。

具体实施方式

本说明书中，将式(A1)所示的化合物记作化合物(A1)。其它式所示的化合物等也以此类推。

本说明书中的下述术语的含义如下所示。

“反应性甲硅烷基”是指水解性甲硅烷基和硅烷醇基(Si-OH)的总称。“水解性甲硅烷基”是指能够发生水解反应而形成硅烷醇基的基团。

“表面层”是指在基材表面形成的层。

含氟醚化合物为聚氟聚醚链的链长不同的多种含氟醚化合物的混合物时，聚氟聚醚链的“分子量”是通过¹H-NMR和¹⁹F-NMR计算氧氟亚烷基单元的数量(平均值)而算出的数均分子量。

含氟醚化合物为聚氟聚醚链的链长单一的含氟醚化合物时，聚氟聚醚链的“分子量”是通过¹H-NMR和¹⁹F-NMR确定聚氟聚醚链的结构而算出的分子量。

表示数值范围的“～”是指包含其前后记载的数值作为下限值和上限值。

[含氟醚化合物]

本发明的含氟醚化合物(以下也记作“本化合物”)为下式(A1)或式(A2)所示的含氟醚化合物。

{R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-(CHF)_m3-O-(CHF)_m4}_n1-Q¹(-T¹)_n2式(A1)

其中，

Q¹为n1+n2价的连接基团，

Q²为1+n3价的连接基团，

Q³为1+n4价的连接基团，

m1+m2为1以上，

m7+m8+m9为1以上，

m5和m6各自独立地为0或1，m5+m6为1或2，

m10和m11各自独立地为0或1，m10+m11为1或2，

n1为1～10的整数，

n2、n3和n4各自独立地为1～20的整数。

上述本化合物具有：聚氟聚醚链[R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2]或[(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9]；密合性基团[T]；以及将前述聚氟聚醚链与前述密合性基团连接的特定连接部[-(CHF)_p1-O-(CHF)_p2-Q^p3](其中，p1为m3、m6或m10，p2为m4、m5或m11，p3为1、2或3)。

化合物(A1)为具有“n1个一价聚氟聚醚链-连接基团-密合性基团”的结构的化合物，化合物(A2)为具有“密合性基团-连接基团-二价聚氟聚醚链-连接基团-密合性基团”的结构的化合物。

本化合物具有聚氟聚醚链。具有聚氟聚醚链的本化合物的表面层的指纹污垢去除性优异。另外，本化合物在至少单侧的末端具有2个以上的密合性基团。末端具有2个以上的密合性基团的本化合物会与基材牢固地化学键合，因此，表面层的耐摩擦性优异。进而，本化合物的前述连接基团中，在聚氟聚醚链与连接基团Q^p3之间具有至少1个-O-CHF-。本发明人等发现：通过以与连接基团Q^p3邻接的方式配置该取代基-O-CHF-，从而本化合物对于基材表面的耐久性优异，由此完成了本发明。关于耐久性因该取代基而提高的作用，还有尚未阐明的部分，但可推测：与-O-CH₂-的氢原子相比，-O-CHF-的氢原子借助氧原子和氟原子的作用而带正电荷。并且可推测：该氢原子通过与邻接分子所具有的-O-CHF-的氟原子形成氢键，从而形成FCH…FCH…FCH那样的氢键网络，由此膜的密合性提高，能够得到高耐久性。需要说明的是，“…”表示氢键。另外，通过以与连接基团Q^p3邻接的方式配置取代基-O-CHF-，从而与配置在聚氟聚醚链内的情况相比，可维持形成表面层后的聚氟聚醚链的柔软性。因此，可推测能够得到水接触角大的表面层。

像这样，由本化合物形成的表面层具有如下特征：水接触角大，指纹污垢等的去除性优异，且耐摩擦性、耐化学品性、耐光性等耐久性优异。

通过使R^f为碳原子数1～20的氟烷基，从而表面层的耐摩擦性和指纹污垢去除性更优异。从表面层的耐摩擦性和指纹污垢去除性更优异的观点出发，R^f的氟烷基的碳原子数优选为1～6，更优选为1～4，特别优选为1～3。

作为R^f的氟烷基，从表面层的耐摩擦性和指纹污垢去除性更优异的观点出发，优选为全氟烷基。R^f为全氟烷基的化合物(A1)的末端成为CF₃-。根据末端为CF₃-的化合物(A1)，能够形成表面能量低的表面层，因此，表面层的耐摩擦性和指纹污垢去除性更优异。

作为R^f的氟烷基，可列举出例如CF₃-、CF₃CF₂-、CF₃CF₂CF₂-、CF₃CF₂CF₂CF₂-、CF₃CF₂CF₂CF₂CF₂-、CF₃CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂-、CF₃CF(CF₃)-。

作为(R^f1O)_m1和(R^f2O)_m8，从表面层的耐摩擦性和指纹污垢去除性更优异的观点出发，优选为下式(R^f-1)所示的结构。

(R^f11O)_k1(R^f12O)_k2(R^f13O)_k3(R^f14O)_k4(R^f15O)_k5(R^f16O)_k6式(R^f-1)

其中，

R^f11为碳原子数1的氟亚烷基，

R^f12为碳原子数2的氟亚烷基，

R^f13为碳原子数3的氟亚烷基，

R^f14为碳原子数4的氟亚烷基，

R^f15为碳原子数5的氟亚烷基，

R^f16为碳原子数6的氟亚烷基，

k1、k2、k3、k4、k5、k6各自独立地表示0或1以上的整数，k1+k2+k3+k4+k5+k6为0～210的整数，存在多个R^f11～R^f16时，该存在的多个R^f11～R^f16各自任选彼此相同或不同。

需要说明的是，式(R^f-1)中的(R^f11O)～(R^f16O)的键合顺序是任意的。式(R-1)的k1～k6分别表示(R^f11O)～(R^f16O)的个数，不表示配置。例如，(R^f15O)_k5表示(R^f15O)的数量为k5个，不表示(R^f5O)_k5的嵌段配置结构。同样地，(R^f11O)～(R^f16O)的记载顺序不表示各个单元的键合顺序。

另外，碳原子数3～6的氟亚烷基可以为直链氟亚烷基，也可以为具有支链或环结构的氟亚烷基。

作为R^f11的具体例，可列举出CHF、CF₂。作为R^f12的具体例，可列举出CF₂CF₂、CF₂CHF、CF₂CH₂等。作为R^f13的具体例，可列举出CF₂CF₂CF₂、CF₂CF₂CHF、CF₂CHFCF₂、CF₂CF₂CH₂、CF₂CH₂CF₂、CF(CF₃)CF₂等。作为R^f14的具体例，可列举出CF₂CF₂CF₂CF₂、CF₂CF₂CF₂CH₂、CHFCF₂CF₂CF₂、CF₂CH₂CF₂CF₂、CF(CF₃)CF₂CF₂、全氟环丁烷-1,2-二基等。作为R^f15的具体例，可列举出CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂、CF₂CF₂CF₂CF₂CH₂、CHFCF₂CF₂CF₂CF₂、CF₂CF₂CH₂CF₂CF₂等。作为R^f16的具体例，可列举出CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂、CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CH₂、CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CHF等。

(R^f1O)_m1和(R^f2O)_m8优选至少在其一部分具有下述结构。

{(OCF₂)_k11(OCF₂CF₂)_k12}、

(OCF₂CF₂)_k13、

(OCF₂CF₂CF₂)_k14、

(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂)_k15、

(OCF₂CF₂CF₂)_k16(OCF₂CF₂)_k17、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_k16(OCF₂)_k17、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_k16(OCF₂CF₂)_k17、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_k16(OCF₂)_k17、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_k16(OCF₂CF₂)_k17、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂-OCF₂)_k18、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂-OCF₂CF₂)_k18、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂-OCF₂)_k18、

(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂-OCF₂CF₂)_k18、

(OCF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_k18、

(OCF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_k18、

(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_k18、

(OCF₂CF₂-OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)_k18、

(OCF(CF₃)CF₂)_k19

(OCF₂CF(CF₃))_k20(OCF₂CF₂CF₂)_k21(OCF₂CF₂)_k22。

其中，k11、k12、k13、k14、k15、k16、k17、k18、k19、k20、k21和k22为1以上的整数，上限值根据m1或m8的上限值而调整。

需要说明的是，{(OCF₂)_k11(OCF₂CF₂)_k12}表示k11个(OCF₂)与k12个(OCF₂CF₂)无规配置。

m1和m8各自独立地为0～210。m1为0时，(R^f1O)_m1表示单键。另外，m8为0时，(R^f2O)_m8表示单键。从所得表面层的拒水性等观点出发，m1和m8优选为1～210，更优选为2～210。

作为(R^f1O)_m1和(R^f2O)_m8，从耐化学品性、低折射率性等含氟醚化合物的各特性的观点出发，下述数学式(1)所示的氟化率优选为60％以上、更优选为80％以上，进一步优选实质为100％、即全氟聚醚。

数学式(1)：氟化率(％)＝(氟原子的数量)/{(氟原子的数量)+(氢原子的数量)}×100

R¹、R²和R³各自独立地为任选具有氟原子的亚烷基。从表面层的耐摩擦性和指纹污垢去除性进一步优异的观点出发，R¹～R³优选为氟亚烷基。R¹～R³的亚烷基优选为直链氟亚烷基。另外，R¹～R³的亚烷基的碳原子数优选为1～6。

m2、m7和m9各自独立地为0或1。m2为0时，(R¹)_m2表示单键。m7为0时，(R²)_m7表示单键。另外，m9为0时，(R³)_m9表示单键。从本化合物的合成容易性等观点出发，m2、m7和m9优选为1。

本化合物具有将聚氟聚醚链与密合性基团T连接的连接部[-(CHF)_p1-O-(CHF)_p2-Q^p3](其中，p1为m3、m6或m10，p2为m4、m5或m11，p3为1、2或3)。通过使p1+p2为1或2，从而能够形成前述氢键网络。从所得表面层的拒水性和耐久性观点出发，p1(m3、m6或m10)优选为1。另外，从本化合物的合成容易性等观点出发，p2(m4、m5或m11)优选为0。

Q¹为n1+n2价的连接基团，将n2个密合性基团连接于n1个聚氟聚醚链。Q²为1+n3价的连接基团，Q³为1+n4价的连接基团，在聚氟聚醚链的一端连接n3个密合性基团，在另一端连接n4个密合性基团。在Q¹、Q²和Q³(有时将它们统称为Q^p3)为二价连接基团的情况下，作为该Q^p3，可列举出单键或直链状的连接基团。作为直链状的连接基团，可列举出任选具有取代基的亚烷基。作为Q^p3中的亚烷基，优选为碳原子数1～6的亚烷基。另外，作为该亚烷基任选具有的取代基，可列举出氟原子、烷基等。

在Q^p3为3价以上的连接基团的情况下，该连接基团为具有分枝点P的基团。作为分枝点P，可列举出C、N、Si、环结构、有机聚硅氧烷残基等。

作为构成分枝点的环结构，从容易制造本化合物的观点和由本化合物形成的表面层的耐久性等观点出发，优选为选自由3～8元环的脂肪族环、3～8元环的芳香族环、3～8元环的杂环、以及包含这些环之中的两个以上的稠环组成的组中的1种，特别优选为下式列举出的环结构。需要说明的是，环结构任选具有卤素原子、烷基(在碳-碳原子之间任选包含醚性氧原子)、环烷基、烯基、烯丙基、烷氧基、桥氧基(＝O)等取代基。

作为构成分枝点的有机聚硅氧烷残基，可列举出例如下述基团。其中，下式中的R⁵为氢原子、烷基、烷氧基或苯基。R⁵的烷基和烷氧基的碳原子数优选为1～10，特别优选为1。

Q^p3任选具有选自由-C(O)NR⁶-、-C(O)O-、-C(O)-、-O-、-NR⁶-、-S-、-OC(O)O-、-NHC(O)O-、-NHC(O)NR⁶-、-SO₂NR⁶-、-Si(R⁶)₂-、-OSi(R⁶)₂-、-Si(CH₃)₂-Ph-Si(CH₃)₂-和二价有机聚硅氧烷残基组成的组中的至少1种键B，从容易制造本化合物的观点出发，优选为选自由-C(O)NR⁶-、-C(O)-、-NR⁶-和-O-组成的组中的至少1种键，从表面层的耐光性和耐化学品性优异的观点出发，更优选为-C(O)NR⁶-或-C(O)-。在上述键中，R⁶为氢原子、碳原子数1～6的烷基或苯基，Ph为亚苯基。从容易制造本化合物的观点出发，R⁶的烷基的碳原子数优选为1～3，特别优选为1～2。

作为二价有机聚硅氧烷残基，可列举出例如下式的基团。其中，下式中的R⁷为氢原子、烷基、烷氧基或苯基。

R⁷的烷基和烷氧基的碳原子数优选为1～10，特别优选为1。

作为Q^p3，可列举出：2个以上的二价烃基与1个以上的分枝点P的组合、或者2个以上的烃基与1个以上的分枝点P与1个以上的键B的组合。

作为二价烃基，可列举出例如二价脂肪族烃基(亚烷基、亚环烷基等)、二价芳香族烃基(亚苯基等)。二价烃基的碳原子数优选为1～10，更优选为1～6，特别优选为1～4。

作为前述Q^p3，从容易制造本化合物的观点出发，优选为下式(Q1)～(Q7)中任一项所示的基团。

(-A¹-)_e1C(R²²)_4-e1-e2(-Q²²-)_e2式(Q2)

-A²-N(-Q²³-)₂式(Q3)

(-A³-)_h1Z¹(-Q²⁴-)_h2式(Q4)

(-A²-)_i1Si(R²³)_4-i1-i2(-Q²⁵-)_i2式(Q5)

-A¹-Q²⁶-式(Q6)

-A¹-CH(-Q²²-)-Si(R²³)_3-i3(-Q²⁵-)_i3式(Q7)

其中，式(Q1)～式(Q7)中，A¹、A²或A³侧与聚氟聚醚链侧连接，Q²²、Q²³、Q²⁴、Q²⁵或Q²⁶侧与密合性基团T¹、T²或T³连接，

A¹为单键、亚烷基、或者在碳原子数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR²⁶-、-C(O)-、-NR²⁶-或-O-的基团，

A²为亚烷基、或者在碳原子数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR²⁶-、-C(O)-、-NR²⁶-或-O-的基团，

在A³所键合的Z¹中的原子为碳原子时，A³为A¹，在A³所键合的Z¹中的原子为氮原子时，A³为A²，

Q¹¹为单键、-O-、亚烷基、或者在碳原子数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR²⁶-、-C(O)-、-NR²⁶-或-O-的基团，

Q²²为亚烷基；在碳原子数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR²⁶-、-C(O)-、-NR²⁶-或-O-的基团；在亚烷基的不与密合性基团T连接的一侧的末端具有-C(O)NR²⁶-、-C(O)-、-NR²⁶-或-O-的基团；或者，在碳原子数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR²⁶-、-C(O)-、-NR²⁶-或-O-且在不与密合性基团T连接的一侧的末端具有-C(O)NR²⁶-、-C(O)-、-NR²⁶-或-O-的基团，Q^p3具有2个以上的Q²²时，2个以上的Q²²任选彼此相同或不同，

Q²³为亚烷基、或者在碳原子数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR²⁶-、-C(O)-、-NR²⁶-或-O-的基团，2个Q²³任选彼此相同或不同，

Q²⁴所键合的Z¹中的原子为碳原子时，Q²⁴为Q²²，Q²⁴所键合的Z¹中的原子为氮原子时，Q²⁴为Q²³，Q^p3具有2个以上的Q²⁴时，2个以上的Q²⁴任选彼此相同或不同，

Q²⁵为亚烷基、或者在碳原子数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR²⁶-、-C(O)-、-NR²⁶-或-O-的基团，Q^p3具有2个以上的Q²⁵时，2个以上的Q²⁵任选彼此相同或不同，

Q²⁶为亚烷基、或者在碳原子数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR²⁶-、-C(O)-、-NR²⁶-或-O-的基团，

Z¹为具有(h1+h2)价环结构的基团，所述环结构具有与A³直接键合的碳原子或氮原子，且具有与Q²⁴直接键合的碳原子或氮原子，

R²¹为氢原子或烷基，Q^p3具有2个以上的R²¹时，2个以上的R²¹任选彼此相同或不同，

R²²为氢原子、羟基、烷基或酰氧基，Q^p3具有2个以上的R²²时，2个以上的R²²任选彼此相同或不同，

R²³为烷基，Q^p3具有2个以上的R²³时，2个以上的R²³任选彼此相同或不同，

R²⁶为氢原子、碳原子数1～6的烷基或苯基，

d1为0～3的整数，d2为0～3的整数，d1+d2为1～3的整数，

d3为0～3的整数，d4为0～3的整数，d3+d4为1～3的整数，

d1+d3在Q¹中为1～5的整数，在Q²和Q³中为1，

d2+d4为1～5的整数，

e1在Q¹中为1～3的整数，在Q²和Q³中为1，

e2为1～3的整数，

e1+e2为2～4的整数，

h1在Q¹中为1以上的整数，在Q²和Q³中为1，

h2为1以上的整数，

i1在Q¹中为1～3的整数，在Q²和Q³中为1，

i2为1～3的整数，

i1+i2为2～4的整数，

i3为1～3的整数。

从容易制造本化合物的观点以及表面层的耐摩擦性、耐光性和耐化学品性更优异的观点出发，Q¹¹、Q²²、Q²³、Q²⁴、Q²⁵或Q²⁶的亚烷基的碳原子数优选为1～10，更优选为1～6，特别优选为1～4。其中，在碳-碳原子之间具有特定键时的亚烷基的碳原子数的下限值为2。

作为Z¹中的环结构，可列举出上述环结构，优选形态也相同。

从容易制造本化合物的观点出发，R²¹、R²²或R²³的烷基的碳原子数优选为1～6，更优选为1～3，特别优选为1～2。

从容易制造本化合物的观点出发，R²²的酰氧基的烷基部分的碳原子数优选为1～6，更优选为1～3，特别优选为1～2。

从容易制造本化合物的观点以及表面层的耐摩擦性和指纹污垢去除性更优异的观点出发，h1+h2优选为2～6，更优选为2～4，特别优选为2或3。

作为前述Q^p3的其它形态，可列举出下式(Q11)～(Q17)中任一项所示的基团。

(-A¹-)_e1C(R²²)_4-e1-e2(-Q²²-G)_e2式(Q12)

-A²-N(-Q²³-G)₂式(Q13)

(-A³-)_h1Z¹(-Q²⁴-G)_h2式(Q14)

(-A²-)_i1Si(R²³)_4-i1-i2(-Q²⁵-G)_i2式(Q15)

-A¹-Q²⁶-G式(Q16)

-A¹-CH(-Q²²-)-Si(R²³)_3-i3(-Q²⁵-G)_i3式(Q17)

其中，式(Q11)～式(Q17)中，A¹、A²或A³侧与聚氟聚醚链侧连接，G侧与密合性基团T¹、T²或T³连接。G为下式(G1)所示的基团，Q^p3所具有的2个以上的G任选彼此相同或不同。除G之外的符号与式(Q1)～式(Q7)中的符号相同。

-Si(R²⁷)_3-j1(-Q²⁷-)_j1式(G1)

其中，式(G1)中，Si侧与Q²²、Q²³、Q²⁴、Q²⁵或Q²⁶连接，Q²⁷侧与密合性基团T连接。R²⁷为烷基。Q²⁷为亚烷基、在碳原子数2以上的亚烷基的碳-碳原子之间具有-C(O)NR²⁸-、-C(O)-、-NR²⁸-或-O-的基团、或者-(OSi(R²⁹)₂)_j2-O-，2个以上的Q²⁷任选彼此相同或不同。j1为2或3。R²⁸为氢原子、碳原子数1～6的烷基或苯基。

R²⁹为烷基、苯基或烷氧基，2个R²⁹任选相同或不同。j2为0～5的整数，j2为2以上时，2个以上的(OSi(R²⁹)₂)任选彼此相同或不同。

从容易制造本化合物的观点以及表面层的耐摩擦性、耐光性和耐化学品性更优异的观点出发，Q²⁷的亚烷基的碳原子数优选为1～10，更优选为1～6，特别优选为1～4。其中，在碳-碳原子之间具有特定键时的亚烷基的碳原子数的下限值为2。

从容易制造本化合物的观点出发，R²⁸的烷基的碳原子数优选为1～6，更优选为1～3，特别优选为1～2。

从容易制造本化合物的观点出发，R²⁹的烷基的碳原子数优选为1～6，更优选为1～3，特别优选为1～2。

j2优选为0或1。

T¹、T²和T³(有时将它们统称为T)是在形成表面层时配置在基材面侧并显示出与基材的密合性的基团。T可以与基材表面等形成化学键，也可以化学吸附或物理吸附于基材表面。

从耐久性的观点出发，T优选与基材表面化学键合。

作为密合性基团T，可列举出溴原子、碘原子、羟基、氨基、羧基、醛基、环氧基、硫醇基、磷酸基、膦酸基、不饱和烃基、芳基、反应性甲硅烷基等，优选根据应用的基材材质来适当选择。

作为密合性基团T中的氨基，可列举出-NR³²R³³(R³²、R³³各自独立地为氢原子或烷基)，从表面层的耐久性的观点出发，其中优选为-NH₂。

作为密合性基团T中的磷酸基，可列举出-OP(＝O)(OR³⁴)₂(R³⁴为氢原子或烷基，存在的多个R³⁴任选彼此相同或不同)，从表面层的耐久性的观点出发，其中优选为-OP(＝O)(OH)₂。

作为密合性基团T中的膦酸基，可列举出-P(＝O)(OR³⁵)₂(R³⁵与上述R³⁴相同)，从表面层的耐久性的观点出发，其中优选为-P(＝O)(OH)₂。

作为密合性基团T中的不饱和烃基，可列举出丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基等。

作为密合性基团T中的芳基，可列举出苯基、萘基、蒽基等。

另外，作为密合性基团T中的反应性甲硅烷基，可列举出-Si(R³¹)_3-c(L³¹)_c所示的基团。

L³¹为水解性基团或羟基，反应性甲硅烷基为水解性基团和羟基中的至少一者键合于硅原子而得到的基团。

水解性基团是通过水解反应而形成羟基的基团。即，水解性甲硅烷基通过水解反应而形成硅烷醇基(Si-OH)。硅烷醇基进一步在分子之间发生脱水缩合反应，形成Si-O-Si键。另外，硅烷醇基与基材表面的羟基(基材-OH)发生脱水缩合反应，形成化学键(基材-O-Si)。

作为水解性基团，可列举出例如烷氧基、芳氧基、卤素原子、酰基、酰氧基、异氰酸酯基。作为烷氧基，优选为碳原子数1～6的烷氧基。作为芳氧基，优选为碳原子数3～10的芳氧基。作为卤素原子，优选为氯原子。作为酰基，优选为碳原子数1～6的酰基。作为酰氧基，优选为碳原子数1～6的酰氧基。作为L³¹，其中优选为碳原子数1～4的烷氧基或卤素原子。

作为水解性基团，从容易制造本化合物的观点出发，优选为烷氧基或卤素原子。作为水解性基团，从涂布时的脱气少、本化合物的保存稳定性优异的观点出发，优选为碳原子数1～4的烷氧基，在需要本化合物的长期保存稳定性的情况下，特别优选为乙氧基，在将涂布后的反应时间设为短时间的情况下，特别优选为甲氧基。

从容易制造本化合物的观点出发，R³¹的烷基的碳原子数优选为1～6，更优选为1～3，特别优选为1～2。

从表面层与基材的密合性变得更牢固的观点出发，c优选为2或3，更优选为3。

用“密合性基团T-基材”的形式来例示出密合性基团T与基材和材质的适宜组合。

溴原子-氮化硅、氢终端化氮化硅、

碘原子-氢终端化金刚石、

羟基-氢终端化硅、卤化硅、氧化硅(SiO₂)、氧化铝(Al₂O₃)、类金刚石的碳(DLC)、

氨基-氧化铟锡(ITO)、云母、

羧基-Al₂O₃、氧化银(AgO)、氧化铜(CuO)、锆修饰氧化铝(Zr/Al₂O₃)、胺末端氧化物(NH₂-terminated oxide)、氧化锡(SnO₂)、

醛基、环氧基-氢终端化硅、卤化硅、

硫醇基-金(Au)、

磷酸基、膦酸基-氧化锆(ZrO₂)、氧化钛(TiO₂)、Al₂O₃、氧化钽(Ta₂O₅)、Zr/Al₂O₃、

不饱和烃基-氢终端化金刚石、氢终端化硅、卤化硅、氮化硅、氢终端化氮化硅、聚酰亚胺(PI)、丙烯酸类、

芳基-Al₂O₃、DLC、

反应性甲硅烷基-玻璃、Au、云母、SiO₂、氧化锡(SnO₂)、氧化锗(GeO₂)、ZrO₂、TiO₂、Al₂O₃、ITO、不锈钢(SUS)、锆钛酸铅(PZT)。

其中，不限定于这些组合，本化合物可以与各种基材组合使用。

作为本化合物的具体例，可列举出下式的化合物。从容易工业制造、容易处理、表面层的拒水拒油性、耐摩擦性、指纹污垢去除性、润滑性、耐化学品性、耐光性和耐化学品性更优异、其中耐化学品性特别优异的观点出发，优选为下式的化合物。

n11～n33为0～210的整数。

(本化合物的制造方法)

本化合物的制造方法不限定于下述方法，但根据下述制造方法，能够以高收率得到本化合物。即，本发明所述的含氟醚化合物的制造方法(以下也称为本制造方法)是式(A1)或式(A2)所示的含氟醚化合物的制造方法，其包括：使下式(B1)或式(B2)所示的化合物与下式(C1)所示的化合物发生反应。

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CHO式(B1)

OHC-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-CHO式(B2)

(CH₂＝CH-)_n5-Q⁴(-OH)_n6式(C1)

其中，R^f、R^f1、R^f2、R¹、R²、R³、m1、m2、m7、m8、m9与前述化合物(A1)和化合物(A2)中的基团相同，优选方式也相同。

Q⁴为n5+n6价的连接基团，

n5为1～20的整数，

n6为1～10的整数。

Q⁴是成为化合物(A1)中的Q¹或化合物(A2)中的Q²或Q³的部分，优选方式与前述Q^p3相同。

n5是成为化合物(A1)中的n2或化合物(A2)中的n3或n4的部分，优选方式也相同。

n6是成为化合物(A1)中的n1的部分，优选方式也相同。

需要说明的是，使化合物(B2)与化合物(C1)发生反应时，选择n6为1的化合物。

化合物(C1)中的CH₂＝CH-相当于化合物(A1)和化合物(A2)中的密合性基团T。另外，根据需要，也可以与具有其它密合性基团的化合物发生反应而导入其它密合性基团。

例如，若使化合物(B1)与n6为1的化合物(C1)发生反应，则能够得到R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CH(OH)-O-Q⁴-(CH＝CH₂)_n5。通过使用氟化剂对该化合物进行氟化，从而得到R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CHF-O-Q⁴-(CH＝CH₂)n5。

作为氟化剂，可列举出例如双(2-甲氧基乙基)氨基三氟化硫、二乙氨基三氟化硫、全氟-1-丁磺酰氟、1,1,2,2-四氟-N,N-二甲基乙基胺、(二乙基氨基)二氟化锍四氟硼酸盐、4-叔丁基-2,6-二甲基苯基三氟化硫、2-氯-1,3-双(2,6-二异丙基苯基)-1H-氯化咪唑鎓-氟化铯、吡啶-2-磺酰氟等。

向-(CH＝CH₂)_n5中导入例如反应性甲硅烷基时，可通过使前述化合物与下述化合物3a发生硅氢化反应的方法来制造。

HSi(R³¹)_3-c(L³¹)_c式3a

其中，式3a中的符号与前述本化合物中的符号相同，优选方式也相同。化合物3a可以合成，也可以使用市售品。

前述化合物(B1)和化合物(B2)是适合于本制造方法的新型化合物。化合物(B1)和化合物(B2)的制造方法不限定于下述方法，但根据下述制造方法，能够以高收率得到化合物(B1)和化合物(B2)。

即，本发明所述的化合物(B1)或化合物(B2)的制造方法是下式(B1)或式(B2)所示的化合物的制造方法，其中，

使下式(D1)或式(D2)所示的化合物在路易斯酸化合物的存在下与氢化硅化合物HSi(R¹⁶)₃发生反应，得到下式(E1)或式(E2)所示的化合物，

将下式(F1)或式(F2)所示的化合物加热。

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-C(＝O)OR¹¹式(D1)

R¹¹OC(＝O)-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-C(＝O)OR¹¹式(D2)

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CH(OR¹²)₂式(E1)

(R¹²O)₂CH-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-CH(OR¹³)₂式(E2)

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CH(OR¹⁴)₂式(F1)

(R¹⁴O)₂CH-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-CH(OR¹⁵)₂式(F2)

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CHO式(B1)

OHC-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-CHO式(B2)。

其中，R^f、R^f1、R^f2、R¹、R²、R³、m1、m2、m7、m8和m9与前述本化合物中的基团相同，优选方式也相同，

R¹⁶为氢原子、卤素原子、烷基、芳基或烷氧基，存在的多个R¹⁶任选彼此相同或不同。

R¹¹～R¹⁶是不会残留在化合物(B1)、化合物(B2)和本化合物中的部位，因此，从反应性和获取性的观点出发适当选择即可。

作为R¹¹中的烷基，优选为甲基或乙基，从反应性的观点出发，更优选为甲基。

作为R¹⁶，优选为烷基，更优选为乙基。

另外，作为本化合物的其它制造方法，其特征在于，具有使下式(B3)或式(B4)所示的化合物与下式(C2)所示的化合物发生反应的工序。

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-OH式(B3)

OH-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-CHO式(B4)

(CH₂＝CH-)_n5-Q⁴(-CHO)_n6式(C2)

其中，式中的各符号与前述化合物(B1)、化合物(B2)和化合物(C1)中的符号相同，优选方式也相同。

[含氟醚组合物]

本发明的含氟醚组合物(以下也称为本组合物)是包含作为本化合物的前述含氟化合物以及选自除该本化合物之外的含氟化合物和下述杂质中的至少任意者的组合物。作为杂质，可列举出本化合物和其它含氟化合物的在制造上不可避免的化合物等。需要说明的是，本组合物不包括后述液体介质。

作为其它含氟化合物，可列举出：在本化合物的制造过程中副产的含氟化合物(以下也称为副产的含氟化合物)、在与本化合物相同的用途中使用的公知的含氟化合物等。

作为其它含氟化合物，优选为使本化合物的特性降低的风险小的化合物。

从充分发挥本化合物的特性的观点出发，其它含氟化合物的含量在本组合物总量中优选小于50质量％，更优选小于30质量％，进一步优选小于10质量％。

作为副产的含氟化合物，可列举出在合成本化合物时的未反应的含氟化合物等。本组合物包含副产的含氟化合物时，可以简化用于去除该副产的含氟化合物或降低该副产的含氟化合物量的精制工序。

作为公知的含氟化合物，可列举出例如下述文献中记载的化合物。

日本特开平11-029585号公报中记载的全氟聚醚改性氨基硅烷、

日本专利第2874715号公报中记载的含硅有机含氟聚合物、

日本特开2000-144097号公报中记载的有机硅化合物、

日本特开2000-327772号公报中记载的全氟聚醚改性氨基硅烷、

日本特表2002-506887号公报中记载的氟化硅氧烷、

日本特表2008-534696号公报中记载的有机硅化合物、

日本专利第4138936号公报中记载的氟化改性含氢聚合物、

美国专利申请公开第2010/0129672号说明书、国际公开第2014/126064号、日本特开2014-070163号公报中记载的化合物、

国际公开第2011/060047号、国际公开第2011/059430号中记载的有机硅化合物、

国际公开第2012/064649号中记载的含氟有机硅烷化合物、

日本特开2012-72272号公报中记载的含有氟氧亚烷基的聚合物、

国际公开第2013/042732号、国际公开第2013/121984号、国际公开第2013/121985号、国际公开第2013/121986号、国际公开第2014/163004号、日本特开2014-080473号公报、国际公开第2015/087902号、国际公开第2017/038830号、国际公开第2017/038832号、国际公开第2017/187775号中记载的含氟醚化合物、

日本特开2014-218639号公报、国际公开第2017/022437号、国际公开第2018/079743号、国际公开第2018/143433号中记载的含有全氟(聚)醚的硅烷化合物、

日本特开2015-199906号公报、日本特开2016-204656号公报、日本特开2016-210854号公报、日本特开2016-222859号公报中记载的含有氟聚醚基的聚合物改性硅烷、

国际公开第2018/216630号、国际公开第2019/039226号、国际公开第2019/039341号、国际公开第2019/039186号、国际公开第2019/044479号、日本特开2019-44158号公报、国际公开第2019/044479号、国际公开第2019/163282号中记载的含氟醚化合物。

另外，作为含氟化合物的市售品，可列举出信越化学工业公司制的KY-100系列(KY-178、KY-185、KY-195等)、AGC公司制的Afluid(注册商标)S550、大金工业公司制的Optool(注册商标)DSX、Optool(注册商标)AES、Optool(注册商标)UF503、Optool(注册商标)UD509等。

本组合物中的本化合物的比例小于100质量％，优选为60质量％以上，更优选为70质量％以上，进一步优选为80质量％以上。

本组合物包含其它含氟化合物时，本组合物中的其它含氟化合物相对于本化合物与其它含氟化合物的总量的比例优选为40质量％以下，更优选为30质量％以下，进一步优选为20质量％以下。

本组合物中的本化合物与其它含氟化合物的总比例优选为80质量％以上，更优选为85质量％以上。

如果本化合物和其它含氟化合物的含量在前述范围内，则表面层的拒水拒油性、耐摩擦性、指纹污垢去除性、润滑性、外观优异。

[涂布液]

本发明的涂布液(以下也称为本涂布液)包含本化合物或本组合物，且包含液体介质。本涂布液只要为液体即可，可以为溶液，也可以为分散液。

本涂布液只要包含本化合物或本组合物即可，可以包含在本化合物的制造工序中生成的副产物等杂质。

本化合物或本组合物的浓度在本涂布液中优选为0.001～40质量％，更优选为0.01～20质量％，进一步优选为0.1～10质量％。

作为液体介质，优选为有机溶剂。有机溶剂可以为氟系有机溶剂，也可以为非氟系有机溶剂，还可以包含两种溶剂。

作为氟系有机溶剂，可列举出氟化烷烃、氟化芳香族化合物、氟烷基醚、氟化烷基胺、氟醇等。

作为氟化烷烃，优选为碳原子数4～8的化合物。作为市售品，可列举出例如C₆F₁₃H(AGC公司制、ASAHIKLIN(注册商标)AC-2000)、C₆F₁₃C₂H₅(AGC公司制、ASAHIKLIN(注册商标)AC-6000)、C₂F₅CHFCHFCF₃(Chemours公司制、Vertrel(注册商标)XF)等。

作为氟化芳香族化合物，可列举出例如六氟苯、三氟甲基苯、全氟甲苯、双(三氟甲基)苯等。

作为氟烷基醚，优选为碳原子数4～12的化合物。作为市售品，可列举出例如CF₃CH₂OCF₂CF₂H(AGC公司制、ASAHIKLIN(注册商标)AE-3000)、C₄F₉OCH₃(3M公司制、Novec(注册商标)7100)、C₄F₉OC₂H₅(3M公司制、Novec(注册商标)7200)、C₂F₅CF(OCH₃)C₃F₇(3M公司制、Novec(注册商标)7300)等。

作为氟化烷基胺，可列举出例如全氟三丙基胺、全氟三丁基胺等。

作为氟醇，可列举出例如2,2,3,3-四氟丙醇、2,2,2-三氟乙醇、六氟异丙醇等。

作为非氟系有机溶剂，优选为仅由氢原子和碳原子形成的化合物、以及仅由氢原子和碳原子和氧原子形成的化合物，可列举出烃系有机溶剂、醇系有机溶剂、酮系有机溶剂、醚系有机溶剂、酯系有机溶剂。

本涂布液优选包含75～99.999质量％的液体介质，更优选包含85～99.99质量％，特别优选包含90～99.9质量％。

本涂布液除了包含本化合物或本组合物且包含液体介质之外，也可以在不损害本发明效果的范围内包含除它们之外的其它成分。

作为其它成分，可列举出例如促进水解性甲硅烷基的水解和缩合反应的酸催化剂、碱性催化剂等公知添加剂。

本涂布液中的其它成分的含量优选为10质量％以下，更优选为1质量％以下。

本涂布液的本化合物与其它成分的总浓度或者本组合物与其它成分的总浓度(以下也称为固体成分浓度)优选为0.001～40质量％，更优选为0.01～20质量％，进一步优选为0.01～10质量％，特别优选为0.01～1质量％。涂布液的固体成分浓度是根据加热前的涂布液的质量和利用120℃的对流式干燥机加热4小时后的质量而算出的值。

[物品]

图1是表示本发明的物品的一例的示意剖视图。本发明的第一物品是依次具有基材12、基底层14和表面层22的物品20，

前述基底层含有包含硅的氧化物，前述表面层含有前述本化合物的缩合体。

上述第一物品中的基材的材质和形状根据本物品的用途等进行适当选择即可。作为基材的材质，可列举出玻璃、树脂、蓝宝石、金属、陶瓷、石头、它们的复合材料。玻璃可以经化学强化。尤其是，作为要求拒水拒油性的基材，可列举出触摸面板用基材、显示器用基材、构成电子设备壳体的基材等。触摸面板用基材、显示器用基材具有透光性。“具有透光性”是指基于JIS R3106:1998(ISO 9050:1990)的垂直入射型可见光透射率为25％以上。作为触摸面板用基材的材料，优选为玻璃或透明树脂。

基材可以是要设置基底层的面实施了电晕放电处理、等离子体处理、等离子体接枝聚合处理等表面处理而得到的基材。在实施了表面处理的表面，基材与基底层的粘接性更优异，其结果，表面层的耐磨耗性进一步提高。作为表面处理，从表面层的耐磨耗性更优异的观点出发，优选为电晕放电处理或等离子体处理。

基底层是至少含有包含硅的氧化物的层，也可以进一步具有其它元素。通过使基底层含有氧化硅，从而前述本化合物的部分结构(2)发生脱水缩合，在基底层之间形成Si-O-Si键，形成磨耗耐久性优异的表面层。

基底层中的氧化硅的含量只要为65质量％以上即可，优选为80质量％以上，更优选为85质量％以上，进一步优选为90质量％以上。如果氧化硅的含量为前述范围的下限值以上，则在基底层中充分形成Si-O-Si键，充分确保基底层的机械特性。氧化硅的含量是从其它元素的总含量(在氧化物的情况下为氧化物换算量)的合计中去除基底层的质量而得到的余量。

从表面层的耐久性的观点出发，基底层中的氧化物优选还含有选自碱金属元素、碱土金属元素、铂族元素、硼、铝、磷、钛、锆、铁、镍、铬、钼和钨中的1种以上元素。通过含有这些元素，从而基底层与前述本化合物的键合变强，耐磨耗性提高。

基底层包含选自铁、镍和铬中的1种以上时，它们的总含量以相对于氧化硅的比例计优选为10～1100质量ppm，更优选为50～1100质量ppm，进一步优选为50～500质量ppm，特别优选为50～250质量ppm。

基底层包含选自铝和锆中的1种以上时，它们的总含量优选为10～2500质量ppm，更优选为15～2000质量ppm，进一步优选为20～1000质量ppm。

基底层包含碱金属元素时，它们的总含量优选为0.05～15质量％，更优选为0.1～13质量％，进一步优选为1.0～10质量％。需要说明的是，作为碱金属元素，可列举出锂、钠、钾、铷和铯。

基底层包含铂族元素时，它们的总含量优选为0.02质量ppm以上且800质量ppm以下，更优选为0.04质量ppm以上且600质量ppm以下，进一步优选为0.7质量ppm以上且200质量ppm以下。需要说明的是，作为铂族元素，可列举出铂、铑、钌、钯、锇、铱。

基底层包含选自硼和磷中的1种以上时，从表面层的耐磨耗性的观点出发，它们的总含量以硼与磷的总摩尔浓度相对于硅的摩尔浓度之比计优选为0.003～9，更优选为0.003～2，进一步优选为0.003～0.5。

基底层包含碱土金属元素时，从表面层的耐磨耗性的观点出发，它们的总含量以碱土金属元素的总摩尔浓度相对于硅的摩尔浓度之比计优选为0.005～5，更优选为0.005～2，进一步优选为0.007～2。需要说明的是，作为碱土金属元素，可列举出锂、钠、钾、铷和铯。

从提高本化合物的粘接性、提高物品的拒水拒油性和耐磨耗性的观点出发，基底层优选为包含碱金属原子的氧化硅层。其中，在该氧化硅层中，自与前述表面层接触的面起的深度在0.1～0.3nm区域内的碱金属原子的浓度的平均值优选为2.0×10¹⁹atoms/cm³以上。另一方面，从充分确保氧化硅层的机械特性的观点出发，前述碱金属原子的浓度的平均值优选为4.0×10²²atoms/cm³以下。

基底层的厚度优选为1～200nm，特别优选为2～20nm。如果基底层的厚度为前述范围的下限值以上，则容易充分获得利用基底层来提高粘接性的效果。如果基底层的厚度为前述范围的上限值以下，则基底层自身的耐磨耗性变高。作为测定基底层的厚度的方法，可列举出：基于利用电子显微镜(SEM、TEM等)进行基底层的截面观察的方法；使用光干涉膜厚计、光谱椭偏仪、高低差计等的方法。

基底层的形成方法可列举出例如在基材表面蒸镀具有期望基底层的组成的蒸镀材料的方法等。

作为一例，蒸镀法可列举出真空蒸镀法。真空蒸镀法是使蒸镀材料在真空槽内蒸发而附着于基材表面的方法。

蒸镀时的温度(例如，使用真空蒸镀装置时，是设置蒸镀材料的舟的温度)优选为100～3000℃，特别优选为500～3000℃。

蒸镀时的压力(例如，使用真空蒸镀装置时，是设置蒸镀材料的槽内的绝对压力)优选为1Pa以下，特别优选为0.1Pa以下。

使用蒸镀材料来形成基底层时，可以使用一个蒸镀材料，也可以使用包含不同元素的两种以上的蒸镀材料。

作为蒸镀材料的蒸发方法，可列举出：使蒸镀材料在高熔点金属制的电阻加热用舟上熔融蒸发的电阻加热法；对蒸镀材料照射电子束，将蒸镀材料直接加热而使表面熔融并蒸发的电子枪法等。作为蒸镀材料的蒸发方法，从因能够局部加热而还能够使高熔点物质蒸发的观点、因未接触电子束的部位为低温而不担心与容器发生反应或混入杂质的观点出发，优选为电子枪法。作为电子枪法中使用的蒸镀材料，从即便产生气流也不易飞散的观点出发，优选为熔融粒状体或烧结体。

基底层上的表面层含有前述本化合物的缩合体。本化合物的缩合体包括：通过本化合物中的水解性甲硅烷基发生水解反应而形成硅烷醇基(Si-OH)，硅烷醇基在分子间发生缩合反应而形成Si-O-Si键的物质；以及，本化合物中的硅烷醇基与基底层的表面的硅烷醇基或Si-OM基(其中，M为碱金属元素)发生缩合反应而形成Si-O-Si键的物质。另外，表面层可以包含除本化合物之外的含氟化合物的缩合体。即，表面层以含氟化合物的一部分或全部反应性甲硅烷基发生了缩合反应的状态包含具有反应性甲硅烷基的含氟化合物。

表面层的厚度优选为1～100nm，特别优选为1～50nm。如果表面层的厚度为前述范围的下限值以上，则充分获得基于表面层的效果。如果表面层的厚度为前述范围的上限值以下，则利用效率高。

表面层的厚度是利用薄膜分析用X射线衍射计而得到的厚度。表面层的厚度可使用薄膜分析用X射线衍射计，通过X射线反射率法而得到反射X射线的干涉图案，并根据干涉图案的振动周期进行计算。

本发明的第二物品是依次具有基材12和表面层22的物品20，

前述基材含有包含硅的氧化物，

前述表面层含有前述本化合物的缩合体。

第二物品中的基材具有前述第一物品中的基底层的组成，因此，即便在基材直接形成表面层，表面层的磨耗耐久性也优异。

第二物品中的基材的材质只要具有前述基底层的组成即可，例如，可以为玻璃基材等。基材材质的详情与前述基底层的材质相同，因此，省略此处的说明。另外，表面层的构成也与前述第一物品相同，因此，省略此处的说明。

[物品的制造方法]

本发明所述的物品的制造方法是使用前述含氟化合物、含有前述含氟化合物的组合物或前述涂布液，并利用干式涂布法或湿式涂布法而形成表面层的方法。

本化合物和本组合物可直接用于干式涂布法。本化合物和本组合物适于通过干式涂布法来形成密合性优异的表面层。作为干式涂布法，可列举出真空蒸镀、CVD、溅射等方法。从抑制本化合物分解的观点和装置简便度的观点出发，可适宜地利用真空蒸镀法。

真空蒸镀中可以使用使由铁、钢等金属材料形成的金属多孔体担载本化合物而得到的粒料状物质。担载有本化合物的粒料状物质可通过使本化合物的溶液浸渗至金属多孔体并干燥，去除液体介质来制造。作为本化合物的溶液，可以使用本涂布液。

本涂布液可适宜地用于湿式涂布法。作为湿式涂布法，可列举出旋涂法、擦涂法、喷涂法、揉涂法(squeezy coat method)、浸涂法、模涂法、喷墨法、流涂法、辊涂法、流延法、Langmuir-Blodgett法、凹版涂布法等。

为了提高表面层的耐摩擦性，根据需要，可以进行用于促进本化合物与基材的反应的操作。作为该操作，可列举出加热、加湿、光照射等。例如，可以在具有水分的大气中将形成有表面层的基材加热，从而促进水解性基团的水解反应、基材表面的羟基等与硅烷醇基的反应、由硅烷醇基的缩合反应而实现的硅氧烷键的生成等反应。

在表面处理后，表面层中的不与其它化合物、基材进行化学键合的化合物可根据需要加以去除。作为具体方法，可列举出例如使溶剂在表面层流动的方法、用含浸有溶剂的布进行拭取的方法等。

实施例

以下，使用实施例更详细地说明本发明，但本发明不限定于这些实施例。以下，“％”只要没有特别记载，就是“质量％”。需要说明的是，例1～4、8～11为实施例，例5～7、12～14为比较例。

[合成例1：化合物(1)的合成]

添加二烯丙基丙二酸二乙酯(60.0g)、氯化锂(23.7g)、水(6.45g)、二甲基亚砜(263g)，以160℃进行搅拌。在冷却至室温后，添加水，用乙酸乙酯进行萃取。向有机相中添加己烷，用饱和食盐水清洗，用硫酸钠干燥。在过滤后，馏去溶剂，由此得到下述化合物(1)39.5g。

化合物(1)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz、氯仿-d)δ(ppm)：(ddt，J＝17.1，10.1，7.0Hz，2H)、5.06～4.94(m，4H)，4.09(q，J＝7.1Hz，2H)，2.47(ddd，J＝14.0，8.0，6.1Hz，1H)，2.33(dt，J＝14.9，7.5Hz，2H)，2.22(dt，J＝14.1，6.5Hz，2H)，1.21(t，J＝7.1Hz，3H).

[合成例2：化合物(2)的合成]

在添加THF(260mL)、二异丙基胺(41.6mL)后，将溶液冷却至-78℃。添加正丁基锂己烷溶液(2.76M、96.6mL)，升温至0℃。在搅拌后，冷却至-78℃，制备二异丙基酰胺锂(LDA)的THF溶液。将上述化合物(1)(39.5g)添加至THF溶液中，进行搅拌后，添加烯丙基溴(24.1mL)。升温至0℃，添加1M盐酸，减压馏去THF。用二氯甲烷进行萃取后，添加硫酸钠。在过滤后，馏去溶剂，通过使用硅胶进行快速柱层析，从而得到下述化合物(2)45.0g。

化合物(2)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.74～5.62(m，3H)，5.04(dd，J＝13.6，1.9Hz，6H)，4.10(q，J＝7.1Hz，2H)，2.29(d，J＝7.4Hz，6H)，1.22(t，J＝7.1Hz，3H).

[合成例3：化合物(3)的合成]

使上述化合物(2)(45.0g)溶解于THF，冷却至0℃。添加氢化锂铝的THF溶液(104mL、260mmol)，并进行搅拌。添加水、15％氢氧化钠水溶液，在室温下搅拌后，用二氯甲烷进行稀释。在过滤后，馏去溶剂，通过使用硅胶进行快速柱层析，从而得到下述化合物(3)31.3g。

化合物(3)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.90～5.76(m，3H)，5.10～5.02(m，6H)，3.38(s，2H)，2.03(dt，J＝7.5，1.2Hz，6H)，1.45(s，1H).

[合成例4：化合物(4)的合成]

使上述化合物(1)(8.4g)溶解于THF，冷却至0℃。添加氢化锂铝的THF溶液(21mL、52mmol)，并进行搅拌。添加水、15％氢氧化钠水溶液，在室温下搅拌后，用二氯甲烷进行稀释。在过滤后，馏去溶剂，通过使用硅胶进行快速柱层析，从而得到下述化合物(4)5.4g。

化合物(4)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.79(m，2H)，5.07～4.97(m，4H)，3.55(t，J＝5.5Hz，2H)，2.10(m，4H)，1.76～1.64(m，1H).

[合成例5：化合物(5)的合成]

使上述化合物(4)(2.5g)溶解于二氯甲烷，冷却至0℃。添加戴斯马丁试剂(10g)，并进行搅拌。在过滤后，馏去溶剂，通过使用硅胶进行快速柱层析，从而得到下述化合物(5)2.1g。

化合物(5)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：9.65(d，J＝1.9Hz，1H)，5.74(m，2H)，5.16～5.02(m，4H)，2.53～2.34(m，3H)，2.32～2.19(m，2H).

[合成例6：化合物(6)的合成]

使上述化合物(5)(2.1g)溶解于THF，冷却至0℃。添加烯丙基溴化镁的乙基醚溶液(30ml、21mmol)，并进行搅拌。添加1M盐酸，减压馏去THF。利用二氯甲烷进行萃取后，添加硫酸钠。在过滤后，馏去溶剂，通过使用硅胶进行快速柱层析，从而得到下述化合物(6)1.8g。

化合物(6)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.89～5.72(m，3H)，5.18～4.98(m，6H)，3.66(s，1H)，2.37～2.01(m，6H)，1.71～1.57(m，1H).

[合成例7：化合物(1-1)的合成]

按照国际公开第2013/121984号的实施例6中记载的方法，得到下述化合物(1-1)。

CF₃-O-(CF₂CF₂O-CF₂CF₂CF₂CF₂O)_x1(CF₂CF₂O)-CF₂CF₂CF₂-C(O)OCH₃···式(1-1)

单元数x1的平均值：14

[合成例8：化合物(1-2)、(1-3)的合成]

向上述化合物(1-1)(10.0g)中添加1,3-双(三氟甲基)苯(10g)后，添加三乙基硅烷(450mg)、三(五氟苯基)硼烷(10mg)。在室温下搅拌2小时后，馏去低沸点成分，由此得到下述化合物(1-2)、(1-3)的混合物10.3g。

单元数x1的平均值：14

化合物(1-2)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.12～5.02(1H)，3.46(s，3H)，1.02～0.90(9H)，0.75～0.58(6H).

¹⁹F-NMR(376MHz，氯仿-d)δ(ppm)：-54.85，-82.32，-86.23，-87.56，-89.70，-124.15，-124.73.

化合物(1-3)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.57～5.52(1H)，1.02～0.90(18H)，0.75～0.58(12H).

[合成例9：化合物(1-4)、(1-5)的合成]

向上述(1-2)、(1-3)的混合物(5.0g)中添加1,3-双(三氟甲基)苯(10g)后，添加甲醇(5.0g)、浓硫酸(2.5g)。以60℃搅拌3小时后，利用AC-6000进行萃取。通过馏去溶剂而得到下述化合物(1-4)、(1-5)的混合物4.9g。

单元数x1的平均值：14

化合物(1-4)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：4.89～4.73(1H)，3.45(s，3H).

¹⁹F-NMR(376MHz，氯仿-d)δ(ppm)：-54.84，-82.31，-86.22，-87.54，-89.69，-124.70，-125.25，-128.63.

化合物(1-5)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.34～5.21(1H).

[合成例10：化合物(1-6)的合成]

将上述(1-4)、(1-5)的混合物(4.9g)投入至真空恒温干燥机中，以100℃减压浓缩16小时，由此得到下述化合物(1-6)4.8g。

单元数x1的平均值：14

化合物(1-6)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：9.42(t，J＝3.3Hz，1H).

¹⁹F-NMR(376MHz，氯仿-d)δ(ppm)：-54.85，-82.32，-86.24，-87.56，-89.68，-124.73，-125.27，-126.50.

[合成例11：化合物(1-7)的合成]

向上述化合物(1-6)(1.0g)中添加1,3-双(三氟甲基)苯(1.0g)后，添加上述化合物(3)(60mg)。在室温下搅拌1小时后，添加双(2-甲氧基乙基)氨基三氟化硫(300mg)。加热至80℃并搅拌1小时后，添加甲醇，利用AC-6000进行萃取。馏去溶剂，使用硅胶进行柱层析，由此得到下述化合物(1-7)0.85g。

单元数x1的平均值：14

化合物(1-7)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.83～5.67(3H)，5.56～5.30(1H)，5.14～4.96(6H)，3.79～3.69(1H)，3.43～3.34(1H)，2.07～1.96(6H).

¹⁹F-NMR(376MHz，氯仿-d)δ(ppm)：-54.85，-82.32，-86.23，-87.56，-89.70，-124.73，-125.0，-125.21，-125.43，-125.98，-126.15，-141.30～-141.80.

[例1：含氟醚化合物(1-8)的合成]

添加AC-6000(1.0g)、上述化合物(1-7)(0.5g)、铂/1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的甲苯溶液(铂含量为3％、8.3mg)、苯胺(2.6mg)、三甲氧基硅烷(125mg)，以40℃进行搅拌后，减压馏去溶剂，由此得到下述含氟醚化合物(1-8)0.51g。

单元数x1的平均值：14

化合物(1-8)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.61～5.25(1H)，3.80～3.68(1H)，3.64～3.45(27H)，3.44～3.31(1H)，1.57～1.29(12H)，0.75～0.47(6H).

[合成例12：化合物(2-1)的合成]

向上述化合物(1-6)(1.0g)中添加1,3-双(三氟甲基)苯(1.0g)后，添加1,6-庚二烯-4-醇(40mg)。在室温下搅拌5小时后，添加双(2-甲氧基乙基)氨基三氟化硫(300mg)。加热至80℃并搅拌1小时后，添加甲醇，利用AC-6000进行萃取。馏去溶剂，使用硅胶进行柱层析，由此得到下述化合物(2-1)0.65g。

单元数x1的平均值：14

化合物(2-1)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.85～5.50(3H)，5.13～4.93(4H)，3.88～3.78(1H)，2.42～2.19(4H).

¹⁹F-NMR(376MHz，氯仿-d)δ(ppm)：-54.85，-82.33，-86.24，-87.57，-89.71，-124.74，-124.94，-125.18，-136.79～-137.11.

[例2：含氟醚化合物(2-2)的合成]

添加AC-6000(1.0g)、上述化合物(2-1)(0.5g)、铂/1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的甲苯溶液(铂含量为3％、8.3mg)、苯胺(2.6mg)、三甲氧基硅烷(83mg)，以40℃进行搅拌后，减压馏去溶剂，由此得到下述含氟醚化合物(2-2)0.5g。

单元数x1的平均值：14

化合物(2-2)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.77～5.51(1H)，3.98～3.75(1H)，3.65～3.43(18H)，1.78～1.49(8H)，0.88～0.71(4H).

[合成例13：化合物(3-1)的合成]

向上述化合物(1-6)(1.0g)中添加1,3-双(三氟甲基)苯(1.0g)后，添加上述化合物(6)(60mg)。在室温下搅拌72小时后，添加双(2-甲氧基乙基)氨基三氟化硫(300mg)。加热至80℃并搅拌1小时后，添加甲醇，利用AC-6000进行萃取。馏去溶剂，使用硅胶进行柱层析，由此得到下述化合物(3-1)0.55g。

单元数x1的平均值：14

化合物(3-1)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.77～5.33(4H)，5.08～4.62(6H)，3.93～3.66(1H)，2.36～1.46(7H).

¹⁹F-NMR(376MHz，氯仿-d)δ(ppm)：-54.85，-82.34，-86.24，-87.57，-89.70，-124.75，-125.26，-133.46～-133.84，-136.50～-136.89.

[例3：含氟醚化合物(3-2)的合成]

添加AC-6000(1.0g)、上述化合物(3-1)(0.5g)、铂/1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的甲苯溶液(铂含量为3％、8.3mg)、苯胺(2.6mg)、三甲氧基硅烷(125mg)，以40℃进行搅拌后，减压馏去溶剂，由此得到下述含氟醚化合物(3-2)0.51g。

单元数x1的平均值：14

化合物(3-2)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.80～5.50(1H)，4.01～3.86(1H)，3.78～3.30(27H)，1.86～1.37(13H)，0.85～0.45(6H).

[合成例14：化合物(4-1)的合成]

向上述化合物(1-6)(1.0g)中添加1,3-双(三氟甲基)苯(1.0g)后，添加烯丙醇(20mg)。在室温下搅拌1小时后，添加双(2-甲氧基乙基)氨基三氟化硫(300mg)。加热至80℃并搅拌1小时后，添加甲醇，利用AC-6000进行萃取。馏去溶剂，使用硅胶进行柱层析，由此得到下述化合物(4-1)0.77g。

化合物(4-1)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.90～5.73(1H)，5.68～5.43(1H)，5.35～5.13(2H)，4.41～4.13(2H)

¹⁹F-NMR(376MHz，氯仿-d)δ(ppm)：-54.85，-82.34，-86.24，-87.57，-89.70，-124.67，-125.14～-125.29，-126.16，-142.64～-143.30

[例4：含氟醚化合物(4-2)的合成]

添加AC-6000(1.0g)、上述化合物(4-1)(0.5g)、铂/1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的甲苯溶液(铂含量为3％、8.0mg)、苯胺(2.8mg)、三甲氧基硅烷(50mg)，以40℃进行搅拌后，减压馏去溶剂，由此得到下述含氟醚化合物(4-2)0.51g。

化合物(4-2)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.65～5.36(1H)，3.77～3.39(13H)，1.87～1.71(2H)，0.76～0.63(2H)

[例5：化合物(5-1)的合成]

按照国际公开2017/022437号的合成例1～3中记载的方法，得到下述化合物(5-1)。

重复单元数x2的平均值为21、重复单元数x3的平均值为19。

[例6：化合物(6-1)的合成]

按照国际公开2017/038830号的例5中记载的方法，得到下述化合物(6-1)。

重复单元数x2的平均值为21、重复单元数x3的平均值为19。

[化合物(7-1)的合成]

按照国际公开2013/121984号的实施例7中记载的方法，得到下述化合物(7-1)。

CF₃-O-(CF₂CF₂O-CF₂CF₂CF₂CF₂O)_X1(CF₂CF₂O)-CF₂CF₂CF₂-CH₂OH···式(7-1)

单元数x1的平均值：14

[化合物(7-2)的合成]

向上述化合物(7-1)(1.0g)中添加1,3-双(三氟甲基)苯(1.0g)后，添加碳酸铯(5.0g)、烯丙基溴(200mg)。以60℃整夜搅拌后，添加盐酸并进行萃取。馏去溶剂，使用硅胶进行柱层析，由此得到下述化合物(7-2)0.83g。

化合物(7-2)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：5.85～5.69(1H)，5.29～5.04(2H)，4.08～3.98(2H)，3.94～3.81(2H)

¹⁹F-NMR(376MHz，氯仿-d)δ(ppm)：-54.85，-82.34，-86.24，-87.57，-89.70，-118.86，-124.67，-125.97

[例7：化合物(7-3)的合成]

添加AC-6000(1.0g)、上述化合物(7-2)(0.5g)、铂/1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的甲苯溶液(铂含量为3％、8.0mg)、苯胺(2.8mg)、三甲氧基硅烷(50mg)，以40℃进行搅拌后，减压馏去溶剂，由此得到下述含氟醚化合物(7-3)0.51g。

化合物(7-3)的NMR光谱；

¹H-NMR(400MHz，氯仿-d)δ(ppm)：3.98～3.81(2H)，3.65～3.47(11H)，1.79～1.63(2H)，0.73～0.59(2H)

[例8～14：物品的制造和评价]

使用例1～7中得到的各化合物，对基材进行表面处理，得到例8～14的物品。作为表面处理方法，针对各例分别使用下述干式涂布法和湿式涂布法。作为基材，使用化学强化玻璃。针对所得物品，利用下述方法进行评价。将结果示于表1。

(干式涂布法)

干式涂布使用真空蒸镀装置(ULVAC公司制、VTR350M)来进行(真空蒸镀法)。将各化合物0.5g填充至真空蒸镀装置内的钼制舟中，将真空蒸镀装置内排气至1×10^-3Pa以下。将配置有化合物的舟以升温速度为10℃/分钟以下的速度进行加热，在基于晶体震荡式膜厚计的蒸镀速度超过1nm/秒的时刻打开挡板，开始对于基材表面的制膜。在膜厚达到约50nm的时刻关闭挡板，结束对于基材表面的制膜。将堆积有化合物的基材以200℃加热处理30分钟，利用二氯五氟丙烷(AGC公司制、AK-225)进行清洗，得到在基材表面具有表面层的物品。

(评价方法)

<接触角的测定方法>

使用接触角测定装置(协和界面科学公司制、DM-500)，对置于表面层表面的约2μL蒸馏水或正十六烷的接触角进行测定。在表面层的表面的5个不同部位进行测定，计算其平均值。在接触角的计算中使用2θ法。

<初始接触角>

针对表面层，利用前述测定方法来测定初始水接触角和初始正十六烷接触角。评价基准如下所述。

初始水接触角：

〇(良)：115度以上。

×(不可)：小于115度。

<耐摩擦性(钢丝棉)>

针对表面层，按照JIS L0849:2013(ISO 105-X12:2001)，使用往返式横向试验机(KNT公司制)，使钢丝棉BONSTAR(#0000)在压力：98.07kPa、速度：320cm/分钟的条件下往返1万次后，利用前述方法来测定水接触角。摩擦后的拒水性(水接触角)的降低越小，则由摩擦导致的性能降低越小，耐摩擦性越优异。评价基准如下所述。

◎(优)：往返1万次后的水接触角的变化为4度以下。

〇(良)：往返1万次后的水接触角的变化超过4度且为8度以下。

×(不可)：往返1万次后的水接触角的变化超过8度。

<耐光性>

针对表面层，使用台式氙弧灯式促进耐光性试验机(制品名：SUNTEST XLS+、东洋精机公司制)，在黑板温度：63℃的条件下，照射光线(650W/m²、300～700nm)500小时后，利用前述方法来测定水接触角。评价基准如下所述。

◎(优)：促进耐光性试验后的水接触角的变化为5度以下。

○(良)：促进耐光性试验后的水接触角的变化超过5度且为10度以下。

×(不可)：促进耐光性试验后的水接触角的变化超过10度。

[表1]

表1

如表1所示那样，即便是使用例5和例7的化合物得到的例12和例14的物品，初始接触角、耐光性也良好，但尤其是确认到摩擦试验后的水接触角降低。另外，使用O-CHF基配置在与密合性基团分离的位置处的例6的化合物得到的物品，初始拒水性不充分。

另一方面，使用在聚氟聚醚链与密合性基团的连接部具有O-CHF基的例1～例4的含氟醚化合物得到的例8～例11的物品在摩擦试验后和耐光试验后也可抑制水接触角的降低，示出其具有优异的耐久性。

产业上的可利用性

作为一例，具备包含本化合物的表面层的物品作为用作下述制品的一部分部件的光学物品、触摸面板、防反射薄膜、防反射玻璃、SiO₂处理玻璃、强化玻璃、蓝宝石玻璃、石英基板、模具金属等是有用的。

制品：汽车导航、便携电话、数码照相机、数码摄像机、便携信息终端(PDA)、便携音乐播放器、车载音响、游戏机、镜片、照相机镜头、透镜过滤器、太阳镜、医疗用设备(胃镜等)、复印机、个人电脑(PC)、液晶显示器、有机EL显示器、等离子体显示器、触摸面板显示器、保护薄膜、防反射薄膜、防反射玻璃、纳米压印的模板、模具等。

该申请以2020年6月12日申请的日本申请特愿2020-102409作为基础而要求优先权，将其全部公开内容援引至此。

附图标记说明

10：带有基底层的基材、12：基材、14：基底层、

20：物品、22：表面层

Claims

1.一种含氟醚化合物，其用下式(A1)或式(A2)表示，

{R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-(CHF)_m3-O-(CHF)_m4}_n1-Q¹(-T¹)_n2式(A1)，

其中，

Q¹为n1+n2价的连接基团，

Q²为1+n3价的连接基团，

Q³为1+n4价的连接基团，

m1+m2为1以上，

m7+m8+m9为1以上，

m5和m6各自独立地为0或1，m5+m6为1或2，

m10和m11各自独立地为0或1，m10+m11为1或2，

n1为1～10的整数，

n2、n3和n4各自独立地为1～20的整数。

2.根据权利要求1所述的含氟醚化合物，其中，所述m3、m6或m10为1。

3.根据权利要求1或2所述的含氟醚化合物，其中，所述m4、m5或m11为0。

4.一种化合物，其用下式(B1)或式(B2)表示，

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CHO式(B1)

OHC-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-CHO式(B2)

其中，

R^f为碳原子数1～20的氟烷基，

R¹、R²和R³各自独立地为任选具有氟原子的亚烷基，

m1和m8各自独立地为0～210的整数，

m2、m7和m9各自独立地为0或1。

5.一种含氟醚化合物的制造方法，其包括：使下式(B1)或式(B2)所示的化合物与下式(C1)所示的化合物发生反应，

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CHO式(B1)

OHC-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-CHO式(B2)

(CH₂＝CH-)_n5-Q⁴(-OH)_n6式(C1)

其中，

R^f为碳原子数1～20的氟烷基，

R¹、R²和R³各自独立地为任选具有氟原子的亚烷基，

Q⁴为n5+n6价的连接基团，

m1和m8各自独立地为0～210的整数，

m2、m7和m9各自独立地为0或1，

n5为1～20的整数，

n6为1～10的整数。

6.一种下式(B1)或式(B2)所示的化合物的制造方法，其中，使下式(D1)或式(D2)所示的化合物在路易斯酸化合物的存在下与氢化硅化合物发生反应，得到下式(E1)或式(E2)所示的化合物，

将下式(F1)或式(F2)所示的化合物加热，

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-C(＝O)OR¹¹式(D1)

R¹¹OC(＝O)-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-C(＝O)OR¹¹式(D2)

R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CH(OR¹²)₂式(E1)

(R¹²O)₂CH-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-CH(OR¹³)₂式(E2)R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CH(OR¹⁴)₂式(F1)

(R¹⁴O)₂CH-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-CH(OR¹⁵)₂式(F2)R^fO-(R^f1O)_m1-(R¹)_m2-CHO式(B1)

OHC-(R²)_m7-O-(R^f2O)_m8-(R³)_m9-CHO式(B2)

其中，

R^f为碳原子数1～20的氟烷基，

R¹、R²和R³各自独立地为任选具有氟原子的亚烷基，

m1和m8各自独立地为0～210的整数，

m2、m7和m9各自独立地为0或1。

7.一种含氟醚组合物，其含有权利要求1～3中任一项所述的含氟醚化合物中的1种以上、以及其它含氟醚化合物。

8.一种涂布液，其含有：

权利要求1～3中任一项所述的含氟醚化合物或权利要求7所述的含氟醚组合物；以及

液体介质。

9.一种物品，其具有由权利要求1～3中任一项所述的含氟醚化合物或权利要求7所述的含氟醚组合物形成的表面层。

10.一种物品的制造方法，其中，使用权利要求1～3中任一项所述的含氟醚化合物、权利要求7所述的含氟醚组合物或权利要求8所述的涂布液，利用干式涂布法或湿式涂布法来形成表面层。