CN115206836A

CN115206836A - 用于处理基板的设备

Info

Publication number: CN115206836A
Application number: CN202210361981.7A
Authority: CN
Inventors: 尹盛炫; 南晸钦
Original assignee: Semes Co Ltd
Current assignee: Semes Co Ltd
Priority date: 2021-04-07
Filing date: 2022-04-07
Publication date: 2022-10-18
Also published as: US12205837B2; US20220328333A1; KR20220138953A

Abstract

本发明构思提供了一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：处理室，所述处理室被配置为处理基板；传送组件，所述传送组件被配置为将所述基板传送到所述处理室；以及诊断单元，所述诊断单元被配置为检测所述传送组件的异常状态，并且其中所述传送组件包括：外壳，所述外壳具有传送空间；以及传送机器人，所述传送机器人被配置为将所述基板传送到所述处理室，并且其中所述诊断单元包括：检测构件，所述检测构件用于检测在所述外壳内产生的空气振动；以及诊断构件，所述诊断构件用于基于由所述检测构件检测到的所述空气振动来诊断所述传送组件的驱动单元。

Description

用于处理基板的设备

技术领域

本文所述的本发明构思的实施方式涉及一种用于处理基板的设备，更具体地，涉及一种诊断传送组件的驱动单元的异常状态的用于处理基板的设备。

背景技术

为了制造半导体器件，执行诸如沉积、光刻、蚀刻和清洁的各种过程。沉积过程是在基板(诸如晶圆)上形成薄膜的过程。此外，光刻过程包括涂覆过程、曝光过程和显影过程。涂覆过程是将诸如光刻胶溶液的光敏溶液施加到基板上的过程。曝光过程是通过借助所施加的光刻胶膜上的光掩模暴露于来自光源的光而将电路图案转移到基板上的过程。并且显影过程是选择性地使基板的曝光区域显影的过程。此外，蚀刻过程是去除在基板上形成的薄膜的过程。此外，清洁过程是通过向基板供应清洁液和冲洗液来去除在处理基板的过程中产生的副产物的过程。

上述各种基板处理过程在具有用于处理基板的处理空间的处理室中执行。因此，一般的基板处理设备具有用于将基板传送到处理室的传送组件。用于在支撑基板的同时将基板传送到处理室的传送机器人和用于引导传送机器人的线性移动的传送轨道(例如，LM导轨)安装在传送组件中。传送组件的内部设置有驱动单元。例如，驱动单元包括：水平驱动单元，该水平驱动单元被提供用于实现传送机器人的水平移动；竖直驱动单元，该竖直驱动单元被提供用于实现传送机器人的竖直移动；以及旋转驱动单元，该旋转驱动单元被提供用于实现传送机器人的旋转移动。每个驱动单元可以设置有各种电机、正时皮带、轴承等。

基板处理设备的内部暴露于各种环境因素，诸如由各种设备产生的噪音和流动。由于基板处理设备内部的环境因素，难以确定提供给传送组件的驱动单元是否存在缺陷。如果驱动单元的缺陷被忽略且未被处理，则基板不能返回到正确位置，从而导致基板处理过程的缺陷。

发明内容

本发明构思的实施方式提供了一种基板处理设备，所述基板处理设备用于诊断传送基板的传送组件驱动单元的异常状态。

本发明构思的实施方式提供了一种基板处理设备，所述基板处理设备用于诊断传送组件的驱动单元的异常状态而不受基板处理设备的内部环境影响。

本发明构思的实施方式提供了一种基板处理设备，所述基板处理设备用于通过检测空气振动而同时最小化气流的影响来提高相对于驱动单元的异常状态的诊断可靠性。

本发明构思的技术目的不限于上述目的，并且根据以下描述，其他未提及的技术目的对于本领域技术人员而言将变得显而易见。

在一个实施方式中，所述检测构件包括：入口部分，所述入口部分用于引入在所述外壳内产生的所述空气振动；以及主体部分，所述主体部分具有阀，所述阀被配置为响应于从所述入口部分引入的所述空气振动而提供振动。

在一个实施方式中，所述入口部分包括网格结构。

在一个实施方式中，所述入口部分包括多孔构件。

在一个实施方式中，所述诊断构件包括：转换单元，所述转换单元用于将所述阀的所述振动转换为波形；诊断单元，所述诊断单元用于诊断由所述转换单元转换的所述波形；以及显示单元，所述显示单元用于显示分析所述波形的结果。

在一个实施方式中，当由所述转换单元转换的所述波形的峰值在预设正常范围波形之外时，所述诊断单元确定所述传送组件的驱动单元处于异常状态。

在一个实施方式中，所述诊断单元安装在所述外壳内部。

在一个实施方式中，所述诊断单元安装在所述外壳内的任何固定构件处。

在一个实施方式中，所述传送组件还包括传送轨道，所述传送轨道沿着所述外壳的纵向方向安装并且被配置为引导所述传送机器人的移动方向，并且其中所述检测单元安装在所述传送轨道处。

在一个实施方式中，所述检测单元安装在所述传送轨道的中点处。

本发明构思提供了一种基板处理设备。所述基板处理设备包括第一单元；第二单元，所述第二单元与所述第一单元不同；传送组件，所述传送组件被配置为在所述第一单元和所述第二单元之间传送基板；以及诊断单元，所述诊断单元被配置为检测所述传送组件的异常状态，并且其中所述传送组件包括：外壳，所述外壳具有传送空间；以及传送机器人，所述传送机器人被配置为传送所述基板，并且其中所述诊断单元包括：检测构件，所述检测构件用于检测在所述外壳内产生的空气振动；以及诊断构件，所述诊断构件用于基于由所述检测构件检测到的所述空气振动来诊断所述传送组件的驱动单元。

在一个实施方式中，所述入口部分包括网格结构。

本发明构思提供了一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：转位模块，所述转位模块具有装载端口，所述装载端口用于放置其中存储有基板的容器；处理模块，所述处理模块具有用于执行处理所述基板的过程的处理室；传送组件，所述传送组件设置到所述转位模块和所述处理模块中的至少一者并且被配置为传送所述基板；以及诊断构件，所述诊断构件用于检测所述传送组件的异常状态，并且其中所述传送组件包括：外壳，所述外壳具有传送空间；以及传送机器人，所述传送机器人被配置为传送所述基板，并且其中所述诊断单元包括：入口部分，所述入口部分用于引入在所述外壳内产生的空气振动；以及主体部分，所述主体部分具有阀，所述阀被配置为响应于从所述入口部分引入的所述空气振动而提供振动，并且其中所述入口部分包括网格结构。

在一个实施方式中，所述诊断单元还包括：转换单元，所述转换单元用于将所述阀的所述振动转换为波形；诊断单元，所述诊断单元用于诊断由所述转换单元转换的所述波形；以及显示单元，所述显示单元用于显示分析所述波形的结果，并且其中当由所述转换单元转换的所述波形的峰值在预设正常范围波形之外时，所述传送组件的驱动单元被确定为处于异常状态。

根据本发明构思的实施方式，可以更准确地检测传送组件的移动主体的异常状态。

根据本发明构思的实施方式，可以通过引入所述传送组件的移动主体的声音来诊断所述移动体的异常状态。

根据本发明构思的实施方式，可以通过检测所述移动体的声音而同时最小化风的影响来确定传送组件的移动主体中是否存在缺陷的可靠性。

本发明构思的效果不限于上述效果，并且根据以下描述，其他未提及的效果对于本领域技术人员而言将变得显而易见。

附图说明

根据以下参考附图的描述，上述和其他目的和特征将变得显而易见，其中，除非另有说明，否则相同附图标记在各个附图中是指相同部分，并且其中：

图1是示意性地示出了根据本发明构思的实施方式的基板处理设备的视图。

图2是示出了设置在图1的处理室中的基板处理设备的视图。

图3是示出了设置在图1的传送室中的基板处理设备的视图。

图4是示出了设置在图3的基板处理设备中的诊断单元的实施方式的视图。

图5是示出了设置在图3的基板处理设备中的诊断单元的波形刚度的评估视图。

图6和图7是示出了图4的诊断单元的另一实施方式的视图。

图8和图9是示意性地示出了诊断单元设置到基板处理设备的位置的实施方式的视图。

具体实施方式

本发明构思可以不同地修改且可以具有各种形式，并且将在附图中示出并详细地描述本发明构思的具体实施方式。然而，根据本发明构思的构思的实施方式不旨在限制具体公开的形式，并且应当理解，本发明构思包括本发明构思的精神和技术范围中所包括的所有变形、等效物和替换。在本发明构思的描述中，当可能使本发明构思的本质不清楚时，可以省略对相关公知技术的详细描述。

本文中使用的术语仅用于描述特定实施方式的目的，而不旨在限制本发明构思。如本文所使用，单数形式“一”、“一”和“所述”也旨在包括复数形式，除非上下文清楚地指出。还应当理解，当在本说明书使用时，术语“包括(comprise)”和/或“包括(comprising)”指定所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或其组合的存在或添加。如本文所使用，术语“和/或”包括一个或多个相关联的所列项目的任何和所有组合。此外，术语“示例性”旨在指代示例或说明。

应当理解，尽管在本文中术语“第一”、“第二”、“第三”等可用于描述各种元件、组件、区域、层和/或区段，但这些元件、部件、区域、层和/或区段应不受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件、部件、区域、层或区段与另一个区域、层或区段区分开来。因此，在不脱离本发明构思的情况下，可以将以下论述的第一元件、第一部件、第一区域、第一层或第一区段称为第二元件、第二部件、第二区域、第二层或第二区段。

在下文中，将参考图1至图9描述本发明构思的实施方式。

图1是示意性地示出了根据本发明构思的实施方式的基板处理设备的视图。参考图1，基板处理设备10具有转位模块100和处理模块200。转位模块100具有装载端口120和传送框架140。装载端口120、传送框架140和处理模块200在一个方向上按顺序布置。在下文中，布置装载端口120、传送框架140和处理模块200的方向被称为第一方向12，垂直于第一方向12的方向被称为第二方向14，并且垂直于包括第一方向12和第二方向14的平面的方向被称为第三方向16。

容纳基板W的载体130坐置在装载端口120中。设置多个装载端口120，并且它们沿第二方向14布置。可以根据处理模块200的过程效率和占用面积来增加或减少装载端口120的数量。在载体130中形成多个狭槽(未示出)，该多个狭槽用于容纳相对于地面水平地设置的基板W。作为载体130，可以使用前开式联合晶圆盒FOUP。

处理模块200包括缓冲单元220、传送室240和处理室260。传送室240沿平行于第一方向12的纵向方向设置。处理室260分别设置在传送室240的两侧上。处理室260可以对称地布置在传送室240的两侧上。在传送室240的每一侧，处理室260沿着传送室240的纵向方向(例如，第一方向12)布置，而沿着第三方向16彼此堆叠。也就是说，处理室260可以在传送室240的每一侧上布置成A×B的布置。这里，A是沿第一方向12设置的处理室260的数量，并且B是沿第三方向16设置的处理室260的数量。当在传送室240的每一侧上设置有四个或六个处理室260时，处理室260可以在每一侧上布置成2×2或3×2的布置。处理室260的数量可以增加或减少。与上述不同，处理室260可以仅设置在传送室240的一侧上。此外，处理室260可以在传送室240的一侧和/或两侧上设置成单层(不堆叠)。

缓冲单元220设置在传送框架140与传送室240之间。缓冲单元220提供其中在传送室240与传送框架140之间传送基板W之前基板W停留的空间。在缓冲单元220内部设置有放置基板W的狭槽(未示出)。多个狭槽(未示出)被设置为在第三方向16上彼此间隔开。缓冲单元220具有面向传送框架140的开口侧和面向传送室240的开口侧。

传送框架140提供了用于在坐置在装载端口120上的载体130与缓冲单元220之间传送基板W的传送空间。转位轨道142和转位机器人144设置在传送框架140内部。转位轨道142平行于第二方向14设置，其中该转位轨道的纵向方向是转位框架的纵向方向。转位机器人144安装在转位轨道142上，并且沿着转位轨道142在第二方向14上线性地移动。转位机器人144具有基座144a、主体144b和转位臂144c。基座144a安装成可沿转位轨道142移动。主体144b联接到基座144a。主体144b被设置成可在基座144a上沿第三方向16移动。此外，主体144b被设置成可在基座144a上旋转。转位臂144c联接到主体144b并且被设置成相对于主体144b向前和向后移动。多个转位臂144c被设置成单独驱动。转位臂144c被设置成堆叠，同时在第三方向16上彼此间隔开。转位臂144c中的一些可用于将基板W从处理模块200传送到载体130，并且其他转位臂中的一些可用于将基板W从载体130传送到处理模块200。这可以防止从过程处理之前的基板W产生的颗粒在由转位机器人144放入和取出基板W的过程期间附着到过程处理之后的基板W。

传送室240提供了用于在缓冲单元220与处理室260之间以及处理室260之间传送基板W的传送空间。传送机器人520和传送轨道540设置在传送室240内部。传送轨道540平行于第一方向12设置，其中该传送轨道的纵向方向是传送室的纵向方向。传送机器人520安装在传送轨道540上，并且沿着传送轨道540在第一方向12上线性地移动。传送机器人520可以将基板W传送到处理室260中的期望传送室260，同时沿传送轨道540在第一方向12上线性地移动，或可以从选自多个处理室260中的处理室260中取出基板W。稍后将更详细地描述传送机器人520。

处理室260设置有基板处理设备，该基板处理设备用于对基板W进行液体处理。例如，处理室260可以是通过向基板W供应清洁液来执行清洁过程的室。与此不同，处理室260可以是执行通过供应液体等离子来从基板去除薄膜的湿法刻蚀过程的室。根据处理基板W的过程的类型，设置在处理室260中的基板处理设备可以具有不同结构。替代地，每个处理室260中的基板处理设备可以具有相同结构。替代地，处理室260被划分为多个组，并且属于任何一个组的处理室260可以是执行清洁过程和湿法刻蚀过程中的任一者的处理室260，并且属于另一组的处理室260可以是执行清洁过程和湿法刻蚀过程中的另一者的处理室260。

图2是示出了设置在图1的处理室中的基板处理设备的视图。基板处理设备300可以包括外壳310、处理容器320、支撑单元340、提升/下降单元360和液体供应单元380。

外壳310中具有处理空间312。处理容器320、支撑单元340、提升/下降单元360和液体供应单元380可以设置在外壳310的内部空间312中。外壳310可以具有大致矩形的平行六面体形状。然而，本发明构思不限于此，并且外壳310可以被修改成各种形状。

处理容器320可以具有带有开放顶部的圆柱形形状。处理容器320具有内部再收集容器322和外部再收集容器326。再收集容器322和326中的每一者用于收回在过程中使用的处理液中的不同处理液。内部再收集容器322围绕基板支撑单元340以环孔形状设置，并且外部再收集容器326围绕内部再收集容器326以环孔形状设置。内部再收集容器322的内部空间322a起到第一入口322a的作用，处理液通过该第一入口引入到内部再收集容器322中。内部再收集容器322和外部再收集容器326之间的空间326a起到第二入口326a的作用，处理液通过该第二入口流入外部再收集容器326中。根据一个实施方式，入口322a和326a中的每一者可以位于不同高度。再收集管线322b和326b连接到再收集容器322和326中的每一者的底部。可提供引入到再收集容器322b和326b中的每一者中的处理液并通过再收集管线322b和326b重复用于外部处理液再生系统(未示出)。

支撑单元340支撑处理空间312中的基板W。支撑单元340在过程期间支撑并旋转基板W。支撑单元340具有支撑板342、支撑销344、卡盘销346和旋转驱动构件348和349。

支撑板342被设置为基本上圆板形状并且具有顶表面和底表面。底表面的直径小于顶表面的直径。支撑板342可以具有从上到下逐渐地减小的水平横截面面积。顶表面和底表面被配置为使得它们的中心轴线彼此重合。此外，在支撑板342中设置加热装置(未示出)，以根据在液体处理期间处理基板的液体的类型来加热基板。

设置多个支撑销344。支撑销344沿着支撑板342的顶表面的边缘设置且彼此间隔开预定距离，从而整体限定环孔形状并且从支撑板342向上突出。支撑销344可支撑基板W的底表面的边缘部分，使得基板W与支撑板342的顶部表面间隔开预定距离。

设置多个卡盘销346。卡盘销346被设置成比支撑销344更远离支撑板342的中心。卡盘销346被设置成从支撑板342的顶表面向上突出。卡盘销346支撑基板W的侧面部分，使得当支撑板342旋转时，基板W不从预定位置侧向分离。卡盘销346被设置成能够在外位置和内位置之间沿着支撑板324的径向方向线性地移动。外位置是与内位置相比远离支撑板342的中心的位置。当基板W在支撑板342上装载或卸载时，卡盘销346定位在外位置，并且当在基板W上执行过程时，卡盘销346定位在内位置。内位置是卡盘销346和基板W的侧面部分彼此接触的位置，并且外位置是卡盘销346和基板W彼此间隔开的位置。

旋转驱动构件348和349使支撑板342旋转。支撑板342可以通过旋转驱动构件348和349围绕其中心轴线旋转。旋转驱动构件348和349包括支撑轴348和驱动单元349。支撑轴348沿着第三方向16延伸。支撑轴348的顶端固定地联接到支撑板342的底表面。根据一个实施方式，支撑轴348可以固定地联接到支撑板342的底表面的中心。驱动单元349提供驱动力以旋转支撑轴348。支撑轴348由驱动单元349旋转，并且支撑板342可以与支撑轴348一起旋转。

提升/下降单元360在上/下方向上线性移动处理容器320。当处理容器320上下移动时，处理容器320相对于支撑板342的相对高度改变。当基板W在支撑板342上装载或卸载时，提升/下降单元360的处理容器320被降低，使得支撑板342从处理容器320向上突出。此外，当过程进行时，调整处理容器320的高度，使得处理液可以根据供应至基板W的处理液的类型而流入预设的再收集容器322和326。提升/下降单元360包括托架362、移动轴364和驱动器366。托架362固定地安装在处理容器320的外壁上，并且通过驱动器366在上/下方向上移动的移动轴364固定地联接到托架362。可选地，提升/下降单元360可以在上/下方向上移动支撑板342。

液体供应单元380可以将处理液供应到基板W。处理液可以是化学品、冲洗液、润湿液、清洁液或有机溶剂。化学品可以是酸性或碱性液体。化学品可以包括硫酸(H₂SO₄)、磷酸(P₂O₅)、氢氟酸(HF)和氢氧化铵(NH₄OH)。化学品可以是经稀释的硫酸过氧化物DSP混合物。清洁液、冲洗液和润湿液可以是去离子水H₂0。有机溶剂可以是异丙醇IPA液。

液体供应单元380可以包括移动构件381和喷嘴389。移动构件381将喷嘴389移动到过程位置和备用位置。过程位置是喷嘴389面向由支撑单元340支撑的基板W的顶表面的位置。根据一个实施方式，过程位置是处理液被排放到基板W的顶表面的位置。此外，过程位置包括第一供应位置和第二供应位置。第一供应位置可以是比第二供应位置更靠近基板W的中心的位置，并且第二供应位置可以是比基板的中心相对更靠近基板的边缘区域的位置。可选地，第二供应位置可以是与基板的端部相邻的区域。备用位置被定义为喷嘴389偏离过程位置的位置。根据一个实施方式，备用位置可以是喷嘴389在基板W上完成过程处理之前或之后做好准备的位置。

移动构件381包括臂382、支撑轴383和驱动器384。支撑轴383位于处理容器320的侧壁附近。支撑轴383具有沿第三方向延伸的杆形状。支撑轴383被设置成可由驱动器384旋转。支撑轴383被设置成可向上和向下移动。臂382联接到支撑轴383的顶端。臂382水平地(即，垂直于支撑轴383)延伸。喷嘴389联接到臂382的端部。在支撑轴383旋转时，喷嘴389可以与臂382一起摆动。喷嘴389可以摆动并移动到过程位置和备用位置。可选地，臂382被设置成在其纵向方向上向前和向后移动。当从上方观察时，基板W的中心轴线可以定位在喷嘴389移动通过的路径上。

图3是示出了设置在图1的基板处理设备10中的传送室240的实施方式的视图。参考图1和图3，传送室240可在处理室260与缓冲单元220之间和在处理室260之间传送基板W。传送室240可以提供用于传送基板W的传送空间。

可以在传送室240的顶表面上设置流供应单元(未示出)，该流供应单元形成进入传送室240的内部空间中的向下流。流供应单元包括风扇和过滤器。流供应单元向外壳供应外部空气。过滤器去除空气中所含的杂质。风扇在传送室240的内部空间中形成向下流。在流供应单元中，在传送室240的内部空间中产生的各种颗粒与向下流一起通过排气构件被排到外部。排气构件560可以安装在传送室240的底表面上。在传送室240的内部形成的流通过排气构件560排到基板处理设备10的外部。

传送机器人520和传送轨道540设置在传送室240内部。传送机器人520可以包括手部521、手部驱动单元522、旋转驱动单元523、竖直驱动单元524和水平驱动单元525。

具体地，手部521可以支撑基板W。手部521安装在手部驱动器522的顶部部分上。手部驱动器522可以水平地移动手部521。手部521的数量可以根据基板处理过程的效率而增加。在一个实施方式中，当设置多个手部521时，一些手部可以用于将基板W传送至处理室260，并且其他手部可以用于将基板W传送出处理室260。旋转驱动单元523安装在手部驱动单元522下方。旋转驱动单元523联接到手部驱动单元522并且其自身旋转以使手部驱动单元522旋转。因此，联接到手部驱动单元522的手部521可以一起旋转，并且手部521可以被设置成可沿着第一方向12和/或第二方向14移动。竖直驱动单元524安装在旋转驱动单元523下方，并且水平驱动单元525安装在竖直驱动单元524下方。竖直驱动单元524联接到旋转驱动单元523以提升和降低旋转驱动单元523，从而调整手部521和手部驱动器522的竖直位置。因此，手部521可以被设置成可沿着第三方向16移动。水平移动部分525联接到传送轨道540，并且在传送轨道上沿第一方向12线性地移动。在一个实施方式中，手部驱动单元522、旋转驱动单元523、竖直驱动单元524和水平驱动单元525可以被设置为马达。当传送机器人520沿着第一方向12移动时，传送机器人520可以选择性地将基板W传送到处理室260/从该处理室取出。

设置在传送室240内部的驱动单元可以在传送室240内在其位置移动。在一个实施方式中，设置在传送室240内部的驱动单元可以是手部驱动单元522、旋转驱动单元523、竖直驱动单元524和水平驱动单元525。

上述示例中描述的传送机器人520对应于实施方式，并且传送机器人520的配置可以不同地修改为能够传送基板W的已知机器人单元。

图4是示出了设置到基板处理设备的诊断单元的实施方式的视图。参考图4，诊断单元700可以包括检测构件720和诊断构件740。诊断单元700安装在传送室240中。

检测构件720诊断在传送室240内部的传送空间中产生的空气的振动。检测构件720可以包括入口部分722和主体部分724。

入口部分722在传送室240内的传送空间中引入空气振动。入口部分722可以从主体部分724的端部延伸，并且可以具有大致圆形形状。入口部分722可以在外圆周表面上以网格形式设置成网格结构。入口部分722可以由塑料材料形成。

主体部分724可以是中空圆柱形形状，其中一端连接到入口部分722并且另一端封闭。主体部分724设置有阀，该阀响应于从入口部分722接收到的空气的振动而振动。阀可以被设置为薄膜以便即使通过空气的微小振动也能振动。入口部分722和主体部分724的形状不限于此，并且可以被修改成各种形状并进行设置。

可通过安装在传送室240的顶表面上的流供应单元(未示出)和安装在底表面的排气构件621在传送空间中形成气流。此外，可通过设置在传送室240内部的驱动单元在传送空间中形成气流。但不限于此，并且由于各种原因，在传送空间内部形成气流。入口部分722可以具有限定精细空间的网格结构，该网格结构可以阻挡在传送空间内部形成的气流，并且仅可以引入(例如，递送)由驱动部分产生的空气的振动。因此，仅由驱动单元形成的纯空气的振动可以被提供到阀。因此，可以提高对由设置在传送室240内部的驱动单元产生的空气的振动的检测可靠性。

诊断构件740基于从检测构件720引入的空气的振动来诊断在设置在传送室240内部的驱动单元的异常状态。诊断构件740可以包括转换单元742、诊断单元744和显示单元746。

转换单元742通过阀的振动将引入到传送室240中的空气的振动转换成波形。转换单元742将转换波形的信号分别发送给诊断单元744和显示单元746。

诊断单元744使用由转换单元742转换的转换波形来诊断设置在传送室240内部的驱动单元。当设置在传送室240内部的驱动单元处于正常状态时，传送空间内部的空气的振动的波形被定义为参考范围波形。

图5是示出了诊断单元700的波形刚度的评估视图。参考图5，当转换波形的峰值超出正常波形的峰值范围时，诊断单元744可以确定设置在传送室240内部的驱动单元出现异常。此外，如果转换波形的曲线图与参考范围波形的曲线图不匹配，则诊断单元744可以确定设置在传送室240内部的驱动单元处于异常状态。此外，诊断单元744可以通过将设置在传送室240内部的驱动单元经过特定位置时的转换波形的数值与参考范围波形的数值进行比较来确定设置在传送室240内部的驱动单元是否具有缺陷。设置在传送室240内部的驱动单元的异常状态是指在手部驱动单元522、旋转驱动单元523、竖直驱动单元524和水平驱动单元525或正时皮带等的至少一个马达中发生异常。

返回参考图4，显示单元746连接到转换单元742和诊断单元744。显示单元746可以将由转换器742转换的波形转换成电信号，并且显示传送室240内部的传送空间的波形。因此，操作者可以实时监测设置在传送室240内部的驱动单元是否有缺陷。显示单元746可以显示诊断单元744诊断的结果。显示单元746可以被设置为用于将波形转换成电信号的示波器。转换单元742、诊断单元744和显示单元746可以通过有线或无线方式连接以实现彼此通信。

因此，根据本发明构思的实施方式，可以通过分析传送空间中的空气振动的波形来高效地确定驱动单元的异常状态，而无需操作者直接检查驱动单元(例如，手部驱动单元522、旋转驱动单元523、竖直驱动单元524、水平驱动单元525)。由于在传送空间中形成的气流可以被入口部分722的网格结构阻挡并且仅可以引入空气的振动，因此可以提高对设置在传送室240中的驱动部分的诊断可靠性。

图6和图7是示出了图4的诊断单元700的另一实施方式的视图。下面将主要描述与诊断单元700的上述实施方式的差别。

参考图6，诊断单元700a的入口部分722a在传送室240的内部传送空间中引入空气振动。入口部分722a可以从主体部分724的一个端部延伸，并且可以在其端部中具有基本上圆形形状。入口部分722a可以由塑料材料形成。入口部分722a可以被设置为多孔构件。入口部分722a可以包括在外圆周表面穿透的多个通孔。入口部分722a通过通孔在传送空间内部引入空气的振动。通孔可以设置有非常小的微孔。因此，可以阻挡在传送空间内部形成的气流，并且仅可以引入由驱动单元产生的空气的振动。

参考图7，诊断单元700b的入口部分722b接收在传送室240的内部传送空间中的空气的振动。入口部分722b可以从主体部分724的一个端部沿其纵向方向延伸并且以圆形形状结束，并且还可以在正交于主体部分724的纵向方向的方向上突出。入口部分722b可以设置有网格结构或多孔构件。入口部分722b可以由塑料材料制成。然而，入口部分722b的形状不限于此，并且可以被修改为各种形状并进行设置。

图8至图9是示意性地示出了诊断单元700安装在基板处理设备10中的位置的实施方式的视图。参照图8至图9，诊断单元700可以安装在固定构件上，该固定构件的位置在传送室240中不移动。在一个实施方式中，诊断单元700可以安装在传送轨道540的中点处。从诊断单元700的入口部分722到主体部分724的方向可以平行于传送轨道540的纵向方向。例如，诊断单元700可以安装在传送室240的顶表面或底表面上。诊断单元700可以安装成使得从诊断单元700的主体部分724到入口部分722的纵向方向可以平行于从传送室240的底表面朝向顶表面的方向。诊断单元700可以设置在传送室240内部并安装在固定构件上。诊断单元700可以安装以下位置：其中固定构件在传送室240中移动的移动量在设置于传送室240内的固定构件之中是最大的。例如，诊断单元700可以安装在传送轨道540上具有固定位置，并且可以安装在传送轨道540的中点处，从而使传送机器人520在它们之间具有最大移动量。诊断单元700可以安装成使得在正交于入口722的方向上引入由设置在传送室240内部的驱动单元产生的空气的振动。通过将诊断单元700以最大移动量安装在传送空间中的适当位置，可以增加流入设置在传送室240内部的驱动部分中的空气的振动频率。由于这个原因，可以积累能够实时诊断驱动器是否异常的数据量，从而提高诊断驱动器异常状态的可靠性。

下文中，已经描述了诊断单元700被设置到处理模块200的实施方式。本发明构思不限于此，并且诊断单元700可以被设置到传送组件。传送组件可以包括外壳、传送机器人和传送轨道。

外壳提供了用于传送基板W的传送空间。在一个实施方式中，外壳可以是设置到转位模块100的传送框架140或设置到处理模块200的传送室240。然而，本发明构思不限于此，并且外壳是指具有用于传送基板W的传送空间的任何基板处理设备。传送机器人设置在外壳内部的传送空间中，并且传送基板W。例如，传送机器人可以是设置在传送框架140的传送空间中的转位机器人144或设置在传送室240的传送空间中的传送机器人520。然而，本发明构思不限于此，并且传送机器人包括用于传送基板W的传送装置中的各种机器人单元。传送轨道沿外壳的纵向方向安装。传送机器人安装在传送轨道上，并且沿着传送轨道线性地移动。例如，传送轨道可以是设置在传送框架140的传送空间中的转位轨道142或设置在传送室240的传送空间中的传送轨道540。然而，本发明构思不限于此，并且包括被安装成允许传送基板W的机器人线性地移动的轨道。

当传送组件600被设置到转位模块100时，在一个实施方式中，第一单元可以是负载端口120，并且第二单元可以是缓冲单元220。当传送组件600被设置到处理模块200时，在一个实施方式中，第一单元可以是处理室260，并且第二单元可以是与第一单元不同的处理室260。此外，第一单元可以是处理室260，并且第二单元可以是缓冲单元220。

在上述示例中，将传送组件600被设置到处理模块200的情况描述为示例，但本发明构思不限于此。例如，即使在被设置到转位模块100时，也可以通过相同/相似方式来应用安装在外壳中的传送组件600和诊断单元700。此外，安装在外壳中的传送组件600和诊断单元700可以同样地/相似地应用于具有传送基板W的传送空间的基板处理装置。例如，传送轨道540可以同样地/相似地应用于传送基板W的传送装置(例如，顶置式传送装置)。此外，传送轨道540可以通过相同/相似方式应用于移动其中在上/下方向上容纳物品的容器的塔架升降机。

在上述示例中，基板处理设备10的处理室260供应处理液以执行处理基板W的液体处理过程，但本发明构思不限于此。例如，基板处理设备10的处理室260可以通过供应光刻胶溶液来执行在基板W上形成液膜的涂覆过程，或可以使用等离子体来执行处理基板W的等离子体过程。此外，处理室260可以使用超临界流体来执行处理的超临界干燥过程。也就是说，根据本发明构思的实施方式安装在外壳中的传送组件600和诊断单元700可以不同地应用于设置有位置移动的构件的已知的基板处理设备。

本发明构思的效果不限于上述效果，并且本发明构思所属领域的技术人员可以从说明书和附图清楚地理解未提及的效果。

尽管直到现在一直在示出和描述本发明构思的优选实施方式，但本发明构思不限于上述具体实施方式，并且应注意，在不脱离权利要求书中要求的本发明构思的本质的情况下，本发明构思所涉及领域的普通技术人员可以不同地执行本发明构思，并且不应与本发明构思的技术精神或前景分开解释修改。

Claims

1.一种基板处理设备，包括：

处理室，所述处理室被配置为处理基板；

传送组件，所述传送组件被配置为将所述基板传送到所述处理室；以及

诊断单元，所述诊断单元被配置为检测所述传送组件的异常状态，并且

其中所述传送组件包括：

外壳，所述外壳具有传送空间；以及

传送机器人，所述送机器人被配置为将所述基板传送到所述处理室，并且

其中所述诊断单元包括：

检测构件，所述检测构件用于检测在所述外壳内产生的空气振动；以及

诊断构件，所述诊断构件用于基于由所述检测构件检测到的所述空气振动来诊断所述传送组件的驱动单元。

2.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中所述检测构件包括：

入口部分，所述入口部分用于引入在所述外壳内产生的所述空气振动；以及

主体部分，所述主体部分具有阀，所述阀被配置为响应于从所述入口部分引入的所述空气振动而提供振动。

3.根据权利要求2所述的基板处理设备，其中所述入口部分包括网格结构。

4.根据权利要求2所述的基板处理设备，其中所述入口部分包括多孔构件。

5.根据权利要求3所述的基板处理设备，其中所述诊断构件包括：

转换单元，所述转换单元用于将所述阀的所述振动转换为波形；

诊断单元，所述诊断单元用于诊断由所述转换单元转换的所述波形；以及

显示单元，所述显示单元用于显示分析所述波形的结果。

6.根据权利要求5所述的基板处理设备，其中当由所述转换单元转换的所述波形的峰值在预设正常范围波形之外时，所述诊断单元确定所述传送组件的所述驱动单元处于异常状态。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的基板处理设备，其中所述诊断单元安装在所述外壳内。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的基板处理设备，其中所述诊断单元安装在所述外壳内的任何固定构件处。

9.根据权利要求1至6中任一项所述的基板处理设备，其中所述传送组件还包括传送轨道，所述传送轨道沿着所述外壳的纵向方向安装并且被配置为引导所述传送机器人的移动方向，并且

其中所述检测单元安装在所述传送轨道处。

10.根据权利要求9所述的基板处理设备，其中所述检测单元安装在所述传送轨道的中点处。

11.一种基板处理设备，包括：

第一单元；

第二单元，所述第二单元与所述第一单元不同；

传送组件，所述传送组件被配置为在所述第一单元和所述第二单元之间传送基板；以及

其中所述传送组件包括：

外壳，所述外壳具有传送空间；以及

传送机器人，所述传送机器人被配置为传送所述基板，并且

其中所述诊断单元包括：

12.根据权利要求11所述的基板处理设备，其中所述检测构件包括：

13.根据权利要求12所述的基板处理设备，其中所述入口部分包括网格结构。

14.根据权利要求13所述的基板处理设备，其中所述诊断构件包括：

显示单元，所述显示单元用于显示分析所述波形的结果。

15.根据权利要求14所述的基板处理设备，其中当由所述转换单元转换的所述波形的峰值在预设正常范围波形之外时，所述诊断单元确定所述传送组件的所述驱动单元处于异常状态。

16.根据权利要求11至15中任一项所述的基板处理设备，其中所述诊断单元安装在所述外壳内的任何固定构件处。

17.根据权利要求11至15中任一项所述的基板处理设备，其中所述传送组件还包括传送轨道，所述传送轨道沿着所述外壳的纵向方向安装并且被配置为引导所述传送机器人的移动方向，并且

其中所述检测单元安装在所述传送轨道处。

18.一种基板处理设备，包括：

转位模块，所述转位模块具有装载端口，所述装载端口用于放置其中存储有基板的容器；

处理模块，所述处理模块具有用于执行处理所述基板的过程的处理室；

传送组件，所述传送组件设置到所述转位模块和所述处理模块中的至少一者并且被配置为传送所述基板；以及

诊断构件，所述诊断构件用于检测所述传送组件的异常状态，并且

其中所述传送组件包括：

外壳，所述外壳具有传送空间；以及

传送机器人，所述传送机器人被配置为传送所述基板，并且

其中所述诊断单元包括：

入口部分，所述入口部分用于引入在所述外壳内产生的空气振动；以及

主体部分，所述主体部分具有阀，所述阀被配置为响应于从所述入口部分引入的所述空气振动而提供振动，并且

其中所述入口部分包括网格结构。

19.根据权利要求18所述的基板处理设备，其中所述转位单元还包括：

显示单元，所述显示单元用于显示分析所述波形的结果，并且

其中当由所述转换单元转换的所述波形的峰值在预设正常范围波形之外时，所述传送组件的驱动单元被确定为处于异常状态。

20.根据权利要求18至19中任一项所述的基板处理设备，其中所述传送组件还包括传送轨道，所述传送轨道沿着所述外壳的纵向方向安装并且被配置为引导所述传送机器人的移动方向，并且

其中所述检测单元安装在所述传送轨道处。