CN115004067A - 带相位差层的偏光板及使用其的图像显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种薄型带相位差层的偏光板,该薄型带相位差层的偏光板在应用于图像显示装置时在高温高湿环境下的可靠性优异,可抑制反射率上升。本发明的带相位差层的偏光板自视觉识别侧起依次具有包含偏光件的偏光板、相位差层及粘合剂层。相位差层为具有圆偏光功能或椭圆偏光功能的液晶化合物的取向固化层。带相位差层的偏光板于偏光件与粘合剂层之间设有碘透过抑制层,该碘透过抑制层为树脂的有机溶剂溶液的涂布膜的固体化物或热固化物;碘透过抑制层的碘吸收指数为0.015以下。
Description
技术领域
本发明涉及带相位差层的偏光板及使用其的图像显示装置。
背景技术
近年来,以液晶显示装置及电致发光(EL)显示装置(例如有机EL显示装置、无机EL显示装置)为代表的图像显示装置急速普及。图像显示装置代表性的是使用偏光板及相位差板。在实际应用上,广泛使用偏光板与相位差板一体化而成的带相位差层的偏光板(例如专利文献1),然而,最近随着对于图像显示装置薄型化的需求增强,对于带相位差层的偏光板的薄型化需求也增强。出于带相位差层的偏光板的薄型化的目的,一直在推进对厚度影响大的偏光件的保护层的薄型化(或省略)以及相位差薄膜的薄型化。但是,将薄型带相位差层的偏光板应用于图像显示装置时,存在在高温高湿环境下可靠性不足的情况。更详细而言,带相位差层的偏光板代表性的是作为防反射薄膜使用,但是在高温高湿环境下存在图像显示装置的反射率变大的情况。此外,将薄型带相位差层的偏光板应用于图像显示装置时,存在图像显示装置的金属构件(例如电极、传感器、布线、金属层)腐蚀的情况。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特许第3325560号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明是为了解决上述现有问题而做出的,其主要目的在于提供一种薄型带相位差层的偏光板,该薄型带相位差层的偏光板在应用于图像显示装置时在高温高湿环境下的可靠性优异,且可抑制反射率上升。
用于解决问题的方案
本发明的带相位差层的偏光板自视觉识别侧起依次具有包含偏光件的偏光板、相位差层及粘合剂层,该相位差层为具有圆偏光功能或椭圆偏光功能的液晶化合物的取向固化层。带相位差层的偏光板于该偏光件与该粘合剂层之间设有碘透过抑制层,该碘透过抑制层为树脂的有机溶剂溶液的涂布膜的固体化物或热固化物;该碘透过抑制层的碘吸收指数为0.015以下。
在一个实施方式中,上述碘透过抑制层设置于上述偏光件与上述相位差层之间。在另一实施方式中,上述碘透过抑制层设置于上述相位差层与上述粘合剂层之间。
在一个实施方式中,上述碘透过抑制层于上述偏光件与上述粘合剂层之间设有2层以上。
在一个实施方式中,上述碘透过抑制层的钾吸收指数为0.015以下。
在一个实施方式中,构成上述该碘透过抑制层的树脂的玻璃化转变温度为85℃以上,且重均分子量Mw为25000以上。
在一个实施方式中,构成上述碘透过抑制层的树脂包含通过将单体混合物聚合而得的共聚物,该单体混合物包含大于50重量份的(甲基)丙烯酸系单体与大于0重量份且小于50重量份的式(1)所示的单体:
(式中,X表示包含反应性基团的官能团,且该反应性基团为选自由乙烯基、(甲基)丙烯酰基、苯乙烯基、(甲基)丙烯酰胺基、乙烯基醚基、环氧基、氧杂环丁烷基、羟基、氨基、醛基及羧基组成的组中的至少1种反应性基团,R1及R2分别独立地表示氢原子、任选具有取代基的脂肪族烃基、任选具有取代基的芳基或任选具有取代基的杂环基,R1及R2任选相互连接而形成环)。
在一个实施方式中,上述相位差层为单一层,且该相位差层的Re(550)为100nm~190nm,该相位差层的慢轴与上述偏光件的吸收轴形成的角度为40°~50°。
在一个实施方式中,上述相位差层具有第1液晶化合物的取向固化层与第2液晶化合物的取向固化层的层叠结构;该第1液晶化合物的取向固化层的Re(550)为200nm~300nm,且其慢轴与上述偏光件的吸收轴形成的角度为10°~20°;该第2液晶化合物的取向固化层的Re(550)为100nm~190nm,且其慢轴与该偏光件的吸收轴形成的角度为70°~80°。
在一个实施方式中,上述带相位差层的偏光板于上述相位差层与上述粘合剂层之间还具有另外的相位差层,该另外的相位差层的折射率特性显示nz>nx=ny的关系。
在一个实施方式中,上述带相位差层的偏光板于上述碘透过抑制层与上述粘合剂层之间还具有导电层或带导电层的各向同性基材。
在一个实施方式中,上述带相位差层的偏光板的总厚度在60μm以下。
根据本发明的另一方面,提供一种图像显示装置。该图像显示装置具备上述带相位差层的偏光板。
在一个实施方式中,上述图像显示装置为有机电致发光显示装置或无机电致发光显示装置。
发明的效果
根据本发明的实施方式,通过于薄型带相位差层的偏光板的规定位置设置具有规定的碘吸收指数的碘透过抑制层,在将该带相位差层的偏光板应用于图像显示装置时可抑制在高温高湿环境下的反射率上升。
附图说明
图1A为本发明的一实施方式的带相位差层的偏光板的示意截面图。
图1B为本发明的另一实施方式的带相位差层的偏光板的示意截面图。
图2为本发明的又一实施方式的带相位差层的偏光板的示意截面图。
图3为本发明的又一实施方式的带相位差层的偏光板的示意截面图。
图4为本发明的又一实施方式的带相位差层的偏光板的示意截面图。
图5为本发明的又一实施方式的带相位差层的偏光板的示意截面图。
具体实施方式
以下说明本发明的实施方式,但本发明不受这些实施方式限定。
(术语及符号的定义)
本说明书中的术语及符号的定义如下。
(1)折射率(nx、ny、nz)
“nx”为面内折射率达到最大的方向(即慢轴方向)的折射率,“ny”为在面内与慢轴正交的方向(即快轴方向)的折射率,“nz”为厚度方向的折射率。
(2)面内相位差(Re)
“Re(λ)”为于23℃下以波长λnm的光测定的面内相位差。例如,“Re(550)”为于23℃下以波长550nm的光测定的面内相位差。在将层(薄膜)的厚度设为d(nm)时,Re(λ)通过式:Re(λ)=(nx-ny)×d求得。
(3)厚度方向的相位差(Rth)
“Rth(λ)”为于23℃下以波长λnm的光测定的厚度方向的相位差。例如,“Rth(550)”为于23℃下以波长550nm的光测定的厚度方向的相位差。在将层(薄膜)的厚度设为d(nm)时,Rth(λ)通过式:Rth(λ)=(nx-nz)×d求得。
(4)Nz系数
Nz系数可以通过Nz=Rth/Re求得。
(5)角度
本说明书中提及角度时,该角度包含相对于基准方向的顺时针方向及逆时针方向两者。因此,例如“45°”是指±45°。
A.带相位差层的偏光板的整体构成
图1A为本发明的一实施方式的带相位差层的偏光板的示意截面图;图1B为本发明的另一实施方式的带相位差层的偏光板的示意截面图。图1A及图1B的带相位差层的偏光板100、101各自自视觉识别侧起依次具有偏光板10、相位差层20及粘合剂层30。偏光板10代表性的是包含偏光件11与配置于偏光件11的视觉识别侧的保护层12。根据目的,也可于偏光件11的与视觉识别侧(保护层12)相反的一侧设置另外的保护层(未图示)。相位差层20为具有圆偏光功能或椭圆偏光功能的液晶化合物的取向固化层(以下有时简称为液晶取向固化层)。粘合剂层30设置成最外层,带相位差层的偏光板可贴附于图像显示装置(实质上为图像显示单元)上。
本发明的实施方式中,于偏光件11与粘合剂层30之间设有碘透过抑制层40。碘透过抑制层40可如图1A所示设置于偏光件11与相位差层20之间(即邻接偏光件11),也可如图1B所示设置于相位差层20与粘合剂层30之间。将碘透过抑制层设置于偏光件与相位差层之间时(尤其是使碘透过抑制层邻接偏光件时),可抑制在高温高湿环境下碘自偏光件移动,具有可靠性提高的优点。将碘透过抑制层设置于相位差层与粘合剂层之间时(尤其是使碘透过抑制层邻接粘合剂层时),也可同时防止碘以外的可能会影响金属腐蚀的成分(例如紫外线固化粘接剂中的残渣单体成分、光引发剂的分解物)向粘合剂中的移动,具有进一步提高金属腐蚀抑制效果的优点。
带相位差层的偏光板中,也可于偏光件与粘合剂层之间设置2层以上碘透过抑制层(例如图4及图5)。通过带相位差层的偏光板具有2层以上的碘透过抑制层,在将带相位差层的偏光板应用于图像显示装置时,可显著抑制金属构件的腐蚀。
图4所示的带相位差层的偏光板中,于偏光件与粘合剂层之间设有2层碘透过抑制层。图4所示的例子中,设有2层碘透过抑制层,在偏光件11与相位差层20之间及相位差层20与粘合剂层30之间。在一个实施方式中,碘透过抑制层设置成与偏光件邻接。在另一实施方式中,碘透过抑制层设置成与相位差层邻接。本说明书中的“邻接”表示不借助粘接层等而直接层叠。
图5所示的带相位差层的偏光板中,于偏光件与粘合剂层之间设有3层碘透过抑制层。在图5所示的例子中,碘透过抑制层在偏光件11与相位差层20之间设有2层,于相位差层20与粘合剂层30之间设有1层。偏光件11与相位差层20之间的2层碘透过抑制层中的一者设置成与偏光件邻接,另一者设置成与相位差层邻接。
带相位差层的偏光板中,碘透过抑制层也可为4层以上(例如4层、5层、6层)。碘透过抑制层的数量越多,越可提高金属腐蚀抑制效果。碘透过抑制层的数量可考虑成本、制造效率、带相位差层的偏光板的层厚度等来设定。
碘透过抑制层的碘吸收指数为0.015以下。通过将这样的碘透过抑制层设于带相位差层的偏光板的预定位置,在将带相位差层的偏光板应用于图像显示装置时,可显著抑制偏光件中的碘移动至图像显示装置(实质上为图像显示单元)。其结果,在将带相位差层的偏光板应用于图像显示装置时,可抑制在高温高湿环境下碘引起的可靠性降低,因此可抑制反射率上升。进而,碘透过抑制层的钾吸收指数优选为0.015以下。碘透过抑制层通过不仅具有规定值以下的碘吸收指数还具有规定值以下的钾吸收指数,可进一步抑制在高温高湿环境下碘引起的可靠性降低,因此可进一步抑制反射率上升。
这样的效果为薄型带相位差层的偏光板(代表性的是相位差层为液晶取向固化层的带相位差层的偏光板)特有的效果。即,本发明人等新发现了以下问题:在将薄型带相位差层的偏光板应用于图像显示装置时,存在在高温高湿环境下反射率上升的情况,弄清了这样的问题可由碘引起。于是进行了反复研究,结果发现,作为防止碘向图像显示装置(实质上为图像显示单元)移动的手段,具有如上所述的碘吸收指数的碘透过抑制层是有用的,从而完成了本发明。即,这样的效果解决了以往未知的崭新课题,为不可预期的优异效果。进而,如后所述,碘透过抑制层可形成得非常薄,且可通过设置碘透过抑制层而省略与视觉识别侧处于相反侧的保护层,因此,通过它们的协同效果,也可有助于带相位差层的偏光板的进一步的薄型化。需要说明的是,这样的碘透过抑制层还可具有可显著抑制图像显示装置的金属构件(例如电极、传感器、布线、金属层)的腐蚀的效果。
如图2所示,又一实施方式的带相位差层的偏光板102中,也可设置另外的相位差层50以及/或者导电层或带导电层的各向同性基材60。另外的相位差层50代表性的是设置于相位差20与粘合剂层30之间(即相位差层20的外侧)。另外的相位差层代表性的是折射率特性显示nz>nx=ny的关系。导电层或带导电层的各向同性基材60代表性的是设置于碘透过抑制层40与粘合剂层30之间(即碘透过抑制层40的外侧)。另外的相位差层50以及导电层或带导电层的各向同性基材60代表性的是自相位差层20侧起依次设置。图示例中,自视觉识别侧起依次设有碘透过抑制层40、相位差层20、另外的相位差层50、以及导电层或带导电层的各向同性基材60,但只要另外的相位差层50设置于相位差20与粘合剂层30之间,且导电层或带导电层的各向同性基材60设置于碘透过抑制层40与粘合剂层30之间,则可采用任意适当的配置顺序。另外的相位差层50以及导电层或带导电层的各向同性基材60代表性的是为根据需要设置的任意层,可省略任一者或两者。需要说明的是,为了方便,有时将相位差层20称为第1相位差层,将另外的相位差层50称为第2相位差层。在设置导电层或带导电层的各向同性基材时,带相位差层的偏光板可应用于在图像显示单元(例如有机EL单元)与偏光板间组入有触控传感器的所谓内嵌触控面板型输入显示装置。在本发明的实施方式中,通过将导电层或带导电层的各向同性基材60设置于碘透过抑制层40的外侧,可显著抑制导电层的腐蚀。
如上所述,第1相位差层20为液晶取向固化层。第1相位差层20可为如图1A、图1B及图2所示的单一层,也可具有如图3所示的第1液晶取向固化层21与第2液晶取向固化层22的层叠结构。
上述实施方式可适当组合,也可在上述实施方式的构成要素中加入业界中显而易见的变更。例如,可于图1B的带相位差层的偏光板101上设置第2相位差层50以及/或者导电层或带导电层的各向同性基材60;图1B的带相位差层的偏光板101的相位差层20也可具有如图3所示的2层结构;可于图3的带相位差层的偏光板103上设置第2相位差层50以及/或者导电层或带导电层的各向同性基材60;图2的带相位差层的偏光板102的碘透过抑制层40也可设置于相位差层20与导电层或带导电层的各向同性基材60之间。
本发明的实施方式的带相位差层的偏光板也可进一步包含其他相位差层。其他相位差层的光学特性(例如折射率特性、面内相位差、Nz系数、光弹性系数)、厚度、配置位置等可根据目的适当设定。
本发明的实施方式的带相位差层的偏光板可为单片状也可为长条状。本说明书中所谓“长条状”是指相对于宽度而言长度足够长的细长形状,例如包含相对于宽度而言长度为10倍以上、优选为20倍以上的细长形状。长条状的带相位差层的偏光板可卷成卷状。
带相位差层的偏光板的总厚度优选为60μm以下,更优选为55μm以下,进一步优选为50μm以下,特别优选为40μm以下。总厚度的下限例如可为28μm。根据本发明的实施方式,可实现这样的极薄的带相位差层的偏光板,进而,即便在将这样的极薄的带相位差层的偏光板应用于图像显示装置的情况下,仍可抑制在高温高湿环境下碘引起的可靠性降低,因此可抑制反射率上升。进而,可显著抑制图像显示装置的金属构件(例如电极、传感器、布线、金属层)的腐蚀。此外,这样的带相位差层的偏光板可具有极其优异的挠性及弯折耐久性。因此,这样的带相位差层的偏光板特别适宜应用于弯曲的图像显示装置和/或可弯折或可折叠的图像显示装置。需要说明的是,所谓带相位差层的偏光板的总厚度,是指偏光板、相位差层(第1相位差层及存在第2相位差层时的第2相位差层)、碘透过抑制层及用于将它们层叠的粘接剂层或粘合剂层的厚度的合计(即,带相位差层的偏光板的总厚度不包含导电层或带导电层的各向同性基材60、以及粘合剂层30及可暂时粘接于其表面的剥离薄膜的厚度)。
在实际应用上,优选在粘合剂层30的表面暂时粘接剥离薄膜直至带相位差层的偏光板供于使用之前。通过暂时粘接剥离薄膜,可在保护粘合剂层的同时形成带相位差层的偏光板的卷。
以下针对带相位差层的偏光板的构成要素进行更详细的说明。需要说明的是,关于粘合剂层30,可采用业界周知的构成,因此省略了针对粘合剂层的详细构成的记载。
B.偏光板
B-1.偏光件
偏光件代表性的是由包含二色性物质的聚乙烯醇(PVA)系树脂薄膜构成。偏光件的厚度优选为1μm~8μm,更优选为1μm~7μm,进一步优选为2μm~5μm。只要偏光件的厚度在这样的范围内,则可对带相位差层的偏光板的薄型化有较大贡献。进而,在使用这样的偏光件的薄型带相位差层的偏光板中,本发明的效果显著。
偏光件的硼酸含量优选为10重量%以上,更优选为13重量%~25重量%。只要偏光件的硼酸含量在这样的范围内,则可通过与后述的碘含量的协同效果来良好地维持贴合时的卷曲调整的容易性且良好地抑制加热时的卷曲,同时改善加热时的外观耐久性。硼酸含量例如可由中和法使用下述式以每单位重量的偏光件所含的硼酸量的形式来算出。
偏光件的碘含量优选为2重量%以上、更优选为2重量%~10重量%。偏光件的碘含量为这样的范围时,通过与上述的硼酸含量的协同效应,能够良好地维持贴合时的卷曲调整的容易性、并且良好地抑制加热时的卷曲、并且改善加热时的外观耐久性。本说明书中,“碘含量”是指偏光件(PVA系树脂薄膜)中包含的全部碘的量。更具体而言,在偏光件中,碘以碘离子(I-)、碘分子(I2)、多碘离子(I3 -、I5 -)等形态存在时,本说明书中的碘含量是指包含全部这些形态的碘的量。碘含量例如可以通过荧光X射线分析的标准曲线法来算出。需要说明的是,多碘离子在偏光件中以形成PVA-碘络合物的状态存在。通过形成这样的络合物,从而在可见光的波长范围内会表现吸收二色性。具体而言,PVA与三碘化物离子的络合物(PVA·I3 -)在470nm附近具有吸光峰,PVA与五碘化物离子的络合物(PVA·I5 -)在600nm附近具有吸光峰。结果,多碘离子可根据其形态而在可见光的宽的范围内吸收光。另一方面,碘离子(I-)在230nm附近具有吸光峰,实质上不干预可见光的吸收。因此,以与PVA的络合物的状态存在的多碘离子主要干预偏光件的吸收性能。
偏光件优选在波长380nm~780nm的任意波长下显示吸收二色性。偏光件的单体透过率Ts优选为40%~48%、更优选为41%~46%。偏光件的偏光度P优选为97.0%以上、更优选为99.0%以上、进一步优选为99.9%以上。上述单体透过率代表性的是使用紫外可见分光光度计进行测定并进行视感度校正而得的Y值。上述偏光度代表性的是基于使用紫外可见分光光度计进行测定并进行视感度校正而得的平行透过率Tp及正交透过率Tc、通过下式来求出。
偏光度(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100
偏光件代表性的是可使用两层以上的层叠体来制作。作为使用层叠体而获得的偏光件的具体例,可举出使用树脂基材与涂布形成于该树脂基材的PVA系树脂层的层叠体而获得的偏光件。使用树脂基材与涂布形成于该树脂基材的PVA系树脂层的层叠体而获得的偏光件例如可通过以下方式制作:将PVA系树脂溶液涂布于树脂基材并使其干燥,于树脂基材上形成PVA系树脂层,从而获得树脂基材与PVA系树脂层的层叠体;将该层叠体拉伸及染色而将PVA系树脂层制成偏光件。拉伸代表性的是包含使层叠体浸渍于硼酸水溶液中并拉伸。进而,根据需要,拉伸可进一步包含在硼酸水溶液中进行拉伸之前在高温(例如95℃以上)下对层叠体进行空中拉伸。所得树脂基材/偏光件的层叠体可以直接使用(即,可将树脂基材作为偏光件的保护层),也可从树脂基材/偏光件的层叠体剥离树脂基材并于该剥离面根据目的而层叠任意适当的保护层来使用。这样的偏光件的制造方法的详细内容记载于例如日本特开2012-73580号公报、日本特许第6470455号。本说明书中援用这些公报整体的记载作为参考。
偏光件的制造方法代表性的是包含:于长条状热塑性树脂基材的单侧形成包含卤化物与聚乙烯醇系树脂的聚乙烯醇系树脂层,制成层叠体;及,对上述层叠体依次实施空中辅助拉伸处理、染色处理、水中拉伸处理与干燥收缩处理,该干燥收缩处理通过边将上述层叠体沿长边方向输送边进行加热从而使其于宽度方向收缩2%以上。由此,可提供一种非常薄型且具有优异光学特性并且光学特性的不均得到抑制的偏光件。即,通过导入辅助拉伸,即便是在将PVA涂布于热塑性树脂上时仍可提高PVA的结晶性,可达成高光学特性。此外,通过事先同时提高PVA的取向性,可防止在之后的染色工序、拉伸工序中浸渍于水中时PVA的取向性降低或溶解等问题,可达成高光学特性。进而,将PVA系树脂层浸渍于液体中时,相较于PVA系树脂层不含卤化物的情况,可抑制聚乙烯醇分子的取向紊乱及取向性的降低。由此,可提高经由染色处理及水中拉伸处理等将层叠体浸渍于液体中来进行的处理工序而得的偏光件的光学特性。进而,通过干燥收缩处理使层叠体于宽度方向上收缩,从而可提高光学特性。
B-2.保护层
保护层12由可以作为偏光件的保护层使用的任意适当的薄膜形成。对于作为该薄膜的主成分的材料的具体例,可举出三乙酸纤维素(TAC)等纤维素系树脂、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚酰胺系、聚酰亚胺系、聚醚砜系、聚砜系、聚苯乙烯系、聚降冰片烯系、聚烯烃系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明树脂等。另外,也可举出(甲基)丙烯酸系、氨基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸类氨基甲酸酯系、环氧系、有机硅系等热固化型树脂或紫外线固化型树脂等。此外,例如,也可举出硅氧烷系聚合物等玻璃质系聚合物。另外,也可以使用日本特开2001-343529号公报(WO01/37007)中记载的聚合物薄膜。作为该薄膜的材料,例如,可以使用含有在侧链具有取代或未取代的酰亚胺基的热塑性树脂和在侧链具有取代或未取代的苯基以及腈基的热塑性树脂的树脂组合物,例如,可举出具有由异丁烯和N-甲基马来酰亚胺形成的交替共聚物及丙烯腈·苯乙烯共聚物的树脂组合物。该聚合物薄膜例如可以为上述树脂组合物的挤出成形物。
带相位差层的偏光板如后所述代表性的是配置于图像显示装置的视觉识别侧,保护层12代表性的是配置于其视觉识别侧。因此,保护层12也可根据需要实施硬涂处理、防反射处理、防粘连处理、防眩处理等表面处理。进而/或者,保护层12也可根据需要实施用于改善隔着偏光太阳镜视觉识别时的视觉识别性的处理(代表性的为赋予(椭)圆偏光功能、赋予超高相位差)。通过实施这样的处理,即使隔着偏光太阳镜等偏光透镜视觉识别显示画面时,仍可实现优异的视觉识别性。因此,带相位差层的偏光板也可适宜用于可在户外使用的图像显示装置。
保护层的厚度优选为10μm~50μm,更优选为10μm~30μm。需要说明的是,在实施了表面处理时,外侧保护层的厚度为包含表面处理层的厚度在内的厚度。
C.第1相位差层
第1相位差层20如上所述为液晶取向固化层。通过使用液晶化合物,可使所得相位差层的nx与ny之差比非液晶材料显著大,因此可使用于获得期望的面内相位差的相位差层的厚度显著小。其结果,可实现带相位差层的偏光板的进一步薄型化。本说明书中,所谓“液晶取向固化层”,是指液晶化合物在层内沿规定方向取向、且其取向状态被固定的层。需要说明的是,“取向固化层”为包含如后所述使液晶单体固化而得的取向固化层的概念。在本实施方式中,代表性的是棒状液晶化合物以沿第1相位差层的慢轴方向排列的状态取向(平行取向)。
作为液晶化合物,可举出例如液晶相为向列相的液晶化合物(向列液晶)。作为这样的液晶化合物,例如可使用液晶聚合物、液晶单体。液晶化合物的液晶性的表现机制可为溶致也可为热致。液晶聚合物及液晶单体各自可单独使用,也可组合。
液晶化合物为液晶单体时,该液晶单体优选为聚合性单体及交联性单体。这是因为,通过使液晶单体进行聚合或交联(即固化),可固定液晶单体的取向状态。在使液晶单体取向之后,例如使液晶单体彼此聚合或交联时,可由此固定上述取向状态。这里,通过聚合来形成聚合物,通过交联来形成3维网状结构,但这些为非液晶性。因此,所形成的第1相位差层例如不会发生液晶性化合物特有的因温度变化而转变为液晶相、玻璃相、结晶相的情况。其结果,第1相位差层成为不受温度变化影响而稳定性极其优异的相位差层。
液晶单体显示液晶性的温度范围因其种类而异。具体而言,该温度范围优选为40℃~120℃,进一步优选为50℃~100℃,最优选为60℃~90℃。
作为上述液晶单体,可采用任意适当的液晶单体。例如可使用日本特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171及GB2280445等所记载的聚合性液晶原化合物等。作为这样的聚合性液晶原化合物的具体例,可举出例如BASF公司的商品名LC242、Merck公司的商品名E7、Wacker-Chem公司的商品名LC-Sillicon-CC3767。作为液晶单体,优选为例如向列性液晶单体。
液晶取向固化层可如下来形成:对规定基材的表面实施取向处理,并在该表面涂布含液晶化合物的涂布液而使该液晶化合物沿与上述取向处理对应的方向取向,并固定该取向状态,由此形成。在一个实施方式中,基材为任意适当的树脂薄膜,形成于该基材上的液晶取向固化层可转印至邻接层(例如偏光件、碘透过抑制层)的表面。
作为上述取向处理,可采用任意适当的取向处理。具体可举出机械性取向处理、物理性取向处理、化学性取向处理。作为机械性取向处理的具体例,可举出磨擦处理、拉伸处理。作为物理性取向处理的具体例,可举出磁场取向处理、电场取向处理。作为化学性取向处理的具体例,可举出斜向蒸镀法、光取向处理。各种取向处理的处理条件可根据目的采用任意适当的条件。
液晶化合物的取向可根据液晶化合物的种类通过在显示液晶相的温度下进行处理来进行。通过进行这样的温度处理,液晶化合物变为液晶状态,该液晶化合物对应基材表面的取向处理方向而取向。
在一个实施方式中,取向状态的固定通过冷却如上所述进行了取向的液晶化合物来进行。在液晶化合物为聚合性单体或交联性单体时,取向状态的固定通过对如上所述进行了取向的液晶化合物实施聚合处理或交联处理来进行。
液晶化合物的具体例及取向固化层的形成方法的详细内容记载于日本特开2006-163343号公报中。本说明书中援用该公报的记载作为参考。
在一个实施方式中,第1相位差层20如图1A、图1B及图2所示为单一层。第1相位差层20由单一层构成时,其厚度优选为0.5μm~7μm,更优选为1μm~5μm。通过使用液晶化合物,可以以比树脂薄膜显著薄的厚度实现与树脂薄膜同等的面内相位差。
第1相位差层如上所述具有圆偏光功能或椭圆偏光功能。第1相位差层代表性的是折射率特性显示nx>ny=nz的关系。第1相位差层代表性的是为了赋予偏光板防反射特性而设置,在第1相位差层为单一层时,可作为λ/4板发挥功能。此时,第1相位差层的面内相位差Re(550)优选为100nm~190nm,更优选为110nm~170nm,进一步优选为130nm~160nm。需要说明的是,这里,“ny=nz”不仅包括ny与nz完全相等的情况,还包括实质上相等的情况。因此,在不损及本发明效果的范围内可存在ny>nz或ny<nz的情况。
第1相位差层的Nz系数优选为0.9~1.5,更优选为0.9~1.3。通过满足这样的关系,在将所得带相位差层的偏光板用于图像显示装置时,可达成非常优异的反射色相。
第1相位差层可显示相位差值随测定光的波长而变大的反常色散波长特性,可显示相位差值随测定光的波长而变小的正常波长色散特性,还可以显示相位差值几乎不随测定光的波长而变化的平坦的波长色散特性。在一个实施方式中,第1相位差层示出反常色散波长特性。此时,相位差层的Re(450)/Re(550)优选为0.8以上且小于1,更优选为0.8以上且0.95以下。若为这样的构成,则可以实现非常优异的防反射特性。
第1相位差层20的慢轴与偏光件11的吸收轴形成的角度θ优选为40°~50°,更优选为42°~48°,进一步优选为约45°。只要角度θ在这样的范围内,则通过如上所述将第1相位差层制成λ/4板,可获得具有非常优异的圆偏光特性(结果为非常优异的防反射特性)的带相位差层的偏光板。
在另一实施方式中,第1相位差层20如图3所示,具有第1液晶取向固化层21与第2液晶取向固化层22的层叠结构。此时,第1液晶取向固化层21及第2液晶取向固化层22的任一者可作为λ/4板发挥功能,另一者可作为λ/2板发挥功能。因此,第1液晶取向固化层21及第2液晶取向固化层22的厚度可以以获得λ/4板或λ/2板的期望的面内相位差的方式进行调整。例如,第1液晶取向固化层21作为λ/2板发挥功能、第2液晶取向固化层22作为λ/4板发挥功能时,第1液晶取向固化层21的厚度例如为2.0μm~3.0μm,第2液晶取向固化层22的厚度例如为1.0μm~2.0μm。此时,第1液晶取向固化层的面内相位差Re(550)优选为200nm~300nm,更优选为230nm~290nm,进一步优选为250nm~280nm。第2液晶取向固化层的面内相位差Re(550)如关于单一层在上述所说明。第1液晶取向固化层的慢轴与偏光件的吸收轴形成的角度优选为10°~20°,更优选为12°~18°,进一步优选为约15°。第2液晶取向固化层的慢轴与偏光件的吸收轴形成的角度优选为70°~80°,更优选为72°~78°,进一步优选为约75°。只要为这样的构成,则可获得接近理想的反常波长色散特性的特性,结果可实现非常优异的防反射特性。关于构成第1液晶取向固化层及第2液晶取向固化层的液晶化合物、第1液晶取向固化层及第2液晶取向固化层的形成方法、光学特性等,如关于单一层在上述所说明。
D.碘透过抑制层
碘透过抑制层如上所述,碘吸收指数为0.015以下。碘吸收指数优选为0.012以下,更优选为0.009以下,进一步优选为0.007以下,特别优选为0.005以下。碘吸收指数越小越优选,理想的是为零,其下限例如可为0.001。碘吸收指数为碘透过抑制层的碘透过抑制能力的指标,该指数越小表示碘越难被碘透过抑制层吸收(即碘容易被碘透过抑制层阻断)。因此,只要碘吸收指数在这样的范围内,则在将带相位差层的偏光板应用于图像显示装置时,可显著抑制偏光件中的碘移动至图像显示装置(实质上为图像显示单元)。其结果,在将带相位差层的偏光板应用于图像显示装置时,可抑制在高温高湿环境下碘引起的可靠性降低,因此可抑制反射率上升。进而,碘透过抑制层如上所述,钾吸收指数优选为0.015以下。钾吸收指数更优选为0.013以下,进一步优选为0.011以下,特别优选为0.009以下。钾吸收指数越小越优选,理想的是为零,其下限例如可为0.002。钾吸收指数为碘透过抑制层的钾透过抑制能力的指标,该指数越小表示钾越不易被碘透过抑制层吸收,其结果,碘化钾的形态的碘及多碘化钾(I3 -K+)的形态的碘越不易被碘透过抑制层吸收。因此,只要钾吸收指数在这样的范围内,则不仅在碘单质的形态下,在碘化钾及多碘化钾的形态下,也可抑制碘的移动。碘吸收指数可规定为碘透过抑制层利用荧光X射线分析所得的碘强度(kcps),钾吸收指数可规定为碘透过抑制层利用荧光X射线分析所得的钾强度(kcps)。
碘透过抑制层代表性的是为树脂的有机溶剂溶液的涂布膜的固体化物或热固化物。为树脂的有机溶剂溶液的涂布膜的固体化物或热固化物。只要为这样的构成,则可使厚度非常薄(例如成为10μm以下)。碘透过抑制层的厚度优选为0.05μm~10μm,更优选为0.08μm~5μm,进一步优选为0.1μm~1μm,特别优选为0.2μm~0.7μm。进而,只要为这样的构成,则可将碘透过抑制层直接(即不借助粘接剂层或粘合剂层)形成于邻接层(例如偏光件、相位差层)上。根据本发明的实施方式,如上所述,偏光件、相位差层及碘透过抑制层非常薄,并且可省略用于层叠碘透过抑制层的粘接剂层或粘合剂,因此,可使带相位差层的偏光板的总厚度极薄。进而,由于这样的碘透过抑制层的吸湿性及透湿性与水溶液或水分散体这样的水系的涂布膜的固体化物相比更小,因此具有加湿耐久性优异的优点。其结果,可实现即便在高温高湿环境下仍可维持光学特性的耐久性优异的带相位差层的偏光板。此外,这样的碘透过抑制层例如与紫外线固化性树脂的固化物相比,可抑制紫外线照射对偏光板(偏光件)造成不良影响。碘透过抑制层优选为树脂的有机溶剂溶液的涂布膜的固体化物。固体化物与固化物相比薄膜成形时的收缩小、及不含残存单体等,因此可抑制薄膜本身的劣化且可抑制残存单体等对偏光板(偏光件)造成不良影响。
进而,构成碘透过抑制层的树脂的玻璃化转变温度(Tg)例如为85℃以上,重均分子量Mw例如为25000以上。只要该树脂的Tg及Mw在这样的范围内,则通过与由树脂的有机溶剂溶液的涂布膜的固体化物或热固化物构成碘透过抑制层所带来的效果的协同效果,即便非常薄,仍可显著抑制偏光件中的碘向图像显示单元的移动。结果,在将带相位差层的偏光板应用于图像显示装置时,可抑制在高温高湿环境下碘引起的可靠性降低,因此可抑制反射率上升。进而,可显著抑制金属构件的腐蚀。该树脂的Tg优选为90℃以上,更优选为100℃以上,进一步优选为110℃以上,特别优选为120℃以上。Tg的上限例如可为200℃。此外,该树脂的Mw优选为30000以上,更优选为35000以上,进一步优选为40000以上。Mw的上限例如可为150000。
作为构成碘透过抑制层的树脂,只要可形成有机溶剂溶液的涂布膜的固体化物或热固化物且具有如上所述的Tg及Mw,则可使用任意适当的热塑性树脂或热固化性树脂。优选为热塑性树脂。作为热塑性树脂,可举出例如丙烯酸系树脂、环氧系树脂。也可组合丙烯酸系树脂与环氧系树脂来使用。以下说明可用于碘透过抑制层的丙烯酸系树脂及环氧系树脂的代表例。
丙烯酸系树脂代表性的是含有源自具有直链或支链结构的(甲基)丙烯酸酯系单体的重复单元作为主成分。本说明书中,(甲基)丙烯酸是指丙烯酸和/或甲基丙烯酸。丙烯酸系树脂可以含有源自根据目的使用的任意适当的共聚单体的重复单元。作为共聚单体(comonomer),例如,可举出含羧基的单体、含羟基的单体、含酰胺基的单体、含芳香环的(甲基)丙烯酸酯、含杂环的乙烯基系单体。通过适当地设定单体单元的种类、数量、组合及共聚比等,可得到具有上述规定的Mw的丙烯酸系树脂。
<含硼丙烯酸系树脂>
对于丙烯酸系树脂,在1个实施方式中,包含通过将下述单体混合物聚合而得的共聚物(以下,有时称为含硼丙烯酸系树脂),所述单体混合物包含大于50重量份的(甲基)丙烯酸系单体和大于0重量份且小于50重量份的式(1)所示的单体(以下,有时称为共聚单体)。
(式中,X表示包含反应性基团的官能团,该反应性基团为选自由乙烯基、(甲基)丙烯酰基、苯乙烯基、(甲基)丙烯酰胺基、乙烯基醚基、环氧基、氧杂环丁烷基、羟基、氨基、醛基及羧基组成的组中的至少1种反应性基团,R1及R2分别独立地表示氢原子、任选具有取代基的脂肪族烃基、任选具有取代基的芳基或任选具有取代基的杂环基,R1及R2任选相互连接而形成环)。
含硼丙烯酸系树脂代表性的是具有下式所示的重复单元。通过使包含式(1)所示的共聚单体和(甲基)丙烯酸系单体的单体混合物聚合,从而含硼丙烯酸系树脂在侧链具有包含硼的取代基(例如,下述式中k的重复单元)。由此,将碘透过抑制层与偏光件邻接而配置的情况下,与偏光件的密合性会提高。该包含硼的取代基可以连续(即,以嵌段状)包含在含硼丙烯酸系树脂中,也可以无规地包含在含硼丙烯酸系树脂中。
(式中,R6表示任意官能团,j及k表示1以上的整数)。
<(甲基)丙烯酸系单体>
作为(甲基)丙烯酸系单体,可以使用任意适当的(甲基)丙烯酸系单体。例如,可举出具有直链或支链结构的(甲基)丙烯酸酯系单体、及具有环状结构的(甲基)丙烯酸酯系单体。
作为具有直链或支链结构的(甲基)丙烯酸酯系单体,例如,可举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸甲基2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯等。优选使用(甲基)丙烯酸甲酯。(甲基)丙烯酸酯系单体可以仅使用1种,也可以组合使用2种以上。
作为具有环状结构的(甲基)丙烯酸酯系单体,例如,可举出(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯基氧乙酯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、联苯(甲基)丙烯酸酯、邻联苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、邻联苯氧基乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、间联苯氧基乙基丙烯酸酯、对联苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、邻联苯氧基-2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、对联苯氧基-2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、间联苯氧基-2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、N-(甲基)丙烯酰氧基乙基-邻联苯=氨基甲酸酯、N-(甲基)丙烯酰氧基乙基-对联苯=氨基甲酸酯、N-(甲基)丙烯酰氧基乙基-间联苯=氨基甲酸酯、邻苯基苯酚缩水甘油醚丙烯酸酯等含联苯基的单体、三联苯基(甲基)丙烯酸酯、邻三联苯基氧乙基(甲基)丙烯酸酯等。优选使用(甲基)丙烯酸1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸二环戊酯。通过使用这些单体,可得到玻璃化转变温度高的聚合物。这些单体可以仅使用1种,也可以组合使用2种以上。
此外,也可以使用具有(甲基)丙烯酰基的倍半硅氧烷化合物来代替上述(甲基)丙烯酸酯系单体。通过使用倍半硅氧烷化合物,从而得到玻璃化转变温度高的丙烯酸系聚合物。已知具有各种骨架结构、例如笼型结构、梯型结构、无规结构等骨架的倍半硅氧烷化合物。倍半硅氧烷化合物可以仅具有这些结构中的1种,也可以具有2种以上。倍半硅氧烷化合物可以仅使用1种,也可以组合使用2种以上。
作为含有(甲基)丙烯酰基的倍半硅氧烷化合物,例如,可以使用东亚合成株式会社SQ系列的MAC级、及AC级。MAC级为含有甲基丙烯酰基的倍半硅氧烷化合物,具体而言,例如,可举出MAC-SQ TM-100、MAC-SQ SI-20、MAC-SQ HDM等。AC级为含有丙烯酰基的倍半硅氧烷化合物,具体而言,例如,可举出AC-SQ TA-100、AC-SQ SI-20等。
(甲基)丙烯酸系单体以相对于单体混合物100重量份大于50重量份的量来使用。
<共聚单体>
作为共聚单体,使用上述式(1)所示的单体。通过使用这样的共聚单体,从而向得到的聚合物的侧链导入包含硼的取代基。共聚单体可以仅使用1种,也可以组合使用2种以上。
作为上述式(1)中的脂肪族烃基,可举出任选具有取代基的碳数1~20的直链或支链的烷基、任选具有取代基的碳数3~20的环状烷基、碳数2~20的烯基。作为上述芳基,可举出任选具有取代基的碳数6~20的苯基、任选具有取代基的碳数10~20的萘基等。作为杂环基,可举出任选具有取代基的包含至少1个杂原子的5元环基或6元环基。需要说明的是,R1及R2任选彼此连接而形成环。R1及R2优选为氢原子、或碳数1~3的直链或支链的烷基,更优选为氢原子。
X所示的官能团包含的反应性基团为选自由乙烯基、(甲基)丙烯酰基、苯乙烯基、(甲基)丙烯酰胺基、乙烯基醚基、环氧基、氧杂环丁烷基、羟基、氨基、醛基、及羧基组成的组中的至少1种。优选反应性基团为(甲基)丙烯酰基和/或(甲基)丙烯酰胺基。通过具有这些反应性基团,从而将碘透过抑制层与偏光件邻接而配置时,与偏光件的密合性会进一步提高。
1个实施方式中,X所示的官能团优选为Z-Y-所示的官能团。此处,Z表示包含选自由乙烯基、(甲基)丙烯酰基、苯乙烯基、(甲基)丙烯酰胺基、乙烯基醚基、环氧基、氧杂环丁烷基、羟基、氨基、醛基及羧基组成的组中的至少1种反应性基团的官能团,Y表示亚苯基或亚烷基。
作为共聚单体,具体可使用以下的化合物。
共聚单体以相对于单体混合物100重量份大于0重量份且小于50重量份的含量来使用。优选为0.01重量份以上且小于50重量份,更优选为0.05重量份~20重量份,进一步优选为0.1重量份~10重量份,特别优选为0.5重量份~5重量份。
<含有内酯环等的丙烯酸系树脂>
在另一实施方式中,丙烯酸系树脂具有选自内酯环单元、戊二酸酐单元、戊二酰亚胺单元、马来酸酐单元及马来酰亚胺(N-取代马来酰亚胺)单元的包含环结构的重复单元。在丙烯酸系树脂的重复单元中,可以仅包含1种包含环结构的重复单元,也可以包含2种以上。
内酯环单元优选由下述通式(2)表示:
通式(2)中,R2、R3及R4分别独立地表示氢原子或碳数1~20的有机残基。需要说明的是,有机残基也可包含氧原子。丙烯酸系树脂中可仅包含单一的内酯环单元,也可包含上述通式(2)中的R2、R3及R4不同的多种内酯环单元。具有内酯环单元的丙烯酸系树脂已记载于例如日本特开2008-181078号公报中,本说明书援用该公报的记载作为参考。
戊二酰亚胺单元优选由下述通式(3)表示:
通式(3)中,R11及R12分别独立地表示氢或碳数1~8的烷基,R13表示碳数1~18的烷基、碳数3~12的环烷基、或碳数6~10的芳基。通式(3)中,优选的是,R11及R12分别独立地为氢或甲基、R13为氢、甲基、丁基或环己基。更优选的是,R11为甲基、R12为氢、R13为甲基。丙烯酸系树脂中可以仅包含单一的戊二酰亚胺单元,也可以包含上述通式(3)中的R11、R12及R13不同的多种戊二酰亚胺单元。具有戊二酰亚胺单元的丙烯酸系树脂例如记载于日本特开2006-309033号公报、日本特开2006-317560号公报、日本特开2006-328334号公报、日本特开2006-337491号公报、日本特开2006-337492号公报、日本特开2006-337493号公报、日本特开2006-337569号公报,该公报的记载作为参考被援引至本说明书中。需要说明的是,关于戊二酸酐单元,除了上述通式(3)中的由R13取代的氮原子为氧原子以外,关于戊二酰亚胺单元的上述的说明均可适用。
关于马来酸酐单元及马来酰亚胺(N-取代马来酰亚胺)单元,根据名称来确定结构,因此省略具体的说明。
丙烯酸系树脂中的包含环结构的重复单元的含有比例优选为1摩尔%~50摩尔%、更优选为10摩尔%~40摩尔%、进一步优选为20摩尔%~30摩尔%。需要说明的是,丙烯酸系树脂包含源自上述的(甲基)丙烯酸系单体的重复单元作为主要的重复单元。
<环氧树脂>
作为环氧树脂,优选使用具有芳香族环的环氧树脂。通过使用具有芳香族环的环氧树脂作为环氧树脂,在将碘透过抑制层配置成与偏光件邻接时,可提高与偏光件的密合性。进而,将粘合剂层配置成与碘透过抑制层邻接时,可提高粘合剂层的锚固力。作为具有芳香族环的环氧树脂,可举出例如双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、双酚S型环氧树脂等双酚型环氧树脂;苯酚酚醛环氧树脂、甲酚酚醛环氧树脂、羟基苯甲醛苯酚酚醛清漆环氧树脂等酚醛清漆型环氧树脂;四羟苯基甲烷的缩水甘油醚、四羟基二苯甲酮的缩水甘油醚、环氧化聚乙烯苯酚等多官能型环氧树脂、萘酚型环氧树脂、萘型环氧树脂、联苯型环氧树脂等。优选使用双酚A型环氧树脂、联苯型环氧树脂、双酚F型环氧树脂。环氧树脂可仅使用1种也可组合2种以上来使用。
碘透过抑制层可通过涂布如上所述的树脂的有机溶剂溶液来形成涂布膜,并使该涂布膜固体化或热固化来形成。作为有机溶剂,可使用可将丙烯酸系树脂溶解或均匀分散的任意适当的有机溶剂。作为有机溶剂的具体例,可举出乙酸乙酯、甲苯、甲基乙基酮(MEK)、甲基异丁基酮(MIBK)、环戊酮、环己酮。溶液的树脂浓度相对于溶剂100重量份优选为3重量份~20重量份。只要为这样的树脂浓度,则可形成均匀的涂布膜。
溶液可涂布于任意适当的基材上,也可涂布于邻接层(例如偏光件、相位差层)上。将溶液涂布于基材时,形成于基材上的涂布膜的固体化物(碘透过抑制层)被转印至邻接层上。将溶液涂布于邻接层时,通过使涂布膜干燥(固体化),于邻接层上直接形成保护层。优选的是溶液涂布于邻接层,于邻接层上直接形成保护层。只要为这样的构成,则可省略转印所需的粘接剂层或粘合剂层,因此,可使带相位差层的偏光板更薄。作为溶液的涂布方法,可采用任意适当的方法。作为具体例,可举出辊涂法、旋涂法、线棒涂布法、浸涂法、模涂法、帘涂法、喷涂法、刮刀涂布法(逗点涂布法等)。
通过使溶液的涂布膜固体化或热固化,可形成碘透过抑制层。固体化或热固化的加热温度优选为100℃以下,更优选为50℃~70℃。只要加热温度在这样的范围内,则可防止对偏光件造成不良影响。加热时间可按加热温度变化。加热时间例如可为1分钟~10分钟。
碘透过抑制层(实质上为上述树脂的有机溶剂溶液)可以根据目的包含任意适当的添加剂。作为添加剂的具体例,可举出紫外线吸收剂;流平剂;受阻酚系、磷系、硫系等的抗氧化剂;耐光稳定剂、耐候稳定剂、热稳定剂等稳定剂;玻璃纤维、碳纤维等加强材料;近红外线吸收剂;三(二溴丙基)磷酸酯、磷酸三烯丙酯、锑氧化物等阻燃剂;阴离子系、阳离子系、非离子系的表面活性剂等抗静电剂;无机颜料、有机颜料、染料等着色剂;有机填料或无机填料;树脂改性剂;有机填充剂、无机填充剂;增塑剂;润滑剂;抗静电剂;阻燃剂;等。添加剂的种类、数量、组合、添加量等可以根据目的来适当地设定。
E.第2相位差层
第2相位差层如上所述,可以为折射率特性显示nz>nx=ny的关系的所谓正C板(Positive C-plate)。通过使用正C板作为第2相位差层,可以良好地防止斜向的反射,可以使防反射功能广视角化。此时,第2相位差层的厚度方向的相位差Rth(550)优选为-50nm~-300nm,更优选为-70nm~-250nm,进一步优选为-90nm~-200nm,特别优选为-100nm~-180nm。这里,“nx=ny”不仅包含nx与ny严格相等的情况,还包含nx与ny实质上相等的情况。即,第2相位差层的面内相位差Re(550)可以小于10nm。
具有nz>nx=ny的折射率特性的第2相位差层可以由任意适当的材料形成。第2相位差层优选由包含被固定为垂面取向的液晶材料的薄膜形成。可以进行垂面取向的液晶材料(液晶化合物)可以为液晶单体也可以为液晶聚合物。作为该液晶化合物及该相位差层的形成方法的具体例,可以举出日本特开2002-333642号公报的段落[0020]~[0028]中记载的液晶化合物及该相位差层的形成方法。此时,第2相位差层的厚度优选为0.5μm~10μm,更优选为0.5μm~8μm,进一步优选为0.5μm~5μm。
F.导电层或带导电层的各向同性基材
导电层可以利用任意适当的成膜方法(例如真空蒸镀法、溅射法、CVD法、离子镀法、喷雾法等),将金属氧化物膜成膜在任意适当的基材上来形成。作为金属氧化物,可以举出例如铟氧化物、锡氧化物、锌氧化物、铟锡复合氧化物、锡锑复合氧化物、锌铝复合氧化物、铟锌复合氧化物。其中优选为铟锡复合氧化物(ITO)。
导电层包含金属氧化物时,该导电层的厚度优选为50nm以下,更优选为35nm以下。导电层的厚度的下限优选为10nm。
导电层可以由上述基材转印至第1相位差层(或者,碘透过抑制层或存在第2相位差层时的第2相位差层)而以导电层自身作为带相位差层的偏光板的构成层,也可以以与基材的层叠体(带导电层的基材)的形式层叠在第1相位差层(或者,碘透过抑制层或存在第2相位差层时的第2相位差层)。优选的是,上述基材在光学上为各向同性,因此,导电层可以作为带导电层的各向同性基材用于带相位差层的偏光板。
作为在光学上为各向同性的基材(各向同性基材),可以采用任意适当的各向同性基材。作为构成各向同性基材的材料,可以举出例如以降冰片烯系树脂或烯烃系树脂等不具有共轭体系的树脂为主骨架的材料、在丙烯酸系树脂的主链中具有内酯环或戊二酰亚胺环等环状结构的材料等。若使用这样的材料,则可以在形成各向同性基材时将伴随分子链取向而产生的相位差抑制得较小。各向同性基材的厚度优选为50μm以下,更优选为35μm以下。各向同性基材的厚度的下限例如为20μm。
上述导电层和/或上述带导电层的各向同性基材的导电层可以根据需要进行图案化。通过图案化,可以形成导通部与绝缘部。作为结果,可以形成电极。电极可以作为用于感知对触摸面板的接触的触控传感器电极发挥功能。作为图案化方法,可以采用任意适当的方法。作为图案化方法的具体例,可以举出湿式蚀刻法、网版印刷法。
G.图像显示装置
上述A项至F项所记载的带相位差层的偏光板可应用于图像显示装置。因此,本发明的实施方式包含使用这样的带相位差层的偏光板的图像显示装置。作为图像显示装置的代表例,可举出液晶显示装置、电致发光(EL)显示装置(例如有机EL显示装置、无机EL显示装置)。本发明的实施方式的图像显示装置于其视觉识别侧具备上述A项至F项所记载的带相位差层的偏光板。带相位差层的偏光板以相位差层成为图像显示单元(例如液晶单元、有机EL单元、无机EL单元)侧的方式(偏光件成为视觉识别侧)层叠。这样的图像显示装置虽为非常薄型,但在高温高湿环境下的可靠性优异,反射率上升受到抑制。进而,金属构件的腐蚀得到显著抑制。在一个实施方式中,图像显示装置具有弯曲的形状(实质上为弯曲的显示画面)和/或可弯折或可折叠。
实施例
以下,利用实施例来具体说明本发明,但本发明不受这些实施例限定。各特性的测定方法如以下所述。此外,只要无特别记载,实施例及比较例中的“份”及“%”为重量基准。
(1)厚度
10μm以下的厚度使用干涉膜厚计(大冢电子株式会社制,制品名“MCPD-3000”)进行测定。大于10μm的厚度使用数字测微器(Anritsu公司制,产品名“KC-351C”)测定。
(2)碘吸收指数及钾吸收指数
将实施例及比较例所用的树脂溶液以干燥后的厚度成为1μm的方式涂布于38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜上并干燥,获得树脂层/PET薄膜的试验试样。将所得试验试样浸渍于调整成23℃的碘化钾10%水溶液(纯水90重量份、碘化钾10重量份)中24小时。浸渍后,从水溶液取出试验试样,擦拭表面的水滴后,通过树脂层表面的荧光X射线测定而获得碘及钾的强度(kcps)。将所得碘的强度作为碘吸收指数,将钾的强度作为钾吸收指数。需要说明的是,荧光X射线分析的条件如下所述。
·分析装置:理学电机工业公司制荧光X射线分析装置(XRF),制品名“ZSX100e”
·试验试样:直径10mm的圆形试样
·对阴极:铑
·分光晶体:氟化锂
·激发光能:40kV-90mA
·碘测定射线:I-LA
·定量法:FP法
·2θ角峰:103.078deg(碘),136.847deg(钾)
·测定时间:40秒
(3)反射率上升
将实施例及比较例中所得的带相位差层的偏光板贴合于无碱玻璃,作为试验试样。将该试验试样置于反射率为80%的反射板上,将使用分光测色计(Konica Minolta公司制CM700D)以SCI模式在550nm下的数值作为反射率(%),将其作为初始反射率。进而,将试验试样供于可靠性试验(于60℃·90%RH的环境下放置500小时,之后于23℃·55%RH的环境下放置24小时)后,与上述同样地测定反射率。通过下式算出反射率上升。
反射率上升(%)=初始反射率(%)-可靠性试验后的反射率(%)
进而,按以下基准进行评价。
良好:反射率上升小于0.50%
可容许:反射率上升为0.50%以上且小于1.00%
不良:反射率上升为1.00%以上
(4)金属腐蚀性(48小时)
以湿膜膜厚成为15μm的方式用线棒将银纳米线液(MERCK公司制,纳米线尺寸:直径115nm,长度20μm~50μm,固体成分0.5%的异丙醇(IPA)溶液)涂布于50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜的单面,并以100℃的烘箱干燥5分钟,形成银纳米线涂膜。接着,以湿膜膜厚成为10μm的方式用线棒将包含甲基异丁基酮(MIBK)99份、季戊四醇四丙烯酸酯(PETA)1份及光聚合引发剂(BASF公司制,制品名“IRGACURE 907”)0.03份的外涂液(固体成分浓度:约1%)涂布于银纳米线涂膜的表面,并以100℃的烘箱干燥5分钟。接着,照射活性能量线使外涂膜固化,制作具有PET薄膜/银纳米线层/外涂层(厚度100nm)的构成的金属薄膜。使用粘合剂(15μm)将该金属薄膜贴合于厚度0.5mm的玻璃板,获得金属薄膜/粘合剂/玻璃板的层叠体。以非接触式电阻测定器(Napson公司制,制品名“EC-80”)测定所得层叠体的电阻值,结果为50Ω/□。
将实施例及比较例中所得的带相位差层的偏光板贴合于层叠体的金属薄膜的外涂层表面,作为试验试样。以非接触式电阻测定器测定该试验试样的电阻值,作为初始电阻值。进而,将试验试验供于可靠性试验(于85℃·85%RH的环境下放置48小时,之后于23℃·55%RH的环境下放置2小时)后,与上述同样地测定电阻值。通过下式算出电阻值上升率。需要说明的是,在测定值(电阻值)大于非接触式电阻测定器的测定极限(1000Ω/□)时,将测定值假设为1500Ω/□。
电阻值上升率(%)={(可靠性试验后的电阻值-初始电阻值)/初始电阻值}×100
进而,按以下基准进行评价。
良好:电阻值上升率小于200%
不良:电阻值上升率为200%以上
(5)金属腐蚀性(200小时)
将实施例及比较例中所得的带相位差层的偏光板贴合于(2)中所得的层叠体的金属薄膜的外涂层形成面,作为试验试样。以非接触式电阻测定器测定该试验试样的电阻值,作为初始的电阻值。进而,将试验试样供于可靠性试验(于85℃·85%RH的环境下放置200小时,之后于23℃·55%RH的环境下放置2小时)后,与上述同样地测定电阻值。通过下式算出电阻值上升率。需要说明的是,在测定值(电阻值)大于非接触式电阻测定器的测定极限(1000Ω/□)时,将测定值假设为1500Ω/□。
电阻值上升率(%)={(可靠性试验后的电阻值-初始电阻值)/初始电阻值}×100
进而,按以下基准进行评价。
优:电阻值上升率小于200%
良:电阻值上升率为200%以上且小于2000%
不良:电阻值上升率为2000%以上
[实施例1]
1.偏光件的制作
作为热塑性树脂基材,使用长条状、吸水率为0.75%、Tg为约75℃的非晶质的间苯二甲酸共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(厚度:100μm)。对树脂基材的单面实施电晕处理。
在以9:1混合有聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2摩尔%)及乙酰乙酰基改性PVA(日本合成化学工业株式会社制、商品名“GOHSEFIMER Z410”)的PVA系树脂100重量份中添加碘化钾13重量份,将所得产物溶解于水,制备PVA水溶液(涂布液)。
将上述PVA水溶液涂布于树脂基材的电晕处理面并在60℃下进行干燥,由此形成厚度13μm的PVA系树脂层,制作层叠体。
将得到的层叠体在130℃的烘箱内在圆周速度不同的辊间沿纵向(长度方向)进行自由端单向拉伸至2.4倍(空中辅助拉伸处理)。
接着,使层叠体在液温40℃的不溶化浴(相对于水100重量份配混4重量份硼酸而得到的硼酸水溶液)中浸渍30秒钟(不溶化处理)。
接着,在液温30℃的染色浴(相对于水100重量份以1:7的重量比配混碘和碘化钾而得到的碘水溶液)中,以最终得到的偏光件的单体透过率(Ts)成为43.0%以上的方式调整浓度并浸渍60秒钟(染色处理)。
接着,在液温40℃的交联浴(相对于水100重量份,配混3重量份碘化钾并配混5重量份硼酸而得到的硼酸水溶液)中浸渍30秒钟(交联处理)。
其后,边使层叠体浸渍在液温70℃的硼酸水溶液(硼酸浓度为4.0重量%、碘化钾浓度为5重量%)中边在圆周速度不同的辊间沿纵向(长度方向)以总拉伸倍率成为5.5倍的方式进行单向拉伸(水中拉伸处理)。
其后,使层叠体浸渍在液温20℃的清洗浴(相对于水100重量份配混4重量份碘化钾而得到的水溶液)中(清洗处理)。
其后,边在保持为90℃的烘箱中干燥边与表面温度保持为75℃的SUS制的加热辊接触约2秒(干燥收缩处理)。干燥收缩处理所带来的层叠体的宽度方向的收缩率为5.2%。
如此,在树脂基材上形成厚度5μm的偏光件。
2.偏光板的制作
于上述所得的偏光件的表面(与树脂基材处于相反侧的面)借助紫外线固化型粘接剂贴合HC-COP薄膜作为保护层。具体而言,进行涂布使得固化型粘接剂的总厚度成为1.0μm,并使用辊轧机进行贴合。之后,从保护层侧照射UV光线使粘接剂固化。需要说明的是,HC-COP薄膜为在环烯烃(COP)薄膜(日本ZEON公司制,制品名“ZF12”,厚度25μm)上形成有硬涂(HC)层(厚度2μm)的薄膜,以COP薄膜成为偏光件侧的方式来贴合。接着,剥离树脂基材,获得具有保护层(HC层/COP薄膜)/粘接剂层/偏光件的构成的偏光板。
3.构成相位差层的第1取向固化层及第2取向固化层的制作
将显示向列型液晶相的聚合性液晶(BASF公司制:商品名“Paliocolor LC242”,用下述式表示)10g与针对该聚合性液晶化合物的光聚合引发剂(BASF公司制:商品名“IRGACURE 907”)3g溶解至甲苯40g中,制备液晶组合物(涂布液)。
使用摩擦布摩擦聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(厚度38μm)表面,实施取向处理。取向处理的方向设为在贴合至偏光板时从视觉识别侧观看时相对于偏光件的吸收轴方向呈15°的方向。利用棒涂机将上述液晶涂布液涂布至该取向处理表面,并在90℃下进行2分钟加热干燥,由此使液晶化合物取向。使用金属卤化物灯以1mJ/cm2的光照射由此形成的液晶层,使该液晶层固化,由此在PET薄膜上形成液晶取向固化层A。液晶取向固化层A的厚度为2.5μm,面内相位差Re(550)为270nm。进而,液晶取向固化层A具有nx>ny=nz的折射率分布。
变更涂布厚度,并将取向处理方向设为从视觉识别侧观看时相对于偏光件的吸收轴方向呈75°的方向,除此之外,与上述同样操作,在PET薄膜上形成液晶取向固化层B。液晶取向固化层B的厚度为1.5μm,面内相位差Re(550)为140nm。进而,液晶取向固化层B具有nx>ny=nz的折射率分布。
4.相位差层的形成
于上述2.中所得的偏光板的偏光件表面依次转印上述3.中所得的液晶取向固化层A及液晶取向固化层B。此时,以偏光件的吸收轴与液晶取向固化层A的慢轴形成的角度成为15°且偏光件的吸收轴与液晶取向固化层B的慢轴形成的角度成为75°的方式进行转印(贴合)。需要说明的是,各自的转印(贴合)借助上述2.中所用的紫外线固化型粘接剂(厚度1.0μm)来进行。由此,制作具有保护层(HC层/COP薄膜)/粘接剂层/偏光件/粘接剂层/相位差层(第1液晶取向固化层/粘接剂层/第2液晶取向固化层)的构成的层叠体。
5.带相位差层的偏光板的制作
将丙烯酸系树脂(楠本化成公司制,制品名“B-811”,Tg:110℃,Mw:40000)20份溶解于甲基乙基酮80份中,获得树脂溶液(20%)。将该树脂溶液用线棒涂布于上述4.中所得的层叠体的第2液晶取向固化层表面,并将涂布膜以60℃干燥5分钟,形成以树脂的有机溶剂溶液的涂布膜的固体化物的形式构成的碘透过抑制层(厚度0.5μm)。碘透过抑制层的碘吸收指数为0.0046,钾吸收指数为0.0087。接着,于碘透过抑制层表面设置粘合剂层(厚度15μm),获得具有保护层(HC层/COP薄膜)/粘接剂层/偏光件/粘接剂层/相位差层(第1液晶取向固化层/粘接剂层/第2液晶取向固化层)/碘透过抑制层/粘合剂层的构成的带相位差层的偏光板。所得带相位差层的偏光板的总厚度为39.5μm。将所得带相位差层的偏光板供于上述(3)~(5)的评价。进而,关于金属腐蚀性,与未形成碘透过抑制层的比较例1(后述)进行比较。将结果示于表1及表2。
[实施例2]
将甲基丙烯酸甲酯(MMA,富士胶片和光纯药公司制,商品名“甲基丙烯酸甲酯单体”)97.0份、上述通式(1e)所示的共聚单体3.0份、聚合引发剂(富士胶片和光纯药公司制,商品名“2,2′-偶氮双(异丁腈)”)0.2份溶解于甲苯200份中。接着,于氮气气氛下一边加热至70℃一边进行聚合反应5.5小时,获得含硼丙烯酸系树脂溶液(固体成分浓度:33%)。所得含硼丙烯酸系聚合物的Tg为110℃,Mw为80000。使用该含硼丙烯酸系聚合物代替丙烯酸系树脂“B-811”、及将碘透过抑制层的厚度设为0.3μm,除此之外与实施例1同样地制作带相位差层的偏光板。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表1及表2。
[实施例3]
除了将碘透过抑制层的厚度设为0.5μm外,与实施例2同样地制作带相位差层的偏光板。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表1及表2。
[实施例4]
除了使用热塑性环氧树脂(Mitsubishi Chemical Co.制,商品名“jER(注册商标)1256B40”,Tg:100℃,Mw:45000)代替丙烯酸系树脂“B-811”外,与实施例1同样地制作带相位差层的偏光板。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表1及表2。
[实施例5]
使用热塑性环氧树脂(Mitsubishi Chemical Co.制,商品名“jER(注册商标)YX7200B35”,Tg:150℃,Mw:30000)代替丙烯酸系树脂“B-811”、及将碘透过抑制层的厚度设为0.3μm,除此之外与实施例1同样地制作带相位差层的偏光板。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表1及表2。
[实施例6]
除了将碘透过抑制层的厚度设为0.5μm外,与实施例5同样地制作带相位差层的偏光板。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表1及表2。
[实施例7]
除了使用“B-811”15份与热塑性环氧树脂(Mitsubishi Chemical Co.制,商品名“jER(注册商标)YX6954BH30”)85份(固体成分换算)的共混物代替丙烯酸系树脂“B-811”外,与实施例1同样地制作带相位差层的偏光板。该共混物的Tg为125℃,Mw为38000。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表1及表2。
[实施例8]
于实施例1的2.中所得的具有保护层(HC层/COP薄膜)/粘接剂层/偏光件的构成的偏光板的偏光件侧涂布实施例7中所使用的树脂共混物并干燥,形成以树脂的有机溶剂溶液的涂布膜的固体化物的形式构成的碘透过抑制层(厚度0.5μm)。于碘透过抑制层表面与实施例1同样地依次转印液晶取向固化层A及液晶取向固化层B,获得具有保护层(HC层/COP薄膜)/粘接剂层/偏光件/碘透过抑制层/粘接剂层/相位差层(第1液晶取向固化层/粘接剂层/第2液晶取向固化层)/粘合剂层的构成的带相位差层的偏光板。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表2。
[实施例9]
除了使用实施例2中的含硼丙烯酸系聚合物外,与实施例8同样地制作具有保护层(HC层/COP薄膜)/粘接剂层/偏光件/碘透过抑制层的构成的层叠体。接着,使用实施例2中的含硼丙烯酸系聚合物15份与热塑性环氧树脂(Mitsubishi Chemical Co.制,商品名“jER(注册商标)YX6954BH30”)85份(固体成分换算)的共混物,除此之外与实施例1同样地获得具有保护层(HC层/COP薄膜)/粘接剂层/偏光件/碘透过抑制层/粘接剂层/相位差层(第1液晶取向固化层/粘接剂层/第2液晶取向固化层)/碘透过抑制层/粘合剂层的构成的带相位差层的偏光板。所得带相位差层的偏光板的总厚度为40μm。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表2。
[实施例10]
设置于偏光件与相位差层之间且邻接偏光件的位置的碘透过抑制层采用实施例2中所得的含硼丙烯酸系聚合物15份与热塑性环氧树脂(Mitsubishi Chemical Co.制,商品名“jER(注册商标)YX6954BH30”)85份(固体成分换算)的共混物,除此之外与实施例9同样地获得带相位差层的偏光板。所得带相位差层的偏光板的总厚度为40μm。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表2。
[实施例11]
将在偏光件与相位差层之间且邻接偏光件的位置处形成的碘透过抑制层形成于偏光件与相位差层之间且邻接相位差层的位置,除此之外与实施例10同样地获得具有保护层(HC层/COP薄膜)/粘接剂层/偏光件/粘接剂层/碘透过抑制层/相位差层(第1液晶取向固化层/粘接剂层/第2液晶取向固化层)/碘透过抑制层/粘合剂层的构成的带相位差层的偏光板。所得带相位差层的偏光板的总厚度为40μm。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表2。
[实施例12]
与实施例9同样地操作,于偏光件与相位差层之间且邻接偏光件的位置处进一步形成碘透过抑制层,除此之外与实施例11同样地获得具有保护层(HC层/COP薄膜)/粘接剂层/偏光件/碘透过抑制层/粘接剂层/碘透过抑制层/相位差层(第1液晶取向固化层/粘接剂层/第2液晶取向固化层)/碘透过抑制层/粘合剂层的构成的带相位差层的偏光板。所得带相位差层的偏光板的总厚度为40.5μm。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表2。
[比较例1]
除了未形成碘透过抑制层外,与实施例1同样地制作带相位差层的偏光板。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表1及表2。
[比较例2]
使用丙烯酸系树脂“B-723”(楠本化成公司制,Tg:54℃,Mw:200000)代替丙烯酸系树脂“B-811”,除此之外与实施例1同样地制作带相位差层的偏光板。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表1及表2。
[比较例3]
使用光固化性环氧树脂(Mitsubishi Chemical Co.制,商品名“jER(注册商标)828”代替丙烯酸系树脂“B-811”,且使用San-Apro Ltd.制“CPI100P”)作为光聚合引发剂,除此之外与实施例1同样地制作带相位差层的偏光板。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表1及表2。
[比较例4]
除了使用PVA系树脂(Mitsubishi Chemical Co.制,商品名“GOHSENOL Z200”,Tg:80℃,Mw:8800)代替丙烯酸系树脂“B-811”外,与实施例1同样地制作带相位差层的偏光板。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表1及表2。
[参考例1]
1.偏光板的制作
与实施例1同样地获得具有保护层(HC层/COP薄膜)/偏光件的构成的偏光板。
2.构成相位差层的相位差薄膜的制作
2-1.聚酯碳酸酯系树脂的聚合
使用由2台具备搅拌叶片及控制成100℃的回流冷凝器的直立式反应器构成的分批聚合装置进行聚合。加入双[9-(2-苯氧基羰基乙基)芴-9-基]甲烷29.60质量份(0.046mol)、异山梨醇(ISB)29.21质量份(0.200mol)、螺二醇(SPG)42.28质量份(0.139mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77质量份(0.298mol)及作为催化剂的乙酸钙一水合物1.19×10-2质量份(6.78×10-5mol)。将反应器内进行减压氮气置换后,利用热介质进行加温,并在内部温度达到100℃的时间点开始搅拌。在升温开始40分钟后使内部温度达到220℃,以保持该温度的方式进行控制并同时开始减压,使得在达到220℃起90分钟后成为13.3kPa。将伴随聚合反应而副产的苯酚蒸气导入到100℃的回流冷凝器,使苯酚蒸气中所含的少许量的单体成分返回至反应器,并将未冷凝的苯酚蒸气导入到45℃的冷凝器中回收。将氮气导入到第1反应器中暂时使其恢复到大气压后,将第1反应器内的经低聚物化的反应液移至第2反应器。接着,开始进行第2反应器内的升温及减压,并在50分钟后成为内温240℃、压力0.2kPa。其后,进行聚合直到达到规定的搅拌动力。在达到规定动力的时间点将氮气导入到反应器中使压力恢复,并将所生成的聚酯碳酸酯系树脂挤出至水中,裁切线料而得到粒料。
2-2.相位差薄膜的制作
将所得聚酯碳酸酯系树脂(粒料)在80℃下真空干燥5小时后,使用具备单螺杆挤出机(东芝机械公司制,缸筒设定温度:250℃)、T型模(宽200mm,设定温度:250℃)、冷却辊(设定温度:120~130℃)及卷取机的薄膜制膜装置,制作厚度135μm的长条状的树脂薄膜。将所得长条状的树脂薄膜以拉伸温度133℃、拉伸倍率2.8倍沿宽度方向拉伸,获得厚度53μm的相位差薄膜。所得相位差薄膜的Re(550)为141nm,Re(450)/Re(550)为0.82,且Nz系数为1.12。
3.带相位差层的偏光板的制作
借助丙烯酸系粘合剂(厚度5μm)于上述1.中所得的偏光板的偏光件表面贴合上述2.中所得的相位差薄膜。此时,以偏光件的吸收轴与相位差薄膜的慢轴形成45°的角度的方式贴合。进而,于相位差层的表面设置与实施例1相同的粘合剂层。由此,获得具有保护层/粘接剂层/偏光件/粘合剂层/相位差层(树脂薄膜的拉伸薄膜)/粘合剂层的构成的带相位差层的偏光板。所得带相位差层的偏光板的总厚度为91μm。将所得带相位差层的偏光板供于与实施例1相同的评价。将结果示于表1及表2。
[表1]
[表2]
*共混物为丙烯酸系树脂与环氧系树脂的共混物
*位置A表示相位差层与粘合剂层之间,位置B表示偏光件与相位差层之间且邻接偏光件的位置,
位置C表示偏光件与相位差层之间且邻接相位差层的位置。
[评价]
由表1可明确,本发明的实施例的带相位差层的偏光板通过形成具有规定值以下的碘吸收指数的碘透过抑制层,可显著抑制在高温高湿环境下的反射率上升。此外,通过形成这样的碘透过抑制层,还可显著抑制在高温高湿环境下的金属腐蚀性。进而,由参考例1可明确,这样的反射率上升及金属腐蚀性为非常薄型的带相位差层的偏光板所特有的课题。
由表2可明确,本发明的实施例9~12的带相位差层的偏光板通过包含2层或3层碘透过抑制层,即使在高温高湿环境下投入长时间(200小时)的情况下,仍可显著抑制金属腐蚀性。因此,可知,本发明的实施例9~12的带相位差层的偏光板在应用于图像显示装置时,可显著抑制金属构件的腐蚀。
产业上的可利用性
本发明的带相位差层的偏光板可适宜用作液晶显示装置、有机EL显示装置及无机EL显示装置用的圆偏光板。
附图标记说明
10:偏光板
11:偏光件
12:保护层
20:相位差层
30:粘合剂层
40:碘透过抑制层
100:带相位差层的偏光板
101:带相位差层的偏光板
102:带相位差层的偏光板
103:带相位差层的偏光板
104:带相位差层的偏光板
105:带相位差层的偏光板
Claims (14)
1.一种带相位差层的偏光板,其自视觉识别侧起依次具有包含偏光件的偏光板、相位差层及粘合剂层;
该相位差层为具有圆偏光功能或椭圆偏光功能的液晶化合物的取向固化层;
在该偏光件与该粘合剂层之间设有碘透过抑制层,该碘透过抑制层为树脂的有机溶剂溶液的涂布膜的固体化物或热固化物;
该碘透过抑制层的碘吸收指数为0.015以下。
2.根据权利要求1所述的带相位差层的偏光板,其中,所述碘透过抑制层设置于所述偏光件与所述相位差层之间。
3.根据权利要求1所述的带相位差层的偏光板,其中,所述碘透过抑制层设置于所述相位差层与所述粘合剂层之间。
4.根据权利要求1所述的带相位差层的偏光板,其中,所述碘透过抑制层在所述偏光件与所述粘合剂层之间设有2层以上。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的带相位差层的偏光板,其中,所述碘透过抑制层的钾吸收指数为0.015以下。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的带相位差层的偏光板,其中,构成所述碘透过抑制层的树脂的玻璃化转变温度为85℃以上,且重均分子量Mw为25000以上。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的带相位差层的偏光板,其中,所述相位差层为单一层,
该相位差层的Re(550)为100nm~190nm,
该相位差层的慢轴与所述偏光件的吸收轴形成的角度为40°~50°。
9.根据权利要求1至7中任一项所述的带相位差层的偏光板,其中,所述相位差层具有第1液晶化合物的取向固化层与第2液晶化合物的取向固化层的层叠结构;
该第1液晶化合物的取向固化层的Re(550)为200nm~300nm,且其慢轴与所述偏光件的吸收轴形成的角度为10°~20°;
该第2液晶化合物的取向固化层的Re(550)为100nm~190nm,且其慢轴与该偏光件的吸收轴形成的角度为70°~80°。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的带相位差层的偏光板,其中,在所述相位差层与所述粘合剂层之间还具有另外的相位差层,该另外的相位差层的折射率特性显示nz>nx=ny的关系。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的带相位差层的偏光板,其中,在所述碘透过抑制层与所述粘合剂层之间还具有导电层或带导电层的各向同性基材。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的带相位差层的偏光板,其总厚度在60μm以下。
13.一种图像显示装置,其具备权利要求1至12中任一项所述的带相位差层的偏光板。
14.根据权利要求13所述的图像显示装置,其为有机电致发光显示装置或无机电致发光显示装置。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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