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CN102926081A - 一种菱形格子花型面料 - Google Patents

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CN102926081A
CN102926081A CN201110229001XA CN201110229001A CN102926081A CN 102926081 A CN102926081 A CN 102926081A CN 201110229001X A CN201110229001X A CN 201110229001XA CN 201110229001 A CN201110229001 A CN 201110229001A CN 102926081 A CN102926081 A CN 102926081A
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CN
China
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diamond check
weft yarn
warp thread
check pattern
diamond
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Application number
CN201110229001XA
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English (en)
Inventor
宋泽谊
张健
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AP GROUP(CHINA)CO Ltd
Original Assignee
AP GROUP(CHINA)CO Ltd
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Publication date
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Abstract

本发明涉及一种菱形格子花型面料，它由经纱和纬纱相互交织而成，其中经纱和纬纱为菱形格子花型组织结构，且经纱采用DTY SD，纬纱采用FDY SD 12T/cm。本发明采用的组织结构为菱形格子花型组织结构，经纱采用T-50D/144F的DTY SD，纬纱采用T-50D/144F的FDY SD 12T/cm，染色开纤到位后，手感骨干、硬挺、柔糯、干爽。

Description

一种菱形格子花型面料
技术领域
本发明涉及一种纺织面料，特别涉及一种用于棉服、茄克、风衣、羽绒服的菱形格子花型面料。
背景技术
遐想是追求的前奏，因为工作节奏的压力，服装面料的多姿多彩往往可以起到很好的调节作用，因此，涤纶作为一种应用广泛的轻型合成纤维，经常用于棉服、休闲茄克面料，但是由于在现有工艺下，这种面料布面过于单调，色彩单一，已经不能满足人们感官的需求。另一方面，相同的服装用不同的布料进行展示，会带给人不同的感觉，所以服装面料的创新与改进可以为服装行业带来新的动力。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种菱形格子花型面料。
为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：
一种菱形格子花型面料，它由经纱和纬纱相互交织而成，其中经纱和纬纱为菱形格子花型组织结构，且经纱采用DTY SD，纬纱采用FDY SD 12T/cm。
优选地，经纱的粗细为50旦尼尔，喷丝孔数为144F。
优选地，纬纱的粗细为50旦尼尔，喷丝孔数为144F。
由于采用以上技术方案的实施，本发明与现有技术相比具有如下优点：
本发明采用的组织结构为菱形格子花型组织结构，经纱采用T-50D/144F的DTY SD，纬纱采用T-50D/144F的FDY SD 12T/cm，染色开纤到位后，手感骨干、硬挺、柔糯、干爽。
附图说明
下面结合附图和具体的实施例对本发明做进一步详细的说明。
图1为根据本发明菱形格子花型面料的示意图；
具体实施方式
如图1所示，按照本实施例的菱形格子花型面料，它由经纱和纬纱相互交织而成，其中经纱和纬纱为菱形格子花型组织结构，且经纱采用DTY SD，纬纱采用FDY SD12T/cm。
上述的经纱的粗细为50旦尼尔，喷丝孔数为144F。纬纱的粗细为50尼尔，喷丝孔数为144F。
本发明采用的组织结构为菱形格子花型组织结构，经纱采用T-50D/144F的DTY SD，纬纱采用T-50D/144F的FDY SD 12T/cm，染色开纤到位后，手感骨干、硬挺、柔糯、干爽。
以上对本发明做了详尽的描述，其目的在于让熟悉此领域技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明的精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。

Claims (3)

1.一种菱形格子花型面料，它由经纱和纬纱相互交织而成，其特征在于：所述的经纱和纬纱为菱形格子花型组织结构，所述的经纱采用DTY SD，所述的纬纱采用FDY SD 12T/cm。
2.根据权利要求1所述的菱形格子花型面料，其特征在于：所述的经纱的粗细为50旦尼尔，喷丝孔数为144F。
3.根据权利要求1所述的菱形格子花型面料，其特征在于：所述的纬纱的粗细为50旦尼尔，喷丝孔数为144F。
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Citations (6)

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Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20130213